TW200300732A - Color filter, its forming material and its forming process, electric circuit substrate and its forming process and liquid crystal element - Google Patents

Color filter, its forming material and its forming process, electric circuit substrate and its forming process and liquid crystal element Download PDF

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200300732 玖、發明說明 (發明說明應敘明:發明所屬之技術領域、先前技術、內容、實施方式及圖式簡單說明) (一) 發明所屬之技術領域 本發明係有關一種濾色片、其形成材料及其形成方法、 附有濾色片之電路基板及其形成方法及液晶元件。 (二) 先前技術 使用感光性轉印材料進行製作液晶顯示器等使用的濾色 片: · 減色片之製作原理係以感光性轉印材料之多色映像形成 爲基準者。說明有關使用該感光性轉印材料之映像形成方 法。 使感光性樹脂層在加壓、加溫下貼合於基體上,在玻璃 假載體且經由所定光罩等(視其所需熱可塑性樹脂層、中間 層)曝光、顯像。顯像係以習知方法浸漬於溶劑或水性顯像 液、特別是鹼水溶液中,或以自噴霧之顯像液噴霧且以刷 子擦拭或以超音波照射且處理進行。使用具有不同顏色著 鲁 色的感光性樹脂層之感光性轉印材料,重複數次該工程時 以形成多色映像。 另外,近年來伴隨0A化進展之利用電子照相方式、噴墨 方式、感熱轉印記錄方式等各種記錄方式之影印機或印表 機等視各種用途而定予以使用。於此等之中,感熱轉印方 式由於具有容易操作且保守 '可裝置小型化、低成本化等 優點,故被應用於濾色片形成材料。 -5- 200300732 感熱轉印記錄方式例如伴隨最近印刷前工程(預壓製範圍) 中電子化系統之普及化,開發自數據信號直接製作彩色試 樣之記錄系統。該電子化系統特別是以製作濾色片爲目的 ,一般而言使1 5 0線/吋以上之網點映像再現。爲自數據信 號記錄高畫.質之同質時,藉由數據信號可以變調、且使記 錄光變細、扭轉進入可使用雷射射光作爲記錄頂部。因此 ’必須開發對雷射光而言具有高記錄感度,且具有使高精 細網點再現的局解像力記錄材料。 利用雷射光之轉印映像形成方法所使用的記錄材料例如 在載體上順序具有吸收雷射光產生熱之光熱變換層、及顏 料分散於熔融性鱲、黏合劑等成分中之映像形成層的熱熔 融轉印片板(日本特開平5 - 5 804 5號公報)係爲已知。使用 此等記錄材料之映像形成方法係爲在光熱變換層之雷射光 照射範圍中產生熱,對應於該範圍使映像形成層熔融且轉 印於轉印片板上積層配置的受像片板,在受像層上形成轉 印映像。 而且,特開平6 - 2 1 9 0 5 2號公報中揭示在載體上順序設置 含有光熱變換物質之光熱變換層、非常薄層(0 . 〇 3〜0 . 3 μιη ) 之熱剝離層、含有色材之映像形成層的熱轉印片板。該熱 轉印片板藉由照射雷射光,藉由上述熱剝離層存在以減低 結合的映像形成層與光熱變換層間之結合力,在熱轉印片 板上積層配置的受像片板上形成高精細映像。使用上述熱 轉印片板之映像形成方法係利用所謂「脫離」,具體而言 在受到雷射光照射的範圍使部分熱剝離層分解、氣化,故 - 6 - 200300732 利用在該範圍之映像形成層與光熱變換層間之結合力弱, 轉印於該範圍之映像形成層上積層的受像片板上的現象。 此等映像形成方法具有可使用附設於受像層(黏合層)之 印刷本紙作爲受像片板材料、藉由不同顏色的映像順序轉 印h受像片板上可容易製得多色映像等優點,特別是利用 脫離現象之映像形成方法具有可容易得到高精細映像之優 點’對於製作彩色試樣(DDCP : direct · dlgltal · colorproof)或高精細光罩映像極爲有用。 因此’上述DDCP之技術所使用的雷射熱轉印多色映像形 成材料作爲濾色片之形成材料極爲有用。 濾色片係爲在透明受像片板上各配置r、G及b之條狀映 像或點狀映像,視其所需使各境界以黑色矩陣區分的構造 。例如著色圖樣(例如R、G及B以及黑(K ))之位置精度非 吊重要’特別是黑色矩陣與其他著色圖樣間沒有間隙,必 須進行位置決定。 然而,K色爲數μιη〜20μηι之條狀,必須製作BGR畫素所 形成的間隙,惟BGR畫素之大小通常爲80〜200μπι,使其 以〇·5〜20μπι記錄(寫入)寬度記錄者,以雷射熱轉印方式 製作Κ色係不簡單,BGR畫素與黑色矩陣之位置不一致, 很容易產生間隙或段差的問題。 另外,畫素或黑色矩陣與上述彩色試樣相比時必須具有 t的光學濃度,特別是必須使畫素或黑色矩陣之厚度變大 然而,爲使層厚變厚時熱轉印片板之映像形成層變厚 200300732 會有映像對受像片板之轉印性惡化且畫素之飩刻形狀惡化 且畫素與黑色矩陣間產生段差等,以及必須使轉印能量增 大等問題產生。 此外,濾色片配備於TFT-LCD等,爲在濾色片與TFT間 注入液晶、使該液晶之厚度控制一定時,導入液晶部分爲 一定大小的玻璃珠之方法係爲一般已知的方法。該方法特 別是顯示板之尺寸過大時,會有玻璃珠落下且液晶厚度變 動、畫質變化的問題。 而且,經由液晶在TFT等電路基板反面之玻璃基板上製 作上述濾色片的方式,與液晶厚度成比例畫質脫落係爲已 知。以避免該問題爲目的時,在電路基板上製作濾色片係 爲已知(例如特開200 1 - 228469號公報)。 然而,以該習知方法於製作濾色片時,由於使用鹼顯像 液時會有金屬離子殘留,且該殘留離子對電路驅動有不良 影響係爲已知。 本發明係以提供爲形成在BGR畫素與黑色矩陣間沒有間 隙或段差、或蝕刻形狀良好的濾色片之由濕式顯像轉印片 板、雷射熱轉印片板及受像片板所成材料、使用它之濾色 片的形成方法及所得濾色片以及液晶元件爲目的。 另外,本發明以提供即使具有層厚度極厚的畫素及黑色 矩陣,仍可提供轉印性佳、且蝕刻形狀良好的濾色片之雷 射熱轉印片板及受像片板所成濾色片形成材料、使用它之 濾色片的形成方法及所得濾色片以及液晶元件爲目的。 此外,本發明以提供可提供蝕刻形狀良好、沒有段差、 一 8- 200300732 且高光學濃度之濾色片所使用雷射熱轉印片板及受像片板 之濾色片形成方法及所得的濾色片以及液晶元件爲目的。 而且,本發明以提供可提供確保液晶厚度一定、可得一 定畫質之濾色片所使用雷射熱轉印片板及受像片板之濾色 片形成方法及藉由他所得的濾色片以及液晶元件爲目的。 另外,本發明以提供使用雷射熱轉印片板及電路基板、 沒有對電路驅動有不良影響的金屬離子之附有濾色片的電 路基板形成方法及藉由它所得的附有濾色片之電路基板及 液晶元件爲目的。 · (三)發明說明 換言之,爲解決上述課題之方法係如下所述。 (1 ) 一種濾色片形成材料,其特徵爲由在載體上至少具有 光變換層、具紅色(R )、綠色(G )或藍色(B )之映像形成層的 雷射熱轉印片、與在載體上至少具有黑色(κ )之感光性樹脂 層的濕式顯像轉印片所成。 (2 ) —種濾色片之形成方法,其特徵爲自如上述(丨)記載 鲁 之熱轉印片板與受像片板重疊的熱轉印片板側使雷射光像 牛永照射’在受像片板上形成由;βG及β所成映像,使如上 述Π )記載之濕式顯像轉印片板重疊於該映像上以使該感光 性樹脂層轉印後’自受像片板裏面放射線照射且濕式顯像 ’然後加熱處理。 (3 ) —種濾色片之形成方法,其特徵爲在受像片板上使如 上述(1 )記載之濕式顯像轉印片板重疊以使該感光性樹脂層 轉印後,自受像片板表面上及/或裏面上經由光罩放射線照 -9- 200300732 射,再濕式顯像以形成黑色矩陣,然後,使如上述(1 )記載 之雷射熱轉印片板重疊於受像片板,自熱轉印片板側使雷 射光像樣照射,受像片板上黑色矩陣間或黑色矩陣之間及 黑色矩陣之周邊部形成由R、G及B所成映像。 (4 )如上述(3 )記載之濾色片形成方法,其中含有載負以 如上述(3 )記載之方法製作的黑色矩陣及由R、G及B所成 映像之受像片板加熱處理的工程,以及使受像片板表面硏 磨處理的工程。 (5 ) —種濾色片,其特徵爲藉由如上述(2 )〜(4 )中任一項 ® 記載之濾色片的形成方法予以製造。 (6 ) —種濾色片形成材料,其特徵爲由在載體上至少具有 光熱變換層、紅色(R)、綠色(G)、藍色(B)或黑色(K)之映 像形成層的雷射熱轉印片板所成,且該映像形成層含有塡 充顏料,且映像形成層之層厚爲0 . 1〜5 μΐΏ。 (7 ) —種濾色片形成方法,其特徵爲使如上述(6 )記載之 熱轉印片板與受像片板重豐’自熱轉印片板側使雷射光像 0 樣照射,在受像片板上形成由R、G、Β及Κ所成映像。 (8 ) —種濾色片,其特徵爲藉由如上述(7 )記載之濾色片 形成方法製造。 (9 ) 一種濾色片之形成方法,其係於使在載體上至少具有 光熱變換層、紅色(R)、綠色(G)、藍色(Β)或黑色(κ)之映 像形成層的4種雷射熱轉印片板與受像片板重疊,自熱轉 印片板側使雷射光像樣照射,在受像片板上轉印映像形成 層以形成由R、G、Β及Κ所成映像的方法中,其特徵爲使 -10- 200300732 至少一種該4種雷射熱轉印片板轉印2次以上。 (1 0 )如上述(9 )記載之濾色片形成方法,其中具有κ映像 形成層之雷射熱轉印片板之映像形成層的轉印在最初^胃 後進行。 (11 )如上述(1 0 )記載之濾色片形成方法,其中映像形成 層之層厚爲0.1〜5μΐϊΐ。 (1 2 ) —種濾色片,其特徵爲藉由如上述(9 )〜(1 1 )中任— 項記載之濾色片的形成方法製造。 (1 3 ) —種濾色片之形成方法,其特徵爲具有使在載體上 至少具有光熱變換層、紅色(R)、綠色(G)、藍色(Β)或黑色 (Κ )之映像形成層的4種雷射熱轉印片板與受像片板重疊, 自熱轉印片板側使雷射光像樣照射,在受像片板上轉印映 像形成層以形成由R、G、Β及Κ所成映像的工程,與使受 像片板表面與具有樹脂層之雷射熱轉印片板重疊,自熱轉 印片板側使雷射光像樣照射,在映像上使樹脂層轉印以形 成間隔片的工程。 (1 4 ) 一種濾色片,其特徵爲藉由如上述(1 3 )記載之濾色 片的形成方法製造。 (1 5 ) —種液晶元件,其特徵爲使用如上述(1 4 )記載之濾 色片。 (1 6 ) —種附有濾色片之電路基板的形成方法,其特徵爲 使在載體上至少具有光熱變換層、紅色(R )、綠色(G )、藍 色(Β )或黑色(Κ )之映像形成層的4種雷射熱轉印片板與受 像片板重疊,自熱轉印片板側使雷射光像樣照射,在電路 -11- 200300732 基板上轉印映像形成層以形成由R、G、B及K所成映像。 (1 7 ) —種附有濾色片之電路基板,其特徵爲藉由如上述 (1 6 )記載之濾色片形成方法製造。 (1 8 ) —種液晶元件,其特徵爲如上述(1 7 )記載之附有濾 色片之電路基板。 (1 9 ) 一種液晶元件,其特徵爲使用如上述(5 )、( 8 )或(1 2 ) 項之濾色片。 於本發明說明書中,上述(1 )記載之發明稱爲本發明(1 ) 。其他發明亦相同。而且,簡稱本發明時係爲本發明記載 * 的發明全體總稱。 本發明(1 )之濾色片形成方法,其特徵爲由在載體上至少 具有光變換層、具紅色(R )、綠色(G )或藍色(Β )之映像形成 層的3種雷射熱轉印片、與在載體上至少具有黑色(Κ)之感 光性樹脂層的濕式顯像轉印片所成。 而且,本發明(2 ) —種濾色片之形成方法,其特徵爲由自 使上述之熱轉印片板與受像片板重疊的熱轉印片板側使雷 φ 射光像樣照射,在受像片板上形成由R、G及Β所成映像的 工程(稱爲雷射處理工程),使上述濕式顯像轉印片板重疊 於該映像上以使該感光性樹脂層轉印後,自受像片板裏面 放射線照射且濕式顯像的工程(稱爲濕式顯像處理工程), 然後加熱處理的加熱處理工程所成。 本發明(2 )係爲使用上述3種雷射熱轉印片板,在受像片 板上形成由R、G及Β所成映像,且使用濕式顯像轉印片板 形成Κ色、即黑色矩陣。此處,由R、G及Β所成映像係指 -12- 200300732 在濾色片之黑色矩陣間埋入紅色濾色片之畫素(R )、綠色濾 色片之畫素(G)及藍色濾色片之畫素(B)、此等畫素之集合 稱爲畫素(R,G,B)。 本發明濾色片之畫素(R , G,B )例如第4圖所示畫素之配置 ,惟不受此等所限制、可以爲任意。畫素(R )、畫素(G )、 畫素(B)之大小例如圖中、a爲100〜3 00 μιη、b約爲300 μπι 、c之黑色矩陣線寬爲數μηι〜20μιη,可以適當變更。 