TW200526351A - Stage device - Google Patents
Stage device Download PDFInfo
- Publication number
- TW200526351A TW200526351A TW093126374A TW93126374A TW200526351A TW 200526351 A TW200526351 A TW 200526351A TW 093126374 A TW093126374 A TW 093126374A TW 93126374 A TW93126374 A TW 93126374A TW 200526351 A TW200526351 A TW 200526351A
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- stage device
- orthogonality
- origin
- aforementioned
- moving bodies
- Prior art date
Links
- 238000012937 correction Methods 0.000 claims description 8
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 8
- 229910052704 radon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- SYUHGPGVQRZVTB-UHFFFAOYSA-N radon atom Chemical compound [Rn] SYUHGPGVQRZVTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 11
- 230000002706 hydrostatic effect Effects 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 5
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 241000238876 Acari Species 0.000 description 1
- 101000878595 Arabidopsis thaliana Squalene synthase 1 Proteins 0.000 description 1
- 241000258920 Chilopoda Species 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70716—Stages
- G03F7/70725—Stages control
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
- G05B19/00—Programme-control systems
- G05B19/02—Programme-control systems electric
- G05B19/18—Numerical control [NC], i.e. automatically operating machines, in particular machine tools, e.g. in a manufacturing environment, so as to execute positioning, movement or co-ordinated operations by means of programme data in numerical form
- G05B19/404—Numerical control [NC], i.e. automatically operating machines, in particular machine tools, e.g. in a manufacturing environment, so as to execute positioning, movement or co-ordinated operations by means of programme data in numerical form characterised by control arrangements for compensation, e.g. for backlash, overshoot, tool offset, tool wear, temperature, machine construction errors, load, inertia
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23Q—DETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g. ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING; MACHINE TOOLS IN GENERAL CHARACTERISED BY THE CONSTRUCTION OF PARTICULAR DETAILS OR COMPONENTS; COMBINATIONS OR ASSOCIATIONS OF METAL-WORKING MACHINES, NOT DIRECTED TO A PARTICULAR RESULT
