JP6323069B2 - テーブル装置、測定装置、及び工作機械 - Google Patents

Description

本発明は、テーブル装置、測定装置、及び工作機械に関する。

測定装置及び工作機械において、移動可能なテーブルを有するテーブル装置が使用される。第１テーブル及び第２テーブルを有する位置決めテーブルに関する技術が特許文献１に開示されている。

特開昭６３−３００８３７号公報

テーブル装置において、第１テーブル及び第２テーブルの可動範囲が制限されると、それら第１テーブルと第２テーブルとが所期の位置関係に配置されず、そのテーブル装置を備える測定装置及び工作機械の性能が低下する可能性がある。例えば、第１テーブル及び第２テーブルの可動範囲の制限により、第１テーブルと第２テーブルとが接近できなくなる可能性がある。その結果、第１テーブル及び第２テーブルに載っている物体が円滑に移動されなくなる可能性がある。

本発明は、第１テーブル及び第２テーブルを目標位置に円滑に移動できるテーブル装置を提供することを目的とする。また、本発明は、性能の低下を抑制できる測定装置及び工作機械を提供することを目的とする。

本発明の第１の態様は、第１上面を有する第１テーブルと、所定面内の第１軸と平行な第１軸方向に関して前記第１テーブルの一側に配置され、第２上面を有する第２テーブルと、前記第１テーブルを前記第１軸方向にガイドする第１ガイド装置と、前記第２テーブルを前記第１軸方向にガイドする第２ガイド装置と、を備え、前記第１ガイド装置と前記第２ガイド装置とは、第１軸と直交する前記所定面内の第２軸と平行な第２軸方向に配置されるテーブル装置を提供する。

本発明の第１の態様によれば、第１テーブルを第１軸方向にガイドする第１ガイド装置と、第２テーブルを第１軸方向にガイドする第２ガイド装置とが、第２軸方向に配置されるため、第１軸方向に関する第１テーブルの可動範囲、及び第１軸方向に関する第２テーブルの可動範囲が拡大される。したがって、第１テーブル及び第２テーブルを目標位置に円滑に移動することができる。

本発明の第１の態様において、前記第１ガイド装置は、前記第２軸方向に関して前記第１テーブルの一端部を支持する第１ガイド機構と、前記第１テーブルの他端部を支持する第２ガイド機構と、を含み、前記第２ガイド装置は、前記第２軸方向に関して前記第２テーブルの一端部を支持する第３ガイド機構と、前記第２テーブルの他端部を支持する第４ガイド機構と、を含み、前記第２軸方向に関して、前記第１ガイド機構が最も一側に配置され、前記第１ガイド機構に次いで前記第３ガイド機構が前記一側に配置され、前記第３ガイド機構に次いで前記第２ガイド機構が前記一側に配置され、前記第４ガイド機構が最も他側に配置されてもよい。これにより、第１ガイド装置は、一対のガイド機構（第１ガ
イド機構及び第２ガイド機構）で第１テーブルを安定してガイドでき、第２ガイド装置は、一対のガイド機構（第３ガイド機構及び第４ガイド機構）で第２テーブルを安定してガイドできる。また、第２軸方向に関して、第１ガイド機構、第２ガイド機構、第３ガイド機構、及び第４ガイド機構が配置されることにより、第１ガイド装置の構造と第２ガイド装置の構造とを実質的に等しくすることができる。これにより、第１テーブル及び第２テーブルのそれぞれを等しい移動精度で移動させることができる。

本発明の第１の態様において、前記第１テーブルと前記第２テーブルとは、前記第１軸方向に関して前記第１上面の一側の端部と前記第２上面の他側の端部とが接近又は接触するように移動されてもよい。これにより、第１上面及び第２上面の一方から他方へ物体を円滑に移動することができる。

本発明の第１の態様において、前記第１ガイド装置は、前記第１テーブルの第１下面に接続される第１スライダと、前記第１スライダが移動する第１レールと、を有し、前記第２ガイド装置は、前記第２テーブルの第２下面に接続される第２スライダと、前記第２スライダが移動する第２レールと、を有し、前記第１レールと前記第２レールとは、前記第２軸方向に平行に配置され、前記第１スライダと前記第２スライダとは、前記第１スライダと前記第２スライダの少なくとも一部とが前記第２軸方向に配置されるように前記第１軸方向に相対移動可能でもよい。これにより、第１テーブルの可動範囲及び第２テーブルの可動範囲が拡大され、第１テーブルと第２テーブルとは十分に接近することができる。

本発明の第１の態様において、前記第１スライダと前記第２スライダの少なくとも一部とが前記第２軸方向に配置された状態において、前記第１スライダと前記第２スライダとは離れていてもよい。これにより、第１スライダと第２スライダとが接触しないので、第１テーブル及び第２テーブルは円滑に移動することができる。

本発明の第１の態様において、前記第１軸方向に関して、前記第１テーブルの寸法は前記第１スライダの寸法よりも小さく、前記第２テーブルの寸法は前記第２スライダの寸法よりも小さくてもよい。これにより、第１テーブル及び第２テーブルの小型化及び軽量化が図られ、第１スライダに支持された第１テーブル及び第２スライダに支持された第２テーブルは、円滑に移動可能である。

本発明の第１の態様において、前記第１スライダ及び前記第２スライダはそれぞれ、直動型軸受を含んでもよい。これにより、進行方向（第１軸方向）に対するピッチング精度が良好になる。また、ピッチングモーメントに対する許容を大きくすることができる。

本発明の第１の態様において、前記第１レール及び前記第２レールと平行に配置されるリニアスケールと、前記第１テーブルに配置され、前記リニアスケールを検出可能な第１エンコーダヘッドと、前記第２テーブルに配置され、前記リニアスケールを検出可能な第２エンコーダヘッドと、前記第１エンコーダヘッドの検出値及び前記第２エンコーダヘッドの検出値に基づいて、前記第１テーブル及び前記第２テーブルの少なくとも一方を前記第１軸方向に移動する駆動システムと、を備えてもよい。これにより、第１テーブル及び第２テーブルの位置情報が精確に検出され、駆動システムは、第１テーブル及び第２テーブルを目標位置に精確に移動することができる。

本発明の第２の態様は、第１の態様のテーブル装置を備える測定装置を提供する。

本発明の第２の態様によれば、測定装置は、目標位置に配置された第１テーブル上の物体又は第２テーブル上の物体を測定できるので、その物体の測定を精密に行うことができる。

