TW200538430A - Process for production of a dried carboxylic acid cake suitable for use in polyester production - Google Patents

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200538430 九、發明說明： 、 【發明所屬之技術領域】 ‘ 本I明係關於藉由使用至少一種逆流洗滌法，自漿體或 餅塊叛酸產物得到經乾燥羧酸餅塊之方法。更準確地說， 本舍明係關於藉由使用至少_種逆流洗蘇法，自聚體或餅 塊對苯一甲酸產物，得到適於作為供聚醋或共聚醋生產之 起始物質之經乾燥對苯二甲酸餅塊的方法。 【先前技術】 φ 按照製造聚對苯二甲酸乙二酯（PET)及其它聚酯或共聚 醋之目標’有許多專利文獻專門描述製造適於作為起始物 負之經乾燥緩酸餅塊之方法。通學，這些發明描述使用純 化對苯二甲酸固體及液體乙二醇之特定混合流程。此外， 文獻有很多主文係專門論述製造適用於PET及其它聚酯或 共聚醋生產之呈粉末型式之純化對苯二甲酸的方法。 本發明之目標為描述藉由使用逆流溶劑洗滌區，自漿體 或餅塊緩酸產物，得到適於作為供聚酯或共聚酯生產之起 φ 始物質之經乾操羧酸餅塊的方法。更準確地說，本發明之 目標為描述藉由使用逆流溶劑洗滌區以減少本方法之新溶 劑之使用量，自漿體或餅塊對苯二甲酸產物，得到適於作 為供聚酯或共聚酯生產之起始物質之經乾燥對苯二甲酸餅 塊的方法。 ' 通常，以多步驟方法（其中可製備粗對苯二甲酸）製備經 純化對苯二甲酸固體。對-二甲苯之液相氧化反應可製備 粗對笨二甲酸。該粗對苯二曱酸之品質並不能夠直接作為 98874.doc 200538430 商業PET之起始物質。反倒是，該粗對苯二甲酸通常可經 精煉以製成經純化對苯二甲酸。

通^在對苯二曱酸純化方法中，係使粗對苯二甲酸溶解 在水中，並經氫化以將4-羧基苯甲醛轉化成對-苯基乙酸 (其係為具更佳水溶性之衍生物）、及將黃色特徵之化合物 轉化成無色衍生物。該最終經純化對苯二甲酸產物中重要 的4-羧基苯甲醛或對-苯基乙酸對聚合方法特別有害，因為 於PET生產之對苯二甲酸與乙二醇之縮合反應期間，其各 可作為鏈終止劑。以重量為基準計，一般經純化對苯二甲 酸含有小於25 ppm(每百萬之份數）之4-羧基苯甲醛及小於 150 ppm之對-苯基乙酸。 已研發許多方法，其中不必使用氫化反應，對苯二甲酸 適於作為商業PET生產之起始物質，一般而言，對苯二甲 酸之製法包括在乙酸溶劑中使對_二甲苯進行催化氧化反 應’繼而過濾及乾燥該對苯二甲酸。 斤一般而言，可藉由在乙酸溶劑中使對_二甲苯進行催化 氧化反應所製成之對苯二甲酸（TPA)，以製造含有殘留觸 媒（例如，鈷、錳、及溴化合物）之漿體或餅塊對苯二甲酸 產物。在自漿體或餅塊對苯二甲酸產物製造實質上無水之 TPA固體之習用方法中，需過濾該漿體或餅塊對苯^甲酸 產物以自該TPA固體分離大量乙酸液體。 $可藉由以無 觸媒乙酸、水或其它溶劑洗滌（沖洗）濕濾餅，以自爷漿體 或餅塊對笨二甲酸產物分離殘留觸媒。 在本發明中，業已發現可導致溶劑之使用量少於目前採 98874.doc 200538430 用方法所使用之溶劑量的新穎方法。在於乙酸溶劑中藉由 對-二甲苯之催化氧化反應以製備對苯二甲酸之習知 ~ 万/务 中，需過濾、洗滌，然後乾燥漿體或餅塊對笨二甲酸產 物’以產生適於作為PET生產之起始物質之對苯二甲酸。 在本發明一項具體實施例中，需過濾該漿體或餅塊對苯 二甲酸產物，以製造具有溶劑之對苯二甲酸餅塊及TpA溶 劑母液流。然後以水洗滌（沖洗）該具有溶劑之對苯二甲酸 餅塊以回收殘留金屬觸媒物質，並產生水濕性對苯二甲酸 餅塊及TPA溶劑/水副產物液體。