TW200538753A - Anti-reflection coating, and optical element and optical system with anti-reflection coating - Google Patents

Description

,200538753 九、發明說明： 以下之優先權案的揭示在此併入作為參考資料： 在2004年三月三十號提出申請之曰本專利申請案第 2004-099131 號。 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關於一種提供在一光學元件上之抗反射涂 層，其係以複數種波長或頻寬來加以使用，例如在攝影光 φ 學系統、雙筒望遠鏡、單筒望遠鏡、顯微鏡、及其相似者 當中。本發明亦有關於一種具有抗反射塗層之光學元件以 及光學系統。 【先前技術】 本發明之背景 提供抗反射塗層’是用來降低光學元件（併入在光學 系統之中）的介質之間，因為折射率的差所產生的反射。 •如果這種經反射的光射線可以達到該影像平面的話，就會 顯現出一雙重影像或者是閃光，嚴重降低該系統的光學性 此。在最近幾年當中，光學系統需要越來越高的光學性能， 所以’在光學系統當中之光學元件上所提供的抗反射塗 層’在入射角度比過去都還要寬廣的範圍之中，同樣也需 要提供越來越低的反射程度。 為了要滿足這種需求，在多層—薄膜設計技術的領域 當中有許多進步’其中，係將各種不同之材料與薄膜厚度 5 -200538753 結合起來使用’在多層塗佈技術的領域當中也一樣（舉例 而言，參照日本專利公開公告案第2000-356704號）。 然而’在習技技藝之抗反射塗層當中，存在著一個問 題。如果光射線入射到一個提供有抗反射塗層之光學表面 上的角度越來越大的話（光射線以傾斜的方式進入），這 種條件就會導致該抗反射塗層之特姓產生快速的變化，並 且突然地讓該抗反射塗層之效能減弱。因此，增加了反射 光的數量。在一個例子當中，一個反射表面係單獨地存在 於個光學系統當中，該反射光係透過該系統而被引導至 一個觀察中的物體上，因此，以上所提及之問題就不會直 接地引響到該系統的光學性能。然而，如果這種表面是以 禝數的型態存在的話，該系統就會非常有可能會產生雙重 影像或者是閃《，這是反射光到達該影像所導致。現今， 透鏡都是以大尺寸來加以製造，而這種製造趨勢會使得入 射至光學元件中之光射線角度範圍變大。目此，現在的光 學系統都會傾向於產生雙重影像和閃光。 L贺、明内容J 本發明之概要 有4監於以上所提及之pq日 ^ 捉及之問4，本發明之一目的就在於提 供一層抗反射塗層，w _ la + _ e t ^ 了只現在可見光範圍當中，於一寬廣 於度裡只有报低的光射線反射。本發明之另一個目 =提供-種具備如此之抗反射塗層 元件以及光 学系統。 6 .200538753 為了解決以上所提及之問題，係在一個光學構件之光 學表面上，提供一層本發明之第一方面的抗反射塗層，以 降低從該光學表面反射而來之光射線的數量。對於波長範 圍從400 nm至700 nm的光射線而言，如果該光射線係以 0至25度之範圍的角度中入射到該光學表面的話，該抗 反射塗層就會具有0 · 5 %或者是更低的反射率；而如果該 光射線係以0至60度之範圍的角度中入射到該光學表面 的話’該抗反射塗層就會具有3 · 5 %或者是更低的反射率。 同樣的，在一個光學構件之光學表面上，提供一層本 舍明之弟二方面的抗反射塗層，以降低從該光學表面反射 而來之光射線的數量。在此例子當中，該抗反射塗層包括 了複數個連續重疊的層，而至少有一層是藉由使用溶膠凝 膠法所形成。對於波長範圍從400 nm至7〇〇 的光射線 而言’如果該光射線係以〇至25度之範圍的角度中入射 到該光學表面的話，該抗反射塗層就會具有〇·5%或者是 更低的反射率；而如果該光射線係以〇至6〇度之範圍的 角度中入射到該光學表面的話，該抗反射塗層就會具有3.5 %或者是更低的反射率。 在較佳的情形下，對於具有大約1.52之折射率的光學 構件而言’該抗反射塗層包括了一層第一層，其係形成於 5亥光學表面上，並且具有大約165的折射率以及大約〇27λ 之光學薄膜厚度；一層第二層，其係形成於該第一層之上， 甘 日 目 、 W 具有大約為2·12之折射率，以及大約為〇·〇7λ之光學 4朕厚度；一層第三層，其係形成於該第二層之上，並且 7 -200538753 ”有大J為1·65之折射率，以及大約為〇·3〇λ之光學薄膜 旱又乂及層第四層，其係形成於該第三層之上，並且 具有大約為1 25夕t θ 之折射率，以及大約為〇·26λ之光學薄膜 厚度’該「人I ^ ^ ς ς Λ 」係為550 nm之參考光射線波長。 4 —更進一步而言，該抗反射塗層較佳是以下列方式形成。 f第層疋由氧化叙利用真空沉積而製成·，該第二層是由 鈦”氧化錯的混合物，同樣藉由真空沉積而製成；該