- B23Q5/00—Driving or feeding mechanisms; Control arrangements therefor
- B23Q5/22—Feeding members carrying tools or work
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23Q—DETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g. ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING; MACHINE TOOLS IN GENERAL CHARACTERISED BY THE CONSTRUCTION OF PARTICULAR DETAILS OR COMPONENTS; COMBINATIONS OR ASSOCIATIONS OF METAL-WORKING MACHINES, NOT DIRECTED TO A PARTICULAR RESULT
- B23Q5/00—Driving or feeding mechanisms; Control arrangements therefor
- B23Q5/22—Feeding members carrying tools or work
- B23Q5/34—Feeding other members supporting tools or work, e.g. saddles, tool-slides, through mechanical transmission
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70716—Stages
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
- G05B19/00—Programme-control systems
- G05B19/02—Programme-control systems electric
- G05B19/18—Numerical control [NC], i.e. automatically operating machines, in particular machine tools, e.g. in a manufacturing environment, so as to execute positioning, movement or co-ordinated operations by means of programme data in numerical form
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
- G05B2219/00—Program-control systems
- G05B2219/30—Nc systems
- G05B2219/49—Nc machine tool, till multiple
- G05B2219/49193—Orthogonality of axis, deviation from 90-degree correction
Landscapes
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Automation & Control Theory (AREA)
- Human Computer Interaction (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Control Of Position Or Direction (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Machine Tool Sensing Apparatuses (AREA)
- Machine Tool Units (AREA)
- Numerical Control (AREA)
Description
200526351 (1) 九、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明是有關於載台裝置,特別是,在定盤上具備將 2個移動體各別朝一軸方向滑動可能的線形馬達的2個驅 動源,2個移動體的至少一方是具備由朝一軸方向延伸的 導引構件所導引,在這些2個移動體之間與導引構件直交 地橫跨且與2個移動體同時移動可能的樑桿將載台裝置。