本発明の第３の態様は、第１の態様のテーブル装置を備える工作機械を提供する。

本発明の第３の態様によれば、工作機械は、目標位置に配置された第１テーブル上の物体又は第２テーブル上の物体を加工できるので、その物体の加工を精密に行うことができる。

本発明のテーブル装置によれば、第１テーブル及び第２テーブルを目標位置に円滑に移動することができる。本発明の測定装置及び工作機械によれば、性能の低下を抑制することができる。

図１は、第１実施形態に係るテーブル装置の一例を示す平面図である。 図２は、第１実施形態に係るテーブル装置の一例を示す側面図である。 図３は、第１実施形態に係るテーブル装置の一例を示す側面図である。 図４は、第１実施形態に係るガイド装置の一例を示す図である。 図５は、比較例に係るテーブル装置の一例を示す平面図である。 図６は、比較例に係るテーブル装置の一例を示す側面図である。 図７は、第２実施形態に係るテーブル装置の一例を示す平面図である。 図８は、第２実施形態に係るテーブル装置の一例を示す側面図である。 図９は、第２実施形態に係るテーブル装置の一例を示す側面図である。 図１０は、第３実施形態に係るテーブル装置の一例を示す平面図である。 図１１は、第３実施形態に係るテーブル装置の一例を示す側面図である。 図１２は、第４実施形態に係るテーブル装置の一例を示す平面図である。 図１３は、第４実施形態に係るテーブル装置の一例を示す側面図である。 図１４は、第４実施形態に係るテーブル装置の一例を示す側面図である。 図１５は、第５実施形態に係る搬送装置及び半導体製造装置の一例を示す図である。 図１６は、第５実施形態に係る搬送装置及び測定装置の一例を示す図である。 図１７は、第５実施形態に係る工作機械の一例を示す図である。

以下、本発明に係る実施形態について図面を参照しながら説明するが、本発明はこれに限定されない。以下で説明する各実施形態の要件は、適宜組み合わせることができる。また、一部の構成要素を用いない場合もある。以下の説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部の位置関係について説明する。所定面内の第１軸（Ｘ軸）と平行な方向をＸ軸方向、Ｘ軸と直交する所定面内の第２軸（Ｙ軸）と平行な方向をＹ軸方向、Ｘ軸及びＹ軸のそれぞれと直交する第３軸（Ｚ軸）と平行な方向をＺ軸方向とする。また、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸まわりの回転（傾斜）方向をそれぞれ、θＸ、θＹ、及びθＺ方向とする。Ｘ軸は、ＹＺ平面と直交する。Ｙ軸は、ＸＺ平面と直交する。Ｚ軸は、ＸＹ平面と直交する。ＸＹ平面は、所定面と平行である。本実施形態において、ＸＹ平面は、水平面と平行であることとする。Ｚ軸方向は、鉛直方向である。

＜第１実施形態＞
第１実施形態について説明する。図１は、本実施形態に係るテーブル装置１００を＋Ｚ側から見た平面図である。図２は、本実施形態に係るテーブル装置１００を−Ｙ側から見た側面図である。図３は、本実施形態に係るテーブル装置１００を＋Ｘ側から見た側面図である。

図１、図２、及び図３に示すように、テーブル装置１００は、第１テーブル１と、第２テーブル２と、第１テーブル１をＸ軸方向にガイドする第１ガイド装置３と、第２テーブル２をＸ軸方向にガイドする第２ガイド装置４と、第１テーブル１及び第２テーブル２をＸ軸方向に移動可能な駆動システム５と、を備えている。

テーブル装置１００は、ベース部材６を備えている。ベース部材６は、例えばテーブル装置１００が設置される施設（例えば工場）の床面などに配置される。第１ガイド装置３の少なくとも一部は、ベース部材６の上面に配置される。第２ガイド装置４の少なくとも一部は、ベース部材６の上面に配置される。第１テーブル１及び第２テーブル２は、ベース部材６の上方で移動可能である。

第１テーブル１は、物体を支持して移動可能である。第１テーブル１は、＋Ｚ方向を向く上面１Ａと、上面１Ａの反対方向（−Ｚ方向）を向く下面１Ｂとを有する。物体は、第１テーブル１の上面１Ａに載せられる。上面１Ａは、物体を支持可能である。本実施形態において、上面１Ａ及び下面１Ｂのそれぞれは、ＸＹ平面と平行である。

第２テーブル２は、物体を支持して移動可能である。第２テーブル２は、＋Ｚ方向を向く上面２Ａと、上面２Ａの反対方向（−Ｚ方向）を向く下面２Ｂとを有する。物体は、第２テーブル２の上面２Ａに載せられる。上面２Ａは、物体を支持可能である。本実施形態において、上面２Ａ及び下面２Ｂのそれぞれは、ＸＹ平面と平行である。

第１テーブル１と第２テーブル２とはＸ軸方向に配置される。第１テーブル１は、第２テーブル２の−Ｘ側に配置される。第１テーブル１は、第２テーブル２の−Ｘ側の領域(空間)で移動可能である。第２テーブル２は、第１テーブル１の＋Ｘ側の領域（空間）で移動可能である。

図１に示すように、本実施形態において、第１テーブル１及び第２テーブル２のそれぞれは、ＸＹ平面内において矩形状（長方形状）である。第１テーブル１及び第２テーブル２のそれぞれは、Ｙ軸方向に長い。第１テーブル１の＋Ｘ側の端部と、第２テーブル２の−Ｘ側の端部とが対向可能である。

本実施形態において、上面１Ａと上面２Ａとは、実質的に同じ高さに配置される。上面１Ａ及び上面２Ａのそれぞれは、平面（平坦）である。上面１Ａと上面２Ａとは、同一平面内に配置される（面一に配置される）。

第１ガイド装置３と第２ガイド装置４とは、Ｙ軸方向に配置される。第１ガイド装置３と第２ガイド装置４とは、Ｙ軸方向に関して隣り合う。第１ガイド装置３は、第１テーブル１をＸ軸方向にガイドし、第２テーブル２をガイドしない。第２ガイド装置４は、第２テーブル２をＸ軸方向にガイドし、第１テーブル１をガイドしない。第１ガイド装置３は、第２ガイド装置４及び第２テーブル２と接触しない。第２ガイド装置４は、第１ガイド装置３及び第１テーブル１と接触しない。