第,層同樣是由氧化鋁利用真空沉積而製成』該第四層 則是由氟化鎂藉由溶膠凝膠法而製成。 ^、，柯據本I明之一光學元件，其包括了一個光學構件， r光子構件之光學表面係為一個平面或者是彎曲的表面； =及任何-種以上所敘述之抗反射塗層，其係提供在該光 于構件之光學表面上。 更進-步而言’根據本發明之一第一方面的光學系統， 匕括了一個光學元# r與 一 (牛例而㊂，如同在以下之具體態樣 中所敘述的彎月形負透鏡L i ) 地 处筑其係位於一個物體和一影 像平面之間。在此例子當中， 』丁田甲4九學兀件之至少一個光學 、面具有以上所敘述之抗反射塗層的任何—種。 同㈣，根據本發明之_第二方面的光學系統， 了设數個光學表面，而嗜尖與矣 吐主 而°亥先學表面之卜th雙重影像一產 表面（舉例而言，該彎月形負透鏡u之物體側表面3) m-th雙重影像一產生表面（舉例 鏡u之影像側表面2)中至 °亥…負透 .c ) T主少個係具備以上所敘述之 射塗層中的任何…在此例子當中，該光學系統的 8 200538753 建構係為了滿足以下之方程式：

Rn X Rm 幺 〇· 1〇 [% ]。 在此方程式當中，該「Rn」係代表該n-th雙重影像 產生表面的反射率，而該「Rm」則係代表該m-th雙重 衫像一產生表面之反射率。 在較佳的情形下，係將本發明之第一與第二方面的光 干系統’用於400 nm至7〇〇 nm波長範圍中的光射線。 再者’於較佳的情形下，係將本發明之光學系統用 鲁末作為種成像光學系統（imaging optical system)或者 疋種觀看光學系統（viewing optical system)。 藉由抗反射塗層（其係如以上敘述所提供），本發明 元成了在叮見光乾圍（波長為4〇〇 nm〜700 nm)中之 光射線進入至一寬廣入射角度之範圍中（0〜60度）的 低反射率。因此，對於具有抗反射塗層之光學元件和光學 系統而言，本發明可以有效降低雙重影像與閃光的出現。 本务明之應用的更進一步範疇，藉由以下所提供之詳 •細敘述將變得更為明朗。然而，應該要了解到的是，該詳 細敘述與具體實施例（雖然是本發明之較佳具體態樣）， 僅係以說明的方式提供，因為在本發明之精神及範疇之 中，可以從此詳細敘述當中了解到，各種不同之變化與修 改對於A習該項技術者而言都是很明顯的。 【實施方式】 較佳具體態樣之敘述 9 .200538753 參考圖式來說明本發明之較佳具體 貫施例1 首先，參照圖1來敘述一層枋只 -個具體態樣。該抗反射塗層來做為第 光學表面上。第—層ia，係由氧化紹 第真空沉積而塗佈在該光學構件2上，而 弟-層1 b，係由氧化鈦和氧化錯之 樣由真空沉積而塗佈於該第—層“之上丄二 二積：：1 C，其係由氧化銘所製成，同樣是藉由真 二積而塗佈於該第二層lb之上，…層ld 由鼠化鎮所製成’並且藉由溶膠凝膠法而塗佈於該第;;声 且因此，這四層一起構成了該抗反射塗層1，二 心-個㈣態樣。