濾色片在受像片板上形成時必須在如上述畫素(R , G,Β )與 黑色矩陣間沒有間隙。 以往,黑色矩陣必須在形成畫素(R,G,Β )的間隙或相反製 作,惟爲形成畫素(R,G,Β )時藉由雷射熱轉印之記錄寬度爲 0 · 5〜2 Ομπι,使黑色矩陣以雷射熱轉印方式製作時係不簡 單、在畫素(R , G,Β )與黑色矩陣間會有產生間隙或段差的缺 點。 本發明(2 )由於在形成黑色矩陣的畫素(R , G,Β )上使用濕 式顯像轉印片板、自裏面放射線照射,故可提供畫素(R,G , Β ) 爲光罩、與黑色矩陣間沒有間隙或段差之濾色片。 本發明(3 )之濾色片的形成方法,係由在受像片板上使具 有黑色(Κ )之感光性樹脂層的濕式顯像轉印片板重疊以使該 感光性樹脂層轉印後,自受像片板表面上及/或裏面上經由 光罩放射線照射,再濕式顯像以形成黑色矩陣的工程(稱爲 濕式顯像處理工程),與使具有畫素(R )、畫素(G )、畫素(Β ) 之映像形成層的3種雷射熱轉印片板重疊於受像片板,自 熱轉印片板側使雷射光像樣照射,受像片板上黑色矩陣間 - 1 3 _ 200300732 或黑色矩陣之間及黑色矩陣之周邊部形成由R、G及B所成 映像的工程(稱爲雷射處理工程)所成,較佳者含有繼後的 加熱處理工程及硏磨工程。 本發明(3 )之特徵係爲使用濕式顯像轉印片板使黑色矩陣 在受像片板上形成的濕式顯像處理工程,在使用雷射熱轉 印片板之雷射處理工程前進行。藉此可確保黑色矩陣之位 置精度與可使蝕刻部形狀爲直角。 使用濕式顯像轉印片板形成K色、即黑色矩陣,且使用 上述3種雷射熱轉印片板在黑色劑體之間或黑色矩陣間及 黑色矩陣周邊部上形成畫素(R,G,B)。此處,黑色矩陣周邊 部亦存在有畫素時稱爲畫素”1,(51,]81),而在黑色矩陣周 邊部幾乎沒有存在畫素時及理想配置時稱爲畫素(R,G,B )。 爲畫素(R1,G1,B1)時,畫素之黑色矩陣上重疊的寬度d 以〇〜1 Ομιη較佳(第5圖中僅有1種畫素,惟其他畫素亦相 同)°該寬度d中存在的畫素最終以經由硏磨處理除去者較 佳。 本發明(6 )之濾色片形成材料,其特徵爲由在載體上至少 具有光熱變換層、紅色(R )、綠色(G )、藍色(B )或黑色(κ ) 之映像形成層的4種雷射熱轉印片板所成,且該映像形成 層含有塡充顏料,且映像形成層之層厚爲〇 .丨〜5μπ]。 本發明(7 )之濾色片形成方法,其特徵爲使如上述之熱轉 印片板與受像片板重疊,自熱轉印片板側使雷射光像樣照 射,在受像片板上形成由R、G、Β及κ所成映像。 本發明(7 )係爲使用上述4種雷射熱轉印片板,在受像片 —14 - 200300732 板上形成由R、G、B及K所成映像。此處,由r、g、B及 K所成映像係指在濾色片之黑色矩陣間埋入畫素(R,G,B)、 此等畫素及黑色矩陣之集合稱爲映像(r,G,B,K)。 本發明(7 )係黑色矩陣在形成畫素(R,G,b )之間隙或相反 製作’惟由於使用雷射熱轉印片板,後者爲先時可確保轉 印性、極爲有利。 本發明(7 )由於藉由在映像形成層上添加塡充顏料,即使 映像形成層之層厚度變厚、雷射照射對應部之映像形成層 容易切斷、破裂,故可以極少能量使蝕刻形狀形成直角。 結果可形成具有高光學濃度之映像(R,G,B,K )的濾色片。 此外,由於映像形成層含有塡充顏料,亦具有提高雷射 熱轉印片板與受像片板重疊時之平滑性效果。 本發明(6 )使用的塡充顏料以無色透明的金屬氧化物較佳 ,例如二氧化矽、氧化鋅、硫酸鋇、碳酸鋇、氧化鋁白、 碳酸鈣、硬脂酸鈣等,其中以二氧化矽、氧化鋅較佳。二 氧化矽之具體例如R- 9 7 2、#200 (日本羅耶吉魯公司製)、 西侯史塔KE (日本觸媒化學工業股份有限公司製)、史羅迪 克斯(商品名:甲醇矽烷凝膠,ma-st-m,ipa-st,mek-st; 曰產化學工業股份有限公司製)等之市售品。氧化鋅之具體 例如ZnO-lOO、ZnO- 200 (住友水泥股份有限公司製)等之市 售品。 塡充顏料之粒徑以〇 . 〇 1〜〇 . 5 μΐΏ較佳、更佳者爲〇 . 〇 2 〜0.4μπι。塡充顏料之添加量以映像形成層之全部固成分的 1〜70質量%較佳、更佳者爲2〜30質量%。若在此等範圍 - 15 - 200300732 外時’會有不易在受像片板上以蝕刻形狀良好的狀態形成 映像(R,G,B,K )之傾向。 塡充顏料使用可均勻分散於適當分散劑之狀態者,以可 得均勻映像形成層而言較佳。使上述塡充顏料分散時使用 的分散劑例如索魯史伯斯3 000、90 00、1 7000、20000、27000 ( 壬尼卡股份有限公司製)、亞吉史伯PB-71 1、PN-41 1、PA-1 1 1 (味之素股份有限公司製)、EFKA- 76 6、5244、71、65、 64、63、44(耶夫化學公司製)等,其中以索魯史伯斯20000 較佳。上述分散劑之使用量對1 0 0質量份塡充顏料而言使 用〇 · 5〜1 〇 〇質量份,就成爲分散性佳的分散溶液而言較佳 〇 另外,上述分散溶液中視其所需藉由使用各種界面活性 劑以提高分散安定性。各種界面活性劑例如烷基萘磺酸鹽 、磷酸酯鹽爲典型的陰離子系界面活性劑、銨鹽爲典型的 陽離子系界面活性劑、胺基羧酸、甜菜鹼型爲典型的兩性 界面活性劑。 本發明(9 )之濾色片形成方法,其特徵爲使自熱轉印片板 側使雷射光像樣照射,在受像片板上轉印映像的工程,使 用2次以上至少一種具有畫素(R)、畫素(G)、畫素(B)或畫 素(K )之映像形成層的4種雷射熱轉印片板。 本發明(9 )係以上述方法在受像片板上形成映像(R,G,B,K ) 本發明(9 )藉由數次轉印至少一種具有較薄的映像形成層 之4種雷射熱轉印片板,可以高精度形成映像(R,G,B,K )。 -16- 200300732 上述黑色矩陣係在形成畫素(R , G,B )之間隙或以相反製作 ,惟由於使用雷射熱轉印片板,使後者爲先時就確保轉印 性而言極爲有利,以最後藉由K之雷射熱轉印片板再次轉 印較佳。 於本發明(9 )中形成該映像(R,G,B,K )的方法,沒有特別 的限制,例如下述方法。 首先,使用厚度K 1之熱轉印片板以形成黑色矩陣,然後 使用具有較黑色矩陣爲厚的映像形成層之R2、G2及B2的 各熱轉印片板順序轉印以形成映像(R2,G2,B2,K 1 ),在該映 像(R2 ,G2,B2,K1 )上使用與映像(R2,G2,B2,K1 )相同厚度的 僅K之映像形成層的熱轉印片板轉印,可形成平板的映像 (R2,G2,Β2,Κ2)。 或者’先使用厚度Κ 1之熱轉印片板以形成黑色矩陣,再 使用具有與黑色矩陣相同厚度的映像形成層之R1,G1及B1 之各熱轉印片板予以順序轉印以形成映像(R 1,G 1,B 1,Κ 1 ), 在該映像(R1,G1,B1, K 1 )之黑色矩陣上使用厚度K1之熱轉印片板積層形成黑 色矩陣’然後使用具有較黑色矩陣爲厚的映像形成層之R1 ' G1及 B1的各熱轉印片板順序轉印以形成映像 (R2,G2,B2,K2 )。 於上述方法中可適當改變4種雷射熱轉印片板之轉印順 序。 本發明(9 )由於使用具有較薄映像形成層之熱轉印片板, 故藉由積層雷射照射對應部之映像形成層溶液切斷、破裂 - 1 7 - 200300732 所形成的畫素及/或黑色矩陣,可形成蝕刻形狀爲直角且具 有高光學濃度、沒有段差之映像(R , G , Β , κ )的濾色片。 本發明(1 3 )之濾色片形成方法,其特徵爲具有使在載體 上至少具有光熱變換層、紅色(R)、綠色(G)、藍色(Β)或黑 色(Κ )之映像形成層的4種雷射熱轉印片板與受像片板重疊 ’自熱轉印片板側使雷射光像樣照射,在受像片板上轉印 映像形成層以形成由R、G、Β及Κ所成映像的工程(以下稱 爲Α工程),與使受像片板表面與具有樹脂層之雷射熱轉印 片板重疊,自熱轉印片板側使雷射光以像樣照射,在映像 ® 上使樹脂層轉印以形成間隔片的工程(以下稱爲B工程)。 本發明(1 3 )之濾色片形成方法中,A工程與B工程之順 序可以任意,例如可以A工程後進行B工程,亦可以A工 程後、其他工程例如在映像上設置I TO (銦錫氧化物)等透 明電極等之工程後,在具有設置該透明電極等表面之受像 片板表面上實施B工程。而且,亦可以進行B工程後進行 A工程。另外,亦可以在A工程之間插入B工程,例如在G φ 映像形成後進行B工程。此外,亦可兼用部分A工程與B 工程,例如黑色矩陣之形成亦可以作爲B工程。 本發明(1 3 )可藉由以上述方法使具有映像形成層之4種 雷射熱轉印片板轉印於受像片板上,可以高精度形成映像 (R,G,B,K)。 設有間隔片之受像片板上可以在受像片板上形成的晝素 (R,G,B )上,亦可以在沒有形成畫素(R,G,B )的受像片板上 ,較佳者爲在黑色矩陣上或黑色形成用表面部分。而且’ -18- 200300732 具有樹脂層之雷射熱轉印片板之樹脂層可以爲形成映像 (R,G,B,K )之雷射熱轉印片板,亦可以自此等除去著色顏料 者。惟使用著色的雷射熱轉印片板時,以間隔片之位置與 顏料對應於映像(R,G,B,K )之位置與顏色較佳。 間隔片的大小、形狀、分布可視濾色片之種類而定予以 適當設定,可得最適者。形狀例如高度(相當於液晶之厚度) 一定的圓柱、四角柱等之柱體、薄板狀等。 本發明(1 3 )由於使用雷射熱轉印片板使上述間隔片固定 於濾色片上,可使液晶厚度固定,藉由變動液晶元件之液鲁 晶厚度來控制映像之變質。 本發明(1 6 )附有濾色片之電路基板的形成方法,其特徵 爲使雷射熱轉印片板與受像片板重疊,自熱轉印片板側使 雷射光以像樣照射,在電路基板上形成映像(R、G、B、κ ) ο 濾色片必須在畫素(R,G,Β )與黑色矩陣間沒有間隙下形成 於電路基板上。 | 於本發明(1 6 )中電路基板係指形成有可電子控制對畫素 (R,G,Β )之光照射或非照射之電路基板,該電路具體例如薄 且旲電晶體(TFT)等。映像(R,G,B,K)在對應於畫素(R,G,B)與 TFT之畫素電極範圍之電路基板上形成。 TFT例如冃面通道邊緣型(back channel cut型)、通道 保護膜型(i s t〇pPer型)、頂端閘門型(正擺動方式)等。 而且’電路可以具有電子傳導性材料(例如鉅、鉬、鎢、 銘 '銅)、半導體材料、無機絕緣材(例如氮化砂)、保護膜 -19- 200300732 等。 形成濾色片之電路基板表面以偶合劑及高分子處理較佳 ,可以爲平滑面或具有凹凸之面,以前者較佳。 此外,電路以在玻璃、鹼石灰玻璃(例如日本板玻璃股份 有限公司製NSG-ST)、無鹼玻璃(例如克凝谷公司製7050) 、石英玻璃、塑膠板等之光透過性且絕緣性材料上形成較 佳。而且,電路基板可以如下述之受像片板具有可撓性。 本發明(1 6 )由於使用雷射熱轉印片板可直接使映像 (R,G,B,K )設置於電路基板上,不會如習知濕式顯像法中金 ® 屬離子混入液晶,可改善液晶之動作性。 本發明使用的雷射熱轉印片板可使用藉由淸晰網點以實 現熱轉印映像,可以爲1 000mm以上X 1 000mm以上之大小, 特別是對以B 2大小記錄(5 1 5 m m X 7 2 8 m m、惟B 2大小爲5 4 3 m m x 7 6 5 m m )之系統極爲有效且適合。 該熱轉印映像可以2400〜25 40dpi形成視印刷線條而定 的網點映像。由於幾乎是一網點一網點個別滲出·不會有 φ 欠缺的形狀非常淸晰,可使閃亮點至淸晰之高範圍網點淸 楚形成。結果,可以與影像中心或CTP中心相同解像度以 高品質網點出力,可使與設定値相近的網點再現且使該網 點爲對應於畫素(R,G,B·)或映像(R,G,B,K )者。 另外,該熱轉印映像對由於爲具有淸晰網點形狀之雷射 光束而言的網點、進而使畫色忠實再現,或爲與記錄特性 之環境溫濕度相關性極小,故在廣泛範圍的溫濕度環境下 可得色相•濃度安定的重複再現性。 -20 - 200300732 該熱轉印映像由於重複再現性良好,可實現高精度之 CM S(c ο 1 〇 r management system) 〇 另外,該熱轉印映像由於點形狀淸晰,可使畫素良好切 斷、再現。藉由雷射光產生的熱,在不會面方向擴散下傳 送至轉印界面,在加熱部/非加熱部之界面上映像形成層明 顯破裂。因此,可控制熱轉印片板中光熱變換層薄膜化與 映像形成層之力學特性。 模擬作用可推定光熱變化層瞬間到達7 0 0 °C,膜變薄時容 易引起變形或破壞。引起變形·破壞時,光熱變換層轉印 於轉印層與受像片板或電路基板上,會產生轉印向不均句 的實害。此外,爲得所定溫度時膜中光熱變換物質必須以 高濃度存在,亦會產生色素之析出或移行至鄰接層的問題 〇 因此,藉由選定光熱變換特性優異的紅外線吸收色素及 聚醯亞胺系等之耐熱性,使光熱變換層薄膜化成約〇 . 5 // m 以下較佳。 