第１ガイド装置３は、Ｙ軸方向に関して第１テーブル１の一端部（＋Ｙ側の端部）を支持するガイド機構３０１と、第１テーブル１の他端部（−Ｙ側の端部）を支持するガイド機構３０２と、を含む。

第２ガイド装置４は、Ｙ軸方向に関して第２テーブル２の一端部（＋Ｙ側の端部）を支持するガイド機構４０１と、第２テーブル２の他端部（−Ｙ側の端部）を支持するガイド機構４０２と、を含む。

ガイド機構３０１とガイド機構３０２とガイド機構４０１とガイド機構４０２とは、Ｙ軸方向に配置される。ガイド機構３０１、ガイド機構３０２、ガイド機構４０１、及びガイド機構４０２のうち、ガイド機構３０１が最も＋Ｙ側に配置され、ガイド機構３０１に次いでガイド機構４０１が＋Ｙ側に配置され、ガイド機構４０１に次いでガイド機構３０２が＋Ｙ側に配置され、ガイド機構４０２が最も−Ｙ側に配置される。

第１ガイド装置３のガイド機構３０１は、第１テーブル１の下面１Ｂに接続されるスライダ３１と、スライダ３１が移動するレール３２とを有する。同様に、第１ガイド装置３のガイド機構３０２は、第１テーブル１の下面１Ｂに接続されるスライダ３１と、スライダ３１が移動するレール３２とを有する。ガイド機構３０１のスライダ３１は、第１テーブル１の下面１Ｂの＋Ｙ側の端部に固定される。ガイド機構３０２のスライダ３１は、第１テーブル１の下面１Ｂの−Ｙ側の端部に固定される。

Ｘ軸方向に関して、第１テーブル１の寸法Ｗ１は、スライダ３１の寸法Ｗ３１よりも小さい。Ｘ軸方向に関して、第１テーブル１は、スライダ３１の中央部に支持される。Ｘ軸方向に関して第１テーブル１の中心とスライダ３１の中心とが一致するように、第１テーブル１はスライダ３１に支持される。

レール３２は、ベース部材６の上面に配置される。レール３２は、Ｘ軸方向に長い。第１ガイド装置３は、Ｙ軸方向に配置される２本のレール３２を有する。２本のレール３２は、平行に配置される。ガイド機構３０１のスライダ３１は、ガイド機構３０１のレール３２を移動する。ガイド機構３０２のスライダ３１は、ガイド機構３０２のレール３２を移動する。

第２ガイド装置４のガイド機構４０１は、第２テーブル２の下面２Ａに接続されるスライダ４１と、スライダ４１が移動するレール４２とを有する。同様に、第２ガイド装置４のガイド機構４０２は、第２テーブル２の下面２Ａに接続されるスライダ４１と、スライダ４１が移動するレール４２とを有する。ガイド機構４０１のスライダ４１は、第２テーブル２の下面２Ｂの＋Ｙ側の端部に固定される。ガイド機構４０２のスライダ４１は、第２テーブル２の下面２Ｂの−Ｙ側の端部に固定される。

Ｘ軸方向に関して、第２テーブル２の寸法Ｗ２は、スライダ４１の寸法Ｗ４１よりも小さい。Ｘ軸方向に関して、第２テーブル２は、スライダ４１の中央部に支持される。Ｘ軸方向に関して第２テーブル２の中心とスライダ４１の中心とが一致するように、第２テーブル２はスライダ４１に支持される。

レール４２は、ベース部材６の上面に配置される。レール４２は、Ｘ軸方向に長い。第２ガイド装置４は、Ｙ軸方向に配置される２本のレール４２を有する。２本のレール４２は、平行に配置される。ガイド機構４０１のスライダ４１は、ガイド機構４０１のレール４２を移動する。ガイド機構４０２のスライダ４１は、ガイド機構４０２のレール４２を移動する。

レール３２とレール４２とは、Ｙ軸方向に配置される。レール３２とレール４２とは、平行に配置される。本実施形態において、Ｙ軸方向に関して、ガイド機構３０１のレール３２とガイド機構３０２のレール３２との距離Ｄ１と、ガイド機構４０１のレール４２とガイド機構４０２のレール４２との距離Ｄ２とは、等しい。ガイド機構３０１のレール３２とガイド機構３０２のレール３２との間に、ガイド機構４０１のレール４２が配置される。ガイド機構４０１のレール４２とガイド機構４０２のレール４２との間に、ガイド機構３０２のレール３２が配置される。Ｙ軸方向に関して、ガイド機構３０１のレール３２
とガイド機構４０１のレール４２との距離Ｄ３と、ガイド機構３０２のレール３２とガイド機構４０２のレール４２との距離Ｄ４とは、等しい。ガイド機構４０１のレール４２とガイド機構３０２のレール３２との距離Ｄ５は、距離Ｄ３及び距離Ｄ４よりも大きい。

図４は、ガイド機構３０１の一例を示す斜視図である。ガイド機構３０１は、直動ガイド機構を含む。ガイド機構３０１は、ベース部材６に配置されたレール３２と、第１テーブル１に配置され、レール３２を移動可能なスライダ（ブロック）３１とを含む。本実施形態において、スライダ３１は、直動型軸受を含む。本実施形態において、スライダ３１は、直動型の転がり軸受を含む。転がり軸受は、転動体を有する。転動体は、玉及びころの一方又は両方を含む。すなわち、転がり軸受は、玉軸受及びころ軸受の一方又は両方を含む。本実施形態において、スライダ３１は、直動型玉軸受（linear ball bearing）を含む。

レール３２は、上方を向く表面３２Ａと、表面３２Ａの両側に配置される側面３２Ｂと、側面３２Ｂのそれぞれに形成された溝３２Ｃとを有する。スライダ３１は、レール３２の表面３２Ａと対向可能な第１対向面３１Ａと、レール３２の側面３２Ｂと対向可能な第２対向面３１Ｂと、少なくとも一部がレール３２の溝３２Ｃに配置される転動体（玉）３１Ｔとを有する。玉３１Ｔは溝３２Ｃの内面に接触しつつ転がる。溝３２Ｃに沿って玉３１Ｔが転がることによって、スライダ３１はレール３２を円滑に移動可能である。

ガイド機構３０２、ガイド機構４０１、及びガイド機構４０２の構造及び動作原理は、ガイド機構３０１と同等である。すなわち、スライダ４１は、直動型軸受を含む。ガイド機構３０２、ガイド機構４０１、及びガイド機構４０２についての説明は省略する。