在此，祕料膠 膜形成在一光聲 ^ 層4 冓件之先子表面上的製程’其係藉由塗佈 :種㈣-形成材料的溶膠，並將凝膠薄膜沉積，缺 =㈣膜浸潰到-液體當中，該液體是在-臨界溫； y界壓力之臨界狀態中進行蒸發，以使該薄膜得 燥。 二，方式，該抗反射塗層i之第一至第三層i a —工 C疋猎由電子束蒸發來加以塗佈，其係為—種乾燥方法。 ，而’該第四層i d，也就是最頂部之層，係藉由以下的 私=來加以塗佈’其係為—種使用溶膠的濕式方法，而节 溶膠是以-種使用氫就酸與醋酸鎮（這種方法在此處稱i 「氫氟酸與醋酸鎖方法」）的方法所製備而成。在事前， 200538753 藉由使用一真空金屬化 -(vacuum metalli2er )，將預被 此矛王序違仃塗佈之該读 * 透鏡的表面（以上所提及之該光學構 件2的光學表面）传遠綠 … :連、，地以氧化鋁層進行塗佈（作為該 =θ 1 a )、氧化鈦和氧化锆之混合層（作為該第二 曰1 b )以及乳化鋁（作為該第三層1 C )。將該光 學構件2從該真空金屬务人山十a 尤 ^ 4屬化斋拿出來之後，即利用一種由氫 氟酸與醋酸鎂方法所製 一 τ表備而侍的浴膠，將該透鏡的表面進 行旋轉塗佈，以形成_ Μ

取層亂化鎂層，作為該第四層1 d。 、下之方私式（1 )係為該氫氟酸與醋酸鎂方法之反應 程式。 “ 2HF+Mg ( CH3COO) 2 ^ MgF2+2CH3CO〇H ⑴ 作為預被用於該塗層之溶膠的原料，在運用至該塗層 ^中以別，係將其進行混合，之後再於一熱壓鍋中高壓及 问溫之下加以時效化，歷時24小時。在利用該第四層工 d來k佈忒光學構件2之後，將其於一氣氛中}5〇。〇之下 加熱，歷時一個小時，以完成該層。在該溶膠凝膠法當中， /、子或刀子會聚集成微粒，每一個微粒都包括了數個原子 或分子至數十個原子或分子，而該微粒之尺寸範圍係從數 個U米至數十個微米。更進一步而言，這些微粒會聚集到 二次微粒當中，每一個二次微粒都包括了數個原始微粒， ;、、、;後這些二次微粒會沉積並形成該第四層1 d。 現在，该抗反射塗層1 (以上敘述之方式所形成）之 光學性能，參照圖2來加以解說，圖2係顯示對於55〇 nm 之參考波長A而言，具有〗·52之折射率的該光學構件2， 200538753 ”光增特徵。具體而言’在此例子當[具有〇27λ之光 學二厚，之該第一層la的折射率為165;具有識 之光學缚膜厚度之該第二層lb的折射率為212;且有 0.3〇λ之光學薄膜厚度之該第三層丄c的折射率為“5;而 具有〇.26λ之光學薄膜厚度之該第四層i d的折射率為 1.25。從® 2可以明顯得知，該抗反射塗層丄完成了對