1 術 技 前 先 rL 這種的載台裝置的一例參照第6圖說明。在第6圖, 在定盤1上使二條的導引軌道2及3是隔有預定的間隔地 相互平行配設,在導引軌道2及3分別配置移動體4及5 。在此,著眼於導引軌道2及移動體4的話,如第6 ( b )圖所示,在移動體4具備靜壓軸承襯墊12,位在導引 軌道2及移動體4之間。在移動體4,具備靜壓軸承襯墊 1 3,位在定盤1及移動體4之間。由此’移動體4是沿著 如第6(a)圖所示的Y軸方向,即,導引軌道2移動可 能。 同樣地,移動體5也具備靜壓軸承襯墊1 2及1 3,移 動體5是沿著導引軌道3移動可能。 樑桿6,是其·一端是固定於移動體4及昇降体(例如 螺栓),他端是藉由移動體5及板彈簧構造8連結。由此 ,樑桿6是與移動體4、5同時朝Y軸方向移動可能。 在樑桿6配置有移動體(可動部)】4,移動體14是 -5 - 200526351 (2) 使樑桿6作爲導引,朝第6圖(a )的X軸方向移動可能 。在定盤1及移動體14之間配置靜壓軸承襯墊14a〜14c 。即,在移動體14安裝靜壓軸承襯墊14a〜14c,移動體 14是藉由靜壓軸承襯墊14a〜14c對於定盤1朝Z軸方向 被導引,朝X軸方向移動可能。 在樑桿6的中央部,在其下面安裝有靜壓軸承襯墊 1 5,位在定盤1及樑桿6之間。而且,藉由靜壓軸承襯墊 1 5,支撐樑桿6。即,靜壓軸承襯墊1 5,不會妨礙移動體 1 4的移動,橫跨X軸方向及Y軸方向的全行程與樑桿6 同時移動並支撐樑桿6的自重,在樑桿6及移動體5的結 合部等不施加過度的負荷地支撐樑桿6 (例如,專利文獻 1參照)。 但是,移動體4、5、1 4的驅動源,通常是使用線形 馬達。例如,在導引軌道2及樑桿6之間,在導引軌道3 及樑桿6之間設置含有各別將移動體4、5作爲可動部的 線形馬達,樑桿6及移動體1 4之間使移動體】4成爲可動 部地構成線形馬達。 線形馬達是使用可動線圈型時,例如,構成於導引軌 道2及樑桿6之間的線形馬達的說明如以下。沿著導引軌 道2以定間隔配列複數永久磁鐵。使這些的複數永久磁鐵 隔有間隔且異磁極相面對地配列複數永久磁鐵。而且,在 上述間隔使與移動體4連結的可動線圈與移動體4同時可 移動地配置。 在這種載台裝置中,在上述的結構之外,爲了移動體 -6 - 200526351 (3) 4、5、1 4的位置控制,在各線形馬達具備由線形刻度及 線形檢測器組合而成的位置檢測器。而且,對於移動體4 、5用的線形馬達進行同期控制(例如,專利文獻2參照 )° 在這種載台裝置中,在移動體14上,搭載供載置被 加工構件等用的載置台,實行使被加工構件被高精度定位 的驅動控制。 但是,在這種載台裝置,需要讓樑桿6與導引軌道2 、3直交。到此爲止的載台裝置,其樑桿6,是以某基準 位置,例如倣照設定於導引2、3的一方的端部附近的原 點位置時的機械精度的直交度爲基準,之後,在移動體4 、5產生偏離位置的情況時,藉由將移動體4、5個別地 位置控制,維持倣照上述的機械精度的直交度。 但是,這種的載台裝置,是進行連續運轉的話因線形 馬達的發熱作用會使各構件特別是樑桿6及其周邊的構件 變形,對於導引軌道2、3的樑桿6的直交度會從上述預 定的範圍偏離。即,到此爲止的載台裝置,因連續運轉在 載台裝置的各構件會發生溫度上昇,因此直交度變化的話 ,無法維持所設定的對於導引軌道2、3的樑桿6的直交 度在預定範圍內。 [專利文獻Π日本特開2000-3 5 6693號公報 [專利文獻2]日本特開2000- 1 5 5 1 86號公報 【發明內容】 200526351 (4) (本發明所欲解決的課題) 在此,本發明的課題,提供一種具備即使 轉的情況,對於導引軌道的樑桿的直交度也可 定的預定範圍內的功能的載台裝置。 (用以解決課題的手段) 本發明,是一種載台裝置,具備使2個移動 X方向滑動可能的2個驅動源,2個移動體的至 具備由朝前述X方向延伸的導引構件所導引, 個移動體之間使前述導引構件直交地橫跨且與2 同時移動可能的樑桿,其特徵爲,具備:供檢測 移動體的各別的位置用的2個位置檢測器;及供 2個移動體的各別的原點位置用的2個原點檢測 述2個位置檢測器,接受來自2個原點檢測器的 ,進行供控制前述2個驅動源用的前述2個移動 控制用的控制裝置;前述控制裝置,是藉由也具 2個驅動源個別控制使前述樑桿體對於與前述X 的偏旋轉軸旋轉的偏軸旋轉控制功能,在該載台 動時即使前述樑桿體的直交度變化的情況,前述 可對於前述導引構件維持於預定範圍內的直交度 對於上述本發明的載台裝置,其中,前述偏 制功能是藉由內藏於前述控制裝置的偏軸旋轉控 行,因爲將初期値資料給與該偏軸旋轉控制程式 該載台裝置停止狀態就事先測量前述樑桿體的直 行連續運 持於所設 體各別朝 少一方是 在這些2 個移動體 前述2個 限定前述 器;及前 檢測訊號 體的位置 有將前述 方向垂直 裝置的起 樑桿體也 〇 軸旋轉控 制程式實 ,所以在 交度,依 -8- 200526351 (5) 據獲得的直交度使前述樑桿體成爲前述預定範圍內的直交 度所需要的修正値△ y 1作爲目標値記憶於前述記憶裝置 ,前述偏軸旋轉控制程式,是實行:在該載台裝置的起動 時在前述樑桿體的直交度變化的狀態下將前述2個移動體 驅動至可被前述2個原點檢測器檢測的位置爲止,在其時 算出由前述2個位置檢測器獲得的2個座標資料的差△ y3 的步驟;及使用前述修正値Ayl及前述差Ay3只有( △ y 1 - △ y 3 )分使前述樑桿體對於前述偏旋轉軸旋轉的步 驟。 對於上述本發明的載台裝置,其中,爲了將初期値資 料給與前述偏軸旋轉控制程式,更在該載台裝置當時設置 狀態的狀態下由驅動至前述移動體可被前述2個原點檢測 器檢測的位置爲止,在其時算出由前述2個位置檢測器獲 得的2個座標資料的差△ y 〇並記憶於前述控制裝置內的 記憶裝置,前述修正値△ y 1是依據前述差△ yO決定。 (發明之效果) 本發明的載台裝置’因爲即使產生了由連續運轉所起 因的例如由溫度上昇所產生的樑桿等的變形,對於導引構 件的樑桿的直交度也可隨時維持在預定的範圍內,所以可 W使被加工構件被局精度定位。 【實施方式】 在以下’爹照圖面,說明本發明的實施例。