然後乾燥該水濕性對苯二 甲酸餅塊，以產生適於作為商業ΡΕΊΓ製法之起始物質之經 乾燥對苯二甲酸餅塊。在本發明之具體實施例中，係使用 至少一種逆流洗滌法。與未使用逆流洗滌法之方法比較， 藉由使用逆流溶劑洗滌區，可以大量減少溶劑之使用量。 此外，與未使用逆流洗滌法之TPA製法比較，藉由使用至 少一種逆流洗滌法，可導致設備大小及能源之減少。 【發明内容】 本發明係關於自漿體或餅塊羧酸產物得到經乾燥羧酸餅 塊之方法。更準確地說，本發明係關於製備適於作為商業 PET生產之原料之經乾燥對苯二甲酸餅塊的方法。所形成 該方法所使用之溶劑少於未使料流溶劑洗務區之目前使 用的方法所使用之溶劑。 本發明之-項目標為提供藉由使用至少_種逆流洗務法 自漿體或餅塊羧酸產物製備經乾燥羧酸餅塊之方法。 本發明另一項目標為提供自漿體或餅塊對苯二甲酸產物 98874.doc 200538430 製備經乾燥對笨二甲酸餅塊之方法。 月另項目&為提供藉由使用逆流溶劑洗條區，自 對苯二甲酸溶劑聚體或餅塊製備經乾燥對苯二甲酸餅塊之 方法。 、，在本發明另-項具體實施例中，係提供製備經乾燥觀酸 餅塊之方法，該方法包括： ⑷在液體交換區内，自緩酸聚體移除不純物以形成水漁 羧酸餅塊、母液流、溶劑母液流、及溶劑/水副產液體 私 机，其中係以逆流方式添加溶劑或水至該流動之羧酸漿體 中； (b) 在乾燥區内，乾燥水濕性竣酸餅塊以形成該經乾燥 羧酸餅塊。 在本發明另一項具體實施例中，係提供製備經乾燥羧酸 餅塊之方法，該方法包括·· (a)在洛劑液體交換區内，自羧酸漿體移除不純物以形成 具有溶劑之羧酸餅塊、母液流、及溶劑母液流； ® (b)在逆流水洗區内，添加水至該具有溶劑之羧酸餅塊 以產生水濕性羧酸餅塊及溶劑/水副產物液體流； (c) 在乾燥區内，乾燥水濕性羧酸餅塊以形成該經乾燥羧 酸餅塊。 在本發明另一項具體實施例中，係提供製備經乾燥羧酸 餅塊之方法，該方法包括： (a)在固液分離區内，自羧酸漿體移除不純物以形成漿體 或餅塊產物及母液流； 98874.doc 200538430 (b)在逆流溶劑-水液體交換區内，自該漿體或餅塊產物 移除殘留不純物以形成水濕性羧酸餅塊、溶劑母液流、及 溶劑/水副產物液體流；及 (C)在乾燥區内，乾燥水濕性羧酸餅塊以形成該經乾燥羧 酸餅塊。 在本發明另一項具體實施例中，係提供製備經乾燥羧酸 餅塊之方法，該方法包括·· (a) 在逆流溶劑-水液體交換區内，自漿體或餅塊產物移 除溶劑；其中係以水取代該漿體或餅塊產物中之大部份溶 劑以形成水濕性羧酸餅塊； (b) 在乾燥區内，乾燥水濕性羧酸餅塊以形成該經乾燥 羧酸餅塊。 在本發明另一項具體實施例中，係提供製備經乾燥對苯 一甲酸餅塊之方法，該方法包括·· (a) 在逆流溶劑洗滌區内，自漿體或餅塊對苯二甲酸產物 移除殘留不純物，以形成具有乙酸之對苯二曱酸餅塊·， (b) 在逆流水洗區内，自該具有乙酸之對苯二甲酸餅塊 移除大部份溶劑，以形成水濕性對苯二甲酸餅塊；及 (c) 在乾燥區内，乾燥水濕性羧酸餅塊以形成該經乾燥羧 酸餅塊。 在本發明另一項具體實施例中，係提供製備經乾燥對苯 二甲酸餅塊之方法，該方法包括： (a)在逆流溶劑-水液體交換區内，自漿體或餅塊對苯二 曱酸產物移除溶劑；其中係以水取代該漿體或餅塊對苯二 98874.doc 200538430 甲酸產物中之大部份溶劑 塊； 以形成水濕性對苯二甲酸餅 二甲酸餅塊以形成該