=可2範圍（波| 4⑼nm〜7〇〇 nm)中之光射線而 吕’貫質上為低的反射率。舉例而言，該反射率係低於W %，甚至是在60度的入射角度下’而在〇至25度的範圍 中其係低於0.5%。更進-步而言，該反射率對於來自於 該參考波長之短波側（鄰近400 nm)或者是長波側（鄰近 7〇〇 nm )都是很穩定的，所以，該抗反射塗層證實了在4〇〇 nm至700 nm之波長範圍間的均勻效果。 更進一步而言，此抗反射塗層1可以被提供在平面一 平行薄板之光學表面上，作為一光學元件，或者是在一透 鏡之光學表面上，其係如同以下之第二具體態樣中所敘述 壬言曲形式形成。 實施例2 現在，參照圖3，敘述一個成像光學系統1 〇，包 括了 一個具有以上所敘述之抗反射塗層1的光學元件，作 為第二具體態樣。該成像光學系統1〇係被用來作為 一個照相機的變焦透鏡，其提供了從1 8 mm至3 5 mm 之連續可變的焦距。對於將一物體成像於一影像平面I上 而言’該成像光學系統 1 0包括了（從面對該物體之一 12 •200538753 側開始的直線順序）一 1U十曲 +仃溽板F以作為一佴 護性玻璃；一個彎月形皇、##τι 卜马保 ^負透鏡L 1，其係對該物體之一側 而吕為凸面的；一個膠人 ^口透鏡其包括了一個彎月形負透 鏡L2 * —個彎月形倉读^了卩 "1 ^ 面互㈣在一起. 以其面向該物體之凸 在起，一個雙凹透鏡L4…個雙凸透鏡L5 . 一個膠合透鏡，其包括Ύ ^ 〇 边兄L 5，

了一個穹月形負透鏡L6和-個雙 凸透鏡L 7 ，以彎月么、各MV T ^負透鏡L6之凸面互相黏在一起 -個孔徑光鬧P…個膝合透 （，

雙凸透鏡L8和-個雙凹透括黏在-起的-個 4工7 , 又凹透鏡L9, 一個膠合透鏡，1包 月形負透鏡…和-個雙凸透鏡L11:: ^月形透鏡L1〇面向該物體之凸面互相黏在一起，·以 及一個雙凸透鏡“2。在此應該要注意到的是， 像光學系統工〇 "疋在孩成 之中，面向该物體之彎月形負透鏡二2的 ^ 义面編號3 )係為一個非球面表面。 :非球面表面的形狀’係由以下之方程式⑺來加 疮 其中該「y」係為在垂直於該光軸之方向上的高 度，該「χΓν、 j么认 」係為沿著光軸從正切於該非球面表面之 f點的平面’到該非球面表面之高度y之-點上的距離， 」係為"亥今曲之傍軸半徑（paraxial radius )(基準 球體之’曲半徑）；該「k」係為圓錐曲線常數，而該「c 係為n-th非球面係數。 n」 x(y)=(y2/〇/(1+( + C丨 〇y]〇 δΥ (2) 卜之表1列出了該成像光學系統X 〇之透鏡特 13 ,200538753 t’以作為該第一具體態樣。在表"之表面編號i 3係對應於圖3中之元件符號1〜 像光學系、统丄〇。在表丄中之 ’、係敘述忒成 ^ 」饰為母一個透鏡矣 的％曲半控，而該「d」係為從該透鏡表面至下—個透^ 表面之間的距離。該「vd」係為該線段d之阿貝常數心 C〇nStant)，而該「nd」係為該線段d之折射率。节「f 係為焦距，而該「Bf」係為後焦點。以下所列出之焦：： 彎曲半徑r、表面距離d、及盆相似者