本發明的 -9- 200526351 (6) 實質,是連續運轉載台裝置後’即使再度起動’可以使所 設定的對於導引軌道的樑桿的直交度維持在預定範圍內。 因此,本發明,是在定盤上具備將2個移動體各別朝一軸 方向(X方向)滑動可能的線形馬達的2個驅動源,2個 移動體的至少一方是可適用於具備由朝一軸方向延伸的導 引構件所導引,於這些2個移動體之間使導引構件直交地 橫跨且與2個移動體同時移動可能的樑桿的一種載台裝置 〇 當然,2個移動體是由分別朝一軸方向延伸的2個導 引構件導引的的載台裝置也適用可能。即,本發明,當然 也適用於第6圖的專利文獻1的載台裝置及專利文獻2的 載台裝置。 然而,對於本發明的直交度的問題所導致的樑桿的變 形,是對於定盤的上面平行的變形量。 因此,在以下的實施例中,由以下的點爲前提條件進 行說明。 本實施例是適用於第6圖所說明的載台裝置。當然, 各移動體的驅動源是使用線形馬達,這些的線形馬達,是 將從由組合前述如的線形刻度及線形檢測器的位置檢測器 所測得的位置檢測値作爲反饋値使用,依據位置指令値之 間的偏差藉由進行位置控制的控制裝置而個別控制可能。 特別是,將第6圖所示的移動體4、5個別位置控制可能 ,是指使控制裝置可進行樑桿6的偏軸旋轉控制的意思。 偏軸旋轉控制,是指使樑桿6對於其中心軸(X軸或 -10- 200526351 (7) 是與定盤1的上面垂直的Z軸方向的中心軸)只微小角度 旋轉可能用的控制。以下,此中心軸稱爲偏中心軸,此中 心及旋轉稱爲偏軸旋轉。2個線形刻度間的距離,是橫跨 全長一定。 以下,一方的線形馬達稱爲Y 1線形馬達,設置在此 的線形刻度稱爲γ 1刻度,他方的線形馬達稱爲Y2線形 馬達,設置在此的線形刻度稱爲Y2刻度。 且,在第6圖的導引軌道2、3的一端側附近是分別 設置’設定、檢測移動體4、5的原點位置用的原點檢測 器(第6圖的〇Sl、OS2)。原點檢測器〇S1、〇S2,是 檢測移動體4、5的一部分到達此處者,使用後述的光學 式、磁性式等的檢測器。如以下說明,磁性式檢測器,可 獲得比光學式檢測器局的檢測精度。然而,光學式檢測器 的情況’是使遮斷原點檢測器〇 S 1、〇 S 2的光路用的遮斷 構件各別設置於移動體4、5。第6圖遮斷構件是由s S 1、 S S 2表不。性式檢測器的情況,除了將被檢測構件磁性 地檢測之外’配置關係是相同。即,在S g 1、S S 2設置被 檢測構件。 前述本發明的實質是對於維持直交度用的控制動作參 照第1圖〜第3圖說明。 第1圖,是δ兌明本發明所適用的載台裝置的出貨前所 進行的供校對直交度用的作業用的圖。即,在載台裝置的 出貝則,是貫行供收得初期狀態的資料用的作業。當然, 此作業是藉由載台裝置所具備的控制裝置實行。 -11 - 200526351 (8) 在第1圖,γ 1線形馬達側的移動體的位置是由’ 度所檢測,Υ2線形馬達側的移動體的位置是由Υ2刻 檢測。此情況,樑桿6是使其偏中心軸的位置由 Υ 進座標表示,其値是Υ1刻度的座標資料y 1及Υ2刻 座標資料y2的平均値(yl+y2 ) /2。 (1 )在符合直交度的狀態,即在藉由使用垂直 對於導引軌道2、3使樑桿6機械地直交來確保組裝 狀態的資料收得。 [Ι-a.準備] 載台裝置是以原本(使樑桿6機械地直交前的狀 的精度,起動Υ 1線形馬達、Y2線形馬達,收得樑桿 達由原點檢測器0 S 1、〇 S 2檢測的位置時的Υ 1刻度 刻度的原點的座標資料y 1 0、y 2 0。而且,計算這些 標資料yl〇、y20的差AyO (二yl0-y20),作爲參數 保存於控制裝置內的記憶裝置。此參數△ yO,含有大 是因原點檢測器〇S 1,bs2的設置誤差,即連結原點 器OS1、OS2的線未必與導引軌道2、3直交的誤差 。因此,此準備作業,是指收得原點位置的幾何學地 資料的意思。 [卜b.參數△ y〇的修正] 使用直角原器測量直交度。依據所求得的直交度 對於△ y〇應加減的値,修正參數△ yO的値。而且, 刻 度所 軸並 度的 原器 精度 態) 6到 、Y2 的座 △ y〇 部分 檢測 成分 位置 求得 修正 -12- 200526351 (9) 的値作爲修正參數△ y 1決定。此修正參數△ y 1,是在之 後說明的(3 )項中成爲校對直交度時的基準値(目標値 )。此時,直交度是考慮直角原器及測量精度的誤差,使 進入[(直角原器及測量精度的誤差)± 〇 . 2度]的精度。 在此’直交度的精度評價,因爲γ 1刻度及Y2刻度間的 距離一定,所以由角度進行。上述參數Ayl,之後是作爲 初期値資料使用。 之後的作業是在載台裝置的設置現場由實際的使用狀 態進行’以下說明的偏軸旋轉控制動作是藉由控制裝置實 行。因此’在控制裝置中,事先容納偏軸旋轉控制動作用 的程式。 (2 )機械重設時的資料收得。 載台裝置的連續運轉後,進行機械重設(起動)時, 如第2圖所示,起因於發熱等的直交度變化的狀態下假設 起動控制。與前述同樣起動Y 1線形馬達、γ 2線形馬達, 收得樑桿6到達由原點檢測器〇 S 1、〇 S 2檢測的位置時的 Y 1刻度、Y2刻度的原點的座標資料y丨3、y 2 3。而且,計 算這些的座標資料yl3、y23的差/\y3 ( =yl3-y23)。 (3 )由偏軸旋轉控制的直交度的校對。 藉由偏軸旋轉控制校對直交度所需要的値,是配合應 由上述(1 )項的1 - b所決定的修正參數△ y 1的基準値( 目標値)。 即’參照第3圖,差,是因爲有從直 交度正確的狀態的旋轉方向(偏軸旋轉方向)的偏離,所 -13- 200526351 (10) 以只有差(△ y卜△ y 3 )的値分以偏軸爲中心旋轉 。