なお、スライダ３１は、１つのレール３２に対して１つ（単数）でもよいし、２以上の複数設けられてもよい。スライダ４１についても同様である。

図１、図２、及び図３に示すように、駆動システム５は、第１テーブル１をＸ軸方向に移動する第１駆動装置５１と、第２テーブル２をＸ軸方向に移動する第２駆動装置５２とを有する。

第１駆動装置５１は、動力を発生するアクチュエータ５３と、アクチュエータ５３の動力（駆動力）を第１テーブル１に伝達する動力伝達装置５４とを備えている。アクチュエータ５３と第１テーブル１とは、動力伝達装置５４を介して接続される。

アクチュエータ５３は、回転モータを含み、供給される電力により作動する。動力伝達装置５４は、アクチュエータ５３の回転運動を直線運動に変換する。本実施形態において、アクチュエータ（回転モータ）５３のシャフトは、θＸ方向に回転する。動力伝達装置５４は、θＸ方向の回転運動を、Ｘ軸方向の直線運動に変換して、第１テーブル１に伝達する。第１テーブル１は、動力伝達装置５４を介して伝達されるアクチュエータ５３の動力により、Ｘ軸方向に移動する。

本実施形態において、動力伝達装置５４を含む第１駆動装置５１の少なくとも一部は、ベース部材６上において、ガイド機構３０２とガイド機構４０１との間に配置される。

本実施形態において、動力伝達装置５４は、ボールねじを含む。ボールねじは、アクチュエータ５３の作動により回転するねじ軸５４１と、第１テーブル１に接続され、ねじ軸５４１の周囲に配置されるナット５４２と、ねじ軸５４１とナット５４２との間に配置されるボールとを含む。ボールねじのねじ軸５４１は、支持軸受５４３により回転可能に支持される。本実施形態において、ボールねじのねじ軸５４１は、θＸ方向に回転する。ね
じ軸５４１がθＸ方向に回転することにより、ナット５４２及びそのナット５４２が接続されている第１テーブル１がＸ軸方向に移動（直線移動）する。

アクチュエータ５３がボールねじのねじ軸５４１を一方向に回転すると、そのねじ軸５４１の回転により、第１テーブル１が＋Ｘ方向に移動する。アクチュエータ５３がボールねじのねじ軸５４１を逆方向に回転すると、そのねじ軸５４１の回転により、第１テーブル１が−Ｘ方向に移動する。すなわち、アクチュエータ５３の回転方向（ボールねじのねじ軸５４１の回転方向）に基づいて、Ｘ軸方向に関する第１テーブル１の移動方向（＋Ｘ方向及び−Ｘ方向のいずれか一方の方向）が決定される。

第２駆動装置５２は、動力を発生するアクチュエータ５３と、アクチュエータ５３の動力（駆動力）を第２テーブル２に伝達する動力伝達装置５４とを備えている。アクチュエータ５３と第２テーブル２とは、動力伝達装置５４を介して接続される。第２駆動装置５２の構造及び作動原理は、第１駆動装置５１と同等である。第２駆動装置５２についての説明は省略する。

第１駆動装置５１及び第２駆動装置５２は、別々に作動可能である。駆動システム５は、第１駆動装置５１及び第２駆動装置５２により、第１テーブル１及び第２テーブル２を別々に移動することができる。駆動システム５は、第１テーブル１及び第２テーブル２を同時に移動してもよい。駆動システム５は、第１テーブル１が移動される期間の少なくとも一部において、第２テーブル２を静止させてもよい。駆動システム５は、第２テーブル２が移動される期間の少なくとも一部において、第１テーブル１を静止させてもよい。

図１に示すように、第１テーブル１と第２テーブル２とは、上面１Ａの＋Ｘ側の端部と上面２Ａの−Ｘ側の端部とが接近するように移動可能である。第１テーブル１と第２テーブル２とは、上面１Ａの＋Ｘ側の端部と上面２Ａの−Ｘ側の端部とが接触するように移動されてもよい。駆動システム５は、上面１Ａの＋Ｘ側の端部と上面２Ａの−Ｘ側の端部とが接近又は接触された状態で、第１テーブル１及び第２テーブル２をＸ軸方向に一緒に移動可能である。

また、図１に示すように、スライダ３１とスライダ４１とは、スライダ３１とスライダ４１の少なくとも一部とがＹ軸方向に配置されるように、Ｘ軸方向に相対移動可能である。スライダ３１とスライダ３２とは、それらスライダ３１とスライダ４１とがＸ軸方向に相対移動しても、接触しないように配置されている。図１に示すように、スライダ３１とスライダ４１の少なくとも一部とがＹ軸方向に配置された状態においても、スライダ３１とスライダ４１とは離れている。

次に、上述のテーブル装置１００の動作の一例について説明する。第１駆動装置５１が作動すると、第１テーブル１がＸ軸方向に移動する。第１テーブル１は、第１ガイド装置３にガイドされてＸ軸方向に円滑に移動する。第１ガイド装置３により、第１テーブル１は、Ｘ軸方向に目標軌道（望みの軌道）で移動される。本実施形態においては、第１ガイド装置３により、第１テーブル１は、Ｘ軸方向に真っ直ぐに移動可能である。

第２駆動装置５２が作動すると、第２テーブル２がＸ軸方向に移動する。第２テーブル２は、第２ガイド装置４にガイドされてＸ軸方向に円滑に移動する。第２ガイド装置４により、第２テーブル２は、Ｘ軸方向に目標軌道（望みの軌道）で移動される。本実施形態においては、第２ガイド装置４により、第２テーブル２は、Ｘ軸方向に真っ直ぐに移動可能である。

本実施形態において、第１ガイド装置３と第２ガイド装置４とは、Ｙ軸方向にずれて配
置されている。本実施形態において、第１テーブル１及びスライダ３１は、スライダ４１及びレール４２を含む第２ガイド装置４と接触しないように移動可能である。第２テーブル２及びスライダ４１は、スライダ３１及びレール３２を含む第１ガイド装置３と接触しないように移動可能である。

したがって、図１に示したように、第１テーブル１と第２テーブル２とは、接近又は接触するように移動可能である。

図５及び図６は、比較例に係るテーブル装置１００Ｊの一例を示す図である。図５は、比較例に係るテーブル装置１００Ｊを＋Ｚ側から見た平面図である。図６は、比較例に係るテーブル装置１００Ｊを−Ｙ側から見た側面図である。

