TW200400415A - Mask, substrate with light reflecting film, method for manufacturing light reflecting film, optical display device, and electronic apparatus - Google Patents

Description

200400415 Π) 玖、發明說明 【發明之所屬之技術領域】 本發明係有關光罩，附有光反射膜之基板，光反射膜 之製造方法，及光學顯示裝置，以及電子機器，而更爲詳 細係有關爲了製造干涉斑紋之產生少之光反射膜的光罩， 採用此而成之附有光反射膜之基板，光反射膜之製造方法 ’及具備干涉斑紋之產生少之光反射膜的光學裝置，以及 具備干涉斑紋之產生少之光反射膜的電子機器。 【先前技術】 如同周知地從謀求薄型化及省電化等之情況來看，作 爲針對各種電子機器之顯示裝置，液晶顯示裝置則被廣泛 使用著，而像這樣的液晶顯示裝置係將液晶封入於一對玻 璃基板等之間的狀態下，再根據封合材來貼合周圍之構成 爲一般的構成，並且，搭載像這樣的液晶顯示裝置之電子 機器係於從外部的衝擊上等來看應該保護液晶顯示裝置之 該液晶顯示裝置之觀察側，即，辨識顯示之觀察者側，採 用配置保護板之構成，而關於保護板係通常具有光透過性 之材料，例如，由透明壓克力等而成之板狀構件。 但，將與針對如此之保護板之液晶顯示裝置的對向面 作爲完全的平滑面之情況係爲困難，並存在細微凹凸之情 況很多，並且，將如此之保護板配置於液晶顯示裝置之情 況，因表面之細微凹凸的原因而有著顯示品質顯著降低的 問題。 -6 - (2) (2)200400415 如此，作爲顯示品質降低其中一個原因，可舉出針對 在液晶顯示裝置之觀察側的基版與保護板之間隔因應存在 於保護板表面之凹凸產生紛散，即，因應如此之間隔之紛 散，當從液晶顯示裝置的射出光透過保護版時，產生干擾 ，其結果將產生千涉斑紋，並且，根據產生之干涉斑紋與 顯示畫面重疊之情況，預測將會引起顯示品質之降低。 另外，對於日本特開平6-2748 1號公報係如圖27所示 揭示有反射型液晶顯示裝置400，並於日本特開平1 1-281972號公報係如圖28所示揭示有反射透過兩用型500， 並設置使各自干涉斑紋的產生降低之高度不同之複數凹凸 構造404a，404b(504a，504b)，再於其上方形成高分子樹 酯膜405 (5 05 )，又於其上方更加形成連續波狀之反射電極 409(509) 〇 另外，揭示有具有關於反射電極之液晶顯示裝置之製 造工程，例如：揭示在圖29，首先，如圖29(a)所示，於 玻璃基板600上全面形成光阻劑膜602，接著如圖29(b)所 示，藉由由直徑不同之複數的圓而成之圖案6 04來進行曝 光，之後如圖29(c)所示進行顯像，再設置有高度不同之 複數之角的凸部或凹部606a，6 06b，另又如圖29(d)所示 進行加熱來使凸部或凹部的角部軟化，然後形成去角之凸 部或凹部606a，606b，並且，如圖29(e)所示，塡充規定 量之高分子樹酯620於有關凹凸構造之間610來進行具有波 狀表面之連續重疊之後，再於高分子樹酯膜620之上方， 根據噴射法等堆積手段來形成連續之波狀的反射電極624 (3) (3)200400415 【發明內容】 [欲解決發明之課題] 但，在日本特開平6· 2 74 8 1號公報所揭示之反射型液 晶顯示裝置及反射透過兩用型之液晶顯示裝置係採用直徑 不同之複數的圓等配列成規則性或一部份不規則之光罩圖 案，並利用紫外線曝光及顯像來設置高度不同之複數凹凸 構造，但卻因有塗抹厚度不均等情況，爲有效防止光干擾 而嚴密地調整高度之情況係爲困難，另外，根據於高度不 同之複數凹凸構造上形成有反射電極來看，亦浮現出斷線 ，以及容易短路等之問題，另外，所揭示之光反射膜之製 造方法係亦浮現出工程數多，管理項目多之製造上的問題 〇 隨之’在日本特開平6-2748 1號公報所揭示之光反射 膜係不止有效的防止干涉斑紋之情況困難且在安定下並有 效率地製造有關之光反射膜之情況也是困難。 因此可考慮作成任意配列光透過部或光部透過部之光 罩圖案，並利用此來做成光反射膜，並再製造具備如此光 反射膜之反射型液晶顯示裝置及反射透過兩用型之液晶顯 示裝置之情況，但認爲會發生接下來之問題。 由於針對光透過部或光不透過部之任意配列的設計複 雜，光罩圖案的設計並不容易。 於針對光罩圖案之光透過部或光不透過部之理想的任 -8- (4) (4)200400415 意配列程度不明。 缺乏對於針對重複設計情況之光罩圖案的反射特性之 再現性，另一方面，近年來，液晶顯示裝置等之顯示尺寸 係往大畫面前進，具有30吋〜40吋之顯示範圍的量產製品 持續被開發，對於未來具有縱橫比16 : 9之寬畫面之60吋 壁掛式之顯示裝置也欲將被開發，而針對如此之大型顯示 設計之情況係漸漸要求干涉斑紋少之反射膜，另一方面關 於作成此時之光罩圖案的設計之容易度及迅速度亦有被要 求之狀況。 隨之，本發明之發明者們係銳意檢討以上問題之結果 ，根據隨機函數分配光透過部或光不透過部，再由採用任 意配列此於平面方向的光罩圖案之情況，將不只可容意設 計光罩圖案，對於採用在液晶顯示裝置之情況亦可發現可 容易得到干涉斑紋產生少之光反射膜之構成。 即，本發明的目的爲作爲設計容易，並對於採用在液 晶顯示裝置之情況，提供得到干涉斑紋之產生少之附有光 反射膜之基板的光罩，如此之附有光反射膜之基板，如此 之光反射膜之製造方法，及設置如此光反射膜之光學顯示 裝置，以及具有如此之光反射膜的電子機器之情況。 [爲解決課題之手段] 如根據本發明，爲爲了製造附有光反射膜之基板之光 罩，其特徵爲提供根據隨機函數分配光透過部或光不透過 部，再將光透過部或光不透過部任意配列在平面方向之情 -9- (5) (5)200400415 況的光罩，並可解決上述之問題。 即，由根據隨機函數分配光透過部或光不透過部之情 況，即使具有複雜的任意圖案之情況亦可容易且短時間內 進行設計，又，作爲所使用之隨機函數係在數學上使任意 數字機率產生之函數即可，如後述所述，例如使其因應 RGB點距來產生0〜1之任意數字，並以其數字爲基礎可使 規定之光罩圖案作爲因應之情況即可。 另外，如根據本發明之光罩，光透過部或光不透過部 則根據隨機函數決定位置之後，從任意配列於平面方向之 情況，對於製造附有光反射膜之基板的情況，將發揮再現 性良好優越之光散亂效果，並可有效防止干涉斑紋之產生 〇 又，控制光透過部或光不透過部之平面形狀之理由係 對於構成附光反射膜基板之感光性樹酯，根據有被透過光 透過部的光所照射之地方進行光分解，然後對顯像劑可溶 化之正像型與，被透過光透過部的光所照射之地方進行感 光，然後對顯像劑不溶化之負片型之情況。 另外，對於構成本發明之光罩時，根據隨機函數，使 〇〜1之任意數字產生，並將其數字作爲基礎對於全點距分 配1〜η (η係2〜1 00 0之任意自然數）之數字之同時，根據使預 先作成放置之η種類之任意圖案因應於所分配之數字之情 況，將光透過部或光不透過部任意配列於平面方向之情況 係爲理想。 根據從如此簡易之隨機函數來進行分配之情況，將可 -10- (6) (6)200400415 容易且短時間設計具有理想反射特性之光罩，另外，雖然 必須事先作成η種類之任意圖案，但與不使用隨機函數之 情況來做比較，從由各自小面積之任意圖案之設計即可完 成來看設計上可容易且在短時間完成，又，根據適宜地變 更η種類之任意圖案之情況將可容易且在短時間搜索具有 理想反射特性之任意圖案。 另外，對於構成本發明之光罩時，RGB 點距 100〜2 0 00或畫面全體，即，將採用光趙來形成之附有反射 膜基板全體作爲一單位，來將光透過部或光不透過部任意 配列在平面方向之情況則爲理想。 將光透過部或光不透過部任意配列在平面方向之情況 ，將所得到的光反射膜使用在液晶顯示裝置等時，雖發現 有不定型之沾染模樣之情況’但如爲將如此之畫素數作爲 一單位之任意圖案，將可有效地使如此之不定型之沾染模 樣之發現降低。 另外’對於構成本發明之光罩時，將光透過部或光不 透過部形成帶狀任意圖案於橫一列方向或縱一列方向，並 針對在複數列重複該帶狀任意圖案之情況則爲理想。 根據如此之構成，可由少許之資訊量來作爲全體可容 易且短時間地設計具有理想反射特性之任意圖案，另外， 因於橫方向或縱方向重複進行規定單位之任意圖案，故可 作爲全體得到再現性良好之具有理想反射特性之任意圖案 〇 另外’對於構成本發明之光罩時，將光透過部或光不 -11 - (7) (7)200400415 透過部之口徑作爲3〜1 5之範圍內的値之情況則爲理想。 根據如此之構成，將可有效地製造干涉斑紋之產生少 之光反射膜，即，製造光反射膜時，如具有如此之口徑爲 凸部或凹部’可將其平面形狀及配置圖案採用曝光處理來 正確地控制’隨之，針對所得到的光反射膜因可使光安定 地散亂，故可有效地防止干涉斑紋的產生。 另外，對於構成本發明之光罩時，將光透過部或光不 透過部之口徑作爲不同，設置2〜10種光透過部或光不透過 部之情況則爲理想。 根據如此之構成，更可有效地製造干涉斑紋之產生少 之光反射膜，即，製造光反射膜時，根據存在有口徑不同 之複數凸部或凹部之情況而更分散複數之凸部或凹部之配 列，隨之，針對在所得到之光反射膜因可使光作適當的散 亂，故可更有效地防止干涉斑紋之產生。 又，如此使光透過部或光不透過部之口徑作爲不同之 情況，至少將一個口徑作爲5 以上的値之情況則爲理想 ，而相反地，如都爲達5 的圓或多角形時，在製造光反 射膜時，過度使光散亂之情況將會變多，而會造成根據光 反射膜之反射光量顯著下降之情況。 另外，本發明之其他樣式係爲包含基材與反射層之附 有光反射膜之基板，其特徵爲根據隨機函數來分配形成在 該基材表面之複數凸部或凹部之位置，並將該複數凸部或 凹部任意配列於平面方向之附有光反射膜之基板。 如此根據任意進行複數凸部或凹部之平面方向的配置 -12- (8) (8)200400415 情況，將可有效地防止使用在液晶顯示裝置情況之干涉斑 紋之產生。 另外，複數凸部或凹部則從根據隨機函數來配置之情 況來看，將凸部或凹部之平面形狀及配置圖案，根據曝光 處理將可正確地控制。 另外，對於構成本發明之光反射膜時，將RGB點距 (1畫素）1〇〇〜2 000或畫面全體作爲一單位來將複數凸部或 凹部任意配列於平面方向之情況則爲理想。 當將具有任意圖案之光反射膜使用在液晶顯示裝置等 時，雖發現有不定型之沾染模樣之情況，但如爲將如此之 複數RGB點距作爲一單位之任意圖案之光反射膜，將可 有效地使有關之不定型之沾染模樣之發現降低。 另外，對於構成本發明之光反射膜時，將複數凸部或 凹部任意配列於橫一列方向或縱一列方向，並將此進行重 複複數列之情況則爲理想。 根據如此之構成，可由少許之資訊量來作爲全體得到 具有理想反射特性之附有光反射膜之基板，另外，因於橫 方向或縱方向重複進行規定單位之任意圖案，故可作爲全 體得到再現性良好之具有理想反射特性之任意圖案。 另外，對於構成本發明之光反射膜時，將光透過部或 光不透過部之口徑作爲3〜1 5 之範圍內的値之情況則爲理 想。 根據如此之構成，採用凸部或凹部之平面形狀及配置 圖案將可正確地控制之同時，因可適度地使光散亂，故可 -13- (9) (9)200400415 有效地防止干涉斑紋之產生。 另外，對於構成本發明之光反射膜時，將複數凸部或 凹部之口徑作爲不同，設置2〜1 0種凸部或凹部之情況則爲 理想。 根據如此之構成，對於採用在液晶顯示裝置之情況， 更分散複數凸部或凹部之配置而可使光作適當地散亂，故 更可有效地防止干涉斑紋之產生。 另外，對於構成本發明之光反射膜時，基材則從下方 依序包含地1基材及地2基材，並於該第1基材設置有複數 凸部或凹部，另於爲連續層之第2基材設置反射層之情況 則爲理想。 根據如此之構成，因可藉由爲連續層之第2基材來將 反射層作爲平坦部少，比較來說圓滑之曲面之情況，故對 於採用在液晶顯示裝置之情況，更可有效地防止干涉斑紋 之產生。 另外，本發明之其他型態係爲包含基材及反射層之光 反射膜之製造方法，其特徵爲根據隨機函數分配光透過部 或光不透過部的位置，並使用任意配列該光透過部或光不 透過部於平面方向之光罩，然後對於所塗抹之感光性樹酯 ，根據曝光處理來形成任意配列於平面方向，且具有複數 凸部或凹部之第1基材之工程與，對於該第1基材表面塗抹 感光性樹酯’再根據曝光處理來形成具有連續之複數凸部 或凹部之第2基材之工程與，對於該第2基材表面形成反射 層之工程之光反射膜之製造方法。 -14- (10) (10)200400415 當如此實施時，藉由由複數凸部或凹部而成之第1基 材，及其上方之連續層的第2基材，可將反射層作爲比較 來說圓滑之曲面，因此，將容易製造，且對於採用在液晶 顯示裝置之情況，將可有效提供干涉斑紋之產生少之光反 射膜。 另外，本發明之另外其他型態係爲具備夾合在基板間 的光學元件，設置在與該光學元件觀察側相反側之基板的 光反射膜之光學顯示裝置，其特徵爲該光反射膜由基材及 · 反射層而成，並根據隨機函數分配複數凸部或凹部之位置 ，再任意配列該複數凸部或凹部於平面方向之光學顯示裝 置。 根據如此之構成，光反射膜則適度地使光散亂產生， 並針對在光學顯示裝置將可有效地防止干涉斑紋之產生， 另外，如爲具備如此之光反射膜之光學顯示裝置，比較來 說表面爲平坦，即使更組合光散亂膜或保護板之情況亦可 淸楚辨識。 φ 當如此構成本發明之光學顯示裝置時，於光學元件之 觀察側之基板設置光散亂膜之情況則爲理想。 將針對在光反射膜之複數凸部或凹部任意配列於平面 方向之情況，有視覺上不定型之沾染模樣之情況，但根據 如此與光散亂膜組合使用光反射膜之情況，將可有效的控 制有關之不定型沾染模樣之視覺。 當如此構成本發明之光學顯示裝置時，於光學顯示裝 置之觀察側設置保護板之情況則爲理想。 - 15- (11) (11)I 200400415 根據如此之構成，將可提升光學顯示裝置之機械性強 渡的同時亦可淸楚辨識光學顯示裝置。 另外，本發明之又另外其他型態係爲包含具備光反射 膜之光學顯示裝置的電子機器，其特徵爲光反射膜包含基 材及反射層，並根據隨機函數分配形成於該基材之複數凸 部或凹部之位置，再任意配列該複數凸部或凹部於平面方 向之電子機器。 根據如此之構成，光反射膜則適度地使光散亂產生， 並針對在電子機器將可有效地防止干涉斑紋之產生，另外 ’如爲具備如此之光反射膜之電子機器，比較來說表面爲 平坦’即使更組合光散亂膜或保護板之情況亦可清楚辨識 [實施方式】； 以下，參照圖面，關於本實施型態來進行說明，又， 當然以下所示之實施型態係表示本發明之一型態之構成並 不限定本發明之任何構成，可在本發明之技術思考上之範 圍內作任意之變更。 [第1實施型態] 第1實施型態係爲例如爲製造如圖2所示之光反射膜的 光罩20’其特徵爲根據隨機函數分配光透過部或光不透過 部22之位置，，再將光透過部或光不透過部22任意配列在 平面方向之情況的光罩。 -16 - (12) (12)200400415 1.光透過部或光不透過部 (1) 形狀 將光罩的光透過部或光不透過部作爲如圖丨（a)所示之 獨立的圓（包含橢圓，以下爲相同）及多角形，或者任何一 方之平形狀或，如圖1(b)所示之重疊圓（包含橢圓，以下 爲相同）及重合之多角形，或者任何一方之平形狀之情況 則爲理想。 此理由係根據將光透過部或光不透過部之平面形狀作 爲如此圓或多角形之情況，在爲了製造光反射膜施以曝光 處理時可將樹酯之凹凸配置作爲複雜化，另外，如此圓或 多角形係作爲理想之多角形，可舉出四角形，五角形，六 角形，八角形。 (2) 口徑及間隔 另外，將針對在光罩之光透過部或光不透過部之口徑 作爲3〜1 5 範圍內的値則爲理想。 此理由係當光透過部或光不透過部之口徑未達3 時 ’在製造光反射膜時即使採用曝光處理，有著正確地控制 凸部或凹部之平面形狀及配置圖案之困難情況，另外，當 光透過部或光不透過部之口徑未達3 時，在製造光罩本 身亦有困難的狀況。 另一方面，當光透過部或光不透過部之口徑超過15 時’針對在所得到之光反射膜，使光適度地散亂之情況將 (13) (13)200400415 變爲困難，散亂特性將會降低而成爲暗反射之狀況。 隨之，將光罩之光透過部或光不透過部之口徑作爲 3-15 範圍內的値則爲理想，而作爲6〜1 2 範圍內的値則 更爲理想。 另外，將針對在光罩之光透過部或光不透過部之至少 一個的口徑作爲3〜1 5 範圍內的値則爲理想，即，對於有 不同口徑之光透過部或光不透過部之情況，將針對至少一 個之光透過部或光不透過部的口徑作爲5 以上的値，而 對於口徑不同之其他光透過部或光不透過部係即使其口徑 未達5 的値也可以。 此理由係當有關之光透過部或光不透過部之平面形狀 都未達5 之圓或多角形時，針對所得到之光反射膜，將 造成使光過度散亂的情況而成爲暗反射之情況，但，當光 透過部或光不透過部之口徑過大時，將會增加鏡面反射率 的另一方面亦成爲暗反射之情況。 另外，使將針對在光罩之光透過部或光不透過部獨立 而存在之情況，將其間隔作爲3 . 5〜3 0 範圍內的値之情況 則爲理想。 此理由係當有關之光透過部或光不透過部之間隔未達 3.5 的値時，光透過部或光不透過部的獨立性將會降低 ，另一方面，當有關之光透過部或光不透過部之間隔超過 3 0 的値時，光透過部或光不透過部的配置牲將會降低、 隨之，將針對在光罩之光透過部或光不透過部之間隔 作爲5〜20 範圍內的値之情況則爲理想，而將針對光罩之 -18- (14) (14)200400415 光透過部或光不透過部之間隔作爲7〜1 5 範圍內的値之情 況則更爲理想。 又，有關之光透過部或光不透過部之間隔係爲從鄰接 之光透過部或光不透過部之中心至中心的距離，爲1 0個以 上之平均値。 另外，使針對在光罩之光透過部或光不透過部重合之 情況係設定爲比上述數値還低 數値。 (3)種類 另外，使針對在光罩之光透過部或光不透過部之□徑 作爲不同，並設定2〜1 0種類光透過部或光不透過部之情況 則爲理想，例如，如圖7所示，將具有不同口徑之光透過 部或光不透過部設置在一個任意圖案內的構成。 此理由係如此根據存在有不同口徑之光透過部或光不 透過部之情況，更可有效地製造干涉斑紋之產生少之# S 射膜，即，在採用如此光罩來製造光反射膜時，所得到之 凸部或凹部之配列更爲分散，而可使光作適當的散亂，隨 之’對於使用如此光反射膜於液晶顯示裝置之情況，H «gj 有效防止干涉斑紋之產生。 又，作爲由針對在光罩之口徑不同之光透過部^%；^ 透過部而成之圖案的組合，可舉出下列的例子 1) 7.5 之六角形圖案與，9 之六角形圖案之組合 2) 5 之六角形圖案與，7.5 之六角形圖案與，9 t六角形圖案之組合 -19- (15) (15)200400415 3)4·5 之正方形圖案與，5 之正方形圖案與，7.5 之六角形圖案與，9 之六角形圖案與11 之六角形圖 案之組合之情況則爲理想。 (4)面積比率 另外’將光罩的光透過部或光不透過部之面積比率對 於全體面積作爲10〜60 %範圍的値之情況則爲理想。 此理由係當有關之面積比率爲達1 0%的値時，在製造 光反射膜時，有著複數凸部或凹部之佔有面積則將變小， 平坦部則增加，光散亂效果則明顯降低之情況，另一方面 ’即使有關之面積比率超過60%也會有，平坦部則增加， 光散亂效果則明顯降低之情況。 隨之，將光罩的光透過部或光不透過部之面積比率對 於全體面積作爲1 5〜5 0%範圍的値之情況則最爲理想，而 作爲20〜4 0 %範圍的値之情況則更爲理想。 又，作爲構成基材的感光性樹酯，對於使用正像型之 情況係從透過光透過部的光所照射的地方進行光分解，然 後對顯像劑進行溶化之情況，光罩之光不透過部之面積比 率將成爲問題，而對於使用負片型之情況係從透過光透過 部的光所照射的地方則硬化，然後對顯像劑不溶化之情況 ，光罩之光不透過部之面積比率將成爲問題。 2.任意配列 (1)任意配列1 -20- (16) (16)200400415 在第1實施型態之特徵中係例如如圖1 (a)及（b)所示’ 根據任意函數之分配將針對在光罩之光透過部或光不透過 部任意配列在平面方向之情況。 即，根據使用由如此任意函數的分配完全不是任意之 光罩之情況，將可得到接下來之優點。 任意配列之設計上某種程度爲自動的’故光罩圖案的 設計則容易且短時間完成。 針對在光罩圖案之理想任意配列程度之檢索則爲容易 〇 因任意配列之設計並不是隨意的，故對於針對在重複 設計之情況的光罩圖案之反射特性之再現性優越。 又，任意配列，直接來說係指無秩序地配列光透過部 或光不透過部的意思，但更正確的來說係指在每個單位面 積切分光罩，對於重疊這些光罩之情況，即使各個圖案完 全不同或有部份重疊的地方都不會完全一致之狀態的意思 (2)任意配列2 另外，對於構成本發明之光罩時’根據隨機函數，使 〇〜1之任意數字產生，並將其數字作爲基礎對於全點距分 配1〜η (η係2〜1 0 00之任意自然數）之數字之同時，根據使預 先作成放置之η種類之任意圖案因應於所分配之數字之情 況，將光透過部或光不透過部任意配列於平面方向之情況 係爲理想。 -21 - (17) (17)200400415 根據如此設計，使0〜1之任意數字產生並採用簡易之 函數而不是隨意的，將可容易且短時間設計具有理想反射 特性之光罩圖案。 另外，根據從如此設計之情況’雖然必須事先作成n 種類之任意圖案’但與不使用隨機函數之情況來做比較’ 因由各自小面積之任意圖案之設計即可完成，故光罩圖案 設計本身可容易且在短時間完成，例如即使爲1 7吋LCD 面板用之光罩，根據適當變更1 2種類程度之任意圖案之情 況亦可作成具有理想反射特性之任意圖案。 (3)任意配列3 根據隨機函數來分配針對在光罩之光透過部或光不透 過部時，針對使用所形成之光反射膜的液晶顯示裝置等之 畫素電極，即，將RGB點距作爲基準任意配列於平面方 向之情況則爲理想。 即，將針對使用光反射膜之液晶顯示裝置等之RGB 點距1 0 0 0〜2 0 0 0作爲一單位，然後將此重複進行來任意配 列於平面方向之情況則爲理想。 例如如圖2〜圖4所示，將1畫素（RGB : 3點距），2畫素 (RGB : 6點距），或4畫素（RGB : 12點距）作爲一單位之情 況亦爲理想，但如圖5所示，將324畫素（RGB : 9 7 2點距） 作爲一單位來重複由光透過部或光不透過部而成之任意圖 案之情況則更爲理想。 此理由係如將如此之幾個RGB點距之整合作爲基本 -22- (18) (18)200400415 單位之光罩，針對從此所得到之光反射膜之複數凸部或凹 部則使光作適當的散亂，將可有效防止干涉斑紋之產生。 當將只有任意圖案之光反射膜使用在液晶顯示裝置等 時，會發現有不定型之沾然模樣之情況，但如爲具有將如 此畫素數作爲一單位之任意圖案之光反射膜，將可有效的 使不定型之沾染模樣的發現降低，另外，因將如此之幾個 RGB點距之整合作爲基本單位來進行圖案化，故可將圖 案之資訊量減少。 (4)任意配列4 另外，根據隨機函數來分配針對在光罩之光透過部或 光不透過部時，如圖6所示，將光透過部或光不透過部任 意配列在橫一方向或縱一方向之情況則爲理想。 根據如此構成，針對在橫一方向或縱一方向即使只進 行任意圖案之配列亦可防止由光反射膜所起因之干涉斑紋 ’另一方面根據少量的資訊量可作爲全體容易且短時間地 設計具有理想之反射特性之任意圖案，例如將〗7吋L C D 面板用之光罩1/η(η係2〜1 000範圍之自然數）均等地分割在 橫方向，並針對在其中橫一方向之光罩圖案，根據隨機函 數來分配光透過部或光不透過部，在η次重複進行此就相 當足夠。 另外，根據對於如此橫方向或縱方向重複進行規定單 位之任意圖案之情況，可作爲全體得到再現性良好之具有 理想反射特性之任意圖案。 - 23- (19) (19)200400415 [第2實施型態] 第2實施型態係如圖8所示，作爲一例表示有採用負片 型感光性樹酯之情況，但爲包含基材7 7及反射層72之附有 光反射膜之基板70，其特徵爲根據隨機函數來分配形成在 該基材77之複數凸部76之位置，並任意配列在平面方向之 附有光反射膜之基板70。 1.基材 作爲基材的構成，如圖8所示，從下方依序包含第1基 材76及第2基材79，而該第.1基材76爲獨立，或由一部份重 疊之複數凸不構成著，而第2基材79爲連續層之情況則爲 理想。 根據如此構成，因可藉由爲連續層之第2基材7 9來將 反射層作爲平坦部少，比較來說圓滑之曲面之情況，故對 於採用在液晶顯示裝置之情況，可有效地防止千涉斑紋之 產生，另外，有說到形成在基材之複數凸部或凹部之情況 ’對於基材包含第1基材及第2基材時係通常指構成第1基 材之複數凸部或凹部的意思。 以下作爲適合例子，如圖8所示，將從下方由第1基材 76及第2基材7 9構成基材77之情況舉例說明。 (1)弟1基材 將針對在第1基材之複數凸部的高度或凹部的深度作 -24 - (20) (20)200400415 爲0 · 5〜5 範圍內的値則爲理想。 此理由係當有關之凸部的高度或凹部的深度未達0.5 的値時，有著藉由第2基材來設置具有適當曲面之反射 層困難之情況，另一方面，當有關之凸部的高度或凹部的 深度超過5 的値時，反射層之凹凸變大，容易造成使光 過度散亂或容易斷線之情況。 隨之，將針對在第1基材之複數凸部的高度或凹部的 深度作爲〇 · 8〜4 範圍內的値則最爲理想，而作爲1〜3 範 圍內的値則更爲理想。 (2)第2基材 將針對在第2基材之複數凸部的高度或凹部的深度作 爲（K 1〜3 範圍內的値則爲理想。 此理由係當有關之凸部的高度或凹部的深度未達0. 1 的値時，有著對於其上方設置具有適當曲面之反射層困 難之情況，另一方面，當有關之凸部的高度或凹部的深度 超過3 的値時，形成在其上方之反射層之凹凸變大，容 易造成使光過度散亂或容易斷線之情況。 隨之，將針對在第2基材之複數凸部的高度或凹部的 深度作爲〇 . 1〜2 範圍內的値則最爲理想，而作爲〇 . 3〜2 範圍內的値則更爲理想。 (3)複數凸部或凹部 凸部或凹部之平面形狀 -25- (21) (21)200400415 另外，關於形成在基材之複數凸部或凹部之平面形狀 ，作爲獨立之緣型及多角形，或者重合之圓型及多角形， 或任合一方之平面形狀之情況則爲理想。 此理由係根據作爲獨立之緣型及多角形，或者重合之 圓型及多角形，或任合一方之平面形狀之情況，將複數凸 部或凹部之平面形狀，採用曝光處理，將可正確地控制， 另外，如爲如此之平面形狀之凸部或凹部，將可使光散亂 ，進而可有效地防止干涉斑紋之產生。 另外，作爲凸部之的平面形狀的適合例，可舉出如圖 9 (a)所示之偏移的橢圓形（水滴形狀）或圖9(b)所示之偏移 之四角形（錐形），或是作爲凹部之的平面形狀的適合例， 可舉出如圖1 9〜圖2 3所示之橢圓之蛋形狀或長圓之但形狀 等。 此理由係，根據將複數凸部或凹部之平面形狀作爲如 此之平面形狀之情況，與高度方向的斜面相結合，如圖1 0 所示，維持著規定光散亂而提升光指向性，圖1 0中，一點 虛線a則對於如圖9(a)所示之偏移的橢圓形之情況，表示 著所辨識之光量，而實線b則對於無偏移之均等之圓型的 情況，表示著所辨識之光量，隨之，根據作爲如此之平面 形狀之情況，從一定方向識別之情況，例如針對在角度 + 1 5 °之位置射入眼睛之光量將便多，而在其位置係可辨 識明亮之畫像。 凸部或凹部的口徑 -26- (22) (22)200400415 另外，關於形成在基板之複數凸部或凹部，將複數凸 部或凹部之口徑作爲3〜1 5 範圍內的値則爲理想。 此理由係如爲具有有關範圍口徑之複數凸部或凹部， 採用曝光處理將可正確地控制平面形狀及位置圖案之同時 ，使光作適度的散亂作有效防止干涉斑紋之產生，另外， 如爲具有有關範圍口徑之複數凸部或凹部觀察到不定型沾 染模樣之情況將會變少。 隨之，將複數凸部或凹部之口徑作爲3〜15 範圍內的 値則爲理想，而作爲6〜1 2 範圍內的値則更爲理想。 另外，使複數凸部或凹部之口徑作爲不同口徑，例如 設置2〜1 0種類之凸部或凹部之情況則爲理想，而根據如此 構成將可進行由1種類之凸部或凹部所無法得到之複雜的 光反射，並更能使光分散進行散亂，隨之，根據設置口徑 不同之複數凸部或凹部的情況，將可更有效地防止干涉斑 紋之產生。 凸部之高度或凹部之深度 另外，關於形成在基板之複數凸部或凹部，將其凸部 之高度或凹部之深度作爲0 · 1〜1 0 範圍內的値則爲理想。 此理由係當有關之凸部之高度或凹部之深度未達0.1 的値時，即使採用曝光處理凹凸也會變小而有散亂特性 降低之情況’另一方面，當有關之凸部之高度或凹部之深 度超過10 時，反射層之凹凸變大，容易造成使光過度散 亂或容易斷線之情況。 -27* (23) (23)200400415 隨之，將凸部的高度或凹部的深度作爲0.2〜3 範圍 內的値則最爲理想，而作爲0 · 3〜2 範圍內的値則更爲理 想。 任意配列1 其特徵爲形成在基材表面之複數凸部或凹部，特別是 根據隨機函數來分配構成第1基材之複數凸部或凹部之位 置，並任意配列於平面方向之情況。 此理由係，當相反地規則性地配置複數凸部或凹部時 ，對於使用在液晶顯示裝置之情況，將產生干涉斑紋，而 畫像品質則顯著降低。 另外，根據隨機函數來任意配列係指複數凸部或凹部 之配列謀種程度上將自動設計，且理想任意配列的程度之 檢索則變爲容易，另外，即使有著重複設計之情況亦有優 越之反射特性之再現性。 另外，將有關之複數凸部的高度或凹部的深度作爲實 質均等知情抗則爲理想，此理由係，相反地，如日本特開 平6-2 74 8 1號公報及日本特開平1卜2 8 1 9 72號公報所記載， 將複數凸部的高度或凹部的深度作爲不同時，製造上將變 爲困難，且無法安定控制干涉斑紋之產生。 任意配列2 另外，將複數凸部或凹部任意配列於平面方向時，將 針對使用光反射膜之液晶顯示裝置等之 RGB點距 (24) (24)200400415 1 0 00〜20 00作爲一單位，然後進行來任意配列之情況則爲 理想。 此理由係即使爲將如此之幾個RGB點距作爲單位之 複數凸部或凹部，複數凸部或凹部亦可使光作適當的散亂 來有效防止干涉斑紋之產生，另外，當將只具有任意圖案 之光反射膜使用在液晶顯示裝置等時，會發現有不定型之 沾然模樣之情況，但如爲具有將如此畫素數作爲一單位之 任意圖案之光反射膜，將可有效的使不定型之沾染模樣的 發現降低，另外，因將RGB點距作爲基本單位來進行圖 案化，故可將圖案之資訊量減少，進而在製造光反射膜時 之圖案位置之配合等將變爲容易。 任意配列3 另外，將複數凸部或凹部全體性地任意配列於平面方 向時，將複數凸部或凹部任意配列在橫一方向或縱一方向 ，並重複此之情況則爲理想。 根據如此構成，根據少量的資訊量可作爲全體容易且 短時間地設計具有理想之反射特性之由複數凸部或凹部而 成之任意圖案，例如將17吋LCD面板用之光反射膜i/n (n 係2〜1 000範圍之自然數）均等地分割在橫方向，並針對在 其中橫一方向之光反射膜，根據隨機函數來分配由複數凸 部或凹部而成之任意圖案，再η次重複進行此就相當足夠 〇 另外，根據對於如此橫方向或縱方向重複進行由複數 *29- (25) (25)200400415 凸部或凹部而成之任意圖案之情況，可作爲全體得到再現 性良好之具有理想反射特性之光反射膜。 (4)開口部 針對光反射膜’設置有爲使光作部份通過之開口部之 情況則爲理想’根據如此構成將可使用於反射透過兩用型 之液晶顯示裝置。 即，如圖1 1所示，根據設置開口部1 02於光反射膜1 0 0 之一部份的情況，將可由光反射膜1 00來將從外部的光作 有效之反射的同時，關於從內部所發射的光，亦可通過開 口部1 02對外部作有效的射出。 又，開口部的大小並無特別的限制，而根據光反射膜 之用途來決定之情況則爲理想，但，如將光反射膜之全體 面積作爲1 〇 〇 %時，作爲5〜8 0 %範圍內的値之情況則爲理想 ，而作爲1 〇〜7 0°/。範圍內的値之情況則最爲理想，又作爲 2 0〜6 0%範圍內的値之情況則更爲理想。 2.反射層 (1)厚度 將針對在光反射膜之反射層之厚度作爲〇 · 〇 5〜5 範 圍內的値之情況則爲理想。 此理由係當有關之反射層之厚度未達0·05 的値時， 將顯著缺乏反射效果，另一方面’當有關之反射層之厚度 超過5的値時，將會造成所得到之光反射膜之韌性降低及 •30- (26) (26)200400415 製造時間過長之情況。 隨之，反射層之厚度作爲〇 · 〇 7〜1 範圍內的値之情 況則最爲理想’而作爲0 · 1〜〇 · 3範圍內的値之情況則更 爲理想。 (2)種類 另外’反射層之構成材料係無特別限制，例如作爲對 於鋁（A1)，銀（Ag)，銅（Cu)，金（Au)，鉻（Cr)，鉅（w)，及 鎳（Ni)等導電性及光反射性優越之金屬材料之情況則爲理 想。 另外對於上述反射層之上方希望使用氧化銦錫（IT〇) 及氧化銦，或氧化錫等之透明導電材料之情況。 但，在採用如此之金屬材料及透明導電材料時，對於 有溶入於液晶之情況係設置電絕緣膜於由該金屬材料而成 之反射膜表面，或與金屬材料等同時將電絕緣膜進行濺射 等之情況則爲理想。 (3)基底層 另外，將反射層形成於第2基板之上方時，使密著力 提升之同時，爲將反射層作圓滑曲面，設置厚度0.01〜2 之基底層之情況則爲理想。 又，作爲如此之基底層之構成材料，可舉出有機矽烷 偶合劑，鈦偶合劑，鋁偶合劑，鋁鎂合金，鋁矽烷合金， 銘銅合金’銘猛合金5銘金合金等之一種阜獨或兩種以上 -31 - (27) (27)200400415 之組合。 (4)鏡面反射率 另外，將針對在反射層之鏡面反射率作爲5〜5 0 %範圍 內的値之情況則爲理想。 此理由係當有關之鏡面反射率未達5。/。時，對於使用 在液晶顯示裝置之情況，所得到之顯示畫像之亮度將會有 顯著下降之情況，另一方面，當有關之鏡面反射率超過 5 〇°/。時，散亂性則會降低，並有背景的射入及外部光過度 地鏡面反射之情況。 隨之，將針對在反射層之鏡面反射率作爲1 〇〜4 0 %範 圍內的値之情況則最爲理想，而作爲1 0〜4 0 °/。範圍內的値 之情況則更爲理想。 3 .與其他構成構件之組合 將上述之光反射膜，與其他構件，例如如圖1 5及圖1 6 所示，彩色濾鏡1 5 0，遮光層1 5 1，外敷層1 5 7，複數之透 明電極1 54，配向膜等組合之情況則爲理想。 根據如此構成，將可有效提供干涉斑紋產生少之彩色 液晶顯示裝置等之構件，例如根據組合由RGB (紅，綠， 藍）3色之顏色要素構成之條紋配列，馬賽克配獵或三角配 獵等之彩色濾鏡1 5 0，將可容易謀求彩色化，又根據與遮 光層1 5 1來作組合之情況，將可得到對比優越之畫像，另 外光反射膜亦可作爲反射電極來使用，但根據設置其他電 極，例如透明電極1 5 4之情況，將可防止光吸收，還可排 -32- (28) (28)200400415 除由複數凸部或凹部而成之反射膜的影響。 另外又，根據由 Y M C(黃，）而成之3色之顏色要素來 構成彩色濾鏡之情況亦爲理想，而作爲對於光透過性優越 反射型液晶顯示裝置來使用之情況，更能得到明亮之顯示 [第3實施型態] 第3實施型態係爲包含基材及反射層之光反射膜之製 造方法’其特徵爲包含採用根據隨機函數分配光透過部或 光不透過部’再將光透過部或光不透過部任意配列在平面 方向之情況的光罩，然後對於所塗抹之感光性樹酯根據曝 光處理來形成具有任意配列在平面方向之複數凸部或凹部 之第1基材之工程與，塗抹感光性樹酯於該第1基材表面， 根據曝光處理來形成具有連續之複數凸部或凹部之第2基 材之工程與’形成反射層於該第2基材表面之工程之光反 射膜之製造方法。 以下適宜地參照圖1 2及圖1 3，並將形成凹部於第1基 材表面之情況作爲例子來具體說明光反射膜（附有光反射 膜基板）之製造方法，又，圖i 2係將光反射膜之製造工程 作爲圖示化之構成，而圖〗3係其流程圖。 1 ·形成第1基材之工程； 將對於平面方向任意且獨立所配置之複數凸部或凹部 ’利用在第]實施型態說明過之光罩，根據曝光處理由感 -33- (29) (29)200400415 光樹酯形成之情況則爲理想。 即，將光透過部或光不透過部作爲獨立或一部份重疊 圓及多角形，或者任合一方之平面形狀，並採用根據隨機 函數配列於平面方向之光罩來將配列在平面方向之複數凸 部或凹部，根據曝光處理，然後由感光性樹酯，例如正像 型感光性樹酯構成之情況則爲理想。 (1) 感光性樹酯 構成第1基材之感光性樹酯種類係無特別限制，但可 舉出例如：丙烯基樹酯，環氧樹酯，矽樹酯，苯酚乙醛樹 酯，氧雜環丁烷樹酯等之單獨一種或二種以上之組合，另 外，欲可作爲精確度優良之規定之圓型或多角形情況地， 於感光性樹酯添加二氧化矽粒子，氧化鈦，氧化鈷，氧化 鋁等無機塡充物之情況亦爲理想。 又’如上述，作爲構成第1基材之感光性樹酯係可適 當地使用被透過光透過部的光所照射的地方，進行光分解 ’對於顯像劑可溶解之正像型與，被透過光透過部的光所 照射的地方，進行硬化，對於顯像劑不可溶解之負片型之 構成的任合一種。 (2) 曝光處理 如圖12(a)及圖13之工程P3〗所示，在形成第1基材} 12 時，採用旋轉塗佈來均勻塗抹構成第1基材之感光性樹酯 於之稱部1 1 4，然後形成第丨層之情況則爲理想。 -34 - (30) (30)200400415 而此情況，作爲旋轉塗佈的條件，例如以 6 0 0〜2 0 0 0 r p m的旋轉數，進行5〜2 0秒之情況則爲理想。 接著，爲使解像度提升，如圖13之工程P3 1所示地， 將第1層1 1 〇進行預燒之情況則爲理想，此情況，例如採用 乾熱板80〜12 0°C進行1〜10分之加熱情況則爲理想。 接著，如圖12(b)及圖13之工程P33所示，使用第1實 施型態之光罩1 1 9，載置第1實施型態之光罩1 1 9在由均勻 塗抹之感光性樹酯而成之地1層1 1 〇之上方後，將i線等進 行曝光之情況則爲理想，而此情況，將i線等之曝光量例 如作爲50〜3 00m J/ 之範圍値內之情況則爲理想。 接著，如圖12(c)及圖13之工程P34所示，根據顯像劑 ，例如由將透過光罩1 1 9之光透過部1 1 7之部份進行正像顯 像之情況，將可任意配列在平面方向而形成獨立或一部份 重疊之由複數凸部或凹部而成之地1基材之情況。 又，在形成第2基材113之前，如圖13之工程P35及圖 36所示，作爲一例，根據欲將曝光量成爲3 00mJ/ 地進行 全面性的曝光後，以200 °C .50分的條件下進行加熱情況來 進行後烘乾而將第1基材1 1 2作爲更堅固之情況亦爲理想。 2.形成第2基材之工程 第2基材之工程係根據樹酯塗佈等來於第1基材上，即 ，任意配列在平面方向之複數凹部上形成作爲連續層之第 2基材之構成。 -35- (31) (31)200400415 (1)感光性樹酯 構成第2基材之感光性樹酯種類係無特別限制，但可 舉出例如：丙烯基樹酯，環氧樹酯，矽樹酯，苯酚乙醒樹 酯等。 另外，爲了提升第1基材及第2基材之間的密著力，將 構成第1基材之感光性樹酯與構成第2基材之感光性樹醋作 爲同一種之構成則爲理想。 另外，爲了提升第1基材及第2基材之間的密著力，於 第1基材的表面施以有機矽烷偶合劑之處理則爲理想。 (2)曝光處理 如圖12(d)及圖13之工程P37〜P40所示，在形成第1基 材1 1 2時係在塗抹構成第2基材1 1 3之感光性樹酯後，將i 線等進行曝光於面板顯示範圍週邊的實裝範圍，並去除樹 酯層之情況則爲理想，而此情況亦與使第1基材1 1 2曝光之 情況相同地將i線等之曝光量例如作爲50〜3 00mJ/ 之範 圍値內之情況則爲理想。 更加地如圖13之工程P41〜P42所示，於形成第2基材 1 13後，作爲一例，根據欲將曝光量成爲3 00mJ/ 地進行 全面性的曝光後，以2 0 0 °C . 5 0分的條件下進行加熱情況來 進行後烘乾而將第1基材Π2及第2基材1 13，各自作爲更堅 固之情況亦爲理想。 3 ·形成反射層之工程 -36- (32) 200400415 形成反射層之工程係如圖12(e)及圖13之工程P43〜 P 4 4所示，於第2基材1 1 3的表面，與作適度之光散亂地形 成具有圓滑曲面之反射層116之工程。 (1)反射層材料 _ 作爲反射層材料係如在地2實施型態說明過地作爲對 於鋁（A1)及銀（Ag)等光反射性優越之金屬材料之情況則爲 理想。 · (2 )形成方法 採用濺射等手法來形成反射層之情況則爲理想’另外 所望地方以外之反射層材料係可利用微縮術等之手法來去 除。 另外，因於第2基材1 13的表面有著凹凸，故反射層材 料有著無均勻厚度之堆積之情況，但在這樣的情況係採用 旋轉蒸鍍法或旋轉濺射法之情況則爲理想。 # 又，另外，形成反射層之同時將該反射層對於 TFT (Thin Film Tr an s i s t o r)或，ΜIΜ (M e t al Insulating Metal)等之端子，進行電接續之情況則爲理想。 [第4實施型態] 第4實施型態係爲作爲有源元件採甩2端子型之能動元 件之TFD(Thin Film Diode)之有源矩陣方式之液晶顯示裝 置，其特徵係具備有夾合在基板間的液晶元件與，設置在 - 37- (33) (33)200400415 與該液晶元件觀察側相反側之基板的附有光反射膜基板’ 而該附有光反射膜基板則由基板及反射層而成，並根據隨 機函數來分配形成在該基材表面之複數凸部或凹部之位置 ，並將該複數凸部或凹部任意配列於平面方向之液晶顯示 _ 裝置。 以下參照圖24〜圖26來作具體之說明，但將可以以選 擇性的進行採用外部光之反射顯示與採用照明裝置之透過 顯示方式之半透過反射型液晶裝置舉例來說明。 φ 首先，針對本實施型態，液晶裝置23 0亦如圖24所示 ，由根據封合材來貼合第1基板231a與第2基板231b，另 又於根據封合材來包圍第1基板2 3 1 a，第2基板2 3 1 b之間 隙，即，元件間隙，封入液晶之情況所形成，又，於另一 方之基板231b的表面，例如根據COG(Chip on glass)方式 直接實裝液晶驅動1C(無圖示）之情況則爲理想。 並且，針對圖24表示構成液晶裝置23 0之顯示領域之 複數顯示點距之中，放大數個之剖面構造，而圖2 5係表示 f 1個顯示點距部份之剖面構造。 在此，如圖24所示，對於根據第2基板23 lb之封合材 所包圍之內部範圍係有關行方向XX及列方向YY由點距 矩陣狀支配列來形成複數之畫素電極，另外，對於根據第 1基板23 1 a之封合材所包圍之內部範圍係形成條紋狀之電 極，並對於第2基板23 1 b側之複數電極來配置其條紋狀之 電極。 另外，由第1基板2 3 1 a上之條紋狀電極與，第2基板 -38- (34) (34)200400415 2 3 1 b上之1個畫素電極來夾合液晶之部份則形成1個顯示 點距，並此顯示點距之複數個則在由封合材所包圍之內部 範圍根據配列爲點距矩陣狀之情況來形成顯示範圍，另外 ，液晶驅動用I C係根據選擇性地施加掃描信號及資料信 號於複數顯示點距內之對向電極間之情況，於每個顯示點 距控制液晶的配向，即，根據液晶之配向控制調製通過該 液晶的光來顯示文字，數字等之影像於顯示範圍內。 另外，針對圖25，第1基板231a係具有由玻璃，壓克 力等所形成之基材23 6a與，形成在其基材23 6a之內側表 面的光反射膜231與，形成在其光反射膜231上之彩色濾鏡 242，而對於其條紋狀電極243之上方係形成有配向膜241a ，對於此配向膜24 1 a，施以作爲配向處理之包覆處理，而 條紋狀電極243係由例如ITO(Indium Tin Oxide)等之透明 導電材料所形成。 另外對向於第1基板231a之第2基板231b係具有由玻 璃’壓克力等所形成之基材236b與，作爲形成在其基材 23 6b之內側表面之作爲切換元件來發揮功能之有源元件 之 TFD(Thin Film Diode)247 與，接續在其 TFD247 之畫素 電極23 9，對於TFD247及畫素電極2 3 9之上方係形成配向 膜24 lb ’對於此配向膜241b，施以作爲配向處理之包覆處 理，-而畫素電極23 9係由例如ITO(Indium Tin Oxide)等之 透明導電材料所形成。 另外，屬於第1基板231a之彩色濾鏡242係於對向在 第2基板23 lb側之畫素電極23 9之位置，具有R(紅），G(綠 -39- (35) (35)200400415 )，B(藍）或者是Y(黃），Μ(洋紅），C(紫紅）之各色之任何 顏色之濾波元件242a，並在無對向於畫素電極23 9之位置 具有黑色光罩242b之情況則爲理想。 另外，如圖25所示，第1基板23 1 a與第2基板23 lb之 間的間隔，即，元件間隔係由分散在任何一方之基板表面 之球狀襯墼3 04來維持尺寸，並將液晶封入於其元件間隔 〇 在此，TFD247係如圖25所示，由第1金屬層244與， 形成在其第1金屬層244表面之絕緣層246與，形成在其絕 緣層246上方之第2金屬層248所構成，如此，TFD247係由 第1金屬層/絕緣層/第2金屬層而成之堆積構造，所謂由 MIM(Metal Insulating Metal)構造所構成著。 另外，第1金屬層244係例如由鉅單體，鉬合金等所形 成，而作爲第1金屬層244對於採用鉬合金之情況係在主成 份的鉅添加例如針對鎢，鉻，鉬，銶，釔，鑭，鏑等週期 表屬於第6〜第8之元素。 另外，第1金屬層244係與綫路配線249之第1層249a 所一體成形，而此綫路配線249係將畫素電極23 9夾合於其 間形成爲條紋狀，並作爲爲了供給掃描信號於之掃描線或 爲了供給資料信號於畫素電極23 9之資料線來發揮作用。 另外，絕緣層246係根據由例如陽極氧化法氧化第1金 屬層2M表面之情況所形成之氧化鉬（Ta205)所構成，又， 對於將第1金屬層244進行陽極氧化時係綫路配線249之第1 層2 4 9 a表面也同時被氧化來形成同樣由氧化鉬而成之第2 -40- (36) (36)200400415 層 2 4 9 b 〇 另外，第2金屬層24 8係例如由Cr等之導電材所形成 ’而畫素電極23 9係其一部份重疊於第2金屬層24 8前端地 形成於基材2 3 6 b表面，又對於基材2 3 6 b表面係形成第1金 屬層244即綫路配線之第丨層249a之前根據氧化鉅來形成 基底層’此係根據第2金屬層248之堆積後之熱處理來防止 第1金屬層244從基底剝離及防止不純物擴散至第]金屬層 244 〇 並且’形成在第1基板231a之光反射膜231係根據例 如鋁等光反射性金屬所形成，並在因應屬於第2基板2 3 1 b 之畫素電極2 3 9之位置，即，因應各顯示點距之位置形成 光透過用之開口 24 1，另外，對於光反射膜23 1之液晶側表 面係例如由如圖8及圖1 9〜圖2 3所示之長圓形狀形成蛋形狀 之谷部或山部80，84，180，190，200，210，220之情況 則爲理想，即，有關之谷部或山部8 0，8 4，1 8 0，1 9 0， 200，210，22 0係將綫路配線之延伸方向之X軸線方向作 爲長軸，而與此之直角的Y軸線方向則配列成短軸之情 況則爲理想，另外，谷部或山部8 0，8 4，1 8 0，1 9 0，2 0 0 ，210，220之長軸方向X係對於延伸於基材之XX方向之 端邊來設定爲平行，而短軸方向 Y係對於延伸於基材之 YY方向之端邊來設定爲平行之情況則爲理想。 第4實施型態之液晶顯示裝置2 3 0係因由以上方式所構 成，故該液晶顯示裝置230在進行反射型顯示之情況係針 對圖25，從觀察者即第2基板231b，射入至液晶顯示裝置 -41 - (37) (37)200400415 2 3 0內部的外部光係通過液晶來到達至光反射膜2 3 1，再由 該光反射膜2 3 1反射再供給至液晶（參照圖2 5之箭頭F 1)， 而液晶係根據施加於畫素電極23 9與條紋狀之對向電極243 之間的電壓，即，掃描信號及資料信號來對於每個顯示點 距控制其配向，由此，供給至液晶的反射光係對於每個顯 示點距進行調製，而由此對觀察者顯示文字，數字等之影 另一方，對於液晶顯示裝置230再進行透過型顯示之 情況係配置在第1基板2 3 1 a之照明裝置（無圖示），即背照 光進彳了發光，而此發光則在通過偏光板2 3 3 a，相位差板 2 3 2a，基材2 3 6a，光反射膜231之開口 241，彩色濾色鏡 242，電極243及配向膜241a之後供給到液晶（參照圖25之 箭頭F2)，之後，與反射型顯示之情況相同地進行顯示。 並且，在第4實施型態之中係在從針對附有光反射膜 基板之基材上根據隨機函數來分配凸部或凹部之同時，任 意配列該複數凸部或凹部於平面方向之情況，將可減少干 涉斑紋之產生。 另外，針對第4實施型態，如上述所述，對於使沿著 針對在複數凸部或凹部之X軸線的立體形狀與沿著Y軸 線之立體形狀作爲相互不同之情況係在控制減低對於一定 視野角方向之反射光量之後，將可使對於其他之特定視野 角方向之反射光量增加，其結果，觀察者係在採用光反射 膜所進行之反射形顯示時，在有關特定視野角方向可觀察 到非常明亮顯示顯示在液晶顯示裝置之顯示範圍內之影像 -42- (38) (38)200400415 第5實施型態係爲具備有夾合在基板間的液晶元件與 ’設置在與該液晶元件觀察側相反側之基板的光反射膜之 液晶顯示裝置，其特徵爲該光反射膜係由基材即反射層而 成’並根據隨機函數來分配形成在該基材之複數凸部或凹 部之同時，任意配列該複數凸部或凹部於平面方向之情況 之液晶顯示裝置。 以下適當地邊參照圖1 5邊將針對在第5實施型態之無 源矩陣方式之反射型液晶顯示裝置來作具體說明，又，針 對以下所示之各圖係爲將各層及各構件可在圖面上來作辨 識程度之大小，故對於每個各層及各構件有著不同比例大 小之情況。 1.如圖15所示，此液晶顯示裝置140係相互對向之第1 基板141與第2基板142則藉由封合材158所貼合，並於兩基 板之間封入液晶1 44之構成，又，對於此液晶顯示裝置1 4 1 之觀察側係配置有具有光透過性之保護板1 45，而此保護 板145係爲了保護該液晶顯示裝置140從外部所傳來之衝擊 等之板狀構件，例如設置在搭載液晶顯示裝置1 40之框體 ，另外，保護板145係接近於針對在液晶顯示裝置140之第 1基板1 4 1 (觀察側之基板）之基版面地來配置，又，針對在 本實施型態係想定使由壓克力板而成之保護板1 45接合在 第1基板1 4 1之構成要素之中最接近觀察側位置之偏光板 14 6表面之情況，如此由壓克力構成保護板1C之情況，則 有著成形容易且可低成本製造之優點，另一方面於其表面 •43- (39) (39)200400415 將容易形成微細之凹凸。 另一方面，液晶顯示裝置140之第1基板141及第2基板 1 42係爲具有玻璃或石英，壓克力等之光透過性之板狀構 件，其中，對於位置在觀察側之第1基板1 4 1內側（液晶1 44 側）表面係形成有延伸在規定方向之複數透明電極1 43，而 各透明電極143係爲由ITO(Indium Tin Oxide)等之透明導 電材料所形成之帶狀電極，更加地，形成這些透明電極 143之第1基板141表面係由配向膜（略圖示）所包覆著，而 此配向膜係爲聚 亞胺等有機薄膜，並施以爲了規定無施 加電壓時之液晶1 44之配向方向的平磨處理。 2 .光散亂膜 對於第1基板141外側（與液晶144相反側）係設置有使 射入光偏光於規定方向之偏光板1 46與，界在於第1基板 1 4 1與偏光板1 4 6之間的散亂層1 4 7，而其散亂層1 4 7係爲爲 了使透過該散亂層1 4 7的光進行散亂的層，並具有爲了貼 著偏光板146於第1基板141之接著劑148a與，分散在該接 著劑148a中的多數微粒子148b，作爲此散亂層147係可採 用使由二氧化砂而成之微粒子1 4 8 b分散之構成之情況， 並且，接著劑148a之折射率與微粒子148b之折射率係爲 不同，並射入至該散亂層147的光係針對在接著劑148a與 接著劑1 4 8b之邊界，呈欲進行折射，其結果將可使對於 散亂層1 4 7之射入光在適度散亂之狀態下進行射出。 更加地，針對第5實施型態之散亂層1 4 7係其霧度値 (40) (40)200400415 Η欲成爲10〜60%範圍內的値地選定分散在接著劑148a之 微粒子148b的數量或二者之折射率等，在此霧度値Η係 指表示對於某個構件之射入光透過該構件時進行散亂的程 度値，而根據以下的式子所定義。 霧度値 H = (Td/Tt)*l〇〇〇/0 在此，Tt係爲全光線透過率（％)，而Td係爲散亂光 透過率（％)，全光線透過率Tt係表示對於成爲霧度値Η之 測定對象之試料的射入光量之中透過該試料光量的比例値 ，另一方面，散亂光透過率Td係對於試料從規定方向照 射光之情況，表示透過該試料光量之中射出於上述規定方 向以外方向之光量（即，散亂光量）之比例値，也就是，將 從試料之射出光量之中對於與射入光平行的方向之射出光 量的比例作爲平行光透過率Tp(%)時，上述散亂光透過率 Td係根據上述全光線透過率Tt與平行光透過率Τρ的差 (Td = Tt-Tp)所表示，而如從上述了解到，霧度値Η越高越 可將散亂程度變大（即，佔透過光量之散亂光量的比例變 大），相反的，霧度値Η越低越可將散亂程度變小（即，佔 透過光量之散亂光量的比例變小），又，關於上述霧度値（ 雲價）Η 係在 JIS(Japanese Industrial Standards)K6714-1 977有詳述。 3.反射層（光反射膜） -45- (41) (41)200400415 另一方面，對於第2基板1 42內側（液晶1 44側）表面係 形成有反射層1 4 9，而此反射層1 4 9係爲爲了從觀察側使射 入的光反射至液晶顯示裝置1 4 0的層，並根據例如鋁或銀 之具有光反射性之金屬所形成。 在此，如圖1 5所示地第2基板1 4 2內側表面之中由反射 層1 4 9所覆蓋的範圍係成爲形成多數細微之突起及凹陷之 粗面，而更具體係爲包含基材與反射層之光反射膜，然後 根據隨機函數來分配形成在該基材之複數凸部或凹部之位 置，並任意配列該複數凸部或凹部於平面方向之反射層 149 ° 因此，反射層1 4 9的表面係成爲反映第2基板1 4 2表面 之突起及凹陷之粗面，即，反射層1 4 9係具有使針對在該 表面的反射光做適度散亂來爲了實現廣視角之散亂構造， 而更具體來說係反射層149被形成在由複數凸部或凹部而 成之基材上，並且根據隨機函數來分配形成在基材之複數 凸部或凹部之位置，並任意配列該複數凸部或凹部於平面 方向之構造。 4 .其他構成 更加地，對於覆蓋第2基板142之反射層149的面上係 形成有彩色濾片150與，遮光層151與，爲了將由彩色濾片 1 5 0及遮光層1 5 1所形成之凹凸進行平坦畫之外敷層1 5 7與 ，複數之透明電極154與，配向膜（略圖示）。 各透明電極1 5 4係爲延伸在與第1基板1 4 1上之透明電 -46 - (42) (42)200400415 極143延伸方向交差之方向（針對圖15之紙面左右方向）之 帶狀電極。 有關之構成下，液晶144係因應施加於透明電極142與 透明電極1 5 4之間的電壓，其配向方向則進行變化，即， 透明電極1 4 3與透明電極1 5 4交差之範圍作爲畫素（副畫素） 來發揮功能，而彩色濾片1 5 0係爲因應這些各個畫素所設 置之樹酯層，並根據染料或顏料著色爲R.G.B之任何一個 〇 另外’遮先層1 5 1係爲爲了將各畫素之間隙部份進行 遮光之格子狀層，並例如由分散黑碳之黑色樹酯材料等所 形成。 5 .動作 根據以上說明之構成來實現反射型顯示，即，太陽光 或室內照明光等外光係透過保護板1 45射入至液晶顯示裝 置140，再由反射層149來反射。 此反射光係透過液晶144及第1基板141，並在散亂層 14 7做適度的散亂後透過偏光板146來射出於液晶顯示裝置 140之觀察側，並且由液晶顯示裝置140之射出光係透過保 護板145，然後被觀察者所辨識。 在此，如以上所述，作爲保護板1 4 5之材料採用壓克 力之情況，將其表面作爲完全平面之狀況係爲困難’而容 易形成複數細微之凹凸，如此，將形成細微凹凸之保護板 145接近於液晶顯示裝置140之第1基板141地配置之情況， (43) (43)200400415 從液晶顯示裝置140之射出光在透過保護板145時干擾的結 果，因應該凹凸之干涉斑紋將重疊於顯示畫像而招致顯示 品質下降。 但，根據本發明者之試驗結果，如上述實施型態所示 ，對於使透過液晶144至保護板145的光，根據散亂層147 來做散亂之情況係可實現高品質之顯示。 另外，針對圖1 5所示之液晶顯示裝置之構成，從控制 干涉斑紋發生之觀點係希望有高散亂層1 4 7之霧度値Η， 也就是高散亂程度之情況，但，將此霧度値Η作爲過高 値（例如70 %以上的値）之情況，從液晶顯示裝置140至保護 板1 45的光過度散亂，顯示畫像之對比則降低，即，產生 顯示畫像模糊之新的問題，另一方面，將散亂層1 47之霧 度値Η作爲過低的情況，例如作爲1 0%以下的値之情況， 將容易看見因凹凸所造成之沾染。 根據本發明者之試驗的結果，對於針對在由1點距或2 點距所定義之一單位內，不規則地配置由凸部或凹部所形 成之圖案之情況係將散亂層147之霧度値 Η設定爲 4 0%〜6 0 %範圍內的値之情況則爲理想，並可持續規避顯示 畫像之對比顯著降低而有效控制因保護板1 45之凹凸所造 成之顯示品質下降，並可確保良好的顯示品質。 另外，對於針對在由3點距以上所定義之一單位內’ 不規則地配置由凸部或凹部所形成之圖案之情況係由將散 亂層147之霧度値Η設定爲10%〜40%範圍內的値之情況’ 將可提高對比之設定。 -48- (44) (44)200400415 如第5實施型態所示，採用使微粒子1 4 8 b分散於接著 劑1 4 8 a中之散亂層]4 7之情況，例如可根據調節微粒子 14 8b之添加量來任意選定霧度値Η。 即，如增加分散於接著劑148a中之微粒子148b之添 加量，因將可將對於該散亂層1 4 7之射入光更作散亂，故 可提高該散亂層1 4 7之霧度値Η，相反的如減少微粒子 1 4 8 b之添加量，將可降低該散亂層1 4 7之霧度値Η之情況 〇 另外，根據第5實施型態，有著對於廣泛範圍將可容 易選定從液晶顯示裝置140射出之光的散亂程度之優點， 即’針對不具有上述散亂層147之液晶顯示裝置，對於爲 了調節從液晶顯示裝置1 40射出之光的散亂程度係有必要 調節反射層1 4 9表面之形狀，例如，凸部的高度及凹部的 深度’或鄰接之凸部（或者凹部）間的距離等。 但’如此將反射層1 4 9表面正確地行程爲所希望之形 狀係指考慮形成所希望之凹凸於第2基板142上之製造技術 上之情況未必容易，又指根據調節反射層1 4 9表面形狀之 情況係可調節從液晶顯示裝置1 4 0射出之光的散亂程度的 幅度將被限定於極小範圍。 對此’如根據本實施型態，即使不將反射層1 49表面 形狀作大幅變更，亦可根據變更散亂層1 4 7之霧度値Η之 情況’由適度調節分散於接著劑1 4 8 a中之微粒子1 4 8 b之 $加量的情況’有著對於廣泛範圍將可容易調節從液晶顯 示裝置1 4 0射出之光的散亂程度之優點。 (45) (45)200400415 [第6實施型態] 第6實施型態係爲爲具備有夾合在基板間的液晶元件 與，設置在與該液晶元件觀察側相反側之基板的光反射膜 之液晶顯示裝置，其特徵爲該光反射膜係由基材即反射層 而成，並根據隨機函數來分配複數凸部或凹部，並任意配 列該複數凸部或凹部於平面方向之情況之無源矩陣方式之 半透過反射型液晶顯示裝置。 在此，參照圖1 6就有關第6實施型態之無源矩陣方式 之半透過反射型液晶顯示裝置來做具體說明。 1 .基本構成 如圖16所示，針對第6實施型態係於液晶顯示裝置160 背面（與觀察側相反側）配置有背照光單元1 5 3，而此背照 光單元153係具有作爲光源來發揮功能之複數LED 15(針對 圖16係只圖示一個 LED 15)與，引導從射入於側端面之 LED的光至針對在液晶顯示裝置160之第2基板142全面之 導光板152與，使根據此導光板152所引導的光對於液晶顯 示裝置1 6 0進行一樣擴散之擴散板1 5 5與，使從導光板1 5 2 射出於與液晶顯示裝置1 6 0相反側的光反射至液晶顯示裝 置160之反射板156。 在此，LED 1 5並非時常開啓，而對於外光幾乎沒有之 環境所使用之情況，因應使用者之指示或感應器之檢測信 號來啓動。 -50- (46) (46)200400415 更加地，針對有關第6實施型態之液晶顯示裝置1 6 0係 於反射層149之中因應各畫素之中央部附近之範圍形成有 開口部159，另外，對於第2基板142外側（與液晶144相反 側）係貼著另一對之偏光板，但’針對圖1 6係有關其偏光 板係省略圖示。 2.動作 如根據有關構成之液晶顯示裝置1 6 0 ’加上於針對上 述第5實施型態所示之反射型顯示將可實現透過型顯示’ 即，從背照光單元1 5 3照射至液晶顯示裝置1 6 0的光係通過 反射層1 4 9之開口部1 5 9，而此光係透過液晶1 4 4及第1基板 1 4 1，並在散亂層1 4 7進行散亂後透過偏光板1 4 6來射出至 液晶顯示裝置1 6 0之觀察側’並且’此射出光根據透過保 護板145來射出至觀察側之情況，實現透過型顯不。 隨之，即使針對在本實施型態亦與上述之第5實施型 態相同，即使爲接近於液晶顯示裝置1 6 0來設置形成細微 凹凸於表面之保護板1 45之情況亦可控制因該凹凸所造成 之顯示品質之下降。 [第7實施型態] 第7實施型態係爲爲具備有夾合在基板間的液晶元件 與，設置在與該液晶元件觀察側相反側之基板的光反射膜 之液晶顯示裝置，其特徵爲該光反射膜係由基材即反射層 而成，並根據隨機函數來分配複數凸部或凹部，並任意配 -51 - (47) (47)200400415 列該複數凸部或凹部於平面方向之情況之液晶顯示裝置之 變形例。 (1 )變形例1 針對在上述各實施型態係將散亂層147作爲設置於第1 基板1 4 1與偏光板1 4 6之間，但散亂層1 4 7的位置並不限定 此構成，例如，將爲了補償干擾色之相位差板設置在偏光 板146與第1基板141之間之情況，亦可介插散亂層147於該 相位差板與第1基板1 4 1之間’或可介插散亂層1 4 7於該相 位差板與偏光板1 4 6之間，主要，將散亂層1 4 7對於液晶 144設置在保護板M5側之構成即可。 另外，針對在上述各實施型態係採用使多數微粒子 1 4 8 b分散至接著劑1 4 8 a中之構成的散亂層1 4 7，但散亂層 1 4 7的構成不限定此構成，而如爲可使射入光進行散亂的 層，任何構成都可以，另對於採用包含接著劑1 4 8 a之散 亂層1 4 7之情況係夾合該散亂層1 4 7之構件（例如：從根據 該接著劑1 4 8 a可接著針對在上述各實施型態之第1基板 1 4 1與偏光板1 4 6之情況，比較於採用沒包含接著劑1 4 8 a 之散亂層1 4 7之情況，將有可謀求製造成本降低及製造工 程簡素化之優點）° (2)變形例2 針對在上述第5實施型態係例示過反射型液晶顯示裝 置，而針對在第6實施型態例示過半透過型液晶顯示裝置 -52- (48) (48)200400415 ，但對於只進行無具有反射層1 4 9之透過型顯示之透過型 液晶顯示裝置亦可適用本發明，即，針對透過型液晶顯示 裝置係圖16所示之半透過型液晶顯示裝置之中作爲除去反 射層1 4 9之構成即可。 另外針對上述第4實施型態係根據具有開口部1 5 9之反 射層149來作爲實現反射型顯示與透過型顯示之雙方的構 成，但，取代於有關之反射層，對於使所照射的光之中的 一部份進行透過來使其他一部份反射，所謂採用半透明鏡 之半透過反射型液晶顯示裝置，當然亦可適用本發明。 (3)變形例3 針對在上述各實施型態係作爲保護板145例示過採用 壓克力之板狀構件之情況，而爲了在有關之保護板1 4 5表 面容易形成凹凸，根據適用本發明之情況特別得到顯著之 效果，但保護板1 4 5的材料並不限於此構成，而其他各式 各樣的材料之板狀構材也可作爲保護板1 4 5來使用。 (4 )變形例4 另外，針對在上述各實施型態係例示過形成彩色濾片 1 5 0或遮光層1 5 1於第2基板1 4 2之情況，但對於形成這些要 素於第1基板1 4 1之構成的液晶顯示裝置及，無具備彩色濾 片150或遮光層151之液晶顯示裝置當然也可適用本發明， 如此，如爲接近於觀察側來配置保護板1 45之構成的液晶 顯示裝置1 6 0，不管其他要素之型態爲如何都可適用本發 -53- (49) (49)200400415 明。 (5 )變形例5 針對在上述第4實施型態係作爲有源元件例示過採用2 端子型能動元件之TFD之有源矩陣方式之液晶顯示裝置 ，但如圖1 3所示，作爲有源元件亦可採用3端子型能動元 件之TFD之有源矩陣方式之液晶顯示裝置，而對於此情 況係如圖1 3所示，設置TFT元件於遮光範圍之情況則爲 理想。 [第8實施型態] 第8實施型態係爲包含具備光反射膜之液晶顯示裝置 之電子機器，其特徵爲光反射膜包含基材及反射層，並根 據隨機函數來任意配列該複數凸部或凹部於平面方向之情 況之電子機器。 (1)小型電腦 首先，關於將有關本發明之液晶顯示裝置適用在可搬 型電腦（所謂筆記型電腦）之顯示部的例子來進行說明，圖 1 7係表示此小型電腦的構成斜視圖，如同圖所示，小型電 腦1 6 1係具備有具有鍵盤！ 62之主體部} 63與，採用有關本 發明之液晶顯示裝置（略圖示）之顯示部164，而顯示部164 係於因應窗部1 6 5配置壓克力之保護板1 4 5之框體4 6 6收納 有有關本發明之液晶顯示裝置160之構成，而更爲詳細則 是液晶顯示裝置1 6 0係其觀察側之基版面則接近於保護板 (50) (50)200400415 1 4 5地收納於框體1 6 6，又，針對有關之小型電腦1 6 1係即 使無充分外光之情況也應確保顯示之辨識性，如上述第6 實施型態所示地，希望採用具備背照光單元1 5 3於背面側 之半透過反射型液晶顯示裝置之情況。 (2)行動電話 接著，關於將有關本發明之液晶顯示裝置適用在行動 電話之顯示部的例子來進行說明，圖1 8係表示此行動電話 的構成斜視圖，如同圖所示，行動電話1 7 0係具備有受話 器172，送話器173之同時亦具備有採用有關本發明之液晶 顯示裝置（略圖示）之顯示部1 7 4，而針對在此行動電話1 7 〇 係因應窗.部1 7 4 b配置壓克力之保護板} 7 5之框體1 7 6收納 有有關本發明之液晶顯示裝置之構成，又，針對在行動電 話1 70亦與上述小型電腦相同，液晶顯示裝置係其觀察側 之基版面則接近於保護板1 7 5地收納於框體1 7 6。 又，作爲可適用有關本發明之液晶顯示裝置之電子機 器係除了圖1 7所示之小型電腦及圖1 8所示之行動電話還可 舉出液晶電視，取景型·監視直視型之錄影機，汽車導航 裝置，peizy a，電子辭典，電子計算機，文書處理機，工 作站，視訊電話，P 0 S終端，具備觸控面板之機器等。 如上述所述，如根據有關本發明之液晶顯示裝置，即 使爲將具有細微凹凸於表面之保護板接近於該液晶顯示裝 置之基板面地來配置之情況，亦可控制因該凹凸所造成之 顯示品質之下降，隨之，可不損及顯示品質，根據將保護 -55- (51) (51)200400415 板接近於液晶顯示裝置來配置之情況來謀求電子機器之薄 型化乃至小型化。 [發明之效果] 如以上所說明，如根據本發明之光罩及由此所得到之 光反射膜，各自採用隨機函數將可容易製造，其結果，於 具有複數凸部或凹部之基材上具有平滑之反射層，並對於 使用在液晶顯示裝置等之情況係可有效控制干涉斑紋之產 生，另外，如根據本發明之光罩，不但針對小型液晶顯示 裝置對於大型液晶顯示裝置亦可將得到干涉斑紋產生少之 光反射膜之光罩作容易且迅速之設計。 另外，如根據設置本發明之光反射膜之液晶顯示裝置 及具有光反射膜之電子機器，干涉斑紋產生少之同時，關 於製造及設計上也變爲容易，另外，如根據設置本發明之 光反射膜之液晶顯示裝置及具有光反射膜之電子機器，根 據與光散亂膜組合之情況，或進行特定之設計之情況，關 於在將針對在光反射膜之複數凸部或凹部作爲任意圖案之 情況所產生之不定型沾染模樣亦可有效的控制。 更加地，如根據設置本發明之光反射膜之液晶顯示裝 置，以及具有光反射膜之電子機器，即使爲將具有微細凹 凸於表面之保護板作爲接近來配置之情況，亦可控制因該 凹凸所造成之顯示品質之下降。 又’本發明之附有光反射膜之基板，及光學顯示裝置 ，以及電子機器係對於在實施型態說明過之液晶顯示裝置 -56- (52) (52)200400415 等其他，利用電游動之顯示裝置亦可適當地適用。 [圖式簡單說明] [圖1]爲了說明本發明之光罩所提供之平面圖。 [圖2]爲了說明將1畫素（RGB ;3點距）作爲一單位來任 意配列光透過部或光不透過部於平面方向之光罩之平面圖 〇 [圖3]爲了說明將2畫素（RGB;6點距）作爲一單位來任 意配列光透過部或光不透過部於平面方向之光罩之平面圖 〇 [圖4]爲了說明將3畫素（RGB;1 2點距）作爲一單位來任 意配列光透過部或光不透過部於平面方向之光罩之平面圖 〇 [圖5 ]爲了說明將3 2 4畫素（RG B ; 9 7 2點距）作爲一單位 來任意配列光透過部或光不透過部於平面方向之光罩之平 面圖。 [圖6 ]爲了說明將橫一列作爲一單位來任意配列光透 過部或光不透過部於平面方向之光罩之平面圖。 [圖7]爲了說明不同之光透過部或光不透過部之口徑 的光罩之平面圖。 [圖8]爲包含第〗基板及第2基板之光反射膜的剖面圖 〇 [圖9 ]由實質上非對稱水滴型凸部而成之光反射膜之 平面圖及剖面圖。 -57- (53) 200400415 [圖10]表示視覺上之光量 [圖1 1 ]具有開口部之光反 [圖12]光反射膜之製造工 [圖13]光反射膜之製造工 [圖14]爲了說明電接續於 之剖面圖。 [圖15]爲表示無源矩陣方 面圖。 [圖16]爲表示其他之液晶 [圖17]爲表示作爲電子機 斜視圖。 [圖18]爲作爲電子機器一 圖。 [圖19]爲由實質上圓錐形 基板之平面圖及剖面圖。 [圖20]由實質上非對稱水 膜基板之平面圖及剖面圖。 [圖2 1 ]由實質上非對角錐 膜基板之平面圖及剖面圖。 [圖22]由實質上水平剖面 垂直剖面比其曲率半徑還大抛 膜基板之平面圖及剖面圖。 [圖23]實質上水平剖面爲 狀之凹部而成之附有光反射膜 與所辨識之角度關係圖。 射膜之剖面圖。 程圖。 程之流程圖。 TFT元件之光反射膜所提供 式之液晶顯示裝置之構成剖 顯示裝置之構成剖面圖。 器一例之小型電腦之構成之 例之行動電話之構成之斜視 之凹部而成之附有光反射膜 滴型凹部而成之附有光反射 狀之凹部而成之附有光反射 在小曲率半徑之拋物線，由 物線凹部而成之附有光反射 長方型，於垂直方向由角錐 基板之平面圖及剖面圖。 -58- (54) (54)20 細 0415 [圖24] TFD方式之液晶顯示裝置之分解圖。 [圖2 5 ]TFD方式之液晶顯示裝置之部份剖面圖。 [圖2 6] TFD方式之液晶顯示裝置之部份斜視圖。 [圖27]表不以往之液晶顯不裝置之構成剖面圖。 [圖2 8]表示以往之液晶顯示裝置之其他構成剖面圖 [圖29]以往之液晶顯示裝置之製造工程圖。 [符號說明] ]〇， 15， 20， 30， 40， 50， 230， 240 ：光罩 7 0，1 0 0 :光反射膜 7 2，1 1 6 :反射層 76，1 12 :第1基材 7 9，1 1 3 :第2基材 1〇2 :開口部 140 :液晶顯示裝置 1 4 1 :第1基板（觀察側之基板） 142 :第2基板 143 :透明電極 1 4 4 :液晶 145 :保護板 1 4 6 :偏光板 1 4 7 :散亂層 1 4 8 a :接著劑 1 4 8 b :微粒子 (55)2004P0415

1 4 9 :反射層 1 5 0 :彩色濾片 1 5 1 :遮光板 1 5 2 :導光板 1 5 3 :背照光單元 1 5 4 :透明電極 1 5 5 :擴散板 1 5 6 :反射板 1 5 7 :外敷層 1 5 8 :封合材 1 5 9 :開口部 1 6 0 :液晶顯示裝置 161 :小型電腦（電子機器） 170 :行動電話（電子機器）

2 3 0 :液晶顯示裝置 247 ： TFD -60-

Claims (1)

1. (1) 200400415 拾、申請專利範圍 1. 一種光罩，屬於爲製造附有光反射膜之基 ，其特徵係將光透過部或光不透過部之位置，經 數所分割，將該光透過部或光不透過部向平面方 以排列者。 2 .如申請專利範圍第1項之光罩，其中，經 數函數，產生〇〜1之任意數字，該據該數字，對 點，分配1〜n(n係2〜1 000之任意自然數）之數字的 預先製作之η種之隨機圖案，經由對於分配之數 應，將前述光透過部或光不透過部，向平面方向 排列者。 3 ·如申請專利範圍第1項或第2項之光罩， 100〜2000點或畫面整體做爲一單位，將前述光透 不透過部，向平面方向隨機加以排列者。 4 .如申請專利範圍第1項或第2項之光罩，其 述光透過部或光不透過部，向橫一列方向或縱— 形成帶狀之隨機圖案，將該帶狀之隨機圖案於複 以重覆。 5 .如申請專利範圍第1項或第2項之光罩，其 述光透過部或光不透過部之口徑成爲3〜15μπι之 値。 6.如申請專利範圍第1項或第2項之光罩，其 述光透過部或光不透過部之口徑各不相同，設置 光透過部或光不透過部。 板的光罩 由亂數函 向隨機加 由BU述亂 於所有的 同時，將 字加以對 隨機加以 其中，將 過部或光 中，將前 列方向， 數列中加 中，將前 範圍內之 中，使前 2〜1 0種之 (2) (2)200400415 7 . —種附有光反射膜之基板，屬於包含基材，和反射 層之附有光反射膜之基板，其特徵係將形成於該基材之表 面的複數之凸部或凹部之位置，經由亂數函數加以分配， 將前述光透過部或光不透過部，向平面方向隨機加以排列 者。 8.如申請專利範圍第7項之附有光反射膜之基板，其 中’令前述複數之凸部或凹部，將1〇〇〜20 00點或畫面整體 做爲一單位’向平面方向隨機加以排列者。 9.如申請專利範圍第7項或第8項之附有光反射膜之基 板，其中，令前述複數之凸部或凹部，排列成橫一列方向 或縱一列方向’形成帶狀之隨機圖案，將該帶狀之隨機圖 案於複數列中加以重覆。 1 0 _如申請專利範圍第7項或第8項之附有光反射膜之 基板’其中’將前述複數之凸部或凹部之口徑成爲 3〜15μιη之範圍內之値。 1 1 .如申請專利範圍第7項或第8項之附有光反射膜之 基板，其中，使前述複數之凸部或凹部之口徑各不相同， 設置2〜10種之凸部或凹部。 1 2 .如申請專利範圍第7項或第8項之附有光反射膜之 基板’其中’前述基材由下方順序包含第1之基材及第2之 基材，該第1之基材則由複數之凸部或凹部所構成，由連 續第2之基材之複數之凸部或凹部所構成者。 1 . 種光反射膜之製造方法，屬於包含基材及反射 層之光反射膜之製造方法，其特徵係使用將光透過部或光 >62- (3) (3)200400415 不透過部之位置，經由亂數函數加以分配，將該光透過部 或光不透過部，向平面方向隨機地加以排列的光罩，對於 塗佈之感光性樹脂，經由曝光步驟，向平面方向隨機地加 以排列，且形成具有複數之凸部或凹部之第1之基材的工 程， 和於該第1之基材之表面，塗佈感光性樹脂，經由曝 光步驟，形成具有連續之複數之凸部或凹部的第2之基材 的工程， 和於該第2之基材之表面，形成反射層之工程。 1 4. 一種光學顯示裝置，屬於具備挾持於基板間之光 學元件，和設於與該光學元件之觀察側相反側之基板的光 反射膜的光學顯示裝置中，其特徵係該光反射膜係由基材 及反射層所成，形成於該基材之複數之凸部或凹部之位置 ，經由亂數函數加以分配，該複數之凸部或凹部向平面方 向隨機地加以排列。 1 5 .如申請專利範圍第1 4項之光學顯示裝置，其中， 於光學顯示裝置之觀察側之基板，設置光散亂膜。 1 6 .如申請專利範圍第1 4項或第1 5項之光學顯示裝置 ’其中，於光學顯示裝置之觀察側之基板，設置保護板。 1 7 . —種電子機器，屬於包含具備光反射膜之光學顯 示裝置之電子機器，其特徵係前述光反射膜包含基材及反 射層，形成於該基材之複數之凸部或凹部之位置，則經由 隨機函數所分配，該複數之凸部或凹部向平面方向隨機地 加以排列。