(b)在乾燥區内，乾燥水濕性對苯 經乾燥對苯二甲酸餅塊。 _在本發明另—項具體實施例中，係提供製備經乾燥對苯 二甲酸餅塊之方法，該方法包括： ⑷在逆流溶劑洗滌區内，自得自具有乙酸之對苯二甲酸 餅塊之漿體或餅塊對苯二甲酸產物移除殘留不純物；其中 該逆流洗滌區包括至少一種於介於約4(rc至約155。〇間之 溫度下操作固液分離裝置； (b)在逆流水洗區内，自該具有乙酸之對苯二p酸餅塊 移除大部份溶劑以形成水濕性對苯二甲酸餅塊；其中該逆 流水洗區包括至少一種於介於約4〇。〇至約i 5 5 〇c間之溫度 下操作之固液分離裝置。c (c)在乾燥區内，乾燥水濕性對苯二甲酸以形成該經乾燥 對苯二甲酸餅塊。 在本發明另一項具體實施例中，係提供製製經乾燥羧酸 餅塊之方法，該方法包括·· (a)在固液分離區内，自羧酸漿體移除不純物以形成漿體 或餅塊產物及母液流； (b) 在逆流溶劑洗滌區内，添加添劑至該漿體或餅塊產 物以製備具有溶劑之羧酸餅塊及溶劑液流； (c) 在逆流水洗區内，視需要添加水至該具有溶劑之羧酸 餅塊以製備水濕性羧酸餅塊及溶劑/水副產物液體流； 98874.doc 200538430 ⑷在乾燥區内’乾燥水濕性鲮酸餅塊以形成該經乾燥 羧酸餅塊。 在本毛明另項具體貫施例中，係提供製備經乾燥對苯 二甲酸餅塊之方法，該方法包括： ()在口液刀離區内，自對笨二甲酸漿體移除不純物以形 成衆體或餅塊對苯二甲酸產物及母液流； (b) 在逆流洛劑洗滌區内，添加溶劑至該漿體或餅塊對 苯二甲酸產物以製備具有溶劑之對苯二甲酸餘塊及溶劑母 | 液流； (c) 在逆流水洗區内，可視需要添加水至該具有溶劑之對 苯一甲酸餅塊以製備水濕性對苯二甲酸餅塊及溶劑/水副 產物液體流； (d) 在乾燥區内，乾燥水濕性羧酸餅塊以形成該經乾燥 叛酸餅塊。 熟悉本技藝之其它人閱讀本揭示文後，更能瞭解這些目 標及其它目標。 • 【實施方式】 在圖1所示之本發明一項具體實施例中，係提供製備經 乾燥羧酸餅塊170之方法。該方法包括： 步驟（a)包括在固液置換區40内，可視需要自羧酸漿體3〇 移除不純物以形成槳體或餅塊羧酸產物70及母液流60。 竣酸漿體包含至少一種敌酸、觸媒、至少一種溶劑、及 圖中未顯示之不純物（其係藉由管線導入）。該等不純物通 常包含至少一或多種下述化合物：4-致基苯甲酸：（4_ 98874.doc -12- 200538430 CBA)、笨三甲酸（TMA)、及2,6_二羧基薙（2,6_DCF)。適合 • 之溶劑包括（但不限於）較佳含2至6個碳原子之脂肪族單羧 酉夂或本甲酸及其混合物與這些化合物及水之混合物。該 溶劑較佳為與水混合之乙酸（其混合比率為約5 ·· 1至約 99 : 1，較佳介於8 : i與約49 ·· i之間）。本專利說明書從 頭至尾’乙酸被稱為溶劑。然而，應該瞭解亦可以使用其 它適合溶劑，例如，先前揭示之溶劑。該溶劑通常包含乙 酸’但是可以是先前業已提及之任何溶劑。 • 可以在氧化反應區内藉由氧化芳香族原料以製備該羧酸 體。在一項具體實施例中，該芳香族原料包含對二甲 苯。該氧化反應區包括至少一種氧化反應區，且該羧酸漿 體包含至少一種羧酸。可以於介於約120°C與約250°C間之 溫度下（較佳約14(TC至約170。〇,操作氧化反應器。一般 而言，該芳香族原料包含對二甲苯，而該羧酸包含對苯二 甲酸。在本發明一項具體實施例中，該氧化反應區包括一 泡柱。 鲁 ®此，例如，當使用對苯二甲酸時，該叛酸漿體30可被 稱為對苯二曱酸漿體，而該經乾燥羧酸餅塊丨7〇可被稱為 經乾燥對苯二甲酸餅塊。 . 羧酸包括藉由有機先質化合物之受控氧化反應所產生之 • 任何羧酸。例如，羧酸包括較佳具有8至14個碳原子之芳 香私一羧、較佳具有4至12個碳原子之脂肪族二羧酸、 或車又佳具有8至12個碳原子之環脂肪族二羧酸。適合羧酸 之其它實例包括（但不限於）對苯二甲酸、苯甲酸、對_苯基 98874.doc -13 - 200538430 乙酸、異肽酸、苯三甲酸、萘二羧酸、環己烷二羧酸、環 己少完二乙酸、二苯基-4，4’ -二魏酸、二苯基-3，4f -二竣酸、 2,2-二甲基-1，3-丙二醇二羧酸、琥珀酸、戊二酸、己二 酸、壬二酸、癸二酸、及其混合物。 