テーブル装置１００Ｊは、第１テーブル１Ｊ及び第２テーブル２Ｊを有する。第１テーブル１Ｊには、スライダ３１Ｊが接続される。第２テーブル２Ｊには、スライダ４１Ｊが接続される。スライダ３１Ｊ及びスライダ４１Ｊは、レール３２Ｊを移動する。

比較例に係るテーブル装置１００Ｊのように、第１テーブル１Ｊに接続されたスライダ３１Ｊと、第２テーブル２Ｊに接続されたスライダ４１Ｊとが、１つのレール３２Ｊを共用すると、スライダ３１Ｊとスライダ４１Ｊとが当たる（接触する）可能性がある。その結果、Ｘ軸方向に関する第１テーブル１Ｊの可動範囲及び第２テーブル２Ｊの可動範囲が制限されてしまう。可動範囲の制限により、第１テーブル１Ｊと第２テーブル２Ｊとを接近又は接触させることが困難となる可能性がある。

Ｘ軸方向に関する第１テーブル１Ｊの寸法及び第２テーブル２Ｊの寸法を大きくすることによって、第１テーブル１Ｊの可動範囲及び第２テーブル２Ｊの可動範囲が小さくても、第１テーブル１Ｊと第２テーブル２Ｊとを接近又は接触できる可能性がある。しかし、第１テーブル１Ｊ及び第２テーブル２Ｊが大型化すると、アクチュエータ５３Ｊは過大な動力を発生する必要があり、多大なエネルギー（電力）を消費してしまう可能性がある。また、第１テーブル１Ｊ及び第２テーブル２Ｊの大型化は、第１テーブル１Ｊ及び第２テーブル２Ｊの位置決め精度の低下をもたらす可能性がある。

図１、図２、図３、及び図４を参照して説明したように、本実施形態においては、第１テーブル１に接続されたスライダ３１に対してレール３２が配置される。第２テーブル２に接続されたスライダ４１に対してレール４２が配置される。すなわち、スライダ３１及びスライダ４１のそれぞれについて、専用のレール３２及びレール４２が設けられる。スライダ３１及びスライダ４１が１つのレールを共用しないので、第１テーブル１の可動範囲及び第２テーブル２の可動範囲が制限されることが抑制される。また、第１テーブル１及び第２テーブル２を大型化することなく、第１テーブル１と第２テーブル２とを接近又は接触させることができる。したがって、多大なエネルギーを消費することなく、高い位置決め精度で、第１テーブル１及び第２テーブル２を移動することができる。

以上説明したように、本実施形態によれば、第１テーブル１をＸ軸方向にガイドする第１ガイド装置３と、第２テーブル２をＸ軸方向にガイドする第２ガイド装置４とがＹ軸方向にずれて配置されるため、Ｘ軸方向に関する第１テーブル１の可動範囲、及びＸ軸方向に関する第２テーブル２の可動範囲が制限されることが抑制される。したがって、第１テーブル１及び第２テーブル２を目標位置に円滑に移動することができる。

また、本実施形態によれば、第１ガイド装置３は、ガイド機構３０１及びガイド機構３０２を有し、第２ガイド装置４は、ガイド機構４０１及びガイド機構４０２を有する。それら４つのガイド機構３０１、ガイド機構３０２、ガイド機構４０１、及びガイド機構４
０２がＹ軸方向に配置されることにより、第１テーブル１は、一対のガイド機構３０１及びガイド機構３０２によって安定してガイドされる。第２テーブル２は、一対のガイド機構４０１及びガイド機構４０２によって安定してガイドされる。また、第１ガイド装置３の構造と第２ガイド装置４の構造とは実質的に等しい。これにより、第１テーブル１及び第２テーブル２のそれぞれは、等しい移動精度で移動可能である。

また、本実施形態によれば、第１テーブル１と第２テーブル２とが接近又は接触するように、第１テーブル１及び第２テーブル２を移動することができる。これにより、例えば、第１テーブル１と第２テーブル２とが接近又は接触している状態で、第１テーブル１に支持されている物体を第２テーブル２に移動する処理、及び第２テーブル２に支持されている物体を第１テーブル１に移動する処理を円滑に行うことができる。

また、本実施形態においては、第１テーブル１及び第２テーブル２の移動において、第１テーブル１及びスライダ３１がスライダ４１及びレール４２に接触せず、第２テーブル２及びスライダ４１がスライダ３１及びレール３２に接触しないように、第１ガイド装置３及び第２ガイド装置４の構造及び位置関係が定められている。したがって、第１テーブル１及び第２テーブル２は、円滑に移動することができる。

また、本実施形態においては、Ｘ軸方向に関して、第１テーブル１の寸法Ｗ１はスライダ３１の寸法Ｗ３１よりも小さく、第２テーブル２の寸法Ｗ２はスライダ４１の寸法Ｗ４１よりも小さい。第１テーブル１及び第２テーブル２の小型化及び軽量化が図られることにより、駆動システム５は、多大なエネルギーを要することなく、スライダ３１に支持された第１テーブル１及びスライダ４１に支持された第２テーブル２を円滑に移動することができる。また、第１テーブル１及び第２テーブル２の小型化及び軽量化が図られることにより、第１テーブル１及び第２テーブル２の位置決め精度の低下が抑制される。

＜第２実施形態＞
第２実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略又は省略する。

図７は、本実施形態に係るテーブル装置１００Ｂを＋Ｚ側から見た平面図である。図８は、本実施形態に係るテーブル装置１００Ｂを−Ｙ側から見た側面図である。図９は、本実施形態に係るテーブル装置１００Ｂを＋Ｘ側から見た側面図である。

テーブル装置１００Ｂは、第１テーブル１と、第２テーブル２と、第１テーブル１をＸ軸方向にガイドする第１ガイド装置３と、第２テーブル２をＸ軸方向にガイドする第２ガイド装置４と、第１テーブル１及び第２テーブル２の少なくとも一方をＸ軸方向に移動する駆動システム５Ｂとを備えている。

本実施形態において、駆動システム５Ｂは、リニアモータ５５を有する。リニアモータ５５の少なくとも一部は、ベース部材６上において、ガイド機構３０２とガイド機構４０１との間に配置される。