當然,旋轉方向是修正直交度的偏離的方向。然 本形態中,偏軸旋轉控制的旋轉角度的容許限度1 秒。适是’探桿6只旋轉1 1秒時’所需要的推力 形馬達的定格推力的1 〇%的値。 (4 )確認作業。 再度,實行上述(2 )的過程,求得機械重設 )後的原點的差△ y4,確認從基準値(目標値)的 △ y 1 - △ y 4 )的値是容許値(± 0 · 5秒)以下。即, (△ y卜△ y 4 ) € 0 ± 0 · 5秒。這被確認的話,即符 範圍內的直交度的意思。然而,△ y4 = yl4-y24,y] ,分別是樑桿6到達由原點檢測器OS 1、OS2檢測 時的Y 1刻度、Y2刻度的原點的座標資料。 萬一,(Ay卜Ay4)的値是超過容許値(±〇 的情況時,返覆上述(3 ) 、( 4 )的過程。 在本形態中,特別是斷開載台裝置的電源將的 6會自動地回復至預定位置(例如導引軌道的中央 在上述機械重設時,開始從此已知的預定位置回復 點檢測器os 1、0S2所檢測的位置爲止的原點尋找 而且,從由原點檢測器〇 S 1、0 S 2所檢測的位置至 離前方的位置爲止是使樑桿6由高速移動,之後, 原點檢測器〇S 1、0S2檢測的位置的爲止由微速移 此,提高朝原點檢測器〇 S 1、0 S 2的到達精度, Y 1刻度、Y2刻度獲得的座標資料的精度。 樑桿6 :而,在 直爲11 成爲線 (起動 偏離( 確δ忍爲 合預定 I 4 ^ y 2 4 的位置 • 5秒) 話樑桿 部), 至由原 動作。 預定距 到達由 動。由 提高從 -14- 200526351 (11) 接著,對於在原點檢測器os 1、OS2使用光學式檢測 器及比其高精度的磁性式檢測器的情況時的直交度的精度 進行比較說明。 原點檢測器是2個設置的情況時,偏原點的精度,即 樑桿6的直交度的精度,是使連結原點檢測器的測量精度 及2個原點檢測器的線藉由不與導引構件直交所產生的相 對位置的誤差決定。 使用光學式檢測器的情況時,如第4圖所示,其返覆 位置再現性爲± 1 μ m,光學式檢測器動作後的線形刻度的 讀取時間遲延所起因的樑桿6的變位量爲± 1 // m的話, 偏原點精度是成爲具有合計± 3 // m的誤差。± 3 // m的誤 差,若樑桿6的延伸長爲1 0 8 0mm的話,變換成角度的情 況時成爲tan-1 (3//m/1080rnm),約±0.57秒。這是因 爲,雖稍超過上述預定範圍內的直交度± 〇 . 5秒,但幾乎 可滿足的値。 一方面,使用磁性式檢測器的情況時,如第5圖所示 ,其返覆位置再現性爲± 〇 . 1 # m,磁性式檢測器動作後的 線形刻度的讀取時間遲延所起因的樑桿6的變位量爲± 1 m的話,偏原點精度是成爲具有合g十± 1 . 2 // m的誤差。 ± 1 · 2 // m的誤差,若樑桿6的延伸長爲1 0 8 0mm的話,變 換成角度的情況時成爲tan- 1 ( 1 .2 // m/ 1 0 8 0mm ),約 ± 0 · 2 3秒。這是,小於上述預定範圍內的直交度± 0 . 5秒 〇 接著,說明定盤1上的溫度變化的情況時對於偏原點 -15- 200526351 (12) 的精度的影響。對於光學式檢測器說明的話’提供溫度變 化是從2 5 °C至5 5 °C的情況時,即3 0 °C的溫度上昇使檢測 位置2 0 μ m變化者。此情況爲〇 . 6 7 μ m /1 °C。但是,2個光 學式檢測器的溫度變化相同的情況時,上述的變化可以忽 視。假設,2個光學式檢測器的溫度變化有1 °C的差的情 況時,成爲 tan-1 ( 0.67pm/ 1 0 8 0rnm),約 ±0.12 秒。一 方面,對於磁性式檢測器說明的話,提供對於溫度偏移爲 0.1 μπι/ PC者。假設,使用這種磁性式檢測器的情況時, 是成爲 tan_l (0.1//m/1080mm),約 ±0.02 秒。 然而,在第6圖中,將原點檢測器0 S 1、Ο S 2及遮斷 構件或是被檢測構件,設置於從導引構件2、3的內側面 稍遠離的位置,但是這些的配置位置,儘可能靠近外側較 佳。這是因爲,從遮斷構件或是被檢測構件的設置處至樑 桿6的先端爲止的長度較大側對於角度的分解能,換言之 對於樑桿6的變形量的分解能變高。 以上,說明將本發明的實施例,適用於2個移動體是 由朝分別一軸方向延伸的2個導引構件所導引的結構的載 台裝置,但是本發明不限定於這種載台裝置。例如,在定 盤上具備使2個的移動體將各別朝一軸方向滑動可能的線 形馬達的2個驅動源,只有2個移動體的一方是具備由朝 一軸方向延伸的導引構件所導引,在這些2個移動體之間 與導引構件直交如地橫跨且與2個移動體同時移動可能的 樑桿的載台裝置也適用可能。 200526351 (13) (產業上的利用可能性) 本發明的載台裝置,是至少供搭載被加工構件用的載 置台的X軸,Y軸方向,依據情況進一步z軸方向也驅 動可能的載台裝置全般皆適用可能。 【圖式簡單說明】 [第1圖]說明本發明的供校對直交度用的實行作業的 圖。 [第2圖]說明本發明的載台裝置的連續運轉後,進行 機械重設時的實行作業的圖。 [第3圖]說明接著本發明的第2圖的作業的實行作業 的圖。 [第4圖]說明本發明所使用的原點檢測器爲光學式檢 測器的情況時的直交度的精度的圖。 [第5圖]說明本發明所使用的原點檢測器爲磁性式檢 測器的情況的直交度的精度的圖。 [第6圖(a) (b)]說明本發明所適用的載台裝置的 一例的圖。 【主要元件之符號說明】 0 S 1、Ο S 2 :原點檢測器 S S 1、S S 2 :遮斷構件或被檢測構件 1 :定盤 2、3 :導引軌道(導引構件) -17- 200526351 (14) 4、5 :移動體 6 :樑桿 8 :板彈簧構造 1 2 :靜壓軸承襯墊 1 3 :靜壓軸承襯墊 1 4 :移動體(可動部) 1 4 a〜1 4 c :靜壓軸承襯墊 1 5 :靜壓軸承襯墊