此外,一般而言引起光熱變換層變形、或該熱因高熱變 形時,轉印於受像層上之映像形成層會產生對應於雷射光 之副掃描圖樣的厚度斑,故畫素(R , G,B )或映像(R,G,B,K ) 不均勻、外觀轉印濃度降低。該傾向於映像形成層之厚度 愈薄時愈顯著。此外,映像形成層之厚度愈厚時,會損害 點的淸晰度且感度會降低。 爲使該相反的性能兩立時,以藉由在硬性形成層中添加 蠟等之低熔點物質來改善轉印斑較佳。而且,藉由添加無 -21- 200300732 機微粒子取代黏合劑以適當提高膜厚,在加熱部/非加熱部 之界面上映像形成層淸晰、破裂下可保持點之淸晰度•感 度且改良轉印斑。 力外,一般而言蠟等之低熔點物質會有滲出映像形成層 表面、結晶化的傾向,會產生畫質或熱轉印片板之經時安 定性問題。 爲對應該問題時,以使用與映像形成層之聚合物的Sp値 差小之低;ί谷點物質較佳’可提筒與聚合物之相溶性、可防 止低熔點物質自映像形成層分離。而且,藉由混合構造不鲁 同的數種低熔點物質,以防止共融化的結晶化較佳。結果 ’可得點形狀淸晰且斑少的畫素(R,G,Β )或映像(R,G,Β,Κ ) Ο 此外,一般而言藉由使熱轉印片板之塗覆層吸濕,會使 層之力學物性與熱物性變化且產生記錄環境之溫度相關性 〇 爲使該溫濕度相關性變小時,以光熱變換層之色素/黏合 鲁 劑系、及映像形成層之黏合劑系作爲有機溶劑系較佳。 另外’熱轉印有畫素的受像片板例如以矽烷偶合劑處理 後塗覆聚乙烯基丁縮醛以形成膜者較佳。爲使該膜之吸水 性小,有使聚合物疏水化技術導入乙烯基丁縮醛的方法。 聚合物疏水化技術例如特開平8 - 2 3 8 8 5 8號公報記載的使羥 基與疏水基反應,使2個以上之羥基以硬膜劑交聯等。 而且,通常藉由雷射曝光,於印畫時映像形成層約需 5 0 0 °C以上之熱,習知使用的顏料會熱分解,惟藉由在映像 -22- 200300732 形成層採用耐熱性高的顏料,可以防止該情形發生。 其次’藉由印畫時之高熱使紅外線吸收色素自光熱變換 層移行至映像形成層時,爲防止色相變化時以組合上述保 持力強的紅外線吸收色素/黏合劑設計光熱變換層較佳。 一般而s ’以局速印畫時能量不足,特別是對應於雷射 副掃描之間隔產生間隙。如上述光熱變換層之色素高濃度 及光熱變換層•映像形成層之薄膜化,可提高熱之產生/傳 達效率。另外’以提高加熱時不僅使映像形成層流動且埋 入間隙的效果及與受像片板上之膜的黏合性爲目的時,以 在映像形成層中添加低熔點物質較佳。此外,爲提高受像 片板上之膜與映像形成層之黏合性、充分維持轉印的畫素 (R,G,B )或映像(R,G,B,K )之強度時,可採用膜之黏合劑例 如與上述映像形成層相同的樹脂。 受像片板與熱轉印片板以藉由真空密接保持雷射記錄位 置較佳。該真空密接爲藉由控制兩者之黏合力以形成映像 時,受像片板之受像面與熱轉印片板的映像形成層面平面 上映像轉印舉動非常敏感,故極爲重要。橡膠等異物使材 料間之間隙變廣時,會產生映像缺陷或映像轉印斑。 爲防止該映像缺陷或映像轉印斑時,藉由在熱轉印片板 上有均勻的凹凸,以製得如空氣般佳、可得均勻的間隙較 佳。 在熱轉印片板上附有凹凸的方法,一般有壓花印花處理 等之後處理、對塗覆層中添加消光劑,爲使製造工程簡略 化、材料之經時安定化時,以添加消光劑較佳。消光齊彳必 -23- 200300732 須爲較塗覆層厚度大者,在映像形成層中添加消光劑時’ 由於會有消光劑存在部分之映像欠落的問題,故在光熱變 換層中添加最適粒徑之消光劑較佳,藉此映像形成層爲大 約均一的厚度,在受像片板上可得沒有缺陷的映像。 直至目前,爲確實使上述淸晰點再現時,雷射熱轉印片 板使用的記錄裝置側要求高精度設計。以往雷射熱轉印用 記錄裝置與基本構成相同。該習知構成係爲具備高能量之 數種雷射的記錄頂部在固定的熱轉印片板與受像片板上照 射雷射光予以記錄、即加熱型記錄系統。其中,下述形態 爲較佳的構成。惟本發明(2 )或(3 )中,有關K色必須藉由 濕式顯像轉印法製作。而且,本發明(1 6 )係於該系統中受 像片板須留意對應電路基板之點。 熱轉印片板及受像片板供應給全自動輥。受像片板與熱 轉印片板固定於記錄裝置爲真空吸附。記錄裝置中形成多 數真空吸附孔且使受像片板下藉由吹氣或減壓幫浦等減壓 ,使片板吸附於受像片板。爲在受像片板上吸附熱轉印片 板時,使熱轉印片板之大小較受像片板大。 本裝置係爲使數張B2大小之大面積片板重疊集積於排出 台上者。因此,採用在兩片板之間噴出空氣後,使排出的 片板浮出的方法。 本裝置之構成例如第3圖所示。 以上述本裝置說明藉由熱轉印片板之順序例。 1 )記錄裝置1之記錄頂部2的副掃描軸藉由副掃描軌 跡3,且記錄桶4之主掃描回轉軸及熱轉印片板滾動單位5 -24- 200300732 回復至原點。 2)受像片板輥6藉由搬送輥7解開,在記錄桶4上受 像片板頂部經由記錄桶所設的吸引孔真空吸引、固定。 3 )在記錄桶4上使擠壓滾筒8降落,控制受像片板且 藉由桶之回轉另以規定量搬送受像片板時予以停止’藉由 切斷機9以規定長切斷。 4 )另外,使記錄桶4滾動一周,使受像片板之浪動終 了。 5) 然後,以與受像片板相同的順序,使第一色之熱轉 印片板自熱轉印片板輥(10R,10G,或10B)或(10K,10R, 10G, 或10B)抽出、切斷、滾動。 6) 其次,記錄桶4開始高速回轉,使副掃描軌跡3上 之記錄頂部2開始運作,到達記錄開始位置時以記錄映像 信號爲基準藉由記錄頂部2在記錄桶4上照射記錄雷射。 在記錄終了位置使照射終了,且使副掃描軌跡動作、桶回 轉停止。副掃描軌跡上記錄頂部回復至原點。 1) 在記錄桶上殘留受像片板、僅熱轉印片板剝離。 因此,使熱轉印片板之頂部以爪抓住,引出於排出方向 ,自廢棄口 32廢棄於廢棄箱35。 8) 重複5 )〜7 )殘留2或3色份。記錄順序任意。 9) 2或3色完成時,最後使記錄完成的受像片板排出至 排出台3 1。自桶剝離的方法與7 )之熱轉印片板相同,惟由 於與熱轉印片板不同、沒有廢棄,故再進行至廢棄口 3 2時 藉由開關轉換回至排出口。排出於排出口時,自排出口 33 -25- 200300732 之下方噴出空氣34,可以數張集積。 以使用上述熱轉印片板輥及受像片板輥之供應部份或搬 送部分之任一搬送輥7上,在表面上配設黏合材料的黏合 輥較佳。 藉由設有黏合輥,可使熱轉印片板及受像片板表面淸潔 化。 在黏合輥表面上配設的黏合材料例如乙烯-醋酸乙烯基共 聚物、乙烯-丙烯酸乙酯共聚物、聚烯烴樹脂、聚丁二烯樹 脂、乙烯-丁二烯共聚物(SBR)、苯乙烯-乙烯-丁烯-苯乙烯 共聚物(SEBS)、丙烯腈-丁二烯共聚物(NBR)、聚異戊烯樹 脂(IR)、苯乙烯-異戊烯共聚物(SIS)、丙烯酸酯共聚物、 聚酯樹脂、聚胺基甲酸酯樹脂、丙烯酸樹脂、丁基橡膠、 聚原冰片烯等。 黏合輥藉由與熱轉印片板及受像片板表面接觸,可使該 表面淸潔化,使接觸壓接觸即可,沒有特別的限制。 熱轉印片板之映像形成層表面之表面粗度Rz與其裏面層 表面之表面粗度Rz的差絕對値爲3 . Ομιη以下,受像片板之 表面粗度Rz與其裏面層表面之表面粗度Rz的差絕對値以 3 . Ομπι以下較佳。藉由該構成,該淸潔化方法相近,可防 止映像缺陷、沒有搬送不良情形且可提高點增加安定性。 本發明書中,表面粗度Rz係指相當於:HS之Rz(最大高 度)之十點平均面粗度,以自粗糙彎曲面僅拔取基準面積部 分之平均面作爲基準面,自最高至第5個之山標高2P均値 與自最深至第5個之谷底深度的平均値之距離爲入力換算 -26- 200300732 者。測定係使用東京精密股份有限公司製觸針式3次粗度 計(撒夫克姆5 70 A-3DF)。測定方向爲縱方向,切斷値爲 0.08_、測定面積爲0.6mmx 0.4mm、搬送間距爲〇.〇〇5mm 、測定速度爲0. 12mm/s。 上述熱轉印片板之映像形成層表面的表面粗度Rz與其裏 面層表面之表面粗度R z的差絕對値爲1 . 〇 μπι以下,且受像 片板之表面粗度Rz與其裏面層表面之表面粗度Rz的差絕 對値爲1 · Ομπι以下,就更爲提高上述效果而言較佳。 另外,另一形態係受像片板之表面粗度R ζ與其裏面層表 面之表面粗度Rz以2〜30μπι較佳。藉由該構成,該淸潔化 方法相近,可防止映像缺陷、沒有搬送不良情形且可提高 點增加安定性。 而且,熱轉印片板之映像形成層的光澤度以8 0〜9 9較佳 〇 光澤度與映像形成層表面之平滑性有關且可影響映像形 成層0旲之均一丨生。先澤度局者作爲映像形成層,較爲適 合均一、高精細映像之用途,惟平滑性高時搬送時之電阻 較大,兩者爲沒有商標關係。若光澤度爲8 0〜9 9之範圍時 ,兩者之兩立關係可達平衡。 黏合輥使用具有黏合性之原料的維氏硬度Η ν爲 50kg/mm2(与49 0MPa)以下,就可以充分除去異物之垃圾、 可控制映像缺陷較佳。 維氏硬度係使對角爲1 3 6度之正四角錐形鑽石壓子懸掛 靜荷重以測定硬度的硬度,維氏硬度Hv以下述式求取。 -27- 200300732 硬度 Hv二 1 .854P/d2(kg/mm2) #18. 1692Mpa (其中,P :荷重之大小(Kg )、d :凹處之正方形對角線長 度(mm) 於本發明中上述黏合輥使用的具有黏合性之原料在2〇t: 之彈性率爲 200kg/cm2(与19.6MPa)以下,與上述相同地就 可以充分除去異物之垃圾、可抑制映像缺陷而言較佳。 於上述中心說明外桶方式,亦可使用內桶視方式、平台 方式,使用玻璃等之剛體作爲受像片板時或本發明(丨6 )時 係使用平台方式。 其次’使用第1圖及第2圖說明藉由使用雷射之薄膜熱 轉印予以多色映像形成的機構。 於本發明(2 )或(3 )中,係指在含有熱轉印片板1 〇之紅色 (R )、綠色(G )及藍色(B )顏料之映像形成層1 6表面上,積 層受像片板20之映像形成用積層體3〇。本發明(?)、(9) 或(1 3 )時’係指在熱轉印片板丨〇之含有黑色(κ )、紅色(R ) 、綠色(G)或藍色(B)之顏料的映像形成層16表面上積層受 像片板20之映像形成用積層體3〇。熱轉印片板1〇具有載 體12、與其上之光變換層14、與其上之映像形成層”, 受像片板20具有載體22、與其上之受像層24,熱轉印片 板1 0之映像形成層1 6表面上與受像層24接觸、積層(第 U a)圖)。自該積層體30之熱轉印片板1〇的載體η側使 雷射光硬像樣系㈣射時,熱轉印片板1Q之光熱變換層14 的雷射光被照射範圍發熱’且與映像形成層i 6之密接力降 低(第“b)圖)。然後’使受像片板2〇與熱轉印片板㈣ 200300732 離時’映像形成層之雷射光被照射範圍1 6,轉印於受像片 板20之受像層24上(第1 ( c )圖)。 爲本發明(1 6 )時,係指上述中熱轉印片板1 〇之含黑色(K ) 、紅色(R )、綠色(G )或藍色(B )之顏料的映像形成層1 6表 面上積層電路基板20之映像形成層用積層體30,使用電 路基板取代受像片板。電路基板20之上方具有受像層24 ’且在熱轉印片板1〇之映像形成層16表面上與受像層24 接觸、積層(第2(a)圖)。 光照射所使用的雷射光以多束光較佳、更佳者爲多束2 次配列。多束2次元配列藉由雷射照射予以記錄時,係指 使用數個雷射束,此等雷射束之點配列係沿者主掃描方向 數列、沿者副掃描方向數行所成的2次元平面配列。 藉由使用多束2次元配列之雷射光,可縮短雷射記錄所 需時間。 所使用的雷射光只要是多束即可,沒有特別的限制,可 使用氬離子雷射光、氦離子雷射光、氦鎘雷射光等之氣體 雷射光、YAG雷射光等之固體雷射光、半導體雷射光、色 素雷射光、準分子雷射光等之直接雷射光。或使用此等雷 射光通過二次高調波元件,變換成半分波長之光等。於多 色映像形成方法中就考慮出力能量或變調容易性等時,以 使用半導體雷射光較佳。多色映像形成方法係以雷射光在 光熱變換層上之束徑爲5〜50μπι(特別是6〜30μπ〇範圍之條 件下照射較佳,且掃描速度以1 m /秒以上(特別是3 m /秒以 上)更佳。 - 2 9 - 200300732 紅色、綠色、藍色之各熱轉印片板或黑色、紅色、綠色 、藍色之各熱轉印片板中映像形成層之層厚通常爲0.1〜 5μπι、較佳者爲0 . 3〜4μηι、更佳者爲0 . 5〜3μιη。 上述各色之熱轉印片板中映像形成層之層厚小於0 . 1 μηι 時,因雷射記錄時之轉印斑而產生濃度降低情形,而若大 於5 μηι時會產生轉印感度降低或解像力惡化的情形。 除本發明(1 6 )外,形成多色映像之方法係如上述使用上 述熱轉印片板,可以在同一受像片板上形成重複的多色映 像,亦可以藉由在束個受像片板上形成映像後,再轉印於 其他基板以形成多色映像。 另外,於本發明中形成的畫素(R,G,B)及黑色矩陣或映像 (R , G , B,K )上另施予透明保護層。 