リニアモータ５５は、ベース部材６の上面に設けられた固定子５６と、第１テーブル１の下面１Ｂに固定され、固定子５６に対して移動する可動子５７と、第２テーブル２の下面２Ｂに固定され、固定子５６に対して移動する可動子５８と、を備えている。本実施形態において、固定子５６は、複数のコイルを有する。可動子５７及び可動子５８のそれぞれは、磁石を有する。すなわち、本実施形態において、リニアモータ５５は、ムービングマグネット型のリニアモータである。なお、リニアモータ５５において、固定子５６が磁石を有し、可動子５７及び可動子５８のそれぞれがコイルを有してもよい。すなわち、リ
ニアモータ５５がムービングコイル型のリニアモータでもよい。

以上説明したように、駆動システム５Ｂが、リニアモータ５５を有してもよい。本実施形態によれば、第１テーブル１に接続された可動子５７と、第２テーブル２に接続された可動子５８とが、１つの固定子５６を共用するため、テーブル装置１００Ｂの小型化を図ることができる。

＜第３実施形態＞
第３実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略又は省略する。

図１０は、本実施形態に係るテーブル装置１００Ｃを＋Ｚ側から見た平面図である。図１１は、本実施形態に係るテーブル装置１００Ｃを＋Ｘ側から見た側面図である。

テーブル装置１００Ｃは、第１テーブル１と、第２テーブル２と、第１テーブル１をＸ軸方向にガイドする第１ガイド装置３と、第２テーブル２をＸ軸方向にガイドする第２ガイド装置４と、第１テーブル１及び第２テーブル２の少なくとも一方をＸ軸方向に移動する駆動システム５Ｂとを備えている。上述の実施形態と同様、駆動システム５Ｂは、リニアモータ５５を有する。

本実施形態において、テーブル装置１００Ｃは、Ｘ軸方向に関する第１テーブル１の位置及び第２テーブル２の位置を検出する検出システム６０を備えている。本実施形態において、検出システム６０は、リニアエンコーダシステムを含む。検出システム６０は、ベース部材６の上面の外側においてレール３２及びレール４２と平行に配置されるリニアスケール６３と、第１テーブル１に配置され、リニアスケール６３を検出するエンコーダヘッド６１と、第２テーブル２に配置され、リニアスケール６３を検出するエンコーダヘッド６２と、を備えている。エンコーダヘッド６１は、リニアスケール６３に検出光を照射して、そのリニアスケール６３で反射した検出光を受光することにより、Ｘ軸方向に関する第１テーブル１の位置を検出する。エンコーダヘッド６２は、リニアスケール６３に検出光を照射して、そのリニアスケール６３で反射した検出光を受光することにより、Ｘ軸方向に関する第２テーブル２の位置を検出する。

エンコーダヘッド６１の検出値及びエンコーダヘッド６２の検出値は、駆動システム５Ｂのコントローラに出力される。駆動システム５Ｂは、エンコーダヘッド６１の検出値に基づいて第１テーブル１をＸ軸方向に移動し、エンコーダヘッド６２の検出値に基づいて第２テーブル２をＸ軸方向に移動する。

以上説明したように、本実施形態によれば、エンコーダシステムを含む検出システム６０によって、第１テーブル１及び第２テーブル２の位置情報を精確に検出することができる。駆動システム５Ｂは、検出システム６０の検出結果に基づいて、第１テーブル１及び第２テーブル２を目標位置に精確に移動することができる。

なお、検出システム６０が、上述の第１実施形態で説明したテーブル装置１００に配置されてもよい。回転モータ及びボールねじを有する駆動システム５が、検出システム６０の検出結果に基づいて、第１テーブル１及び第２テーブル２を移動してもよい。なお、駆動システム５が回転モータ（サーボモータ、メガトルクモータなど）のような回転系を有する場合、その回転系の回転位置（回転量）を検出可能なロータリーエンコーダ又はレゾルバを有する検出システムが設けられてもよい。回転系の回転位置と、Ｘ軸方向に関する第１テーブル１及び第２テーブル２の位置とは相関するため、その検出システムの検出結果に基づいて、第１テーブル１及び第２テーブル２の位置が求められてもよい。

＜第４実施形態＞
第４実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略又は省略する。

図１２は、本実施形態に係るテーブル装置１００Ｄを＋Ｚ側から見た平面図である。図１３は、本実施形態に係るテーブル装置１００Ｄを−Ｙ側から見た側面図である。図１４は、本実施形態に係るテーブル装置１００Ｄを＋Ｘ側から見た側面図である。

テーブル装置１００Ｄは、第１テーブル１と、第２テーブル２と、第１テーブル１をＸ軸方向にガイドする第１ガイド装置３Ｄと、第２テーブル２をＸ軸方向にガイドする第２ガイド装置４Ｄと、第１テーブル１及び第２テーブル２の少なくとも一方をＸ軸方向に移動する駆動システム５Ｄとを備えている。

本実施形態において、駆動システム５Ｄは、動力を発生するアクチュエータ６５と、アクチュエータ６５の動力（駆動力）を第１テーブル１及び第２テーブル２のそれぞれに伝達する動力伝達装置７０とを備えている。アクチュエータ６５と第１テーブル１及び第２テーブル２のそれぞれとは、動力伝達装置７０を介して接続される。

アクチュエータ６５は、回転モータを含み、供給される電力により作動する。動力伝達装置７０は、アクチュエータ６５の回転運動を直線運動に変換する。本実施形態において、アクチュエータ（回転モータ）６５のシャフトは、θＸ方向に回転する。動力伝達装置７０は、θＸ方向の回転運動を、Ｘ軸方向の直線運動に変換して、第１テーブル１及び第２テーブル２のそれぞれに伝達する。第１テーブル１及び第２テーブル２のそれぞれは、動力伝達装置７０を介して伝達されるアクチュエータ６５の動力により、Ｘ軸方向に移動する。

本実施形態において、動力伝達装置７０は、所謂、左右ねじと呼ばれるボールねじ７５を含む。左右ねじ７５は、右ねじ部７１と、左ねじ部７２とを有する。また、動力伝達装置７０は、第１テーブル１に接続され、右ねじ部７１の周囲に配置されるナット７３と、第２テーブル２に接続され、左ねじ部７２の周囲に配置されるナット７４と、を有する。右ねじ部７１とナット７３との間にボールが配置される。左ねじ部７２とナット７４との間にボールが配置される。左右ねじ７５は、支持軸受５４３により回転可能に支持される。

左右ねじ７５は、θＸ方向に回転する。左右ねじ７５がθＸ方向に回転することにより、ナット７３及びそのナット７３が接続されている第１テーブル１がＸ軸方向に移動（直線移動）する。また、左右ねじ７５がθＸ方向に回転することにより、ナット７４及びそのナット７４が接続されている第２テーブル２がＸ軸方向に移動（直線移動）する。