,Γ 汉/、相似者，其數值的單位均 為匪」，除非有另外再提出。然而，該單位並不會受限 於「_」’也是可以使用其他適#的單位，因為任何 光學系統當其按比例放大或縮小時均顯示等同的 能。更進-步而言’在該非球面係數c“…，6,8 的值當中’舉例而言，該「E-09」代表著「χ 1〇-9」 以下之表1當中’不是球面的表面均以「*」纟靜 面編號旁邊加以標示。 ~ 表

14 200538753 (表1 )

f= 18.500 Bf=38.272 表面編號 1· d vd nd 1 00 3.00 64.1 1.51680 F 2 00 2.500 1.00000 3 50.76 2.500 45.3 1.79500 L1 4 19.41 7.000 1.00000 5* 44.27 0.100 55.6 1.50625 L2 6 28.81 2.000 45.3 1.79500 L3 7 22.20 8.200 1.00000 8 -121.57 1.700 44.8 1.74400 L4 9 49.85 6.800 1.00000 10 58.05 4.500 28.6 1.79504 L5 11 -149.17 28.422 1.00000 12 51.03 1.000 47.4 1.78800 L6 13 23.03 3.800 56.4 1.50137 L7 14 -54.97 5.166 1.00000 15 00 1.500 8.6 1.00000 P 16 17.65 14.200 59.5 1.53996 L8 17 -27.28 1.300 45.3 1.79500 L9 18 32.29 0.700 1.00000 19 110.45 1.300 37.4 1.83400 L10 20 14.03 5.300 82.5 1.49782 L11 21 -23.36 0.100 1.00000 22 138.28 1.600 59.5 1.53996 L12 23 -138.28 1.00000 (該非球面表面的資料） 表面編號 5 k = 5.435 C4 = 7.1 876E-06 C6, =—3 . 6412E-09 C8 = 3.9918E-1 1 C10 =—3 · 3225E-14 如圖 3 中所顯示 ，如果一 個來自 於該物體之一側 光射線 R，以4 5度之入射角度（其係為介於該光射線R 15 .200538753 和該光軸A之間的角度），進入至該成像光學系統 1 〇 當中，然後該光射線會於該彎月形負透鏡L 2之物體& 面上進行反射（表面編號5之第一雙重影像一產生表面）。 此反射光會再次於該彎月形負透鏡L 1之物體側表面上進 行反射（表面編號4之第二雙重影像一產生表面），然後 再到達該影像平面I ，以產生一個雙重影像。在該第一具 體態樣之中，該孔徑光闌 P係縮小至等同於F〜編號2 2的尺寸，F —編號係為透鏡亮度之指示器。 _ 現在，如果將在該雙重影像一產生表面上入射之光射 籲係顯示光譜特徵。在圖4中所使用之敘述「先前技術之方 法」係代表使用先前技術之技ϋ洽® Μ 7 ^ ..

’並且有效 線R的角度列入考慮的話，在第一雙重影像一產生表面 (表面編號 3 )上入射之該光射線R的角度則大約為6 0度，在第一雙重影像一產生表面上反射並於第二雙重影 像產生表面（表面編號2 )入射之該光射線r的角度， 則大約為2 5度。因此，這些具有抗反射塗層i之雙重影 像一產生表面（表面編號 2和3 )的例子當中，其光學 性能將參考圖4來加以敘述，作為第一具體態樣，該圖4 中之光射線，低於先前技術之方法的反射率值，並且有效 地減少光到達作為雙重影偾夕K π T ...

16 •200538753 係為該第一雙重影像一產生表面（表面編號3 )之反射 率與5亥苐二雙重影像一產生表面（表面編號2)之反射率 的乘積。因此，用於該系統之反射率的值，係小於〇. 1 〇 %。 從此函數關係來看，該成像光學系統1 〇，也就是其雙 重影像一產生表面具有該抗反射塗層1 (作為第一具體態 樣），可滿足以下之方程式：