使用雷射光照射之熱轉印記錄,只要是使雷射光變換成 熱且利用該能量使含有顏料之映像形成層轉印於受像片板 上,在受像片板上形成映像而得者即可,對於轉印時之顏 料、色素或映像形成層之狀態變化沒有特別的限制,包含 固體狀態、軟化狀態、液體狀態、氣體狀態中任一狀態, 較佳者爲固體或軟化狀態。使用雷射光照射之熱轉印記錄 亦包含習知的熔融型轉印、藉由消融轉印、昇華型轉印等 〇 其中上述薄膜轉印型、熔融•消融型就可製作良好色像 之映像而言較佳。 上述使用3種或4種雷射熱轉印片板以使濾色片之畫素 (R,G,B )或映像(R,G , B , K )形成作爲適合製版系統之印刷物 200300732 時,可使用於PD系統。 系統之具體例如下所述。 製版系統(例如昌士照相底片公司製莎拉柏(C e 1 e b r a ))之 印刷物爲監色時’系統連接如下所述。製版系統上連接 CTP (Computer To Plate)系統。藉由使以此出力的印刷版 連接於印刷機,可得最終印刷物。製版系統中作爲多色映 像連接上述記錄裝置,惟於其間爲使色或網點接近印刷物 時連接PD (註冊商標)系統。 製版系統中變換成虹彩數據之傳輸(連續調)數據係變換 成網點用2値數據、以CTP系統出力、最後予以印刷。另 外,相同傳輸數據亦以PD系統出力。PD系統係使接收的 數據藉由3次元(R,G,B)或4次元(R,G,B,K)之表格,再上 述印刷物中使顏料變換成一致。然後,變換成與上述印刷 物之網點一致的網點用2値數據,且以保持有雷射入轉印 片板之記錄裝置出力,在受像片板或電路基板上形成由畫 素(R , G , B )或映像(R,G , B,K )所成的濾色片。 預先作成上述3次元或4次元表格,保存於系統內。爲 作成之實驗如下所述。使用經由CTP系統印刷的畫素、與 經由PD系統之記錄裝置出力的映像作爲重要色數據,且比 較其測定値,差値最小者作成表格。 於下述中說明有關上述系統之記錄裝置所使用的雷射熱 轉印片板及受像片板或電路基板。 本發明(2 )或(3 )係使用由爲形成畫素(R , G,B )之3種雷射 熱轉印片與K之濕式顯像轉印片板所成本發明U )之濾色片 - 3 1 _ 200300732 形成材料。本發明(7)、(9)、(13)及(16)係使用爲形成映 像(R,G,B,K)之4種雷射熱轉印片板。本發明(?)係使用本 發明(6 )之濾色片形成材料。本發明中「雷射熱轉印片板」 亦簡彳冉爲「熱轉印片板」。另外,本發明(2 )、( 3 )、( 7 )、 (9)及(13)在受像片板上形成映像(R,G,B,K),而本發明㈠6) 在電路基板上形成映像(r,G,B,K )。 [熱轉印片板] 熱轉印片板係在載體上至少具有光熱變換層及映像形成 層,且視其所需具有其他層所成。 (載體) 熱轉印片板之載體材料沒有特別的限制,可視目的而定 使用各種載體材料。載體爲具有剛性、尺寸安定性佳、於 映像形成時具有耐熱性者較佳。載體材料之較佳例如聚對 酞酸乙二酯、聚伸乙基-2 , 6 -萘酸酯、聚碳酸酯、聚甲基丙 烯酸甲酯、聚乙烯、聚丙烯、聚氯乙烯基、聚氯亞乙烯基 、聚苯乙烯、苯乙烯-丙烯腈共聚物、聚醯胺(芳香族或脂 肪族)、聚醯亞胺、聚醯胺醯亞胺、聚楓、聚醚碾等之合成 樹脂材料。其中,二軸延伸聚對酞酸乙二酯或聚醚碾就考 慮對機械強度或熱而言之尺寸安定性時較佳。而且,使用 於製作利用雷射記錄之濾色片時,熱轉印片板之載體以使 雷射光透過的透明合成樹脂材料形成者較佳。載體之厚度 以25〜130 μπι較佳,更佳者爲50〜映像形成層 側的載體之中心線平均表面粗度R a (使用表面粗度測定機 (Surfcom,東京精機股份有限公司製)等、以B0601爲 200300732 基準予以測定)以小於ο · 1 μη較佳。載體之長度方向的楊氏 率以200〜1 200kg/_2(#2〜12GPa)較佳,寬度方向之楊氏 率以250〜1600kg/mm2(与2.5〜16GPa)較佳。載體之長度方 向的F-5値以5〜50 kg/_2(#49〜490MPa)較佳,載體寬 度方向之F-5値以3〜30 kg/mm2(与29.4〜294MPa)較佳, 一般而言載體長度方向之F-5較載體寬度方向之F-5爲高 ,特別是寬度方向之強度必須高時’不受此等所限制。而 且,載體之長度方向及寬度方向在l〇〇°C下30分鐘之熱收 縮率以3 %以下較佳、更佳者爲〇 · 5 %以下。斷裂強度係兩方 向皆爲 5〜100kg/mm2(与49〜980MPa),彈性率爲1〇〜 2000kg/mm2(#0.98 〜19.6GPa)較佳。 在熱轉印片板之載體上’爲提高與設於其上的光熱變換 層之密接性時,可進彳了表面活性化處理及/或附設一層或二 層以上底塗層。表面活性化處理例如輝光放電處理、電暈 放電處理等。底塗層之材料以在載體與光熱變換層之兩表 面上具有高黏合性、且熱傳導性小、耐熱性優異者較佳。 該底塗層之材料例如苯乙烯、苯乙烯-丁二烯共聚物、明膠 等。底塗層全體之厚度通常爲〇.〇1〜2 μπι。另外,在與熱 轉印片板之附設光熱變換層側之相反側上,視其所需可附 設反射防止層或電帶防止層等之各種機能層、或進行表面 處理。 (底層) 可在熱轉印片板之光熱變換層、映像形成層之反面上設 置底層。底層所使用的帶電防止層,可使用聚環氧乙院院 -33- 200300732 胺、丙三醇脂肪酸酯之非離子系界面活性劑、4級銨鹽等 之陽離系界面活性劑、烷基磷酸鹽等之陰離子系界面活性 劑、兩性界面活性劑、導電性樹脂等之化合物。 此外,亦可使用導電性微粒子作爲抗靜電劑。該導電性 微粒子例如Zn〇、Ti〇、Sn〇2、Al2〇3、In2〇3、Mg〇、Ba〇、C〇0 、CuO、 CaO、 CuO、 Cu2〇、 Sr〇、 Ba〇2、 PbO、 Pb02、 Mn03、 Mo〇3 、Si02、 Zr〇2、 Ag20、 Y203、 Bi2〇3、 Ti2〇3、 Sb2〇3、 Sb2〇5、 〖2丁丨6〇13、NaCaP2〇i8、MgB2〇5 寺之氧化物,CuS、ZnS %=之 硫化物;SiC 、 TiC 、 ZrC 、 VC 、 NbC 、 MoC 、 WC 等之碳化物 ;Si3N4、TiN、ZrN、VN、NbN、Cr2N 等之氮化物;TiB2、ZrB2 、NbB2、TaB2、CrB、MoB、WB、LaB5 等之棚化物;TiSi2、 、9A 1 203 - 2B 203等之複合物,此等可以單獨一種使用或2 種以上倂用。於此等之中以Sn02、ZnO、Al2〇3、Ti02、Ιη203 、MgO、BaO 及 M〇03 較佳,更佳者爲 Sn02、ZnO、ln203 及 Ti〇2 ,最佳者爲Sn〇2。 此外,底層所使用的抗靜電劑可使雷射光透過下實質上 爲透明較佳。 使用導電性金屬氧化物作爲抗靜電劑時,爲使其粒徑儘 可能小時愈小愈佳,粒子與黏合劑之折射率比作爲參數使 用予以決定者,可使用米(M i e )之理論求得。一般而言,平 均粒徑爲0 . 001〜0 · 5μιη、較佳者爲〇 . 〇〇3〜0 · 2μπι。此處所 指的平均粒徑不僅包含導電性金屬氧化物之一次粒徑、亦 包含高次構造之粒子直徑。 -34- 200300732 底層中除抗靜電劑外可添加界面活性劑、平滑劑及消光 劑等各種添加劑或黏合劑。 - 形成底層所使用的黏合劑例如丙烯酸、甲基丙烯酸、丙 烯酸酯、甲基丙烯酸酯等之丙烯酸系單體的均聚物及共聚 物、硝基纖維素、曱基纖維素、乙基纖維素、纖維素乙酸 酯之纖維素系聚合物、聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、氯化 乙烯系共聚物、氯化乙烯-醋酸乙烯共聚物、聚乙烯基吡咯 啶酮、聚乙烯基丁縮醛、聚乙烯醇之乙烯系聚合物及乙烯 基化合物之共聚物、聚酯、聚胺基甲酸酯、聚醯胺之縮合 系聚合物、丁二烯-苯乙烯共聚物之橡膠系熱可塑性聚合物 、環氧化合物之光聚合性或熱聚合性化合物聚合、交聯的 聚合物、蜜胺化合物等。 (光熱變換層) 光熱變換層含有光熱變換物質、黏合劑及視其所須之消 光劑、以及視其所須之其他成分。 光熱變換物質係爲具有使照射的光能量變換成熱能量機 能之物質。一般而言,係爲可吸收雷射光之色素(包含顏料 。以下皆相同)。藉由紅外線雷射進行映像記錄時,光熱變 換物質以使用紅外線吸收色素較佳。上述色素例如碳黑等 之黑色顏料、酞菁、萘菁等在可視光〜近紅外線範圍具有 吸收的大環狀化合物之顏料、作爲光碟等高密度雷射記錄 之雷射吸收材料所使用的有機染料(假吲嗯染料等喳啉藍染 料、蒽醌系染料、甘菊環系色素、酞菁系染料)、及二硫醇 鎳複合物等之有機金屬化合物色素。其中,喹啉藍系對紅 200300732 外線範圍之光而言具有高吸收係數,使用作爲光熱變換物 質時會使光熱變換層薄層化,結果可更爲提高熱轉印片板 之記錄感度,故較佳。 光熱變換物質除色素外,亦可使用感光銀等粒子狀金屬 材料等、無機材料。 光熱變換層中所含的黏合劑以至少具有在載體上形成層 之強度、且具有高熱傳導率之樹脂較佳。另外,爲於映像 記錄時不會因自光熱變換物質產生的熱而分解、具有耐熱 性之樹曰時’即使進行局能量之光照射時,仍可維持光照 射後光熱變換層表面之平滑性,故較佳。具體而言,以熱 分解溫度(TGA法(熱質量分析法)、i〇°c /分之昇溫速度、在 i热热iiL中減少5負重%之溫度)以400C以上之樹脂較佳, 上述熱分解溫度爲5 0 0 °C以上之樹脂更佳。另外,黏合劑以 具有200〜400°C之玻璃轉移溫度者較佳、更佳者爲具有250 〜3 5 0 °C之玻璃轉移溫度者。若玻璃轉移溫度低於2 0 〇 °C時 所形成的映像會產生泛白情形,而若高於400 °C時樹脂之溶 解性降低、生產效率降低。 而且’光熱變換層中黏合劑之耐熱性(例如熱變形溫度或 熱分解溫度),與在光熱變換層上設置其他層所使用的材料 相比時較高,故較佳。 具體而言例如聚甲基丙烯酸甲酯等之丙烯酸系樹脂、聚 碳酸酯、聚苯乙烯、氯化乙烯/醋酸乙烯共聚物、聚乙烯等 之乙烯系樹脂、聚乙烯基丁縮醛、聚酯、聚氯乙烯、聚醯 胺、聚醯亞胺、聚醚醯亞胺、聚®、聚醚楓、聚胺基甲酸 -36- 200300732 酯、環氧樹脂、尿素/蜜胺樹脂等。其中,以聚醯亞胺樹脂 較佳。 特別是下述通式(I )〜(V I I )所示聚醯亞胺樹脂可溶於有 機溶劑中,使用此等聚醯亞胺樹脂時,可提高熱轉印片板 之生產性,故較佳。而且,就可提高光熱變換層用塗覆液 之黏度安定性、長期保存性、耐濕性而言較佳。
其中,Ar1係表示下述構造式(1)〜(3)所示之芳香族基, η係表示1 0〜1 0 0之整數。 -37- 200300732
其中,通式(III)及(IV)中A 2係表示下述構造式(4)〜(7) · 所示之芳香族基,η係表7Γ; 10〜100之整數。 -38- 200300732
其中,通式(V)〜(VII)中η及m係表示10〜100之整數 。於(V I )中n : m之比爲6 : 4〜9 ·· 1。 -39- 200300732 另外’判斷樹脂是否可溶於有機溶劑的方法係以在2 51 下樹脂對100質量份N-甲基吡咯啶酮而言溶解10質量份 以上爲基準’溶解丨0質量份以上時作爲光熱變換層用樹脂 使用較佳。更佳者爲對丨〇 〇質量份N _甲基吡咯啶酮而言溶 解1 0 0質量份以上的樹脂。 光熱變換層中含有的消光劑例如無機微粒子或有機微粒 子。該無機微粒子例如二氧化矽、氧化鈦、氧化鋁、氧化 鋅、氧化鎂、硫酸鋇、硫酸鎂、氫氧化鋁、氫氧化鎂、氮 化硼等之金屬鹽、高嶺土、黏土、滑石、鋅白、鉛白、石 鲁 英、矽藻土、重晶石、皂土、雲母、合成雲母等。有機微 粒子例如氟系樹脂粒子、鳥糞胺樹脂粒子、丙烯酸樹脂粒 子、苯乙烯-丙烯酸共聚物樹脂粒子、聚矽氧烷樹脂粒子、 蜜胺樹脂粒子、環氧樹脂粒子等之樹脂粒子。 消光劑之粒徑通常爲0.3〜30μιη、較佳者爲0.5〜20μιπ ’添加量以0 · 1〜100mg/m2較佳。 在光熱變換層中另視其所需亦可添加界面活性劑、增黏 0 劑、抗靜電劑等。 光熱變換層可藉由使光熱變換物質與黏合劑溶解,調製 於其中視其所需添加消光劑及其他成分之塗覆液,將其塗 覆於載體上予以乾燥、設置。爲使聚醯亞胺溶解的有機溶 劑例如正己烷、環己烷、二肟、二甲苯、甲苯、醋酸乙酯 、四氫呋喃、甲基乙酮、丙酮、環己酮、1,4-二噚烷、1,3-二噚烷、二甲基乙酸酯、N -甲基-2 -吡咯啶酮、二甲基磺基 氧化物、二甲基磺基醯胺、二甲基乙醯醯胺、γ -丁內酯、 -40- 200300732 乙醇、甲醇等。塗覆、乾燥可利用一般的塗覆、乾燥方法 進行。乾燥通常在3 00°C以下之溫度進行、較佳者爲20(rc 以下之溫度。載體使用聚對酞酸乙二酯時,以在8〇〜15〇t 之溫度下乾燥較佳。 光熱變換層中黏合劑之量過少時,光熱變換層之凝聚力 降低’形成映像轉印於受像片板時光熱變換層容易一起轉 印,造成映像混塞的原因。而聚醯亞胺樹脂過多時,爲達 成一定的光吸收率時光熱變換層之厚度變大,導致感度降 低。