可藉由習知方法於適合氧化觸媒存在下，使對二甲苯進 行液相氧化反應以合成對苯二甲酸漿體。適合之觸媒包括 (但不限於）鈷、錳及溴化合物，其可溶於經選擇溶劑中。 在本發明該具體實施例中，該觸媒包括鈷、溴及錳。該液 體内，鈷及錳之合併濃度可以是約100 ppm至約2700 ppm重 量比。該液體内、溴之濃度可以是約1000 ppm至約25〇〇 ppm重量比。 將該幾酸漿體饋至固液置換區4〇内，於其内可以移除叛 酸漿體30所含部份該液體，以在導管7〇内產生漿體或餅塊 羧酸產物。可藉由本技藝已知之任何方法移除部份該液體 以在導管70内產生漿體或餅塊竣酸產物。··部份··係指移 除至少5重量％該液體。一般而言，該固體_液體置換區4〇 包括選自由傾析器離心機、旋轉盤離心機、帶濾機、旋轉 真空過濾機、及諸如此類所組成之群組之固液分離器。將 導管30内之羧酸漿體饋至含至少一種固液分離器之固液置 換區4〇内。可以於介於約赃至約2GG°C間之溫度下（較佳 14 0 °C至約17 〇 °C )操作該固液 > 離器（群）。T以於介於約0 pslg至約200 psig間之壓力下操作該固液分離器（群）。可以 以連續或分批模式操作固液置換區4〇内之固液分離器，但 是應瞭解，㈣業方法而言，連續模較佳。 σ 98874.doc •14- 200538430 自固液置換區则，將該#不純物改換成母液流，並藉 由線路60排出。在本發明一項具體實施例中，係藉由㈣ .5〇將額外溶劑饋至固液置換區4〇以再裝化竣酸聚體3〇,並 形成梁體或餅塊㈣產物70。當在固液分離㈣内使用對 苯二甲酸漿體時，可製備衆體或餅塊對苯二甲酸產物。該 浆體或餅塊對苯二甲酸產物通常包含對苯二甲酸及乙酸。 可藉由線路60自固液置換區40排出母液⑼，且該母液包含 溶劑，其通常為乙酸、觸媒、及演化合物。可以將線路6〇 • 巾之母液送至供藉由圖中未顯示之線路，自氧化溶劑分離 不純物或藉由圖中未顯示之線路，再循環至該觸媒系統之 方法。化學加工工業中習用之自母液6〇移除不純物的一種 技術為抽出或"滌洗"部份該再循環流。一般而言，係簡單 地棄置該滌洗流，或，若經濟上許可，可以使其接受各種 處理以移除不想要不純物，並回收有用的組份。不純物移 除方法之實例包括美國專利第4,939,297號及第4,356,319 號，其皆以引用的方式併入本文中。 _ 步驟（b)包括在逆流溶劑洗滌區80内，自漿體或餅塊羧 酸產物70移除殘留不純物，以形成具有溶劑i丨〇之竣酸餅 塊及溶劑母液流1〇〇。 . 導管70含有包含羧酸、殘留不純物及溶劑之漿體或餅塊 羧酸產物70。該等殘留不純物包含殘留觸媒（其通常不限 於鈷、錳、或溴）。適合之溶劑包括（但不限於）較佳含2至6 個碳原子之脂肪族單羧酸、或苯甲酸及其混合物與這些化 合物及水之混合物。該溶劑較佳主要由乙酸及/或一些水 98874.doc -15- 200538430 所組成。乙酸對水之比率範圍可以自5〇 : 5〇至99 : 1，乙 • 酸對水之質量比更佳在85 ·· 15至98 ·· 2之範圍内，且最佳 在90· 10至97· 3之範圍内。適合之魏酸包括（但不限於）對 苯二甲酸、異肽酸、萘二羧酸、苯三甲酸、及其混合物。 該漿體或餅塊羧酸產物7〇含有1〇-9〇重量％範圍内之羧 酸。就渡體而言，該漿體或餅塊羧酸產物7〇較佳含有25_ 40重畺％範圍内之竣酸，且就餅塊產物而言，含有7〇_9〇 重量％範圍内之羧酸。該漿體或餅塊羧酸產物7〇最佳含 • 有30_40重量％範圍内之羧酸。接著將導管70内之該漿體 或餅塊竣酸產物導入逆流溶劑洗膝區8〇内，於其中在導管 100内之該溶劑母液流内回收大部份溶劑。溶劑母液丨〇2 包含大部份該溶劑。可藉由導管9〇以逆流方式添加額外溶 劑至逆流溶劑洗滌區80内之該漿體或餅塊羧酸產物7〇流 中。