以上説明したように、駆動システム５Ｄが、左右ねじ７５を有してもよい。

なお、本実施形態に係るテーブル装置１００Ｄに、上述の実施形態で説明した、第１テーブル１及び第２テーブル２の位置を検出する検出システム６０が設けられてもよい。駆動システム５Ｄは、その検出システム６０の検出結果に基づいて、第１テーブル１及び第２テーブル２を移動してもよい。

＜第５実施形態＞
第５実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略又は省略する。

図１５は、本実施形態に係るテーブル装置１００を備える半導体製造装置５００の一例を示す図である。半導体製造装置５００は、半導体デバイスを製造可能な半導体デバイス製造装置を含む。半導体製造装置５００は、半導体デバイスを製造するための物体Ｓを搬送可能な搬送装置６００を含む。搬送装置６００は、本実施形態に係るテーブル装置１００を含む。

なお、図１５においては、テーブル装置１００を簡略して図示する。また、説明を簡単にするため、以下の説明においては、テーブル装置１００が有する第１テーブル１及び第２テーブル２のうち、主に第１テーブル１が物体Ｓを支持する例について説明する。なお、第２テーブル２が物体Ｓを支持してもよい。

本実施形態において、物体Ｓは、半導体デバイスを製造するための基板である。物体Ｓから半導体デバイスが製造される。物体Ｓは、半導体ウエハを含んでもよいし、ガラス板を含んでもよい。物体Ｓにデバイスパターン（配線パターン）が形成されることによって、半導体デバイスが製造される。

半導体製造装置５００は、処理位置ＰＪ１に配置された物体Ｓに対して、デバイスパターンを形成するための処理を行う。テーブル装置１００は、第１テーブル１（又は第２テーブル２）に支持された物体Ｓを処理位置ＰＪ１に配置する。搬送装置６００は、テーブル装置１００の第１テーブル１に物体Ｓを搬送（搬入）可能な搬入装置６０１と、第１テーブル１から物体Ｓを搬送（搬出）可能な搬出装置６０２とを含む。搬入装置６０１によって、処理前の物体Ｓが第１テーブル１に搬送（搬入）される。テーブル装置１００によって、第１テーブル１に支持された物体Ｓが処理位置ＰＪ１まで搬送される。搬出装置６０２によって、処理後の物体Ｓが第１テーブル１から搬送（搬出）される。

テーブル装置１００は、第１テーブル１を移動して、第１テーブル１に支持された物体Ｓを処理位置ＰＪ１に移動する。上述の実施形態で説明したように、第１テーブル１は、第１ガイド装置３によってガイドされる。そのため、テーブル装置１００は、第１テーブル１を目標軌道で移動可能であり、第１テーブル１に支持された物体Ｓを処理位置（目標位置）ＰＪ１に配置可能である。

例えば、半導体製造装置５００が、光学系５０１を介して物体Ｓのデバイスパターンを計測する計測装置を含む場合、処理位置ＰＪ１は、光学系５０１の焦点の位置（計測位置）を含む。処理位置ＰＪ１に物体Ｓが配置されることにより、半導体製造装置５００は、光学系５０１を介して、物体Ｓに形成されたデバイスパターンの画像を取得可能である。半導体製造装置５００が、物体Ｓに膜を形成する成膜装置を含む場合、処理位置ＰＪ１は、膜を形成するための材料が供給可能な位置である。処理位置ＰＪ１に物体Ｓが配置されることにより、デバイスパターンを形成するための膜が物体Ｓに形成される。

処理位置ＰＪ１において物体Ｓが処理された後、その処理後の物体Ｓが搬出装置６０２によって第１テーブル１から搬送される。搬出装置６０２によって搬送（搬出）された物体Ｓは、後工程を行う処理装置に搬送される。

本実施形態においては、テーブル装置１００は、物体Ｓを処理位置（目標位置）ＰＪ１に配置可能である。そのため、不良な製品が製造されてしまうことが抑制される。すなわち、テーブル装置１００によって、半導体製造装置５００における物体Ｓの位置決め精度の低下が抑制されるため、不良な製品の発生が抑制される。

図１６は、本実施形態に係るテーブル装置１００を備える測定装置７００の一例を示す
図である。測定装置７００は、半導体製造装置５００によって製造された物体（半導体デバイス）Ｓ２を測定する。測定装置７００は、物体Ｓ２を搬送可能な搬送装置６００Ｂを含む。搬送装置６００Ｂは、本実施形態に係るテーブル装置１００を含む。

なお、図１６においては、テーブル装置１００を簡略して図示する。また、説明を簡単にするため、以下の説明においては、テーブル装置１００が有する第１テーブル１及び第２テーブル２のうち、主に第１テーブル１が物体Ｓ２を支持する例について説明する。なお、第２テーブル２が物体Ｓ２を支持してもよい。

測定装置７００は、測定位置ＰＪ２に配置された物体Ｓ２の測定を行う。テーブル装置１００は、第１テーブル１（又は第２テーブル２）に支持された物体Ｓ２を測定位置ＰＪ２に配置する。搬送装置６００Ｂは、テーブル装置１００の第１テーブル１に物体Ｓ２を搬送（搬入）可能な搬入装置６０１Ｂと、第１テーブル１から物体Ｓ２を搬送（搬出）可能な搬出装置６０２Ｂとを含む。搬入装置６０１Ｂによって、測定前の物体Ｓ２が第１テーブル１に搬送（搬入）される。テーブル装置１００によって、第１テーブル１に支持された物体Ｓ２が測定位置ＰＪ２まで搬送される。搬出装置６０２Ｂによって、測定後の物体Ｓ２が第１テーブル１から搬送（搬出）される。

テーブル装置１００は、第１テーブル１を移動して、第１テーブル１に支持された物体Ｓ２を測定位置ＰＪ２に移動する。上述の実施形態で説明したように、第１テーブル１は、第１ガイド装置３によってガイドされる。そのため、テーブル装置１００は、第１テーブル１を目標軌道で移動可能であり、第１テーブル１に支持された物体Ｓ２を測定位置（目標位置）ＰＪ２に配置可能である。

本実施形態において、測定装置７００は、検出光を用いて物体Ｓ２の測定を光学的に行う。測定装置７００は、検出光を射出可能な照射装置７０１と、照射装置７０１から射出され、物体Ｓ２で反射した検出光の少なくとも一部を受光可能な受光装置７０２とを含む。本実施形態において、測定位置ＰＪ２は、検出光の照射位置を含む。測定位置ＰＪ２に物体Ｓ２が配置されることにより、物体Ｓ２の状態が光学的に測定される。