Claims (1)
- 200526351 (1) 十、申請專利範圍 1 . 一種載台裝置,具備使2個移動體各別朝X方向 滑動可能的2個驅動源,2個移動體的至少一方是具備由 朝前述X方向延伸的導引構件所導引,在這些2個移動 體之間使前述導引構件直交地橫跨且與2個移動體同時移 動可能的樑桿,其特徵爲,具備: 供檢測前述2個移動體的各別的位置用的2個位置檢 測器、及 供限定前述2個移動體的各別的原點位置用的2個原 點檢測器、及 前述2個位置檢測器,接受來自2個原點檢測器的檢 測訊號,進行供控制前述2個驅動源用的前述2個移動體 的位置控制用的控制裝置, 前述控制裝置,是藉由也具有將前述2個驅動源個別 控制使前述樑桿體對於與前述X方向垂直的偏旋轉軸旋 轉的偏軸旋轉控制功能,在該載台裝置的起動時即使前述 樑桿體的直交度變化的情況,前述樑桿體也可對於前述導 引構件維持於預定範圍內的直交度。 2 .如申請專利範圍第〗項的載台裝置,其中, 前述偏軸旋轉控制功能是藉由內藏於前述控制裝置的 偏軸旋轉控制程式實行, 因爲將初期値資料給與該偏軸旋轉控制程式,所以在 該載台裝置停止狀態就事先測量前述樑桿體的直交度,依 據獲得的直交度使前述樑桿體成爲前述預定範圍內的直交 -19- 200526351 (2) 度所需要的修正値△ y 1作爲目標値記憶於前述記憶裝置 前述偏軸旋轉控制程式,是實行: 在該載台裝置的起動時在前述樑桿體的直交度變化的 狀態下將前述2個移動體驅動至可被前述2個原點檢測器 檢測的位置爲止,在其時算出由前述2個位置檢測器獲得 的2個座標資料的差△ y3的步驟;及 使用前述修正値Ayl及前述差Z\y3只有(△yl-/\y3 )分使前述樑桿體對於前述偏旋轉軸旋轉的步驟。 3 ·如申請專利範圍第2項的載台裝置,其中,爲了 將初期値資料給與前述偏軸旋轉控制程式,更在該載台裝 置當時設置狀態的狀態下由驅動至前述移動體可被前述2 個原點檢測器檢測的位置爲止,在其時算出由前述2個位 置檢測器獲得的2個座標資料的差△ y0並記憶於前述控 制裝置內的記憶裝置,前述修正値△ y 1是依據前述差 △ y〇決定。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003363581A JP4443891B2 (ja) | 2003-10-23 | 2003-10-23 | ステージ装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW200526351A true TW200526351A (en) | 2005-08-16 |
TWI327942B TWI327942B (zh) | 2010-08-01 |
Family
ID=34510056
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW093126374A TW200526351A (en) | 2003-10-23 | 2004-09-01 | Stage device |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7743998B2 (zh) |
JP (1) | JP4443891B2 (zh) |
KR (1) | KR20060097043A (zh) |
CN (1) | CN1871562B (zh) |
TW (1) | TW200526351A (zh) |
WO (1) | WO2005040945A1 (zh) |
Families Citing this family (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006287098A (ja) * | 2005-04-04 | 2006-10-19 | Nsk Ltd | 位置決め装置 |
US8109395B2 (en) * | 2006-01-24 | 2012-02-07 | Asm Technology Singapore Pte Ltd | Gantry positioning system |
JP4402078B2 (ja) * | 2006-06-19 | 2010-01-20 | 住友重機械工業株式会社 | ステージ装置 |
WO2009088863A2 (en) * | 2008-01-02 | 2009-07-16 | Cyberoptics Corporation | Gantry position tracking using redundant position sensors |
JP5252999B2 (ja) * | 2008-06-02 | 2013-07-31 | 三菱電機株式会社 | 数値制御装置および位置ずれ補正方法 |
US8120304B2 (en) * | 2008-12-12 | 2012-02-21 | Formfactor, Inc. | Method for improving motion times of a stage |