光熱變換層中光熱變換物質與黏合劑之固成分質量比 鲁 以1 : 20〜2 : 1較佳,更佳者爲! : 10〜2 : 1。 另外’使光熱變換層薄層化時,如上述般可以使熱轉印 片板局感度化者較佳。光熱變換層以〇.〇3〜Ι.Ομηι較佳、 更佳者爲0.05〜0·5μιη。而且,光熱變換層之雷射光吸收 波長爲700〜1500nm、特別是750〜lOOOnm較佳。此外, 對830 nm之光而言具有〇·7〜1.1光學濃度時,由於可提高 映像形成層之轉印感度故較佳,對上述波長之光而言以具 $ 有0 . 8〜1 . 0之光學濃度更佳。波長8 3 0 nm之光學濃度小於 〇 . 7時,照射的光變換成熱不充分,轉印感度降低。另外 ’若大於1 · 1時,記錄層光熱變換層之機能受到影響,會 產生泛白情形。 (映像形成層) 映像形成層係至少含有爲在受像片板或電路基板上轉印 的映像(R,G,B )或映像(R,G,B , K )時之顏料、另含有爲形成 層之黏合劑、及視其所需其他成分。 -41- 200300732 一般顏料大約分爲有機顏料與無機顏料,由於前者特別 是塗腠之透明性優異、後者一般具有隱蔽性優異等之特性 ,故視其所需適當選擇。而i,其他亦可使用金屬粉、氧 化金屬粉、螢光顏料等。可使用的顏料例如偶氮系顏料、 酞菁系顏料、蒽醌系顏料、二噚哄系顏料、喹吖酮系顏料 、異吲哚滿酮系顏料、硝基系顏料。映像形成層所使用的 顏料以色相區分,例如下述,惟不受此等所限制。此等顏 料可以單獨使用或數種組合使用。 1 )紅色顏料 C.I.顏料紅97、C.I.顏料紅122、C I •顏料紅149、CI. 顏料紅168、C.I·顏料紅m、CI •顏料紅i8〇、CI•顏料 紅 1 9 2、C . I .顏料紅 2 1 5、C . I . N 〇 . 1 2 0 8 5、C . I . N 0 , 1 2 1 2 0、 (:·Ι·Η〇·12140、(:·Ι·Νο·12315 等之有機顏料 2 )綠色顏料 C. I ·顏料綠 7、C. I ·顏料綠 36、C.I.No,4205 3、 C · I · No · 4 2085、C · I . No . 4.209 5 等之有機顏料 3 )藍色顏料 C . I ·顏料藍1 5 : 1、c . I ·顏料藍1 5 : 4、C · I .顏料藍1 5 :6、C.I·顏料藍22、C.I.顏料藍60、C.I·顏料藍64、 C.I.No.42052、C.I.No.42090 等之有機顏料 4 )黃色顏料
Pigment Yellow(顏料黃)i2(c i No.2 1 090 ) 例)Permanent Yellow(永久黃)DHG(古拉里恩頓日本股 份有限公司製)、Uon〇i Yell〇w(里歐羅魯黃)!2i2B(東洋 200300732 油墨製造股份有限公司製)、丨rga丨丨te Yen〇w(衣魯卡賴頓 黃)LCT(千葉•特殊•化學股份有限公司製)、Symuler ““ Yellow(西姆拉法史頓黃)GTF 219(大日本油墨化學工業股 份有限公司製)
Pigment Yellow(顏料黃)13(C I N〇.211〇〇) 例)Permanent Yel1〇w(永久黃)gr(古拉里恩頓日本股份 有限公司製)、Lion〇i YeU〇w(里歐羅魯黃)m3(東洋油 墨製造股份有限公司製)
Plgment Yellow(顏料黃)14(c i n〇 21〇95) 例)Permanent YeU〇w(永久黃)G(古拉里恩頓日本股份 有限公司製)、Li〇n〇1 YeU〇w(里歐羅魯黃)i4〇1_G(東洋 油墨製造股份有限公司製)、Seika Fas t Yel Uw(西卡法史 頓頁)2 2 7 0 (大日精化工業股份有限公司製)、s y m u丨e r F a s t
Yellow(西姆拉法史頓黃)44〇〇(大日本油墨化學工業股份 有限公司製)
Pigment Yellow(顏料黃)17(c i n〇 211〇5) 例)Permanent Yellow(永久黃)gg〇2(古拉里恩頓日本股 ί刀有限公司衣)、Symuler Fast Yellow(西姆拉法史頓黃) 8 GF (大日本油墨化學工業股份有限公司製)
Pigment Yellow(顏料黃)155 例)Graphtol Yel l〇w(古拉夫頓魯黃)3Gp(古拉里恩頓曰 本股份有限公司製)
Pument Yellow(顔料黃)i8〇(c i.n〇.2129〇) 例)Novoperm YellOW(羅伯帕姆黃)對hG(古拉里恩頓日 200300732 本股份有限公司製)、PV Fas t Ye π ow(法史頓黃)HG(古拉 里恩頓日本股份有限公司製)
Pigment Yell〇w(顏料黃)i39(c i n〇.5 6 29 8 ) 例)Novoperm Yellow(羅伯帕姆黃)m2R 70(古拉里恩頓 曰本股份有限公司製) 5 )品紅顏料
Pigment Red(顏料紅)57: 1(C.I.N〇.1 5 8 5 0: 1 ) 例)Giraphtol Yellow(古拉夫頓魯黃)L6B(古拉里恩頓 曰本股份有限公司製)、Lionol Red(里歐羅魯紅)6B-4290G( ® 東洋油墨製造股份有限公司製)、Irgalite Rubine(衣魯卡 拉衣頓紅)4BL(千葉•特殊•化學股份有限公司製)、 Symuler Brilliant Car mine(西姆拉布里里恩頓卡敏)6B-2 2 9 (大日本油墨化學工業股份有限公司製)
Pigment Red(顏料紅)122(C.I.No.73915) 例)Hosterperm Pink(哈史塔帕姆粉紅)E(古拉里恩頓日 本股份有限公司製)、Lio nogen Magenta(里歐羅肯馬雷塔) _ 5790(東洋油墨製造股份有限公司製)、Fastogen Super Mag ent a(法史頓卡史帕馬雷塔)RH(大日本油墨化學工業股 份有限公司製)
Pigment Red(顏料紅)53: l(C.I.No.l 5 5 8 5: 1 ) 例)P e ι· m a n e n t L a k e R e d (永久湖紅)L C Y (古拉里恩頓曰 本股份有限公司製)、S y m u 1 e r L a k e R e d (西姆拉法史湖紅)C c ο n c (大日本油墨化學工業股份有限公司製)
Pigment Red(顏料紅)48: l(C.I.No.l5865· 1) -44- 200300732 例)L i ο η ο 1 R e d (里歐羅魯紅)2 B 3 3 0 0 (東洋油墨製造股 份有限公司製)、Symuler Red(西姆拉雷頓紅)NRY(大日本 油墨化學工業股份有限公司製)
Pigment Red(顏料紅)48: 2(C.I.No.l 5 8 6 5: 2 ) 例)Permanent Red(永久紅)W2T(古拉里恩頓日本股份 有限公司製)、Lionol Red(里歐羅魯紅)LX235(東洋油墨 製造股份有限公司製)、SymulerRed(西姆拉雷頓紅)3012( 大曰本油墨化學工業股份有限公司製)
Pigment Red(顏料紅)48: 3(C.I.No.l 5 86 5: 3 ) 例)P e r m a n e n t R e d (永久紅)3 RL (古拉里恩頓日本股份 有限公司製)、Symuler Red(西姆拉雷頓紅)2BS(大日本油 墨化學工業股份有限公司製)
Pigment Red(顏料紅)177(C.I.N〇.65300) 例)Cromophtal Red(克羅麻夫塔魯紅)A2B(千葉•特殊 •化學股份有限公司製) 6)氰基顏料
Pigment Blue(顏料藍) 例)L 1 ο η ο 1 B 1 u e (里歐羅魯藍)7 〇 2 7 (東洋油墨製造股份 有限公司製)、Fas t 〇gen Blue(法史頓肯藍)BB(大日本油 墨化學工業股份有限公司製) P^ment Blue(顏料藍)15 : i(c,I N〇 7416〇) 例)H〇Sterperm Blue(哈史塔帕姆藍)A2R(古拉里恩頓 日本股份有限公司製)、Fas t〇gen BUe(法史頓肯藍)5〇5〇( 大日本油墨化學工業股份有限公司製) 200300732
Pigment Blue(顏获、” 抖監)15 : 2(C.i n〇.74 1 60 ) 例)Hosterperm Ρη ,π/ν 山
Blue(哈史塔帕姆藍)AFL(古拉里恩頓 曰本股份有限公司製、τ 」软)、irgalite Blue(衣魯卡拉衣頓藍) BSP(千葉•特殊•化 K + 又份有限公司製)、Fastogen Blue(
法史頓肯藍)G P i i I (大日本油墨化學工業股份有限公司製)
Pigment B 1 u e (顏魅辟、,广 、厂4 料監)15 : 3(C.I.N〇.74 1 60 ) 例)Hostei peim Blue(哈史塔帕姆藍)Β2〇(古拉里恩頓 曰本股份有限公司製)、τ · , ηι
Ll〇nol Blue(里歐羅魯藍)FG7330( 東洋油墨衣姐k份有限公司製)、Cr〇m〇phtal 克羅麻 夫ί合魯監)4GNP(千葉•特殊·.化學股份有限公司製)、
Fastogen Blue(法由網止社、 ^ 頓同藍)FGF(大日本油墨化學工業股 份有限公司製)
Pigment Blue(顏料藍)15 : 4(c i n〇.74i6〇) 例)Hosterpeim Blue(哈史塔帕姆藍)bfl(古拉里恩頓 曰本k份有限a司製)、Cyanine BUe(氰基藍)7〇〇_i〇fg( 東洋油墨製造股份有限公司製)、irgante Blue (衣魯卡拉 衣頓藍)GLNF(千葉•特殊•化學股份有限公司製)、 Fastogen Blue(法史頓肯藍)FGS(大日本油墨化學工業股 份有限公司製)
Plgment Blue(顏料藍)15 : 6(c i n〇.74i6〇) 例)Lionol BlUe(里歐羅魯藍)ES(東洋油墨製造股份有 限公司製)
Pigment Blue(顏料藍)6〇(c.in〇.6 9 8〇〇) 例)Hostel perm Blue(哈史塔帕姆藍)RL〇1 (古拉里恩頓 - 46 - 200300732 日本股份有限公司製)Li〇n〇gen BUe(里歐羅肯藍)65〇1( 東洋油墨製造股份有限公司製) 7 )黑色顏料
Pument Black(顏料黑)7(碳黑 cj.no.77 2 66) 例)三菱碳黑ΜΑ 100(三菱化學股份有限公司製)、三菱 碳黑#5(三菱化學股份有限公司製)、Black perals(黑色 帕魯斯)4 3 0 ( C a b 〇 t C 〇 ·(奇帕頓)製) 而且’本發明可使用的顏料可參照「顏料手冊、日本顏 料技術協會編、誠文堂新光社、1 9 8 9
COLOUR INDEX
、THE SOCIETY OF DYES & COLOURIST、THIRD EDITION、1987 」等選擇適當商品。 上述顏料之平均粒徑通常爲〇 · 〇 3〜1 較佳、更佳者爲 0.05 〜0·5μιη 〇 若上述粒徑小於0 . 0 3 μΐΏ時分散成本提高且分散液回引起 凝膠化等情形,另外,若大於1 μιη時顏料中粗大粒子會阻 害映像形成層與受像片板之密接性、且會阻害映像形成層 之透明性。 映像形成層之黏合劑例如可使用丁縮醛樹脂、聚醯胺樹 脂、聚伸乙基亞胺樹脂、楓醯胺樹脂、聚酯聚醇樹脂、石 油樹脂、苯乙烯、乙烯基甲苯、α -甲基苯乙烯、2 -甲基苯 乙烯、氯化苯乙烯、乙烯基苯甲酸、乙烯基苯磺酸鈉、胺 基苯乙烯等之苯乙烯及其衍生物、取代物之均聚物或共聚 物、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丁酯 、甲基丙烯酸羥基乙酯等之甲基丙烯酸酯類及甲基丙烯酸 _ 4 7 - 200300732 、丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸α -乙基 己酯等之丙烯酸酯及丙烯酸、丁二烯、異戊烯等之二烯類 、丙烯腈、乙烯醚類、馬來酸及馬來酸酯類、馬來酸酐、 肉桂酸、氯化乙烯基、醋酸乙烯等之乙烯系單獨或與其他 單體之共聚物。此等樹脂可2種以上混合使用。 映像形成層中以含有藉由受到熱及/或光聚合或交聯的反 應性化合物,例如單體、寡聚物及/或聚合物、視其所需含 有聚合起始劑之單體或組成物較佳。藉由含有此等,可改 善映像形成層之耐熱性、耐藥品性。 另外,該光及/或熱反應性單體或組成物(1 )亦可倂用不 會如上述之光及/或熱反應性之黏合劑形成映像形成層,(2 ) 亦可阜獨作爲映像形成層設置於光熱變換層上,(3)亦可層 狀設置於光變換層與不會光及/或熱反應性之映像形成層間 ’(4 )亦可設置於不會光及/或熱反應性之映像形成層上。 