Rn X Rm <〇.i〇 [%] ( 3 ) 其中，該「Rn」係代表該n-th雙重影像—產生表面 之反射率，而該「Rm」係代表該m-th雙重影像一產生 表面之反射率。 在較it的隋形下，就是建構該成像光學系統1〇， 使付在方私式（3 )中「Rn χ Rm」白勺乘積等於或者是小 於0.05叫，以達到更為令人滿意的光學性能。 “ 更進步而呂，該抗反射塗層1係被提供在該平面一 =行4板F之影像側表面上，其係位於最接近該成像光 子系、洗1 〇中的物體，以有效地避免雙重影像產生於該 表面上#者，即使該成像光學系、统1 0在其影像端上 包括了-個接物鏡，以用於作為觀看光學系統，該抗反射 塗層1可以執行相同的效果’以抑制雙重影像或閃光，而 達到用於觀看之鮮明的影像。 、斤敘述，於以上之具體態樣當中的抗反射塗層 斤在可見光範圍(400麵〜700 _)中之寬廣的角度 範圍内，可以接祉 ” /、/、有低反射率的光學元件。藉由完成 一預被用在一弁風金从木木 兀风此 予糸、、先§中的光學元件，本發明提供了一 17 •200538753 種具有高光學性能之光學系統，其並不會受到雙重影像以 及閃光的影響。 因此，在此所敘述之本發明，很明顯地可以許多的方 式來加以變化。這種變化並不會被視為背離本發明之精神 與範缚，並且所有的修改與變化對於熟習該項技術者而 言，均為顯而易知的，並包括在以下之申請專利範圍的範 疇當中。 【圖式簡單說明】 從以下所提供之詳細敘述以及伴隨的圖式，將可更詳 盡的了解本發明，但這些詳細敘述以及伴隨的圖式都僅係 以說明的方式提供，因此非為用於限定本發明。 圖1係顯示根據本發明之抗反射塗層的結構。 圖2係為一圖表，其係顯示根據本發明之抗反射塗 層的光譜特徵。 圖3係為一成像光學系統之透鏡裝置，其包括了具 有本發明之抗反射塗層的光學元件。 S 4係為圖表，其係顯示根據本發明之成像光學 系統的光譜特徵。 【主要元件符號說明】 1 抗> 反射塗層 2 光學構件 3 - 2 3 表面編號 10 成像光學系統 la 第一層 18 .200538753

1 b 第二 層 1 c 第三 層 1 d 第四 層 L 1 彎月 形 負 透 鏡 L 2 彎月 形 負 透 鏡 L 3 彎月 形 負 透 鏡 L 4 雙凹 透 鏡 L 5 一個 雙 凸 透 鏡 L 6 彎月 形 負 透 鏡 L 7 雙凸 透 鏡 L 8 雙凸 透 鏡 L 9 雙凹 透 鏡 L 10 彎月 形 負 透 鏡 L 11 雙凸 透 鏡 L 12 雙凸 透 鏡 R 光射線 A 光軸 F 平面 — 平 行 薄板 I 影像平 面 P 孔徑 光 闌 19

Claims (1)

1. .2005J8753 十、申請專利範圍： 1 · 一種形成在一光學構件之光學表面上的抗反射塗 層’以用於減少從該光學表面反射而來之光射線的數量， 其中： 對於在400 nm至700 nm之波長範圍中的光射線而 mV 該抗反射塗層具有： 0·5%或者是更低的反射率，如果該光射線係以〇至25 _ 度之範圍的角度中入射到該光學表面的話；以及具有3_5 %或者是更低的反射率，如果該光射線係以〇至6〇度之 乾圍的角度中入射到該光學表面的話。 2·根據申請專利範圍第1項之抗反射塗層，其中： 該抗反射塗層包括了複數個連續重疊的層，而 _複數層中至少有一層是藉由使用溶膠凝膠法所形 成。 3·根據申請專利範圍第2項之抗反射塗層，其中： 該光學構件具有大約丨.52之折射率；而 該抗反射塗層包括了 ·· 第一層’其係形成於該光學表面上，該第一層具有大 約165的折射率以及大約〇·27λ之光學薄膜厚度； 弟層其係形成於该第一層之上，該第二層具有大 系勺 Ο 1 …、·之折射率，以及大約為0.07λ之光學薄膜厚度； m 其係形成於遠第二層之上，該第三層具有大 勺為1,65之折射率，以及大約為0·30λ之光學薄膜厚度； 20 .200538753 以及 ，「一 /百 < 工，緣牙；四層呈右 約為1.25之折射率， ’ 丰以及大約為〇.26λ之光學薄膜厚声 該「λ」料55G nm之參考光射線波長。 又 第四層，其係形成於該第三層之上 ’其中： 同樣藉由真 4.根據申請專利範圍第3項之抗反射塗層 該=一層是由氧化鋁利用真空沉積而製成 該第二層是由氧化鈦與氧化鍅的混合物， 空沉積而製成；