測定位置ＰＪ２において物体Ｓ２の測定が行われた後、その測定後の物体Ｓ２が搬出装置６０２Ｂによって第１テーブル１から搬送される。

本実施形態においては、テーブル装置１００は、物体Ｓ２を測定位置（目標位置）ＰＪ２に配置可能であるため、測定不良の発生を抑制できる。すなわち、測定装置７００は、物体Ｓ２が不良であるか否かを良好に判断することができる。これにより、例えば不良な物体Ｓ２が後工程に搬送されたり、出荷されたりすることが抑制される。

図１７は、本実施形態に係るテーブル装置１００を備える工作機械８００の一例を示す図である。工作機械８００は、物体Ｓ３を加工する。工作機械８００は、マシニングセンタであり、テーブル装置１００と、加工ヘッド８０１と、を有する。加工ヘッド８０１は、加工工具を有し、テーブル装置１００の第１テーブル１（又は第２テーブル２）に固定された物体Ｓ３を加工工具で加工する。加工ヘッド８０１は、物体Ｓ３を切削する機構である。加工ヘッド８０１は、第１テーブル１（又は第２テーブル２）の移動方向と直交するＺ軸方向に加工工具を移動させる。

工作機械８００は、テーブル装置１００で物体Ｓ３をＸＹ平面内において移動させ、加工ヘッド８０１をＺ軸方向に移動させることで、加工工具と物体Ｓ３とを相対的に移動させることができる。

工作機械８００は、目標位置に配置された第１テーブル１上の物体Ｓ３又は第２テーブル２上の物体Ｓ３を加工できるので、その物体Ｓ３の加工を精密に行うことができる。

なお、本実施形態においては、第１テーブル１及び第２テーブル２が水平面内のＸ軸方向に移動することとした。本実施形態において、第１テーブル１及び第２テーブル２が水平面に対して傾斜する方向に移動されてもよい。すなわち、ＸＹ平面は、水平面と平行でもよいし、水平面に対して傾斜していてもよい。

１ 第１テーブル
１Ａ 上面
１Ｂ 下面
２ 第２テーブル
２Ａ 上面
２Ｂ 下面
３ 第１ガイド装置
４ 第２ガイド装置
５ 駆動システム
３１ スライダ
３２ レール
４１ スライダ
４２ レール
６０ 検出システム
６１ エンコーダヘッド
６２ エンコーダヘッド
６３ リニアスケール
１００ テーブル装置
３０１ ガイド機構
３０２ ガイド機構
４０１ ガイド機構
４０２ ガイド機構
５００ 半導体製造装置
６００ 搬送装置
７００ 測定装置
８００ 工作機械

Claims (10)

1. 第１上面を有する第１テーブルと、
   前記第１上面に垂直な方向から見た場合に、前記第１テーブルと第１方向に隣り合って配置され、第２上面を有する第２テーブルと、
   前記第１テーブルを前記第１方向にガイドする第１ガイド装置と、
   前記第２テーブルを前記第１方向にガイドする第２ガイド装置と、を備え、
   前記第１テーブルの前記第１上面と、前記第２テーブルの前記第２上面とは同一平面内に並んでおり、
   前記第１ガイド装置と前記第２ガイド装置とは、前記第１方向と直交し、かつ前記第１上面と平行な第２方向に並んで少なくとも一部が同一平面内に配置されるテーブル装置。
2. 前記第１ガイド装置は、前記第１テーブルの前記第２方向の一端部を支持する第１ガイド機構と、前記第１テーブルの前記第２方向の他端部を支持する第２ガイド機構と、を含み、
   前記第２ガイド装置は、前記第２テーブルの前記第２方向の一端部を支持する第３ガイド機構と、前記第２テーブルの前記第２方向の他端部を支持する第４ガイド機構と、を含み、
   前記第２方向において、前記第１ガイド機構、前記第３ガイド機構、前記第２ガイド機構、前記第４ガイド機構の順に配置される請求項１に記載のテーブル装置。
3. 前記第１テーブルと前記第２テーブルとは、前記第１方向に隣り合う前記第１上面の一側の端部と前記第２上面の他側の端部とが接近又は接触するように移動される請求項１又は請求項２に記載のテーブル装置。
4. 前記第１ガイド装置は、前記第１テーブルの第１下面に接続される第１スライダと、前記第１スライダが移動する第１レールと、を有し、
   前記第２ガイド装置は、前記第２テーブルの第２下面に接続される第２スライダと、前記第２スライダが移動する第２レールと、を有し、
   前記第１レールと前記第２レールとは、前記第２方向に平行に配置され、
   前記第１スライダと前記第２スライダとは、前記第１スライダと前記第２スライダの少なくとも一部とが前記第２方向に配置されるように前記第１方向に相対移動可能である請求項１から請求項３のいずれか一項に記載のテーブル装置。
5. 前記第１スライダと前記第２スライダの少なくとも一部とが前記第２方向に配置された状態において、前記第１スライダと前記第２スライダとは離れている請求項４に記載のテーブル装置。
6. 前記第１テーブルの前記第１方向の寸法は前記第１スライダの前記第１方向の寸法よりも小さく、前記第２テーブルの前記第１方向の寸法は前記第２スライダの前記第１方向の寸法よりも小さい請求項４又は請求項５に記載のテーブル装置。
7. 前記第１スライダ及び前記第２スライダはそれぞれ、直動型軸受を含む請求項４から請求項６のいずれか一項に記載のテーブル装置。
8. 前記第１レール及び前記第２レールと平行に配置されるリニアスケールと、
   前記第１テーブルに配置され、前記リニアスケールを検出可能な第１エンコーダヘッドと、
   前記第２テーブルに配置され、前記リニアスケールを検出可能な第２エンコーダヘッドと、
   前記第１エンコーダヘッドの検出値及び前記第２エンコーダヘッドの検出値に基づいて、前記第１テーブル及び前記第２テーブルの少なくとも一方を前記第１方向に移動する
   駆動システムと、を備える請求項４から請求項７のいずれか一項に記載のテーブル装置。
9. 請求項１から請求項８のいずれか一項に記載のテーブル装置を備える測定装置。
10. 請求項１から請求項８のいずれか一項に記載のテーブル装置を備える工作機械。

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