爲(4 )時,不會光及/或熱反應性之映像形成層亦可以在下 述濕式顯像轉印片板於顯像時溶解下構成。 而且’ 先及/或熱反應性單體或組成物亦可以層狀設置 於雷射熱轉印及濕式顯像轉印形成的濾色片上。 光及/或熱反應性單體或組成物所使用的成分如下所述。 光聚合單體以在常壓下沸點爲l〇〇t以上之化合物較佳。 例如聚乙一醇一(甲基)丙烯酸酯(係指聚乙二醇二丙烯酸酯 及聚乙一醇一甲基丙烯酸酯,以下皆相同)、聚丙二醇二( 甲基)丙關酯、三趨甲基乙院三丙稀酸醋、三經甲基丙院 三丙烯酸酯、三羥甲基丙烷二丙烯酸酯、新戊醇二(甲基) 一 4 8 - 200300732 丙細酸酯、異戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、異戊四醇三(甲基) 丙烯酚酉曰一異戊四醇六(甲基)丙烯酸酯' 二異戊四醇五( 甲基)丙烯酸酯、^ ~ ^ _ 己一醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷 二(丙細釀氧基丙其、龄—东μ 土)κ、二(丙烯醯氧基乙基)異氰酸酯、 三(丙烯醯氧基乙某)氧舻购 拓一^ 一 / ra# 土)ϊλ θ夂酉曰、丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、 二羥甲基丙烷或丙三醇等多官能醇中使環氧乙烷或環氧丙 烷加成反應後(甲基)丙烯酸酯化者等之多官能(甲基)丙烯 酸酯。另外,特公昭48_417〇8號、同5〇_6〇34號、特開昭 5 1 - 3 7 1 9 3號各公報中揭示的胺基甲酸酯丙烯酸酯類、特開 昭48 - 64 1 83號、特公昭49· 43191號、同5八3049〇號各公 報中揭示的聚酯丙烯酸酯類、環氧樹脂與(甲基)丙烯酸之 反應生成物的環氧基丙烯酸酯類等多官能丙烯酸酯或甲基 丙烯酸酯。 於此寺之中,以二經甲基丙院二(甲基)丙;(:希酸醋、、異戊 四醇四(甲基)丙烯酸酯、二異戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、 二異戊四醇五(甲基)丙烯酸酯較佳。 環氧化合物例如丁基環氧丙醚、辛基環氧丙醚、癸基環 氧丙醚、芳基環氧丙醚、本基运氧丙醚等之碳數2〜20之 醇的環氧丙醚類、聚乙二醇環氧丙醚、聚丙二醇環氧丙醚 、乙二醇二環氧丙醚、丙二醇二環氧丙醚新戊醇二環氧丙 醚、丨,6_己二醇二環氧丙醚二溴新戊醇二環氧丙醚、丙三 醇三環氧丙醚、三羥甲基丙院三環氧丙醚二丙三醇四環氧 丙醚、聚丙三醇聚環氧丙醚等聚醇之聚環氧丙醚類、2 , 6 - 二環氧丙基苯基環氧丙醚、2,6,2’,6’-四甲基-4,4’-聯苯 - 49 - 200300732 基環氧丙醚、雙酚A型環氧樹脂、加氫型雙酚A型環氧樹 脂、雙酚F型環氧樹脂、加氫型雙酚F型環氧樹脂、雙酚 S型環氧樹脂、加氫型雙酚S型環氧樹脂、苯酚酚醛淸漆 型環氧樹脂、甲酚酚醛淸漆型環氧樹脂、鹵化酚醛淸漆型 環氧樹脂、甲酚酚醛淸漆型環氧樹脂、鹵化苯酚酚醛淸漆 型環氧樹脂及溴化環氧樹脂等之環氧丙醚型環氧化合物、 蒜硫插鏈二環氧基乙縮醛、蒜硫插鏈二環氧基己二酸酯及 乙烯基環己烯二氧化物等之環式脂肪族環氧化合物、環氧 丙基(甲基)丙烯酸酯、四羥基酞酸二環氧丙酯、山梨糖酸 環氧丙酯、油酸環氧丙酯、亞油酸環氧丙酯等之不飽和酸 環氧丙酯類、丁基環氧丙酯、辛基環氧丙酯六氫酞酸二環 氧丙酯等之烷基羧酸環氧丙酯類及苯甲酸環氧丙酯、鄰酞 酸二環氧丙酯、二環氧丙基對氧化苯甲酸及二聚酸環氧丙 酯等之芳香族羧酸環氧丙酯型環氧化合物、四氫環氧丙基 二胺基二苯基甲烷、三環氧丙基-對胺基苯酚、三環氧丙基 間胺基苯酚、二環氧丙基苯胺、二環氧丙基甲苯胺、四環 氧丙基間二甲苯二胺、二環氧丙基三溴苯胺及四環氧丙基 雙胺基甲基環己烷等之環氧丙基胺型環氧化合物、二環氧 丙基醯偶姻、環氧丙基甘油氧化烷基醯偶姻及三環氧丙基 二異氰酸酯等之雜環式環氧化合物等,較佳者爲苯酚酚醛 淸漆型環氧樹脂與甲酚酚醛淸漆型環氧樹脂。 更佳的環氧化合物有雙酚A型環氧樹脂或雙酚F型環氧 樹脂,市售品包含東都化成製耶伯頓頓YD128、YD8125、 大日本油墨化學製耶皮克龍840S、8 5 0 S、1 0 5 0、8 30。 200300732 爲使上述環氧化合物之環氧基熱反應時,可使用熱硬化 觸媒之環氧熱硬化促進劑。該環氧熱硬化促進劑例如二伸 乙基三胺、三伸乙基四胺、四伸乙基五阱、亞胺基雙丙胺( 二丙基三胺)、雙(六伸基)三胺及1,3,6 -三胺基甲基己烷 等之聚胺類、三甲基六伸甲基二胺、聚醚二胺及二乙基胺 基丙胺等之聚伸甲基二胺類、盏烯二胺、異佛爾酮二胺、 雙(4 -胺基-3 -甲基環己基)甲烷及N -胺基乙基吡阱等之脂 環族聚胺類等脂肪族第一胺、偏伸苯基二胺、二胺基苯基 甲烷、二胺基苯基楓及芳香族二胺共熔混合物等之芳香族 第一胺類、聚胺基環氧樹脂加成物、聚胺-環氧乙烷加成物 、聚胺-環氧丙烷加成物、氫基乙基化聚胺及縮酮亞胺等改 性胺、哌啶、吡哄、嗎啉等之二胺及四甲基脈、三乙醇胺 、苯甲基二甲胺、2,4,6 -參(二甲基胺基甲基)苯酚等之三 級胺等胺化合物類、酞酸酐、偏苯三酸酐、乙二醇雙(偏苯 三甲酸酯)、丙三醇參(偏苯三甲酸酯)、均苯四甲酸酐及 3,3 ’,4,4 ’ -二苯甲酮四羧酸酐等之芳香族酸酐、馬來酸酐 、琥珀酸酐、四氫酞酸酐、甲基四氫酞酸酐、內伸甲基四 氫酞酸酐、甲基內伸甲基四氫酞酸酐、烯基琥珀酸酐、六 氫酞酸酐、甲基六氫酞酸酐及甲基環己烯四羧酸酐等之環 狀脂肪族酸酐、聚己二酸酐、聚庚二酸壬二酸酐及聚癸二 酸酐等脂肪族酸酐、氯酸酸酐及四溴酞酸酸等之鹵化酸酐 等之酸酐類、2 -甲基咪唑、2 -乙基-4 -甲基咪嗤、2 -時一焼 基咪π坐、2 -十七院基咪D坐、2 -苯基咪13坐、苯甲基-2-甲基 咪p坐、卜氰基乙基-2-甲基咪_、1-氰基乙基-2-乙基-4-甲 -51- 200300732 基味Π坐、1-気基乙基-2-時稀院基味D坐琳鹽•偏苯三酸醋、 1-氰基乙基-2-苯基咪π坐啉鹽•偏苯三酸醋、2 -甲基咪1]坐琳 鹽•異氰酸酯、2-苯基咪唑啉鹽•異氰酸酯、2,4 -二氰基· 6-[2 -甲基咪唑啉- (1)] -乙基-s-三畊、2,4 -二氰基- 6- [L 乙基-4-甲基咪唑啉- (1)] -乙基-s-三畊、2,4 -二氰基_6_[2_ 十一烷基咪唑啉- (1)] -乙基-s-三畊、2 -苯基-4-甲基_5_經 基甲基咪唑、2 -苯基-4, 5_二羥基甲基咪唑、1-氰基乙基 苯基-4, 5-二(氰基乙氧基甲基)咪唑、i_十二烷基_2_甲基_ 3 -苯甲基咪唑啉•氯化物及l,3 -二苯甲基-2-甲基咪唑啉· 鲁 氣化物寺之味哩憐化合物類、一氨基二酿胺、鄰甲苯基雙 胍、苯基雙胍、及α-2, 5 -二甲基雙脈等之二氰基二醯胺衍 生物、羧酸類、苯酚類、四級銨鹽類、蜜胺衍生物、有機 酸噠畊類、或含羥甲基之化合物類等習知環氧硬化促進劑 。更佳者爲二氰基二醯胺、1-苯甲基-2-甲基咪唑。此等脂 環氧熱硬化促進劑可以單獨使用或2種以上混合使用。 光及/或熱反應性組成物另視其所需可添加交聯劑或其觸 _ 媒等。 交聯劑例如低分子化合物有聚羧酸或此等之酸酐(例如衣 康酸、甲基馬來酸酐、十二烷二酸、2 -十二烯二酸、十二 炔基琥珀酸酐、酞酸酐、四氫酞酸酐、偏苯三酸酐、1,2 _ 、1,3 -及1 , 4 -環己烷二羧酸、六氫酞酸酐及此等之混合物) 、聚羧酸半酯(聚醇、例如1,6 -己二醇、三羥甲基丙院與 酸酐、例如六氫酞酸酐、甲基六氫酞酸酐之反應物)、芳香 族聚胺、脂肪族聚胺、三肼化合物、聚硫醇、雙酣A、四 -52- 200300732 溴雙酚A、三羥甲基烯丙氧基苯酚、聚異氯酸醋化合物等 ,高分子化合物例如苯酚酚醛淸漆樹脂、丁基化苯酌樹脂 等之苯酚類、含羧基之不飽和或飽和聚酯、可經酸化之尿 素及/或三畊-甲醛樹脂等。 熱硬化觸媒例如四乙銨溴化物、四丁基鱗漠化物、三苯 基苯甲基鱗氯化物、三乙胺、三丁胺、硝酸鉍、2 —乙基己 酸鉛、三氯苯甲酸鈉、醋酸鋰、氯化三丁基錫、三丁基錫 氰酸鹽、四氯化鈦、二氯化二丁基鈦、三氯化鐵、二茂鐵 、三苯基銻、醋酸銅、吡啶硼烷、醋酸鈣、醋酸鋇等。 光及/或熱反應性單體或組成物所使用的反應性聚合物例 如具有具不飽和鍵之基、羧基、胺基、環氧基、锍基、羥 基、異氰酸酯基等之聚合物。 例如,第1係由通式(a)所示單體、通式(b)所示單體及 通式(c )所示單體所成的共聚物。
通式(a ) : H2C=C-COOH ❿
Ri 通式(b ) : H2C=(p—c〇〇(CH2CH〇t R4 r2 通式(c )
Re 於上述單體中,及R5係各表示氫原子或碳數 …3之烷基,以氫原子或碳數1〜2之烷基較佳。 R4係表示碳數1〜5之院基,以碳數1〜3之院基較佳。 L係表示氫原子、碳數1〜3之烷基、碳數1〜3之烷氧 -53- 200300732 基或鹵素原子,較佳者爲氫原子、碳數1〜2之烷基、碳數 1〜2之院氧基或氯原子、溴原子較佳。η係表示1〜1〇之 整數,較佳者爲1〜8。 上述單體U)、單體(b)及單體(c)之共聚物對其單體排列 沒有特別的限制,可以爲無規或規則的,例如嵌段或接枝 〇 而且,反應性聚合物第2係爲含有(A )至少一種選自於丙 烯酸及甲基丙烯酸之化合物衍生的重複單位、(B )至少一種 選自於苯甲基丙烯酸酯及苯甲基甲基丙烯酸酯衍生的重複 單位、及視其所需(C )至少一種選自於含碳數1〜1 2之烷基 的烷基甲基丙烯酸酯之化合物衍生的重複單位之共聚物, 且質量平均分子量以5 ,000〜50,000較佳、更佳者爲10, 000 〜42,000 者。 上述(c )成分之具體例如(甲基)丙烯酸甲酯(係指甲基丙 烯酸酯及甲基丙烯酸甲酯,以下皆相同)、(甲基)丙烯酸乙 酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸1 -丙酯、(甲基)丙 烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸第2 - 丁酯、(甲基)丙烯酸第3 _ 丁 酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯三戊酯、(甲基)丙 烯酸2-甲基丁酯、(甲基)丙烯酸3 -甲基丁酯(甲基)丙烯酸 己酯、(甲基)丙烯酸-2 -乙基丁酯、(甲基)丙烯酸環己酯、 (甲基)丙烯酸庚酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸2 -乙基己酯、(甲基)丙烯酸壬酯、(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基) 丙烯酸十二烷酯、上述單體U)、單體(b)及單體(c)等。於 此等之中以甲基丙烯酸甲酯較佳。 - 54 - 200300732 於第2之反應性聚合物內、較佳的具體例如甲基丙烯酸 苯甲酯/甲基丙烯酸共聚物(重複單位之莫耳比=7 3 / 2 7、質 量平均分子量=40, 000 )、甲基丙j:希酸苯甲酯/丙烯酸苯甲酯 /甲基丙烯酸三元共聚物(重複單位之莫耳比=6〇 : 13 : 27、 質量平均分子量=3 2,000 )、甲基丙烯酸苯甲酯/丙烯酸/甲 基丙烯酸三元共聚物(重複單位之莫耳比3 ·· 8 :丨9、暂量 平均分子量=3 5, 000 )、甲基丙烯酸苯甲酯/甲基丙烯酸甲酯 /甲基丙烯酸三元共聚物(重複單位之莫耳比=6〇 : 13 : 27、 質量平均分子量= 46,000)。 本發明所使用的光聚合起始劑例如苯甲基、二乙釀基等 之α-二縮酮類、苯偶因等之醯偶姻類、苯偶因甲醚、苯偶 因乙醚、苯偶因丙醚等之醯偶姻醚類、噻噸醒、2 4 _二乙 基噻噸酮、噻噸酮-1 -磺酸、噻噸酮-4 _磺酸等之_噸酮類 、二苯甲酮、4,4’-雙(二甲基胺基)二苯甲酮、4,4、雙(二 乙基胺基)二苯甲酮等之二苯甲酮類、苯乙酮、對-二甲基 胺基苯乙酮、α,α、二甲氧基乙醯氧基苯乙酮、2,2、二甲 氧基-2-苯基苯乙酮、對-甲氧基苯乙酮、2_甲基-[4_(甲硫 基)苯基]-2 -嗎啉基-1-丙酮等之苯乙酮類及蒽醌、蔡 醌等之醌類、氯化苯醯甲基、三溴甲基苯基颯、參(三氯甲 基)-s-三哄、2,4-雙(二氯曱基)-6-(4 -甲氧基苯基)三哄、 特開昭6 3 - 1 5 3 5 4 2號記載的化合物等之鹵化物、二_第3 _ 丁基過氧化物等之過氧化物等 較佳者爲 2, 2,-二甲氧基- 2 -苯基苯乙酮、2 -甲基-[4-(甲硫基)苯基卜2_嗎啉基-丨_丙 酮(千葉•機械公司製商品名:衣魯卡奇亞_907)。更佳者 -55 - 200300732 爲2 -三氯甲基- 4’-丁氧基苯乙烯基-1,3,4-氧化二噚唑、’ 2 ,4 -雙(三氯甲基)-6-(4,-甲氧基苯基)-S-三阱、2,4 -雙( 三氯甲基)-6-{4’-(N,N -二乙氧基羰基甲基胺基)-3’-溴}苯 基-s -三哄。 