   孩：二層同樣是由氧化鋁利用真空沉積而製成；而 ，亥第四層則;^由I化鎭藉由溶膠凝膠法而製成。 [根據申請專利範圍第1項之抗反射塗層，其中： 該抗反射塗層包括了複數個連續重疊的層，而 忒禝數層中至少有-層具有等於或者是小⑥1.3的折 射率。 6.根據申請專利範圍第5項之抗反射塗層，其中： 該光學構件具有大約1.52之折射率；而 邊抗反射塗層包括了 ： 第一層，其係形成於該光學表面上，該第一層具有大 約1 · 6 5的折射率以及大約〇 · 2 7 χ之光學薄膜厚度； 第一層’其係形成於該第一層之上，該第二層具有大 約為2.12之折射率，以及大約為〇 〇7人之光學薄膜厚度； 第一層’其係形成於該第二層之上，該第三層具有大 約為1,65之折射率，以及大約為0.30λ之光學薄膜厚度； 以及 21 200538753 第四層，其係形成於該第三層之上，該第四層具有大 ^為丨·25,折射率，以及大約為〇·26λ之光學薄膜厚度， 忒「λ」係為55〇 _之參考光射線波長。 7.々根據中請專利範圍第6項之抗反射塗層，其中： 該第^ 一層是由氧化鋁利用真空沉積而製成； 上9疋由氧化鈦與氧化錯的混合物，同樣藉由直 空沉積而製成； /、 。亥第—層同樣是由氧化鋁利用真空沉積而製成；而 "亥第四層則是由氟化鎂藉由溶膠凝膠法而製成。 8 ·、根據中請專利範圍第1項之抗反射塗層，其中： 亥光予構件具有大約1·52之折射率；而 該抗反射塗層包括了 ： 第層’其係形成於該光學表面上，該第一層具有大 勺2的折射率以及大約0·27λ之光學薄膜厚度； ^ 層’其係形成於該第一層之上，該第二層呈右* 約為2.12之批蚪方 八负人 〜诃射率，以及大約為〇·〇7λ之光學薄膜厚戶； : ， ~ 9 ’其係形成於該第二層之上，該第三層呈右 約為1.65之批方 〆、有大 折射率，以及大約為0·30λ之光學薄膜厚度； 以及 ’ 第四； 曰’其係形成於該第三層之上，該第四層呈右 約為1.25之& &办 以頁大 折射率，以及大約為0.26λ之光學薄膜厚声， 該「λ」位达 又’ 恭為550 nm之參考光射線波長。 艮據申請專利範圍第8項之抗反射塗層，其中· 該第〜 、I · ^ 〜層是由氧化鋁利用真空沉積而製成； 22 .200538753 該第二層是由氧化鈦與氧化鍅的混合物，同樣藉由直 空沉積而製成； 〃 σ亥第一層同樣是由氧化鋁利用真空沉積而製成；而 該第四層則是由氟化鎂藉由溶膠凝膠法而製成。 10· -種光學元件’其包括了一個光學構件，該光學 構件之光學表面係為一個平面或者是彎曲的表I以及一 層抗反射塗層’其係形成於該該光學構件之光學表面上， 以用於減少從該該光學表面反射而來之光射線 ，宜 中： 八 言 對於在400 至700 nm之波長範圍中的光射線而 該抗反射塗層具有： 0.5%或者是更低的反射率，如果該光射線係以〇至乃 度之範圍的角度中入射到該光學表面的話；以及具有3 $ %或者是更低的反射率，如果該光射線係以〇至6〇声之 範圍的角度中入射到該光學表面的話。 