該逆流洗滌階段數可以是產生所要純度之該具有溶劑 之羧酸餅塊所需之任何階段數。一般而言，該逆流洗滌法 中之階段數可以是約1至約8、較佳約2至約6、最佳約2至 0 約4。就使用超過一階段進行之洗滌法而言，逆流式流動 較佳。 逆流溶劑洗務區80包括至少一種能有效分離固體及液體 之固液分離裝置。該固液分離裝置通常可以由以下器件所 組成，但不限於··離心機、旋風分離器、旋轉桶式濾器、 ♦ 帶濾器、壓濾器等等。逆流溶劑洗滌區80包括至少一種可 以在自約40 C至15 5 C溫度範圍内操作之固液分離裝置 (群）110。該固液分離裝置（群）11〇較佳可以在自約80°C至 98874.doc -16- 200538430 約150°C溫度範圍内操作。製備具有溶劑11〇之羧酸餅塊， 其中禮具有浴劑110之羧酸餅塊之水份組成可以含有至 30重量％範圍内之水份，較佳含有丨至2〇重量％範圍内之水 伤，最佳含有1至10重量％範圍内之水份。可視需要藉由 氣體置換步驟移除殘留溶劑以使經洗滌法汙染之溶劑量減 至最少。當該羧酸為對苯二甲酸，且該溶劑為乙酸時，可 製備具有乙酸之對苯二甲酸餅塊。 步驟（c)包括可視需要在逆流水洗區丨内，自該具有溶 劑110之羧酸餅塊移除大部份溶劑以形成水濕性羧酸餅塊 100及溶劑/水副產物液體流14〇。 然後在逆流水洗區120内，使該具有溶劑11〇之羧酸餅塊 接受洗滌法處理，或經水或實質上具有殘留量溶劑之水，， 洗務”以使大部份該溶劑經水取代而形成水濕性羧酸餅塊 150 °該水濕性羧酸餅塊15〇較佳含有約〇·5%至約3〇%範圍 内之水份’更佳含有約i至約20%範圍内之水份，且最佳 含有約1%至約10%範圍内之水份。以質量為基準計，水濕 性觀酸餅塊150之殘留水份應該含有少於約2%溶劑。此 外’水濕性羧酸餅塊15〇應該含有小於1%任何金屬，較佳 小於100 ppm重量比，最佳小於1〇 ppm重量比，該金屬通 常可作為導管70内該漿體或餅塊羧酸產物之對-二甲苯氧 化反應之觸媒。金屬之實例包括鈷、及猛，但不限於此。 藉由導管1 30將洗滌水導入該逆流水洗后12〇内。該洗條 水應該以連續模式為基準，且該羧酸餅中該等固體與溶劑 11〇之饋給率比例在約〇·1:1至約1·5··1範圍内，較佳在約 98874.doc 17 200538430 0·1·1至約0.6.1範圍内’最佳在約〇.2:1至約〇·4:ι範圍内。 對於該洗滌水（其包括作為洗滌用之汽化水、蒸氣、或水 與蒸乳之組合之應用）之溫度或壓力並沒有限制。在本發 明-項具體實施例中，係以逆流方式將洗條水導人該具^ 溶劑之羧酸餅塊内。 可藉由導管130以逆流方式，添加額外洗滌水至逆流水 洗區120内之該具有溶劑11〇之羧酸餅塊流中。該逆流洗滌 階段數可以是產生所要純度之該水濕性羧酸餅塊所需之任 何1¾ &數。一般而言，該逆流洗滌法中之階段數可以是約 1至約8、較佳約2或約6、最佳約2至約4。 該逆流洗滌區包括固液分離裝置12〇，一般而言，該固 液分離裝置可以由以下器件所組成，但不限於：離心機、 旋風分離器、旋轉桶式濾器、帶濾器、壓濾器等等。該固 液分離裝置可以在自約40 °C至約155 °C之溫度範圍内操 作。該第二固液分離裝置可以在自約8〇。〇至約l5〇(>c之溫 度範圍内操作。該第二固液分離裝置可以在自約9(rc至約 150°C之溫度範圍内操作。 可視需要自藉由逆流溶劑洗條區8 〇產生之溶劑母液流， 分離得自逆流水洗區12〇之該溶劑/水副產物液體。 步驟（d)包括在乾燥區160内，乾燥該水濕性羧酸餅塊 150以製備經乾燥羧酸產物17〇。 自逆流水洗區120或逆流溶劑洗條區80内排出水濕性叛 酸餅塊150，然後饋至乾燥區160。分離部份該溶劑或水及 殘^觸媒與不純物’並藉由線路17 〇排出該經乾燥竣酸餅 98874.doc -18- 200538430 塊。 