此等之光聚合起始劑可以單獨使用或2種以上混合使用 。該2種以上混合之例如2,4,5 -三芳基咪唑二聚物與2 -锍 基苯并噚唑或無色結晶紫等之組合、美國專利第3 4 2 7 1 6 1 號中記載的4,4’ -雙(二甲基胺基)二苯甲酮與二苯甲酮或 苯偶因甲醚之組合、美國專利第42 3 98 5 0號中記載的苯偶 I 因-N-甲基萘基二氫噻唑與2,4 -雙(三氯甲基)-6-(4 -甲氧 基苯基)三畊之組合、特開昭5 7 - 2 3 6 0 2號中記載的二甲基 噻噸酮與4 -二烷基胺基苯甲酸酯之組合、特開昭5 9 - 7 8 3 3 9 號中記載的4,4’-雙(二烷基胺基)二苯甲酮與縮酮類與含 三鹵化甲基之化合物的組合等。 光聚合起始劑以對400nm以上波長之光而言實質上不具 感度較佳。實質上不具感度係視其光聚合起始劑之分光感 φ 度光譜與熱轉印片板之分光特性而決定,光聚合起始劑之 分光感度光譜之400nm以上之面積(A)與該熱轉印片板之透 過率爲10%以上爲最低波長後、乙400nm以下之面積(B)之 比(A / B )予以定義,係指A / B之値爲0 . 1以下。 光及/或熱反應性組成物亦可視其所需配合顏料等之著色 劑、熱聚合防止劑、密接促進劑、分散劑、可塑劑、防止 下垂劑、水平劑、消泡劑、難燃劑、光澤劑等之補助添加 劑。 -56- 200300732 熱聚合防止劑例如氫醌、對-甲氧基苯酚、對-第3 - 丁基 兒茶酚、2,6 -二-第3 - 丁基-對-甲酚、β -萘酚、焦培酚等 之芳香族羥基化合物、苯酮、對-甲苯醌等之醌類、萘胺、 口比哄、對苯甲胺、吩噻畊等之胺類、Ν _硝基苯基羥基胺之 鋁鹽或銻鹽、氯醌、硝基苯等。 密接促進劑例如烷基苯酚/甲醛酚醛淸漆樹脂、聚乙烯基 乙醚、聚乙基異丁醚、聚乙烯丁縮醛、聚異丁烯、苯乙烯-丁二烯共聚物橡膠、丁基橡膠、氯化乙烯基-醋酸乙烯共聚 物 '氯化橡膠、丙烯酸樹脂系黏合劑、芳香族系、脂肪族 系或脂環族系石油樹脂、矽烷偶合劑等。 本發明所使用的熱轉印片板在滿足其畫素(R,G,Β )或映像 (R,G,Β,Κ )與受像片板或電路基板之密接性、耐藥品性等下 ’調整光及/或熱反應性單體或組成物之成分配合比例。 該組成物之成分配合比例如下所述。 光聚合起始劑對反應性單體而言以0 . 1〜30質量份較佳 、更佳者爲0 . 1 5〜1 5質量份。若小於0 . 1質量份時感度會 降低,而若大於3 0質量份時會引起結晶析出、膜質惡化等 之問題。 交聯劑一般對100重量份該組成物而言爲0.2〜10質量 份。 熱硬化觸媒之使用量通常對1 0 0質量份該組成物而言爲 0.02〜5質量份。 環氧化物對100質量份該組成物而言通常爲1〜40質量 份、較佳者爲5〜3 0質量份。 -57- 200300732 反應性單體對100質量份該組成物而言通常爲10 量份、較佳者爲20〜90質量份。 上述配合比例可視下述(1 )〜(5 )之型態而定選擇 者。 光及/或熱反應性單體或組成物爲(1 )可以與不具^ 熱反應性之黏合劑混合的硬性形成層、(2 )可以單獨 像形成層設置於光熱變換層上、(3 )可以層狀設置於 換層及/或不聚光及/或熱反應性之映像形成層之間 雷射熱轉印與映像形成層同時轉印於受像片板上予 、(4 )可以設置於不具光及/或熱反應性之映像形成層 藉由雷射熱轉印及濕式顯像轉印所設置的晝素(R,G , 色矩陣上或僅藉由雷射熱轉印設於映像(R,G,B,K )上 爲形成上述(1)〜(5)之映像形成層等之層時,可 組成物作爲塗覆液。 塗覆液所示用的有機溶劑有甲基乙酮、環己酮等 、甲苯、二甲苯等之芳香族烴類、甲氧基乙醇、乙 醇、丁氧基乙醇等之烷氧基乙醇類、卡必醇、丁基 等之卡必醇類、醋酸乙酯、醋酸丁酯、乙氧基乙醇 、丁氧基乙醇醋酸酯、卡必醇乙酸酯、丁基卡必醇 等之醋酸酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯等。此等之有機 以單獨使用或2種以上混合使用。 光及/或熱反應性塗覆層通常在60〜150°C、〇.5f 鐘之條件下乾燥。自熱轉印片板、或熱轉印片板及 像轉印片板在受像片板或電路基板上所形成 〜95質 最適合 及/或 作爲映 光熱變 、藉由 以構成 I 上、(5) B)及黑 〇 使用各 之酮類 氧基乙 卡必醇 醋酸酯 乙酸酯 溶劑可 、10分 濕式顯 的映像 -58- 200300732 (R,G,B,Κ )施有光照射處理及/或加熱處理。 惟於本發明(2 )中,自熱轉印片板轉印於受像片板的畫素 (R,G,Β )係施有光照射處理及/或加熱處理,該期間可以爲 黑色矩陣形成前、或形成後,兩者皆可,惟爲至少形成黑 色矩陣時,於顯像時必須使畫素(R,G,Β )不溶。 & 7t如、射處理通常例如〇 . 1〜5 〇 Q m ] / c m 2之紫外線照射, 光源以超高壓水銀燈等較佳。而且,加熱處理以1 5〇〜 2 5 0 °C、1 〇〜1 2 0分鐘較佳。而且,上述光照射處理與加熱 處理可至少進行任何一方,以兩者進行者較佳、亦可以同 時進行,加熱處理可以在光照射處理前或後進行。 映像形成層以含有30〜70質量%者較佳、更佳者爲30〜 5 0負量%者。而且,映像形成層係以含有7 〇〜3 〇質量%樹 脂者較佳、更佳者爲70〜40質量%者。 上述映像形成層可以含有下述(1)〜(3)之成分作爲其他 成分。 (1 )蠟類 獵類例如礦物系螺類、天然類、合成蠟類等。上述礦 物系蠕例如j:布烴蠘、微結晶鱲、酸繼、氧化鱲等之石油鱲 、褐煤鱲、天然地蠟、絲膠蛋白等。其中,以烯烴蠟較佳 。該烯烴係爲自石油所分離者,視其熔點而定各種物爲市 售品。 上述天然鱲例如巴西^欄繼、木蠟、黃蠟、酯蠟等植物 蠟、密蠟、昆蟲鱲、陶瓷蠟、鯨蠟等之動物繼。 上述合成繼一般使用作爲平滑劑,通常由高級脂肪酸系 200300732 化合物所成。該合成蠟例如下述者。 1 )脂肪酸酯系蠟 下述通式所示直鏈飽和脂肪酸:
CH3 (CH2) nCOOH 其中,η係表示6〜2 8之整數。具體例如硬脂酸、山荡酸 、棕櫚酸、1 2 -羥基硬脂酸、壬二酸等。 而且,例如上述脂肪酸等之金屬鹽(例如Κ、C a、ζη、μ g 等)。 2) 脂肪酸醯胺系鱲 上述脂肪酸之酯的具體例如硬脂酸乙酯、硬脂酸月彳圭酉旨 、山菡酸乙酯、山菡酸己酯、肉桂酸山荡酯等。 3) 脂肪族醇系蠟 上述脂肪酸之醯胺的具體例如硬脂酸醯胺、月桂酸_月安 等。 4) 脂肪族醇系蠟 下述通式所示直鏈飽和脂肪族醇: _
CH3 (CH2) nOH 其中,η係表示6〜2 8之整數。具體例如硬脂醇等。 上述1 )〜4 )之合成蠛中,尤以硬脂酸醯胺、月桂酸醯胺 等之高級脂肪酸醯胺較佳。而且’上述蠛系化合物視其所 需可以單獨使用或適當組合使用。 (2 )可塑劑 上述可塑劑以酯化合物較佳,例如酞酸二丁酯、酞酸二_ 正辛酯、酞酸二(2 -乙基己酯)、酞酸二壬酯、酞酸二月桂 -6 0 - 200300732 酯、酞酸丁基月桂酯、酞酸丁基苯甲酯等之酞酸酯類、己 二酸二(2 -乙基己酯)、癸二酸二(2 -乙基己酯)等之脂肪族 二鹼酸酯、磷酸三甲酚酯等磷酸三酯類、聚乙二醇酯等之 聚醇聚酯類、環氧脂肪酸酯等之環氧化合物等習知可塑劑 。於此寺之中’乙細基卓體之酯特別是丙讎酸或甲基丙燒 酸之酯,就藉由添加可提高轉印感度或轉印斑之改良效果 、及斷裂深度之調節效果大而言爲所企求。 上述丙烯酸或甲基丙烯酸之酯化合物例如聚乙二醇二甲 基丙烯酸酯、1,2,4 - 丁院三醇三甲基丙烯酸酯、三羥甲基 乙烷三丙烯酸酯、異戊四醇丙烯酸酯、異戊四醇四丙烯酸 酯、二異戊四醇聚丙烯酸酯等。 另外,上述可塑劑亦可以爲高分子,其中聚酯就添加效 果大而言、及在保存條件下不易擴散而言等,爲所企求。 該聚酯例如癸二酸系聚酯、己二酸系聚酯等。 而且,映像形成層中含有的上述添加劑不受此等所限制 。可塑劑可以單獨一種使用,或2種以上倂用。 映像形成層中上述添加劑之含量若過多時,轉印映像之 解像度降低、映像形成層本身之膜強度降低、光熱變換層 與映像形成層之密接力降低,會引起轉印至未曝光部之勝 像片板問題。由上述觀點可知’上述鱲類之含量以在映像 形成層中全部固成分之0 . 1〜3 〇質量%較佳、更佳者爲1〜 2 0質量%。此外,上述可塑劑之含量以在映像形成層中全 部固成分之0.1〜20質量%較佳、更佳者爲〇.1〜10質量% -61- 200300732 (3 )其他 映像形成層除上述其他成分外,另可含有界面活性劑、 無機或有機微粒子(金屬粉、矽膠等)、油類(亞麻油、無機 油等)、增黏齊彳、抗靜電劑等。除爲得黑色映像時,藉由含 有吸收映像記錄時使用的光源之物質,可以減少轉印時之 必要能量。吸收光源波長之物質可以爲顏料、染料;爲製 得彩色映像時’映像記錄時使用半導體雷射等之紅外線光 源,使用可視部吸收少、光源波長吸收大的染料,就色再 現而言較佳。近紅外線染料例如特開平3 - 1 0 3 4 7 6號公報中 記載的化合物。
映像形成層可藉由調製使顏料與上述黏合劑等溶解或分 散的塗覆液,使其塗覆於光熱變換層上(在光熱變換層上設 置下述感熱剝離層時、該層上)、予以乾燥設置。調製塗覆 液時使用的溶劑例如正丙醇、甲基乙酮、丙二醇單甲醚(MFG ) 、甲醇、水等。塗覆、乾燥可利用一般的塗覆、乾燥方法 進行。 (護墊層) 在載體與光熱變換層之間設置具有護墊機能之護墊層較 佳。設置護墊層時,於雷射熱轉印時可提高映像形成層與 受像層之密接性、提高畫質。而且,記錄時即使在熱轉印 片板與受像片板之間混入異物時,藉由護墊層之變形作用 可使受像層與映像形成層之空隙變小,結果可減小除白等 之映像缺陷大小。 護墊層係爲界面上受到應力時容易變形的構成,爲達成 -62 - 200300732 上述效果時,以由具有低彈性率之材料、具有橡膠彈性之 材料或藉由加熱容易軟化的熱可塑性樹脂所成較佳。護墊 層之彈性率在室溫下以0.5MPa〜1 .OGPa較佳,、更佳者爲 IMPa〜〇.5GPa、最佳者爲1〇〜l〇〇MPa。而且,爲防止垃圾 等異物滲入時,以J IS K2 5 3 0所定的針入度(25°C、100g、 5秒)爲1 0以上較佳。此外,護墊層之玻璃轉移溫度爲 8 0 °C以下、較佳者爲2 5 °C以下,軟化點爲5 0〜2 0 0 °C較佳。 此等物性例如爲調節Tg時可在黏合季中添加可塑劑進行。 作爲底層之黏合劑所使用的具體材料例如胺基甲酸酯橡 膠、丁二烯橡膠、腈橡膠、丙烯酸橡膠、天然橡膠等之橡 膠類、以及聚乙烯、聚丙烯、聚酯、苯乙烯-丁二烯共聚物-、乙烯-醋酸乙烯共聚物、乙烯-丙烯酸共聚物、氯乙烯基_ 醋酸乙烯共聚物、氯亞乙烯基樹脂、加入可塑劑之氣乙烯 基樹脂、聚醯胺樹脂、苯酚樹脂等。 而且’護墊層之厚度係視使用的樹脂之其他條件而不同 ’通常爲3〜ΙΟΟμπι、較佳者爲1〇〜52μΐΏ。 在上述熱轉印片板之光熱變換層上可設置藉由光熱變換 層產生的熱作用產生氣體、或放出附著水等且藉此使光熱 變換層與映像形成層間黏合強度減弱的含感熱材料之感熱 剝離層。該感熱材料可使用本身藉由熱分解或變質、產生 氣體之化合物(聚合物或低分子化合物)、當量吸收或吸附 水分等易氣化丨生氣體之化合物(聚合物或低分子化合物)等 。此等亦可倂用。 藉由熱分解或變質、產生氣體之聚合物例如硝基纖維素 -63- 200300732 之自己氧化性聚合物、氯化聚烯烴、氯化橡膠、聚氯化橡 膠、聚氯乙烯基、聚氯亞乙烯基之含鹵素之聚合物、吸附 水分等揮發性化合物之聚異丁基甲基丙烯酸酯等之丙烯酸 系聚合物、吸附水分等揮發性化合物之乙基纖維素等纖維 素酉旨 '吸附水分等揮發性化合物之明膠等天然高分子化合 物等。藉由熱分解或變質、產生氣體之低分子化合物例如 二偶氮化合物或疊氮化之發熱分解產生氣體的化合物。 而且’上述藉由熱使感熱材料分解或變質等以在28〇t:以 m 下發生較佳、更佳者爲2 3 0 °C以下。 使用低分子化合物作爲感熱剝離層之感熱材料時,以與 黏合劑組合較佳。黏合劑亦可使用上述本身藉由熱分解或 變質、產生氣體的聚合物,亦可使用不具該性質之一般黏 合劑。倂用感熱性低分子化合物與黏合劑時,前者與後者 之質量比以0.02: 1〜3: 1較佳、。更佳者爲0.05: 1〜2 :1。感熱剝離層以使光熱變換層幾乎全面被覆者爲宜,其 厚度一般爲0.03〜Ιμιη、較佳者爲0.05〜0.5 μπι。 在載體上順序積層光熱變換層、感熱剝離層、映像形成 層之構成熱轉印片板時,感熱剝離層會因來自光熱變換層 的熱而分解、變質、產生氣體。然後,藉由該分解或氣體 產生,使部分感熱剝離層消失或在感熱剝離層類產生凝聚 破壞、且降低光熱變換層與映像形成層間之結合力。因此 ,藉由感熱剝離層之舉動,部分會附著於映像形成層,成 爲映像之混色原因。