JP5026455B2 (ja) * | 2009-03-18 | 2012-09-12 | 住友重機械工業株式会社 | Xyステージ装置、半導体検査装置、及び半導体露光装置 |
JP5436073B2 (ja) * | 2009-07-06 | 2014-03-05 | 三菱電機株式会社 | 位置決め制御装置及び位置決め制御方法 |
CN101666859B (zh) * | 2009-10-13 | 2012-05-30 | 上海理工大学 | 一种双直线电机驱动进给机构 |
DE112010005896T5 (de) * | 2010-09-22 | 2013-07-25 | Mitsubishi Electric Corporation | Ursprungseinstellverfahren und dasselbe verwendende Vorrichtung |
JP5749596B2 (ja) * | 2011-07-27 | 2015-07-15 | シチズンホールディングス株式会社 | 工作機械用制御装置 |
CN102990372B (zh) * | 2012-12-04 | 2014-12-17 | 齐重数控装备股份有限公司 | 数控重型立式铣车床工作台 |
CN103075970B (zh) * | 2012-12-27 | 2015-07-01 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 测长装置直交度补偿方法及使用该方法的测长装置 |
US9080865B2 (en) * | 2012-12-27 | 2015-07-14 | Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd | Orthogonality compensation method for length measurement device and length measurement device using same |
JP6323069B2 (ja) * | 2014-03-03 | 2018-05-16 | 日本精工株式会社 | テーブル装置、測定装置、及び工作機械 |
JP6761279B2 (ja) * | 2016-05-16 | 2020-09-23 | キヤノン株式会社 | 位置決め装置、リソグラフィー装置および物品製造方法 |
US11110633B2 (en) * | 2018-06-13 | 2021-09-07 | Nypromold Inc. | In-mold lid closing apparatus |
KR102516372B1 (ko) * | 2021-01-20 | 2023-03-31 | (주)에스티아이 | 케미컬 자동공급장치의 수커넥터 거치부 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3857075A (en) * | 1971-07-19 | 1974-12-24 | B Sawyer | Positioning device |
JPS61117034A (ja) | 1984-11-09 | 1986-06-04 | Hitachi Ltd | Xyテ−ブルのヨ−イング補正方式 |
JPH02149869A (ja) * | 1988-11-30 | 1990-06-08 | Sharp Corp | 複写機の直線駆動装置 |
US5539532A (en) * | 1993-08-12 | 1996-07-23 | Nec Corporation | Image reading apparatus with varied subscanning speed |
JP2000029530A (ja) | 1998-07-08 | 2000-01-28 | Canon Inc | ステージ装置、およびこれを用いた露光装置ならびにデバイス製造方法 |
JP3834433B2 (ja) | 1998-08-25 | 2006-10-18 | 横河電機株式会社 | Xyステージ |
JP3438131B2 (ja) | 1998-11-24 | 2003-08-18 | 住友重機械工業株式会社 | X−yステージ装置 |
JP3458227B2 (ja) | 1999-06-14 | 2003-10-20 | 住友重機械工業株式会社 | ステージ機構 |
JP3312297B2 (ja) | 1999-07-02 | 2002-08-05 | 住友重機械工業株式会社 | ステージ位置制御装置 |
JP2003025178A (ja) | 2001-07-11 | 2003-01-29 | Yaskawa Electric Corp | 同期制御装置 |
JP2004009176A (ja) | 2002-06-05 | 2004-01-15 | Yaskawa Electric Corp | バランス調整装置 |
-
2003
- 2003-10-23 JP JP2003363581A patent/JP4443891B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2004
- 2004-09-01 TW TW093126374A patent/TW200526351A/zh not_active IP Right Cessation