又 11·根據申請專利範圍第i 〇項之光學元件，其中： 該抗反射塗層包括了複數個連續重疊的層，而 、該複數層中至少有一層是藉由使用溶膠凝膠法所形 成0 12根據申請專利範圍第1 〇項之光學元件，其中 該抗反射塗層包括了複數個連續重疊的層，而 的折 該複數層中至少有一層具有等於或者是1於13 射率。 23 200538753 1 3 · —種光學系統，其包括一個光學元件，係位於一 物體和一影像平面之間，其中·· 該光學元件之光學表面中至少一層係具有抗反射塗 層；以及 對於在400 nm至700 nm之波長範圍中的光射線而 言 ， 該抗反射塗層具有： 0.5%或者是更低的反射率，如果該光射線係以〇至25 •度之範圍的角度中入射到該光學表面的話；以及 具有3.5%或者是更低的反射率，如果該光射線係以〇 至60度之範圍的角度中入射到該光學表面的話。 14.根據申請專利範圍第丄3項之光學系統，其中： 該抗反射塗層包括了複數個連續重疊的層，而 該複數層中至少有一層是藉由使用溶膠凝膠法所形 成0 15.根據申請專利範圍第1 3項之光學系統，其中： 該抗反射塗層包括了複數個連續重疊的層，而 該複數層中至少有一層具有等於或者是切Μ的折 射率。 10· 很像甲請專利範 -U 7〜7G芊糸統，預破用 於在400nin至700nm之冰具丄 之波長祀圍中的光射線。 1 7·根據申請專利範圍第1 d項之先學糸統，預被用 於作為一種成像光學系統。 μ·根據中請專利範圍第13項之光學“，預被用 24 200538753 於作為一種觀看光學系統。 19 · 一種光學系統，其包括複數個光學表面，其中·· 该光學表面之一個n_th雙重影像一產生表面與一個 m-th雙重影像〜產生表面當中，至少有一個表面具有一 層抗反射塗層；以及 對於在400 nm至700 nm之波長範圍中的光射線而 該抗反射塗層具有： 0.5%或者是更低的反射率，如果該光射線係以〇至25 度之範圍的角度中入射到該光學表面的話；以及 具有3.5%或者是更低的反射率，如果該光射線係以0 至60度之範圍的角度中入射到該光學表面的話；並且 該光學系統滿足以下之方程式： Rn X Rm <0.10 [%] 該「Rn」係代表該n-th雙重影像—產生表面之反射 率’而該「Rm」係代表該m-th雙重影像一產生表面之 反射率。 2 0 ·根據申請專利範圍第1 9項之光學系統，其中·· 該抗反射塗層包括了複數個連續重疊的層，而 該複數層中至少有一層是藉由使用溶膠凝膠法所形 成。 21.根據申請專利範圍第1 9項之光學系統，其中·· 該抗反射塗層包括了複數個連續重疊的層，而 該複數層中至少有一層具有等於或者是小於丨.3的折 25 200538753 射率。 22. 根據申請專利範圍第1 9項之光學系統，預被用 於在400 nm至700 nm之波長範圍中的光射線。 23. 根據申請專利範圍第1 9項之光學系統，預被用 於作為一種成像光學系統。 24. 根據申請專利範圍第1 9項之光學系統，預被用 於作為一種觀看光學系統。 十一、圖式： 如次頁 26