該乾燥區160包括適於回收該固體羧酸之濾器、及乾燥 器。可藉由本技藝已知之任何方法進行過渡。例如’可以 使用旋轉真空滤器進行過渡以產生據餅。使該遽餅通過初 溶劑移除步驟，然後經酸洗劑沖洗以移除殘留觸媒，接著 再移除溶劑，然後送至乾燥器。可藉由本技藝已知之任何 方法進行濾'餅之乾燥，該乾燥步驟可蒸發殘留在渡餅内之 至少10%揮發物以產生該羧酸產物。例如，可以使用 | Single Shaft Porcupine® Processor乾燥器。 在本發明其它具體實施例中，可以將步驟0卜步驟卬) 及步驟（c)合併成一個通稱為液體交換區25〇(如圖2所示）之 區。該液體交換區250包括至少一種可進行如前述固液分 離區40、逆流溶劑洗滌區80及逆流水洗區12〇之合併功用 之固液分離裝置。亦可以將步驟（b)及步驟（c)合併成為一 個通稱為逆流溶劑-水液體交換區260(如圖3所示）之區。最 後，可以將步驟（a)及步驟（b)合併成為一個通稱為溶劑液 • 體交換區270(如圖4所示）之區。在各上述具體實施例中， 包含至少一種可進行如上述之合併區之功用、的固液分離裝 置。可用於液體交換區250、或溶劑_水液體交換區26()、 或溶劑液體交換區270内之裝置實例包括（但不γ限於）以下裝 置··離心機、旋風分離器、濾器、及諸如此類或其組合。 【圖式簡單說明】 圖1係說明本發明一項具體實施例、製備經乾燥羧酸餅 塊之方法。 98874.doc -19- 200538430 圖2係說明本發明另一項具體實施例，藉由 換區製備經乾燥羧酸餅塊之方法。 圖3係說明本發明另一項具體實施例，藉由 劑-水液體交換區製備經乾燥羧酸餅塊之方法。 圖4係說明本發明另一項具體實施例，藉由 體交換區製備經乾燥羧酸餅塊之方法。 【主要元件符號說明】 用液體交 用逆流溶 用溶劑液

30 羧酸漿體 40 固液置換區 50 線路 60 母液流 70 漿體或餅塊羧酸產物 80 逆流溶劑洗滌區 90, 130 導管 100 溶劑母液流 102 溶劑母液 110 具有溶劑之羧酸餅塊 120 逆流水洗區 140 溶劑/水副產液體流 150 水濕性羧酸餅塊 160 乾燥區 170 經乾燥羧酸產物 250 液體交換區 260 逆流溶劑-水液體交換區 270 溶劑液體交換區 98874.doc -20-

Claims (1)

1. 200538430 十、申請專利範圍： 1 · 一種製備經乾燥羧酸餅塊之方法，該方法包括·· (a) 在液體交換區内，自羧酸漿體移除不純物以形成水 濕性綾酸餅塊、母液流、溶劑母液流、及溶劑/水副產物 液體流；其中係以逆流方式添加溶劑或水至該流動之羧 酸漿體中； (b) 在乾燥區内，乾燥水濕性羧酸餅塊或具有溶劑之羧 酸餅塊，以形成該經乾燥羧酸餅塊。 2·如請求項1之方法，其中該液體交換區包括自約2至約4 個階段之水或溶劑逆流洗谦數。 3 ·如請求項1之方法，其中係以逆流方式添加該溶劑及水 至該流動之羧酸漿體中。 4.如請求項丨之方法，其中該羧酸係選自以下所組成之群 、、且對本一甲酸、異欧酸、秦二魏酸、苯三曱酸、及直 混合物。 5·如請求項丨之方法，其中該羧酸為對苯二甲酸。 6·如請求項1、2或3之方法，其中該乾燥區可蒸發該水濕 性羧酸餅塊中之至少1 〇〇/〇之揮發物。 7·如睛求項1之方法，其中該粗羧酸缉體包含對笨二甲 酸、觸媒、乙酸、及於介於約110°c至約2〇(rc間之溫度 下自氧化反應區取出之不純物。 8· 一種製備經乾燥羧酸餅塊之方法，該方法包括： U)在溶劑液體乂換區内，自羧酸漿體移除不純物以形 成具有溶劑之羧酸餅塊、母液流、及溶劑母液流； 98874.doc 200538430 (b) 可視需要在逆流水洗區内，添加水至該具有溶劑之 1餅i鬼’以產生水濕性魏酸餅塊及溶劑/水副產物液體 流， (c) 在乾燥區内，乾燥水濕性羧酸餅塊或該具有溶劑之 叛酸餅塊以形成該經乾燥羧酸餅塊。 