- 2004-10-15 US US10/576,922 patent/US7743998B2/en active Active
- 2004-10-15 CN CN2004800310708A patent/CN1871562B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2004-10-15 WO PCT/JP2004/015276 patent/WO2005040945A1/ja active Application Filing
- 2004-10-15 KR KR1020067009974A patent/KR20060097043A/ko active Search and Examination
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4443891B2 (ja) | 2010-03-31 |
JP2005128783A (ja) | 2005-05-19 |
CN1871562B (zh) | 2010-12-08 |
TWI327942B (zh) | 2010-08-01 |
US20070158401A1 (en) | 2007-07-12 |
CN1871562A (zh) | 2006-11-29 |
KR20060097043A (ko) | 2006-09-13 |
WO2005040945A1 (ja) | 2005-05-06 |
US7743998B2 (en) | 2010-06-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TW200526351A (en) | Stage device | |
US11488851B2 (en) | Method and device for alignment of substrates | |
JP4429037B2 (ja) | ステージ装置及びその制御方法 | |
JP2003203842A5 (zh) | ||
US9979262B2 (en) | Positioning device in gantry type of construction having a position-measurement device for measuring the position of a carriage relative to a cross-member | |
TWI652551B (zh) | Optical measuring device and method | |
TWI648516B (zh) | 雙光學量測補償系統 | |
JP2007309884A (ja) | 作業装置におけるテーブル位置決め方法およびその装置 | |
KR100919391B1 (ko) | 스테이지장치 | |
US20130004283A1 (en) | Control method and apparatus for positioning a stage | |
JP2005024567A (ja) | 位置測定装置 | |
KR20130095208A (ko) | 부품에 대한 가공 기구 위치 정렬 장치 및 방법 | |
JP2005158894A (ja) | 半導体接合装置 | |
Huang et al. | Embedded sensor system for five-degree-of-freedom error detection on machine tools | |
JP2002090682A (ja) | ガルバノメータ、ガルバノメータの位置補正方法、ガルバノメータを用いたレーザ加工装置、及びガルバノメータを用いたレーザ加工方法 | |
KR20170137253A (ko) | 위치 조절 장치 및 이를 구비한 페이스트 디스펜서 | |
JP2010169402A (ja) | 変位測定装置及び変位測定方法 | |
JP2015046331A (ja) | ステージ装置および荷電粒子線装置 | |
WO2021049320A1 (ja) | 塗布器、塗布装置、及び、塗布方法 | |
TWI846090B (zh) | 用於調整偵測構件之裝置及方法 | |
JP7507860B2 (ja) | 複数の基板の位置合わせをする方法および装置 | |
US11442427B2 (en) | Multiaxis machining device and compensation method thereof | |
US11331745B2 (en) | Distance measuring device, friction stir welding apparatus, and friction stir welding method | |
TWI745730B (zh) | 用於物件的幾何測量的裝置、方法及電腦程式 | |
KR20170129062A (ko) | 위치결정 장치, 리소그래피 장치 및 물품 제조 방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM4A | Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees |