TW200523216A - - Google Patents

Description

200523216 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 ^ 本發明一般係關於流體之淨化或處理方法，尤指水處理 系統’加設電化裝置和有貯槽，供輸送處理水至使用點，並 關於水處理系統之操作和沖洗方法。 【先前技術】 含有諸如鈣和鎂等硬度物類之水，在工業、商業和家居 應用5面的若干用途不良。水硬度分級的典型方針是，以碳 酸^計，每公升0至60毫克(mg/1)為軟水、61 —120 mg/1 為稱硬水、121一180 mg/1為硬水、180 mg/1以上為甚硬 水0 ,硬水可藉除去硬離子物類加以軟化或處理。除去如此物 類，系統，例如包含使用離子交換床者。在此系統中，硬離 t變成以離子方式結合於在離子錢樹絲®混合的相反電 ^之離子性物類。離子交換樹脂終致成為飽和以離子方式結 二硬離子_，而必須再生。再生典型上涉及把結合硬離子 j改為更具可溶離子性物類，諸如氯化納。結合於離子交 供德^ 類’以鈉離子取代，則離子交換樹脂又備妥 供後續水軟化步驟。 中教，如D〇SCh在美國專利娜87號 ，P I冼t機，包3水軟化配置，使用離子交換樹脂。 :祖一a lm等人在國際專利申請案公告WO 00/64325號 r 一水家庭用具，有改進裝置以降低水硬度。 池之軟化系統。McMahon在美國專利 交換樹ΐ再生種在水軟化過程中，猶溶液將離子 電脫離子化（EDI)可用來將水軟化。Ε〇Ι是從 可離子化物類之過程’使用電該性媒體和電位，以影響離 200523216 子傳送。電氣活性媒體有聚集和排放可離子化物類之功用， 或方便利用離子性或電子取代機制傳送離子。EDI裝置可包 含具有永久性或暫時性電荷之媒體，並可操作以造成電化反 應，設計來達成或增進效能。此等裝置亦可包含電氣活性機 制’諸如半透性離子交換或雙極性隔膜。 連續電脫離子化（CEDI)過程有賴離子傳送通過電氣活 性媒體（電活性媒體）。典型的CEDI裝置包含輪替電活性半 透陰離子和陽離子選擇膜。隔膜間之空間構成產生液流室， 有進口和出口。利用外界電源通過在室壁的電極，賦予橫越 DC電場。在若干造型中，設有電極室，故電極的反應生成 物，可從其他流動室分離。賦予電場時，在一室（即離子消 耗室）内待處理液體内的離子，即被吸向各相吸電極。離子 移動通過選擇性透膜，進入鄰室，故相鄰增濃室内的液體變 成離子增濃。消耗室以及若干具體例中的增濃室内容積，含 有電活性媒體，在CEDI裝置中，電活性媒體可包含密切混 合的陰離子和陽離子交換樹脂粒。此等電活性媒體典型上增 進室内離子傳送，並可做為基質參予控制下的電化反應。電 脫離子化裝置已載於例如Giuffrida等人的美國專利 4,632,745、4,925,541 和 5,211，823 號，Ganzi 的美國專利 5,259,936 和 5,316,637 號，Oren 等人的美國專利 5，154,809 號，以及Kedem的美國專利5,240,579號。 可用來將水脫礦物質之其他系統，已有記載。例如 Gaysowski的美國專利3,407,864號内教示一種涉及離子交換 和電透析。Johnson的美國專利3,755，135號教示使用DC電 位之脫礦物質裝置。 【發明内容】 本發明針對處理系統。處理系統包括電化裝置，有第一 室和第二室，與第一室進口和第一泵流體相連之第一液體通 路，把第二室出口流體相連至第二室進口和第二泵之第二流 200523216 ^通路，以及把第二室進π和第二果流||相連之第三流體通 ^照_或以上具細，本發明提供處理系統。處理系統 ο括，化裝置，有包括第一室出口和第一室進口的第一室， 包括第二室出口和第二室進口的第二室，與第—室出口 二室^流體相連之第-系’與第二室出口和第二室進口流 ，相連之第二果，以及與第-和第二室出口至少其一流 連之循環線。電化裝置流體係典型上連接至進入點。 按照一或以上具體例，本發明提供一種水的處理方法， I括建立第一液體通路，内有待處理液從貯槽經第一泵 ii立第二液體通路，内有增濃液從 ^裝置的第一至出口經第一泵流至第二室進口；以及建立 第一液體通路，内有待處理液體從貯槽經第二栗流至第二 進口。 按照一或以上具體例，本發明提供一種水的處理方法， ，括令待處理水至少一部份經第一泵通過電化裝置的消耗 =，生成處理水，令增濃液流經第二泵通過電化裝置的增濃 室，並使增濃液流經第一泵循環通過增濃室。 9 按照一或以上具體例，本發明提供一種水處理方法，包 括7待處理水通過電化裝置，生成處理水，把至少一部份處 理水儲存於水槽内，以及用處理水沖洗電化裝置的增濃室。 按照一或以上具體例，本發明提供方便水淨化之方法， 包括提供電化裝置，有第一室和第二室；提供與水槽第一室 出口和第一室進口至少其一流體相連之第一泵；提供與水 槽、第二室出口和第二室進口流體相連之第二泵；並提供與 第一和第二室出口至少其一流體相連之循環線。 /、 按照一或以上具體例，本發明提供處理系統，包括電化 裝置，有第一室和第二室，待處理液體從水槽流經第一室並 使增濃液循環通過第二室用之機構，以及待處理液體從水槽 200523216 流經第二室並使增濃液循環通過第一室用之機構。 本發明其他優點、新特點和目的，參考簡略而不求照比 例尺繪製之附圖詳細說明，即可明白。諸圖中一致或實g上 相似，件，以單一號碼或符號標示，為簡明起見，並非每一 圖中每一組件均標示，也不是本發明各具體例均繪出，並無 必要如此才能使普通技術人員瞭解。 … 【實施方式】 本發明較佳之非限制具體例，參照附圖說明如下。 本發明針對淨化或處理系統，以及提供處理水於工業、 商業和住家應用之方法。處理系統藉從都市用水、井水、、濁 水等水源及其他水源的水中，除去所含任何不良物類，諸如 造成硬度之物類至少一部份，而提供處理水，或若干情況下 為軟水，至使用點。處理系統可操作以減少在生成處理水時 ，型上會發生輕易形成的任何污垢或污染。處理系統内，包 $其組件，諸如任何泵、閥和管線，可因從高度傾向於形成 =垢的流動流體，逆轉或改為低度或無傾向生成污垢的液 體二諸如，Langdier飽和指數之水，而抑制在處理系統内形 成污垢或污染。LSI可按照例如asTMD3729計算。 處^系統典型上從水源或進入點接水，把含不良物類之 7加以淨化。處理系統亦提供或輸送處理水至使用點，典型 士通過水分佈純。處理祕典型上具有在線上之貯槽系 列Ϊ與電脫離化裝置等電化裝置相通。處理系統在若干 I: /1中' 又包括感測器，以測量水之至少—項性能，或系 :丨-桑作在本發明其他具體例中，處理系統亦包含控 Si叙以：㈣調整處理系統或處理系統組件之至少-項操 ^ 但不限於纽之作_、施能泵和其他組件。 發明水處㈣統—具體例之簡略流程圖。水 離子化裝置12，與賴祕14流體相 者/、孓上一水源或進入點16流體相連。水處理系統 200523216 10典型上含有使用點18，典型上與貯槽系統14流體相連。 在/本發明具體例内，水處理系統1〇含有泵2〇a和2〇b，可用 來從貯槽系統14泵送液體，在若干具體例内，使液體從電脫 離子化裝置12的出口經循環線32到進口。在本發明某具體 例/中’處理系統1〇含有閥22a，22b，22c，22d，可用來引導流動 來往於電脫離子化裝置12，並來往於貯槽系統14，以及通過 栗20a，20b和預處理過濾器24a和24b。為求簡明，並非全部 均描出，例如控制水流至排放口 3〇流量的閥即未圖示。在^ 發明另一具體例中，處理系統1〇可包含控制系統，典型上含 产气器26以及感測器28。感測器28典型上測量處理系統 ^的操作參數，或其内任何流動流體之性質。典型上，感 器28把所測量參數輸送或傳輸至控制系統％。 〜“ 在本發明另一具體例中，控制系統26可作動任何間， 引導液體在水淨化中的流動。在若干情況下，控制系统閥％可 栗的馬達。因此，控制系統26可監視和控 ，脫離子化模組或裝置12典型上包含離子消耗室 耗）室和離子增濃（增濃）室。鄰室典型上 離子選擇膜。增濃室和雜室的組合稱為堆具 ，型亡，:端輪室和另一端的另一電極室為㈡ 上，末端段係位在鄰近端板，把陽極和陰極容納在 内。增濃室和消耗室典型上以隔體或結構界定， 離子選擇膜或選擇性透膜。隔體連同其上結合之選擇膜只 定凹腔用做增濃室或消耗室，視下述操作狀況^擇膜’界 增漢室和消耗室可裝陽離子交換樹脂、陰離 ，一者混合物。陽離子和陰離子交換翻旨可配置成混义物曰 ，士消耗室、增濃室和電極室之任-内成層，可以各^晋 、、且a成許多層。在本發明範_，可於消耗室=和| 200523216 極室之任一内使用混合床離子交換樹脂，在陰離子和陽離子 交換樹脂床的層間使用惰性樹脂，以及使用種種陰離子和陽 離子交換樹脂’諸如DiMascio等人在美國專利5,858,191號 内所述，其全文於此列入參考。 操作時’待處理液體典型上來自於進入點16進入處理系 統10内之上游水源，具有溶解陽離子和陰離子物類，包含硬 離子物類，可引進入貯槽系統14内。待處理液體即可在電脫 離子化裝置12内按下述處理或脫礦物質。生成的處理液體即 可傳送並儲存於貯槽系統14内。貯槽系統14内之處理液， 或至少其一部份，在一具體例内通過相連水分佈系統（圖上 未示）傳送至使用點18。 待處理液體典型上進入電脫離子化裝置或堆12,宜進入 電脫離子化裝置12的消耗室内，可藉經電極跨越堆施以電 場。所施電場典型上產生電位，把陽離子和陰離子物類吸至 其個別電極。如此，陽離子和陰離子物類傾向於朝其個別吸 引電極移動，從消耗室至鄰室，在若干具體例中，係增濃 室。室間的選擇性透膜，做為障壁，以防離子物類進一步移 動進入下一室。因此，來自流入消耗室内的液體之離子物 類，可捕集於相鄰或附近的增濃室，因而產生離開前一室之 處理液，和離開後一室之濃液流。代表性之適當離子選擇性 膜，包含例如使用具有磺酸或季銨官能團的苯乙烯二乙烯基 苯承載之織物，在聚偏二氟乙烯黏合劑内使用苯乙烯二乙烯 基本承載之織物’以及接枝在聚乙稀片材上未承載之績化苯 乙烯和四級化乙烯苄基胺。 在本發明若干具體例内，所施電場可產生極化現象，典 型上引起水解離，尤指使用水為待處理液體，解離成羥和氫 離子。羥和氫離子可將消耗室和增濃室内之離子交換樹脂再 生，故在實質上離子中性狀況下，可發生除去溶解離子物 類，並可連續進行，不需另行步驟進行所消耗離子交換樹脂 200523216 之再生。 電場典型上為經電極脫離子化裝置12所施直流電。然 而，會在一電極和另一電極間產生偏流或電位差之任何所施 電流，可用來促進離子物類之移動。所以，可用交流電，惟 3極間的電位差要足以把陽離子和_子_至其個別相吸 電極。例如，在本發明一具體例中，交流電可藉二極體或電 橋式整流器加以整流，把交流電變換成脈衝電流， 電位以吸引帶電荷離子物類。 電活性媒體典型上為陽離子和陰離子交換樹脂，典型上 ，2耗室’和若干情況下的增濃室，在其表面區i有各 種吕此團，包含但不限於三級烷氨基和二甲基乙醇胺。此 i種官能基（諸如但不限於季絲）的其他離 ΐίίϊΐ曰i凡精於μ之士 ’使用不過例行實驗，即 —發生”他l飾和等效物^例如，在雜室、增濃室和電極 至之任-，使雜子交換_叠層床，均可用於本發明。 槽系統14可用來齡或累積來自進人點16的液體， 亦可用於鱗來自電雌子錄置12讀職。貯 :對使用點18提供處理水或至少部份處理水 且體例 口和包括容器’諸如加壓容器，具=流^ 和=口。此處「加壓」指壓力差大於約2㈣的任何單 器。* A，加壓容器係例如通過其壁之差壓大於約2 psi之容 槽，紐概容器或貯 容ϋ可右具有右干進位於各容器之各種位置。各 18°的需要4=^:，可位於各種位置，特別視至使用點 及Λ Λ ΐ量、電脫離子化裝£ 12之容量或效率，以 可呈右^ 1所需功或避免不良結果。例如貯槽系統12 有減’其内部組件（諸如阻板）位置，可使任何内部 11 200523216 流瑞減到最，j、。在若干情況下，貯槽系統14 咅丰，白人An个俯。——一 .

總容積、貯槽系統之操作溫度和壓力。 貝f槽系統14可具有輔助或外 設計來釋出不良内壓，並避

:總=(圖上未示)，收集離室之液體^ ^ 疋消耗室或增濃室。循環線32亦可經泵2肋和閥 22a，22b接至電脫離子化裝置12之進口，如第丨圖所示。 電脫離子化裝置12亦可包括一或以上之電脫離子化階 & ’如G_等人在美國專利第5,316,637號所述，其全文於 ，列入參考。在各階段内，消耗室和增濃室堆係位於第一和 第二電極之間。按照本發明一具體例，電脫離子化裝置12的 各，段包含複數室，各室在其任一端係利用外膜界定。至少 一室之膜與鄰室膜共延伸接觸，而按照具體例，堆内所有室 可配置成與鄰室膜鄰接，彼此共延伸接觸。此種配置載於 Gallagher的美國專利5 736 〇23號，其全文於此列入參考。 1含有循環線，與 。例如，循環線可 如第1圖具體例所示，電脫離子化裝置12典型化包含第 一室34和鄰室36,第一室和第二室利用位於其間的離子選 擇膜38分開。按照本發明具體例，第一室34可做為消耗 室二而第二室36可做為增濃室。顯然，電脫離子化裝置12 以單一消耗室和單一增濃室簡單表示；圖示只供說明而已。 因此，按照本發明一較佳具體例，界定階段之複數消耗室和 單一增濃室，可配置於電脫離子化裝置的電極之間。 第一室34可包含第一通口 40和第二通口 42。同理，第 二室36可包含第一通口 44和第二通口 46。按照本發明一具 體例，第一通口 40和第二通口 42可位於第一室34的兩端二 12 200523216 而第一通口 44和第二通口 46可位於第二室36之兩端。第一 通口 40和44可做為各室之液體進口，相對應地，第二通口 42和46可做為各室之液體出口。 按照本發明另一具體例，電脫離子化裝置12包括複數第 一室和第二室。各第一室包括第一通口和第二通口。複數第 一通口可與第一通口總管48共同流體相通，複數第二通口可 與第二通口總管50共同流體相通。同理，各第二室包括第一 通口和第二通口。複數第二室第一通口可與第一通口總管52 共同流體相通，而複數第二室第二通口與第二通口總管54共 同流體相通。 ^ 第一室34和第二室36可接至液體線路網，具有由管 道、總管和閥界定之複數流體途徑或線路。如第1圖所示， 在本發明一具體例中，第一液體線路包括流體連接，從^槽 系統14經泵20a、過濾器24a、閥22a，22b，和總管48矛: 52，接至第一室34或第二室36。第一流體線路包括流 連接，從第一室34和第二室36，經總管50,54和閥22c 22d，接至貯槽系統14。在本發明另一具體例中，處理絲 1〇可包括第二液體線路，通過第一室34或第二室36和循产 線32。在某些情況下，第二流體線路可流體 = 至第-室34或第二室36，經過泵施、過濾器壬2_2 閥22a或22b。第二流體線路又包括經總管48和52 連接。此外，第二液體線路又包括經總管5〇或她 :驴 連接至任一閥22c或22d。 飞〜s 54机體 在界定閥和管線之特殊連接和配 於此所稱液體線路 置’容許液流流入。 本發明其他具體例可參照第2A_2D圖加 線代表液體可按照所述液體線路流動之途徑。 ，中粗 本發明各種具體例就水淨化加以說明。然而，=== 脫離子化技術可處理的任何液體之處理’採用J二 13 200523216 方法均有益。 第2A圖表示第一液體線路，其中淮 水、濁核預處理半純水，可經進例如為自來 理系統10。因此’在本發明一具體例中 ^進入處 -液體線路内流動’從貯槽系統14的出口 在第 22a、栗20a ’視需要經過濾、器24a續管52 : e j 入室36内。第-液體線路又包括接線至室36，經4: J 總管54、閥22d、管道64，並經進口 66至貯样^口 46至 作動閥22a和22d，使流經上述第一液體線路H1，4笛可 液體線路提供待處理賴，從貯齡統14至電_ 匕 12，並可傳送處理液體，儲存在貯槽系統14内。 置 本發明提供處理祕1G内之第二㈣線路。按 -具體例’第二液體線路容許職在閉路内流動，通過^ 離子化裝置12之-室，如第2B圖之簡圖所示，第 路可包括接線來往於循環線32，並來往於室34，經 $線 泵20b ’視需要經過濾器24b，進入總管48，可經通口 、隹 入室34内。第二液體線路可使液體經通口似和她管5〇 = 室34，經循環線32和總管48回到室34。按照本^明一且= 例，流入第二液體線路的增濃流可包括離子物類，從^ 動、，經離子選擇膜38進入室34内。在若干情況下，流入 二液體線路的增濃流，可按預定時程排放或傳送至排放口 30，必要時例如打開排放閥（圖上未示），即可完成傳送至排 如第2C圖所示，本發明另一具體例提供第三液體 巧丄使貯槽系統Μ流體相連至電脫離子化裝置u之室34。 第三液體線路可包含連接來往於過濾器24b。典型上，第三 液體線路可包括連接，從貯槽系統14的出口 6〇至管道泣了 至閥22b至泵20b，至總管48，並至室34之通口 40。第三 流體線路可又包括連接，從通口 42至總管5〇，至閥22c，^ 200523216 苢道64，並至貯槽系統μ之進口 66。在黛 μ ^/34 ： f 水可傳送到貯槽系統14内。 生成的處理 電脫’本發明可提供第四㈣線路，提供從 ?脫離子化裝置12的增濃室出口連接―二 ^=圖之_所示’第四液體線路可連接室^之出口 46, ίϊί二從至循闕/二從而可連接至循環線32。第四液體線 52^!^ 連接闕瓜，絲2Ga，並經總管 血料味入Ϊ 4。此液體線路可含連接至排放σ 30，故 ，、1上^入第四液體線路之增濃流即可排放。 或至先：：::二’ 用處理水 奘署H π β 电脫離千化裝置12。沖洗電脫離子化 2^h 、a + ®吏用泵2〇a和20b把處理水傳送通過閥22a和 24咖，進入室34和36。此首先 序行，使室36經處理水沖洗之後，才用流出 ^ =的處理水沖洗室34。流體方向箭頭56表示處理水從貯 二’可利用闕22a引導至流經泵20a，到總管52，才進入 =6之通口 44。如此’處理水可用來取代或沖洗室％内累 ^任何液體。泵2Ga連續操作2Ga從貯槽14傳送處理液， 1Ϊ制處理沖洗社游之任何液體，㈣σ 46流出，並流入 54，終致利用閥22c再引導入再循環線32，閥22b可連 ^盾環一線32和栗2〇b ’從而可使處理液流經總* 48，經通口 進室34。使用任-栗20a和2〇b，或視需要協調使用二 f，以及適度導向的閥22a，22b，22c，22d，使處理水連續流 ，’讓實質上全部或大部份製錄線，尤其是處_統1〇的 ，濕部份，以來自貯槽14的處理水沖洗。在若干情況下，用 ，沖洗電脫離子化裝置12的處理水，具有低LSI或充分純至 與具有不良離子物類的任何液混合後，還可順應和符合使用 點18之要求。本發明又提供一種沖洗系統，把電脫離子化裝 15 200523216 置10的液體含量，改換為低LSI的液體，咸信可供抑制任何 污垢形成。液體可回到貯槽系統Η。於此所稱低LSI水指 LSI在約2以下，以約1以下為佳，而以約〇以下更好。在 若干具體例内，本發明提供處理液，諸如有低導電係數之 水。於此所稱低導電係數液體指導電係數在約300# S/cm以 下，以約220#8/〇11以下為佳，而以約200/zS/cm以下更 好。 在本發明另一具體例中，可提供第二沖洗線路，以更換 可能存在於處理系統1〇内有污垢傾向之任何液體。在第3b 圖簡示之具體例中，來自槽14之液體（可為處理水），並行 流經閥22a和22b，通過泵2〇a和20b，進入第二室34和36 内。處理水可流入總管48和52内，分別經40和44進室。 處理水連續流動，可以更換在室34和36内有形成污垢傾向 之任何液體。可操作泵20a和20b繼續沖洗，使處理水可從 通口 42和46流出，分別進入總管5〇和54，終致由閥22c 和22d引導回到貯槽14。在此項配置或技術中，諸如處理水 等沖洗液，可更換可能累積於處理系統1〇之任何液體。一如 較早所述具體例，沖洗配置或技術是以具有低LSI之液體， 或具有很少或無形成污垢傾向之液體，更換有形成污垢傾向 之任何液體。同理，沖洗液可回到貯槽系統14。 在本發明若干具體例中，貯槽系統14包括加壓容器，或 具有流體流動進口和出口之容器，諸如進口 58和出口ro6〇。 進口 58典型上與進入點16流體相連，而出口 6〇血型上盥水 分佈系統或賴點18顏減。貯槽纽14可有若^容 器，各容器從而具有若干進口，位於各種位置。同理，出口 ^可^於^容器的各種位置，尤其是視至使用點18的需要 置或流篁、電脫離子化裝置12的容量或效率，以及貯 14的容量絲存量喊。貯髮統M可又包括各種=件或 几件，以進行所需功能或避免不良結果。例如，貯槽種系:2 200523216 ίί二ίΐ等内部組件位於阻斷貯槽系、统14容器内之内部 Ϊ，將、干具賴’貯⑽、統14可包括熱交換 ί的= °例如’貯槽系統14可包括有加熱線

Si :r動中以諸如爐加熱單元:心 、必’w译、、、桃體溫度。加熱流體從而可利用熱傳送提升容器 或附加組制其他例，包含但不限於釋壓 何容器之内壓，以及避免或至少減少容器 ϊ 發明又一具體例中，貯槽系統14包括熱脹 適於轉所需操作壓力。触_尺寸和容量，視因素 疋’包含但不限於水的總容積、貯齡狀操作溫度 力0 l上’貯槽系統14典型上連接進入點16下游，並諸 以，树路與電麟子化裝置等電絲置在線上流體相 連。例如，來自進入點16的水，流入進口 58，與貯槽系统 14内所含散裝水混合。散裝水經出σ 6〇離開貯槽系統14， 、’了引導至使用點18，或經泵2〇a* 2〇b進入電化裝置12， ，淨化或除去任何不良物類。離開電化裝置12的處理水，可 ”來自進入點16的水混合，並經進口 6〇進入貯槽系統14。 ^此’在貯槽系統14和電脫離子化裝置12間形成環路，而 ^進入點16的進料水，可補充因流至使用點18產生的需 水量。 電化裝置可包括處理裝置或系統，藉至少部份除去任何 不良物類，諸如造成硬度物類，以淨化或處理流體，諸如 水。此等電化裝置之例包含魏離子化裝置、電透析裝置和 ，容性脫離|化裝置。賴，本發明祕和技術可利用其他 处理裝置或系統。例如，本發明可彻逆滲透裝置，做為處 理裝置，而所述各種配置和技術可利用來把如此系統内存在 的任何硬度沉積物除去或減到最少。 17 200523216 進入點16從水源供水或接水至處理系統。水源可為飲用 水，，諸如都市用水源、井水，或為非飲用水源，諸如濁水 ，塩水源。在如此情況下，中間淨化或處理系統典型上在人 ，耗用的水，在到達進入點16之前加以淨化。水典型上含有 溶解塩，離子性或可離子化物，包含鈉、氯化物、氣、鈣離 子、鎂離子、碳酸塩、硫酸塩，或其他不溶性或半溶性物 類’或溶解氣體，諸如氧化石夕或二氧化碳。此外，水可含 添加物，諸如氟化物、氯酸塩或溴酸塩。 "在本發明另一具體例中，處理系統1〇包含水分佈系統， 接到使用點。水分佈祕包括可流體相連的組件，從 糸統14提供水，典型上為處理水，至使用點18。水處 管、間、Τ頭、栗、總管等任何配置，將^ 产供至一或若干使用點18，或至處理系統10之 —具體例中，水分佈系統包括㈣或住宅水# ^洗碗機。例如’系統1G可接至家錢冷或水 體例’處理祕1G亦包括感測器 蜀度、驗度、水導電係數、ΡΗ、溫度、壓力、組 内二泪?測器28可安裝或位於處理系統10 Γ8 在/槽祕14内，測量水之 控制器26 ^4^2^tf則器可建構、配置或連接至 置中，處。在如此配 r感包 為，,感測态，測量至使用點18之流 18 200523216 里，又包含濁度計、PH、組成份、溫度和壓力感測器之任 一，以監視處理系統1〇之操作狀況。 % 明另一具體例，處理系統10又包括預處理系統 I/、設ΐ是在水引進例如貯槽系統14或處理裝置，例如電 匕裝置之前，從水中除去任何不良物類之一部份。預處理系 統^例包含但不限於逆滲透裝置，典型上用來把濁水或塩水 ，塩。顯然必須用碳或焦炭過濾器，以除去任何氯或會污染 或干擾電化裝置操作的任何物類之至少一部份。 預，理系統24可位於處理系統1〇内之任何處。例如， 預處理系統24可位於職祕14上游，賊槽系統14下游 $電脫離子化裝置12上游，故至少有魏物類會保留在貯 槽系統/14内，但在液體進入電脫離子化裝置12之前除去。 ，處理系統,24包括過渡器或諸過濾器之配置。如第1圖所 示預處理糸統24包括過濾、器24a和24b，在室34和36上 游、。在ΐ他情況下，預處理系統24包括在貯槽系統14上游 之過;慮器，以及在泵20a，20b和室36,34間之過濾器24¾ 24b。過濾器24a和24b可為顆粒、碳、鐵過濾器，或其組 合0 … ，照本發明其他具體例，處理系統又包括預或後處理裝 置或系統，設置於其任何部份，可使積集在處理系統任何組 件之細菌等任何微生物去污或失活。例如，預處理系統可流 體相連至本發明分佈系統。在本發明其他具體例中，後處理 裝置可在流體送到使用點之前加以處理。可令微生物滅絕或 失活之此等裝置或纽，包含可提供統輻射或紫外線輻射 和/或臭氧者。此類裝置之其他例包含利用超濾或微濾除去 細菌。按照本發明其他具體例，處理系統又包含一或^上化 學物輪送系統，把處理系統之一或以上組件消毒。例如，化 學物處理系統可流體相連至處理系統之任何組件，以輸送將 任何細菌滅絕或使其失活的化學物。此等化學物之例包含但 19 200523216 肖毒化合物，諸如醇類。在本發明又 之任何_舰或纽。了讀餘處理錢任何組件 在本發明另-具體例中，處理系統1〇又包括控 柄盧處理祕系統10包含其組件之操作狀況。控 如財規劃性邏 可為PLC，送訊唬至電源（圖上未示），以供電至電^ 3至馬達控制中心，對果20Μσ 20b之馬達 =。在本發明一些具體例中，控制器26關路或閉路= 计調整處理系統10之操作狀況。例如，控制器26 = 路控：J式提供tfL號至處理系統，使水受到處理，不需測“ 之，控制器26可以閉路控制方式控^操作 ίϋ齡參數可視測得操作狀況_節。在本發明又- 控26又包括通訊系統，諸如遙控通訊裝置， 供傳輸或輸送測得操作狀況或操作參數至遙控站。 22a2t本ίΓ另—具體例，控制器26可提供訊號，作動閥 句i’使流财絲據各種參數紗5丨導，該參數 ίΤί進人點16的水質、至使用點18的水質、 或容量，或各=可^狀;^置^之操作效率 :視ίίϊίι,气自感測器28的訊號，故控制器26能夠 二餘14糸彳0的才呆作參數。例如，感測器28可為位在貯 二二-内之水導電係數感測器，使貯槽系統14内的水導 t ρΐϊ制器'26的監才見。控制器26級感測器28所 测付水貝，可控魏源，對魏離子化裝置12提供電場。操 200523216 作時’控制器26可增、減，弋μ 化裝置12之電壓和電流。麵輯電源供至例如電脫離子 在本發明又-具體例内，以至 動。如此次要控制計劃，可:=，：值以下時即作 現有控制環_。 4置於上__動的任何 份，體例’闕可做為麼力控制環路之一部 導電係數到達設定點時，閥‘用 =丨。農液流測得 放系統U)内之壓力現有控制環路内，以釋 =反，，以及任何比例式、衝發式、積合式，或最2 ΐ制严中’引導漠液流排放至排放口30的 體壓力因素而定，以提供控制訊號。 覽 ghda等人在美國專利4,956，G71號所述，其全文於此^入 系統成’或自_節’可使處理 -T A 4^"卩或效率最佳，或降低操作成本。例如，控 、、上括微處理機，具有使用者選擇設定點或自調設定 點、’以齡對電脫離子化裝置等電化裝置所施電壓和電流。 K電脫離子化裝置的增濃和>肖耗室的流量，或從電脫離子 21 200523216 3置或預處理祕或二者至排放σ 3G之排放流量。凡精於 士使用不酬行實驗，即可產生控制11的其他修飾和 ^效物，做為所揭示處理系統之一部份。例如，加設適 性、自調式或自診式技術，能夠基於各種輸入狀況，諸如 用水量或用水時間，即可警覺到操作參數改變，凡此均在 f明範圍和精神朗。控制ϋ 26可加設死帶控制，以減少輕 ^不穩定啟閉控制或顫動。死帶誠測器提供無必然觸發^ ，性控制訊號的訊號輸出範圍。在本發明若干具體例中，死 帶會固有在感測器内，亦可程式規劃為控制系統之一部份， 或二f兼具。死帶控制可藉平息測量遊逸，而避免不必要的 間斷操作。如此控制技術可延長操作壽命或處理系統1〇組件 ，障以前的平均賴。可狀其他技術包含使絲決 平順或時間平均測量，或其組合。 在本發明另一具體例内，典型上從廢液流至輔助用途之 7可用於或提供額外或次要益處。例如，廢液流不到排放 30，而用來提供灌親水，至任何住家、商業或工業用途， 諸如供灌，、再循環或回收所收集或濃縮之塩。 處理糸統可包括流體線路，對電化裝置之電極室提供處 理水或在若干情況下為軟水。流體線路可包括從處理水^至 電化，置的電極室之流體連接。流體線路亦可包括預處理單 位，諸如碳過濾器，可除去任何物類，諸如氣，以免干擾電 化裝置之操作。流體線路亦可包含流體連接至例如電脫離子 化裝置之消耗室和增濃室至少其一，例如在預處理單位下 =。在本發明一具體例中，流體線路連接提供離開電極室的 流體可例如混在一起，或與消耗室内待處理流體混合。流體 線路亦可包括泵和閥，可引導流體流動來往於電化裝置，以 及來往於貯槽系統。在若干情況下，流體線路配置提供流體 連接，產生並聯流程通過電脫離子化裝置之電極室。其他配 置和造型可視為在本發明範圍内，包含例如電極室前後串聯 22 200523216 和電脫離子化裝置透、離子交換 驻番括流體線路’提供從消健至電脫離子化 : >-電極室之流體連接。如此配置可對電極室 =並的水為佳。流體線路可配置成使流體流程ΐ ίίϋ體’可經由例如水分佈系統，輸送至使用點。在ί 發^右干配置+，流齡路可包括流體連接，使未處理 開任何電極室的流體混合，混合物可輸送至使用點體 在^發明另-具體射’流體線路又包括流體連接來往於貯 槽糸統，使例如離開消耗室的處理流體可傳送至貯槽系統， 並與來自進入點之未處理流體混合，混合物則輸送至使用 點，並視需要以並聯或串聯流程輸送至電脫離子化裝置之電 極室、。其他配置和組合包含例如處理水和未處理水混合，以 生成混合電極室沖洗流體，均視為在本發明範圍内。 本發明進一步以如下實施例加以說明，此為舉例性質， 無意限制本發明範圍。 、 實施例 就第4圖所簡略表示之線上加壓處理系統，加以組合和 評鑑。處理系統10包括電脫離子化模組12和加壓儲存容器 14。來自進入點16的水，經進口 58引進到加壓儲存容器 14 ’並使用泵20a和20b循環，通過預處理單位24a和24b， 以及電脫離子化裝置12。處理系統根據利用任一感測器28a， 28b，28c，28d測量所得水導電係數，利用程式規劃控制器（圖 上未示）加以控制。 電脫離子化裝置12包括1〇個電池成對成堆，其流程約 7.5吋長和約2.5吋寬。各電池充填約40% Amberlite ® SF 120樹脂和約60% Amberlite ® IRA 458樹脂，二者均為美國 23 200523216 賓州費城的羅門哈斯公司產品。電脫離子化裝置有擴張鈦電 極，塗以氧化釕。 控制器為Micrologix™ 1000程式規劃性控制器，美國威 斯康辛州密瓦基市的Allen-Bradley Company，Inc·有售。電脫 離子化裝置設定成利用流動切換訊號，或是當離開加壓容器 的出口流之水導電係數高出設定點時，加以啟動。電脫離子 化裝置操作到導電係數到達設定點為止。來自電脫離子化裝 置的進料，從加壓容器經由第二進料泵循環。施於電脫離子 化裝置所施電場之極性，約每15分鐘逆轉。除控制電脫離子 化裝置12組件外，PLC收集、儲存和傳送來自感測器28a， 28b，28c，28d所測量資料。 ，流部份循環，而雜藉作糊22e，22d，22e排雜放口 3〇。 :自進入·點16的補充水，加料至循環流，以補充排至排放口

泵20b循環通過預處理單位24b， 。收集所除去離子物類之流體，利用 4立24b ’並藉作動閥22d和22b通 胃容器14為10吋直徑的玻纖容器，容量約3〇加侖。 加壓谷器14裝有閥頭和中心總管。離開電脫離子化裝置之增 過電脫離子化裝署夕极、、會0 4

24 200523216 由流量指示器28c測得從加壓容器14的出口 60至使用 點18的處理水流量’是利用調節閥22f和22g加以調整。為 排放濃液或廢流，必要時可操作閥22e。來自進入點16的& 用來恢復和代替排至排放口 30或在使用點18耗用的流體。 處理系統操作直到約220#S/cm的目標設定點到達為 止，並穩定約1分鐘。對電脫離子化裝置所施電壓約46伏 特。至消耗室和增濃室的流量維持在每分鐘約44公升。排 除流量控制在約每30秒排放約270毫升。容器内壓力約15 psig 至約 20 psig。

〜弟5圖表示處理系統内各種水流，以運轉時間為函數所 fit導電係數。表1和表2糊處理純各種水流分別在測 結束時測得性質。表i内呈現資料表示初期進料 抓’、在弟5圖内標以桶出導電係數，以導電係數約 電離子化裝置12，經處理生成初期稀釋流，在第5 上出導電係數，料電係數約312//S/Cm，無實質 οΛ ί 同理，在測試運轉結束時，導電係數約221"S/ 質處理生成約164/iS/Cm的較低導電係數水，無實 較低導it咸信循環效應所反映職運轉結束時，進料流

化，適簡略表示之系統，可將水處理或軟 表1 ·、測試運轉開始時的水流性質

25 200523216 表2 :測試運轉結束時的水流性質

^明已使做為液體加以說明，但不限於此 例 如，就處理水而言，咸信其他流體可在本發 =方卜用就本發明系統之組件或本發明方: 性；此，;水=量或操作水或水 為包括水之㈣。输。目此，流體可 立凡^於此道之士均知’上述所有參數和造型均為之 而Λ際參數和造料視使林發明纽和方法之特殊用 ，而定。凡精於此道之士使科過 能 有許多等效物 所ί i但不限於逆滲透和紫外線裝置。 及其等“圍内;發在請專利範圍 :針七述各單獨特點、系. 合，均ίίΞΐί:以要該特點、系統或方法彼此無不 26 200523216 【圖式簡單說明】 第1圖為按照本發明一或以上具體例處理系統之簡略流 程圖，表示貯槽與電化裝置連線； 第2A圖為按照本發明一或以上具體例處理系統之簡略 流程圖，表示在其内流動之第一液體線路； 第2B圖為按照本發明一或以上具體例處理系統之簡略 流程圖，表示在其内流動之第二液體線路； 第2C圖為按照本發明一或以上具體例處理系統之簡略 流程圖，表示在其内流動之第三液體線路； 第2D圖為按照本發明一或以上具體例處理系統之簡略 流程圖，表示在其内流動之第四液體線路； 第3A圖為按照本發明一或以上具體例處理系統之簡略 流程圖，表示在其内流動之沖洗液體流動； 第3B圖為按照本發明一或以上具體例處理系統之簡略 流程圖，表示在其内流動之沖洗液體流動； 第4圖為按照本發明另一具體例處理系統如實施例所述 之簡略流程圖； 第5圖為第4圖簡略表示處理系統測得導電係數之曲線 圖0 27 200523216 【主要元件符號說明】 10 處理系統 12 電脫離子化裝置 14 貯槽系統 16 進入點 18 使用點 20a?20b 泵 22a-22g 閥 24a?24b 預處理單位 26 控制器 28a〜d 感測器 30 排放口 32 循環路線 34 第一室 36 鄰室 38 離子選擇膜 40 第一室第一通口 42 第一室第二通口 44 第二室第一通口 46 第二室第二通口 48 第一室第一通口總管 50 第一室第二通口總管52 第二室第一通口總管 54 第二室第一通口總管56 流體方向箭頭 58,66 進口 60 出口 62,64 管道 28

Claims (1)

1. 200523216 、申請專利範圍： i一種處理系統，包括： 電化裝置，包括繁一它知蜜一當· Ϊ:液體線路，與第-室進:和第-泵流體相連； 第二泵體線路，把第二室出口流體相連至第二室進口和 第二液體線路，流體相連第二室進口和第二泵者。 體相4連1 點’流 統：第1項之處理系統’又包括水分佈系 …6^ΐΛ請專利範圍第1項之處理系統，又包括使用點，流 體相連至水槽者。 7_如申請專利範圍第！項之處理系統’又包括感測器，測 里處理系統之至少一操作參數者。 8·如中請專利範圍第丨項之處理系統，又包括第四液體線 路，把水槽流體相連至第一室進口，並把第一室出口流體相連 至第二室進口者。 9.如申請專利範圍第丨項之處理系統，又包括後處理系 統，流體相連於電化裝置下游，和使用點上游者。 10·—種處理系統，包括： 斤電化裝置，包括第一室，有第一室出口和第一室進口， 以及第二室’有第二室出口和第二錢口，電化裝置流體相連 至進入點； 第一泵，可流體相連至第一室出口和第一室進口； 29 200523216 ί’可流體相連至第二室出σ和第二室進口；以及 彳$衣各可流體相連至第一室或第二室出口至少盆一 ^ ° 八 圍ΐ1G項之處理系統，其中循環線可流 體相連至第一泵和第二泵至少其一者。 〒如申明專利範圍第10項之處理系、统，又包括第一閥， 把循環線流體相連至第一栗者。 13·如申清專利範圍第12項之處理系統，又包括第二閥， 把循環線流體相連至第二栗者。 14·如申請專利範圍第1〇項之處理系統，又包括第一閥， 把第一室出口流體相連至循環線者。 15·如申請專利範圍第14項之處理系統，又包括第二閥， 把第二室出口流體相連至循環線者。 16·如申請專利範圍第15項之處理系統，又包括控制器， 作動第一閥和第二閥至少其一者。 17. 如申請專利範圍第1〇項之處理系統，又包括感测器， 測量處理系統之至少一操作參數者。 18. 如申請專利範圍第1〇項之處理系統，又包括流體相連 至進入點之水槽，以及流體相連至水槽之水分佈系統者。 19·如申請專利範圍第1〇項之處理系統，又包括消毒劑 源，可流體相連至電化裝置、循環線、第一泵和第二泵至少其 一者0 、 20_—種液體處理方法，包括： 建立第一液體線路，其内有待處理液體從貯槽，經第一 果流至電化裝置之第一室進口； 建立第二液體線路，其内有增濃液體從電化裝置之第二 室出口，經第二泵流至第二室；以及 一 建立第三液體線路，内有待處理液體從貯槽，經第二 流至第二室進口者。 30 200523216 21·如申請專利範圍第20項之 線路，内有增濃液體從第一室出σ ’，又包括建立第四液體 者。 饵口，經第一泵流至第一室進口 22·如申請專利範圍第20項之大、、1 施以電場者。 、去，又包括跨越電化裝置 23·如申請專利範圍第22項之方、、土 ^ 體線路後，將所施電場之極性逆轉者’。，又匕括在建立第三液 24. 如申請專利範圍第20項之方法， 路’包括作動第，，引導待處理^ 第二液體線 25. 如申請專利範圍第24工員广第;7泵者。 引導增濃液流經第一泵者。 / ，又〇括作動第二閥， 26·如申請專利範圍第20項之 ^ ^ ^ PH ^ ^ 27.如申請專利範圍第20項H &、上 第一室和第二室者。 ^又包括以處理液沖洗 28·如申請專利範圍第2〇項之 第-泵和第二泵至少其—者。 & X包括以處理液沖洗 具有3負專概圍第29項之方法，其中來自貯槽的液體 第20項之方法，又包括把處理液至少 到使ίίίί專ΐ範圍* 31項之方法，又包括核理液輸送 使用點之刚，對使用液進行後處理者。 路利範圍第20項之方法，又包括把第一液體線 :路和第三液體線路之任-的任何組件至少-部 31 200523216 34.—種水處理方法，包括： 令^處理水至少-部份藉第一果通過電 室，生成處理水； 衣月耗 令增濃液流藉第二泵循環通過電化裝置之增濃室；以及 令增濃液流藉第一泵循環通過增濃室者。 少—===34項之方法，又包括令待處理水至 同時=第申=範圍第34項之方法，又包括沖洗第-室， 37·如申請專利範圍第34項之方法，又包括以 沖洗第一室和第二室，以及第一泵和第二泵者。 又序 38·如申請專利範圍第34項之方法，又包括 後，從貯槽通過第一室者。 通、弟一至 39_ —種水處理方法，包括： 令待處理水通過電化裝置，生成處理水； 把處理水至少一部份儲存於水槽内；以及 以處理水沖洗電化裝置之增濃室者。 LSli〇·。如巾請專利範圍第39項之方法，其中處理水具體負 者处如申請專利範圍第W項之方法，又包括沖洗消耗室 42·如申請專利範圍第41項之方法，其 沖洗增濃室之際進行者。 / ,耗至是在 —43=請專利範圍第39項之綠，其中沖洗第 一至，包括依序沖洗第一室和第二室者。 至年第 44.如申請專利範圍第39項之方法，其中沖 —室，包括用處理水以並聯流動沖洗第一室和第二〜至和第 —45·如申請專利範圍第39項之方法，其中沖^ 二室，包括用處理水以串聯流動沖洗第一室和第’二室者至和第 32 200523216 於光39奴杨，从齡細水暴露 微濾ίίίίίί麵第39項之枝’又缺令處理水通過 於雷請專利範圍第39項之方法，又包括令消毒劑暴露 於電化裝置和水槽至少其一者。 49·一種方便水淨化之方法，包括·· 長:供電化裝置，包括第一室和第二室； 提供第一泵，流體相連於水槽、第一室出口和第一室進 口至少其一； 口 5 j供第二果’流體相連於水槽、第二室出口和第二室進 主少其一；以及 者。提供循％線，與第一和第二室出口至少其一流體相連 50·—種處理系統，包括： 電化裝置，包括第一室和第二室； 二室用水槽趣第—室’並使增濃液循環通過第 -室用液從水槽流經®二室，並使增濃_環通過第 51·如申請專利範圍第50項之虚理糸矫，1Φ雪外各祕办 括電脫離子化裝置者。 貞之處理糸、洗，其中電化系統包