9·如睛求項8之方法，其中該羧酸係選自以下的組成之群 、、且對本二甲酸、異献酸、萘二叛酸、苯三甲酸、及其 混合物。 10·如請求項8之方法，其中該羧酸為對苯二甲酸。 Π·如請求項8或9之方法，其中該乾燥區可蒸發該水濕性羧 酸餅塊中之至少丨0〇/〇揮發物。 12·如睛求項8之方法，其中該粗羧酸漿體包含對苯二甲 酸、觸媒、乙酸、及於介於約U(^c至約2〇〇cc間之溫度 自氧化反應區排出之不純物。 1 3 · —種製備經乾燥羧酸餅塊之方法，該方法包括： 0)在固液分離區内，自羧酸漿體移除不純物以形成漿 體或餅塊產物及母液流； (b) 在逆流溶劑-水液體交換區内，自該漿體或餅塊產 物移除殘留不純物以形成水濕性羧酸餅塊、溶劑母液 流、及溶劑/水副產物液體流；及 (c) 在乾燥區内，乾燥水濕性緩酸餅塊或該具有溶劑之 羧酸餅塊以形成該經乾燥羧酸餅塊。 14·如晴求項13之方法，其中該羧酸係選自以下所組成之群 組·對苯二甲酸、異酞酸、萘二羧酸、苯三甲酸及其混 98874.doc 200538430 合物。 15·如明求項13之方法，其中該羧酸為對苯二甲酸。 16·如μ求項13之方法，其甲該粗叛酸聚體包含對笨二甲 酉文觸媒、乙酸、及於介於約ll〇°C至約200°C間之溫度 下自氧化反應區排出之不純物。 又 17·如明求項13或14之方法，其中該乾燥區可蒸發該水濕式 羧酸餅塊中之至少1〇%揮發物。 18· —種製備經乾燥羧酸餘塊之方法，該方法包括以下步 • 驟· (a) 在逆流溶劑-水液體交換區内，自漿體或餅塊產物 移除溶劑；其中係以水取代該漿體或餅塊產物中之大部 份溶劑’以形成水濕性羧酸餅塊； (b) 在乾燥區内，乾燥水濕性羧酸餅塊或該具有溶劑之 緩酸餅塊以形成該經乾燥羧酸餅塊。 19·如請求項18之方法，其中該羧酸係選自以下所組成之群 組：對苯二甲酸、異酞酸、萘二綾酸、苯三甲酸及其混 0 合物。 20.如請求項18之方法，其中該羧酸為對苯二甲酸。 21·如請求項19之方法，其中該粗羧酸漿體包含對苯二甲 酸、觸媒、乙酸、及於介於約1 l〇°C至約200°c間之溫度 下自氧化反應區排出之不純物。 22.如請求項18或19之方法，其中該乾燥區可蒸發該水濕式 羧酸餅塊中之至少1 〇〇/0揮發物。 23 · 一種製備經乾燥對苯二甲酸餅塊之方法，該方法包括以 98874.doc 200538430 下步驟： (a) 在逆流溶劑洗條區内’自漿體或餅塊對笨二甲酸產 物移除殘留不純物，以形成具有乙酸之對苯二甲酸餅 塊； (b) 可視需要在逆流水洗區内，自該具有乙酸之對苯二 曱酸餅塊，移除大部份溶劑以形成水濕性對苯二甲酸餅 塊；及 (c) 在乾燥區内，乾燥水濕性羧酸餅塊或該具有溶劑之 羧酸餅塊以形成該經乾燥羧酸餅塊。 24·如請求項23之方法，其中該逆流水溶劑洗滌區包括一種 於介於約40°C至約155 °C間之溫度下操作之固液分離裝 置。 25·如請求項24之方法，其中該羧酸為對苯二甲酸。 26.如請求項23、24或25之方法，其中該乾燥區可蒸發該水 濕性羧酸餅塊中之至少1 〇〇/〇揮發物。 27·如請求項22之方法，其中該粗羧酸漿體包含對苯二甲 酸、觸媒、乙酸、及於介於約u〇。〇至約2〇〇〇c間之溫度 下自氧化反應區取出之不純物。 28· —種製備經乾燥對苯二甲酸餅塊之方法，該方法包括·· (a) 在逆流溶劑-水液體交換區内，自漿體或餅塊對苯 二甲酸產物移除溶劑；其中係以水取代該漿體或餅塊對 苯二T酸產物中之大部份溶劑，以形成水濕性對苯二甲 酸餅塊； (b) 在乾燥區内，乾燥水濕性對苯二甲酸餅塊或該具有 98874.doc 200538430 溶劑之對苯二甲酸餅塊以形成該經乾燥對苯二甲酸餅 塊。 29·如請求項28之方法，其中該溶劑液體交換區包括一種於 介於約40 C至約155 C間之溫度下操作之固液分離裝 置。 30·如請求項28之方法，其中該乾燥區可蒸發該水濕性羧酸 餅塊中之至少10%揮發物。 31·如請求項29之方法，其中該乾燥區可蒸發該水濕性羧酸 餅塊_之至少10 %揮發物。 32·如請求項29之方法’其中該粗羧酸漿體包含對苯二甲 酉文、觸媒、乙酸、及於介於約11 〇。〇至約2〇〇°c間之溫度 下自氧化反應區取出之不純物。 3 3 · —種製備經乾燥對本一甲酸餅塊之方法，該方法包括·· (a) 在逆流》谷劑洗務區内，自具有乙酸之對苯二甲酸餅 塊之漿體或餅塊對笨二甲酸產物，移除殘留不純物；其 中該逆流洗滌區包括至少一種於介於約4〇 t至約i 551 間之溫度下操作固液分離裝置； (b) 可視需要在逆流水洗區内，自該具有乙酸之對苯二 曱酸餅塊移除大部份溶劑，以形成水濕性對苯二甲酸餅 塊’其中该逆流水洗區包括至少一種於介於約4〇。匚至約 15 5 C間之溫度下操作之固液分離裝置。◦ (c) 在乾燥區内，乾燥水濕性對苯二甲酸或該具有溶劑 之對苯二甲酸餅塊以形成該經乾燥對苯二甲酸餅塊。 34。一種製備經乾燥羧酸餅塊之方法，該方法包括·· 98874.doc 200538430 (a)在固液分離區内，自羧酸漿體移除不純物以形成聚 •體或餅塊產物及母液流； • 在逆流溶劑洗滌區内，添加添劑至該漿體或餅塊產 物’以製備具有溶劑之魏酸餅塊及溶劑液流； (c) 可視需要在逆流水洗區内，添加水至該具有溶劑之 叛酸餅塊以，製備水濕性羧酸餅塊及溶劑/水副產物液體 流， (d) 在乾燥區内，乾燥水濕性叛酸餅塊或該具有溶劑之 • 魏酸餅塊以形成該經乾燥羧酸餅塊。 35·如請求項34之方法，其中該羧酸係選自以下所組成之群 組·對苯二甲酸、異酞酸、萘二羧酸、苯三甲酸及其混 合物。 36.如請求項34之方法，其中該羧酸為對苯二甲酸。 3 7.如請求項34或35之方法，其中該乾燥區可蒸發該水濕式 羧酸餅塊中之至少10%揮發物。 38.如請求項34之方法，其中該粗羧酸漿體包含對苯二甲 ® 酸、觸媒、乙酸、及於介於約11(TC至約200°c間之溫度 下自氧化反應區排出之不純物。 3 9 · —種製備經乾燥對苯二甲酸餅塊之方法，該方法包括·· (a) 在固液分離區内，自對苯二甲酸漿體移除不純物， 以幵> 成衆體或餅塊對苯二甲酸產物及母液流； (b) 在逆流溶劑洗滌區内，添加溶劑至該漿體或餅塊對 笨二曱酸產物，以製備具有溶劑之對苯二甲酸餘塊及溶 劑母液流； 98874.doc 200538430 (c) 可視需要在逆流水洗區内，添加水至該具有溶劑之 對苯二甲酸餅塊，以製備水濕性對苯二甲酸餅塊及溶劑/ 水副產物液體流； (d) 在乾燥區内，乾燥水濕性羧酸餅塊或該具有溶劑之 對苯二甲酸餅塊以形成該經乾燥羧酸餅塊。 40·如請求項39之方法，其中該逆流溶劑洗滌區包括一種於 介於約40。(：至約155 °C間之溫度下操作之固液分離裝 置。 41 ·如請求項40之方法，其中該逆流溶劑洗滌區包括一種於 介於約40 °C至約155 °C間之溫度下操作之固液分離裝 置。 42·如請求項39之方法，其中該羧酸為對苯二甲酸。 43. 如請求項39之方法，其中該乾燥區可蒸發該水濕性羧酸 餅塊中之至少1〇〇/0揮發物。 44. 如請求項39之方法，其中該粗羧酸漿體包含對苯二甲 酸、觸媒、乙酸、及於介於約110°C與約200°C間之溫度 下自氧化反應區排出之不純物。 45·如請求項39之方法，其中該逆流水洗區包括約2至約4個 階段之水逆流洗滌數。 46.如請求項39之方法，其中該逆流溶劑洗滌區包括自約2 至約4個階段之溶劑逆流洗蘇數。 47·如請求項45之方法，其中該逆流溶劑洗滌區包括自約2 至約4個階段之溶劑逆流洗滌數。 98874.doc