因此,即使該感熱剝離層發生轉印情 形,所形成的映像上沒有呈現目視的混色情形下感熱剝離 - 64- 200300732 層幾乎沒有著色情形、即對可視光而言具有高透過性,故 爲企求。具體而言,感熱剝離層之光吸收率對可視光而言 爲50%以下、較佳者爲10%以下。 而且’上述熱轉印片板上可以使上述感熱材料添加於光 熱變換層塗覆液中以形成光熱變換層、兼具光熱變換層與 感熱剝離層之構成取代設置獨立的感熱剝離層。 塗設有熱轉印片板之映像形成層側最表層的靜摩擦係數 爲0.35以下、較佳者爲〇·2〇以下。最表層之靜摩擦係數 爲0 . 3 5以下時,於搬送熱轉印片板時沒有輥污染情形、所 得的映像可得高畫質化。靜摩擦係數之測定法如特願 2 0 00 - 85 7 59之段落(0011)記載的方法。 映像形成表面之平順起始値在2 3 °C、5 5 %RH下以〇 . 5〜 50mmHg(与 0.0665 〜6.65kPa)較佳、且 Ra 以 〇.〇5 〜〇·4μιη 較佳’藉此就可減少無法使受像層與映像形成層接觸接觸 面之多數微空隙、轉印以及畫質而言較佳。上述Ra値係使 用表面粗度測定機(S u r f c 〇 m,東京精機股份有限公司製)等 、以:F I S B 0 6 0 1爲基準測定。映像形成層之表面硬度以藍 寶針爲1 0 g以上較佳。藉由美國聯邦政府試驗基準4 〇 4 6使 熱轉印片板帶電後,使熱轉印片板接地後1秒後映像形成 層之帶電電位以-100〜100V較佳。映像形成層之表面電阻 在23°C、5 5RH%下爲1 〇9Ω以下較佳。 其次’說明有關本發明(1 )、( 2 )或(3 )所使用的濕式顯像 轉印片板。 濕式顯像轉印片板係在載體上至少具有黑色(κ )之感光性 - 6 5 - 200300732 樹脂層。 感光性樹脂層係爲藉由組合碳黑或黑色顏料及數種顏料 以使黑色混合物或黑色染料分散於感光性樹脂中者。使碳 黑或黑色顏料或顏料混合物分散的感光性樹脂者就提供耐 熱性、耐光性優異的遮光層而言係爲優異。感光性樹脂係 爲可鹼水溶液顯像者、與可以有機溶劑顯像者,就安全性 與顯像液之成本而言以可鹼水溶液顯像者較佳。 感光性樹脂可爲放射線容受部硬化的負型,亦可以爲放 射線未容受部硬化的正型,惟在本發明(2 )之方法中使用前 者。使用後者時,僅對應於畫素(R,G,B )之部位通過拔除的 光罩,必須施予放射線處理。本發明(3 )中可以爲正型或負 型,使用前者時僅對應於黑色矩陣之部位通過拔除的光罩 ,必須施予放射線處理。 正型感光性樹脂例如酚醛淸漆系樹脂。例如,可使用特 開平7 - 43 899號公報記載的鹼可融性酚醛淸漆樹脂系。而 且,特開平6 - 1 48888號公報記載的正型感光性樹脂層、即 使用含有該公報記載的鹼可熔性樹脂與感光劑之1,2 -萘醌 重氮磺酸酯與該公報記載的熱硬化劑之混合物的感光性樹 脂層。另外,可活用特開平5- 26 28 5 0號公報記載的組成物 〇 負型感光性樹脂例如由負型二偶氮樹脂與黏合劑所成的 感光性樹脂、由光聚合性組成物、疊氮化合物與黏合劑所 成的感光性樹脂組成物、肉桂酸型感光型樹脂組成物等。 其中較佳者爲含有以光聚合起始劑、光聚合性單體及黏合 -66- 200300732 劑爲基本構成要素之感光性樹脂。該感光性樹脂層可利用 特開平1 1 - 1 3 3 600號公報記載的「聚合性化合物B」「聚 合起始劑C」「界面活性劑」「黏合助劑」、或其他組成 物。 例如負型感光性樹脂之可鹼水溶液顯像的感光性樹脂係 爲含有主成分之含羧基的黏合劑(下述鹼可溶的熱可塑性樹 脂等)與多官能丙烯酸單體與光聚合起始劑。較佳的感光性 樹脂包含特開平1 - 1 52449號說明書記載的作爲顏料之碳黑 、鈦黑、氧化鐵單獨或混合物,包含多官能丙烯酸單體使 用乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯 、1,3-丁烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、四甲二醇二(甲基)丙 烯酸酯、丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基) 丙烯酸酯、1,4 -己二醇二(甲基)丙烯酸酯、異戊四醇四(甲 基)丙烯酸酯、二異戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等之(甲基)丙 烯酸酯,含羧酸基之黏合劑包含丙烯酸、甲基丙烯酸等不 飽和有機酸化合物與甲基丙烯酸酯、乙基丙烯酸酯、苯甲 基甲基丙烯酸酯等之不飽和有機酸酯化合物的共聚物,光 聚合起始劑爲鹵化甲基噚二唑系化合物或鹵化甲基-s -三阱 系化合物之組成物。而且,各成分之較佳含量以全部固成 分中之質量%表示時,顏料爲1 0 %〜5 0 %、多官能丙嫌酸酯 單體爲10%〜50%、含羧酸基之黏合劑爲20%〜60%、光聚合 起始劑爲1 %〜20%。惟濕式顯像轉印片板之感光性樹脂層 可使用的感光性樹脂不受此等所限制,可適當選自於上述 雷射熱轉印片板使用的光及/或熱反應性組成物或習知者。 -67 - 200300732 感光性樹脂層可以單獨設置於載體上’亦可以設置於設 有其他層、例如在載體上設有熱可塑性樹脂或氧遮斷層等 之上,以在受像片板上設有的畫素(R,G,B )轉印映像形成層 時至少同時轉印氧遮斷層較佳。熱可塑性樹脂層亦可以爲 鹼可溶之構成。 該鹼可溶熱可塑性樹脂層之構成可使用的鹼可溶熱可塑 性樹脂係爲可溶於轉印後可鹼顯像的鹼性水溶液之樹脂。 另外,該熱可塑性樹脂層於使感光性樹脂層轉印於設於受 像片板之畫素(R,G,B)時,爲作爲防止因畫素(R,G,B)之凹 凸產生的轉印不佳之護墊材效果,以具有視受像片板與加 熱密接時基體上之凹凸而變型的性質較佳。 * 因此,構成鹼可溶之熱可塑性樹脂層之樹脂,以實質的 軟化點爲80°C以下較佳。軟化點爲80°C以下之鹼可溶性熱 可塑性樹脂以至少一種選自於乙烯與丙烯酸酯共聚物之皂 化物、苯乙烯與(甲基)丙烯酸酯共聚物之皂化物、乙烯基 甲苯與(甲基)丙烯酸酯共聚物之皂化物、聚(甲基)丙烯酸 酯、(甲基)丙烯酸丁酯與醋酸乙烯酯等之(甲基)丙烯酸酯 共聚物等之皂化物等較佳,另外,於「塑膠性能便覽」(曰 本塑膠工業聯盟、全日本塑膠成形工業聯合會編著、工業 調查會發行、1 968年10月25日發行)記載的軟化點約爲 8 0 °C以下之有機高分子中可溶於鹼水溶液者。 而且,即使爲軟化點80°C以上之有機高分子物質時,亦 可以藉由在該有機高分子物質中添加可與該有機高分子物 質具有相溶性之各種可塑劑,實質上使軟化點降爲80°C以 一 6 8 - 200300732 下。可塑劑例如聚丙二醇、聚乙二醇、二辛基酞酸酯、二 庚基酞酸酯、二丁基酞酸酯、三環氧丙基磷酸酯、環氧丙 基二苯基磷酸酯聯苯基二苯基磷酸酯等。 另外,使用此等有機高分子物質時,以調節與下述載體 之黏合力爲目的時在實質上軟化點不超過8 0 °C之範圍內可 加入各種聚合物或過冷卻物質、密接改良劑或界面活性劑 、脫模劑等。 濕式顯像轉印片板以在載體上順序積層鹼可溶熱可塑性 樹脂層、氧遮斷層、及感光性樹脂層所構成較佳,特別是 藉由使該熱可塑性樹脂層與載體間之黏合強度較其他層間 之黏合強度小,可容易除去轉印後不需的載體、且不會破 壞熱可塑性樹脂層表面,故除去載體後可使感光性樹脂層 均勻地進行曝光。 熱可塑性樹脂層之膜厚以6〜ΙΟΟμπι之範圍較佳,更佳者 爲,6〜50μΐΏ。若熱可塑性樹脂層之膜厚小於6μιη時不可能 完全吸收ΐμπι以上基體上之凹凸,若大於ΙΟΟμπι時顯像性 、製造適性不佳,故不爲企求。 濕式顯像轉印片板在上述感光性樹脂層與熱可塑性樹脂 層間可設置氧遮斷層。 氧遮斷層係爲具有遮斷氧機能的層,藉此可使感光性樹 脂藉由曝光之聚合,即使在空氣中仍不會因氧使聚合受到 阻害而無法進行。另外,由於膜厚亦可以爲0 . 05〜5μΐΏ之 極薄値,故對解像力不會有不良影響。該氧遮斷層之形成 材料爲分散或溶解於水或鹼水溶液中、且具有低透氧性者 200300732 即可,可使用習知物。例如,特開昭4 6 - 2 1 2 1號或特公昭 5 6 - 4 0 8 2 4號記載的聚乙烯醚/馬來酸酐聚合物、羧基烷基 纖維素之水溶性鹽、水溶性纖維素醚類、羧基烷基澱粉之 水溶性鹽、聚乙烯醇、聚乙烯基吡咯啶酮、各種聚丙烯醯 胺類、各種水溶性聚醯胺、聚丙烯酸之水溶性鹽、明膠、 環氧乙烷聚合物、各種澱粉及其類似物之水溶性鹽、苯乙 烯/馬來酸之共聚物、馬來酸酯樹脂、及此等2種以上組合 者。其中,以組合聚乙烯醇與聚乙烯基吡咯啶酮較佳。 此外,上述聚乙烯醇以鹼化率爲80%以上者較佳。上述 籲 聚乙烯基吡咯啶酮之含量對氧遮斷層的固成分而言以1〜 75質量%較佳、更佳者爲1〜60質量%、最佳者爲10〜50 質量%。若小於1質量%時,無法得到與感光性樹脂層之充 分黏合性,而若大於7 5質量%時會降低氧遮斷能力。氧遮 斷層之厚度薄、約爲0.1〜5μιη、較佳者爲0.5〜2μιη。若約 小於0 · 1 μπι時氧之透過性過高,而若大於5 μπι時顯像時或 除去氧遮斷層時所需時間過長。 塗設上述各層之載體以具有熱可塑性樹脂層、與轉印時 ® 不會產生障害的剝離性者較佳,更佳者爲化學、熱安定、 具可撓性者。具體例如鐵氟龍、聚伸乙基對酞酸酯、聚碳 _酯 '聚乙烯、聚丙烯等之薄膜片板或此等之積層物較佳 〇 爲確保載體與熱可塑性樹脂層間之良好剝離性時,以不 須電;暈放電等之表面處理、且不須設置明膠等之底塗層較 佳。載體之厚度爲5〜300μπι、較佳者爲20〜150μπι。 - 70 - 200300732 在感光性樹脂層上爲保護來自保管時之污染或損傷時, &設置s蓋薄膜較佳。覆蓋薄膜可以爲與載體相同或類似 材料所成者’惟必須可容易自感光性樹脂層分離者。覆蓋 薄膜使用的材料例如聚矽氧烷紙、聚烯烴片板或四氟乙烷 片板等較佳。其中,以聚乙烯或聚丙烯薄膜更佳。 覆蓋薄膜之厚度以約5〜ΙΟΟμιη較佳、更佳者爲10〜30μπι 〇 濕式顯像轉印片板可藉由先在上述載體上塗覆鹼可溶熱 可塑性樹脂層且予以乾燥以設置熱可塑性樹脂層,於該熱鲁 可塑性樹脂層上塗覆使用不會溶解熱可塑性樹脂層之溶劑 的氧遮斷層用溶液且予以乾燥以設置氧遮斷層,再於該氧 遮斷層上塗覆感光性樹脂層塗覆液、不會使氧遮斷層溶解 的溶劑乾燥以設置感光性樹脂層形成。或者在上述覆蓋薄 膜上設置感光性樹脂層、另在載體上設置熱可塑性樹脂層 與氧遮斷層,各使氧遮斷層與感光性樹脂層接合下貼合, 或在上述覆蓋薄膜上設置感光性樹脂層與氧遮斷層、另再 於載體上設置熱可塑性樹脂層,與上述相同地各使氧遮斷 層與感光性樹脂層接合下貼合、製造。 塗覆上述鹼可溶熱可塑性樹脂層、氧遮斷層、感光性樹 脂層等的方法,可使用旋轉器、輥塗覆器、棒塗覆器、簾 塗覆器等方法。 於本發明(2)中,在受像片板上之畫素(R,G,B)上形成濕 式顯像轉印片板之感光性樹脂層時,除去濕式顯像轉印片 板之覆蓋薄膜後,使濕式顯像轉印片板重疊於具有晝素 - 71 - 200300732 (R , G,B )之受像片板上以使感光性樹脂層轉印,惟此時通常 在加壓及/或加熱下進行。該轉印係使用積層器、真空積層 器及可較爲提高生產性之自動切斷積層器等之習知積層器 ,使感光性樹脂層貼合、再剝取載體,在畫素(R,G,B )上及 不具畫素(R,G,B )之受像片板上使感光性樹脂層轉印。 然後,藉由自轉印有感光性樹脂層之受像片板裏面放射 線照射,由於畫素(R,G,B )具有光罩機能,故僅黑色矩陣部 之感光性樹脂層硬化、且畫素(R,G,B )對應部爲未硬化,藉 由鹼顯像除去畫素(R,G,B )上之感光性樹脂層,僅黑色矩陣 部殘留。其次,施予加熱處理以形成濾色片。 於上述方法中自裏面之曝光工程由於包含佔有畫素 (R,G,B)之範圍均勻曝光,故最大曝光量可在藉由畫素 (R,G,B)通過、透過的部分光,與此等畫色之曝光面相反部 分之感光性樹脂層部分不溶於顯像液下予以選擇。而且, 沒有畫素(R,G,B)存在的範圍不溶化者不爲企求時,使該部 分通過光罩以實施裏面曝光。於裏面曝光時可在真空下或 氮氣或氬氣之非氧氣氣氛下進行、或於曝光前或曝光中或 曝光後加熱。 放射線例如電子線、紫外線等,放射線照射使用的光源 可視感光性樹脂層之感光性而定使用紫外線〜可視光之光 源,可使用超高壓水銀燈、氙氣燈、碳電弧燈、氬氣雷射 等習知者。而且,特開平6 - 59 1 1 9號公報中記載可倂用400nm 以上波長之光透過率爲2%以下之光學濾色片等。放射線照 射量於畫素(R,G,B )形成中,可視使用的光及/或熱反應性 - 72 - 200300732 組成物時之條件爲基準予以選擇。 劑後之濕式顯像例如於鹼顯像中,顯像液洗使用鹼性物 質之稀薄水溶液,亦可以另少量添加與水具混合性之有機 溶劑者。視當的鹼性物質例如鹼金屬氫氧化物類(例如氫氧 化鈉、氫氧化鉀)、鹼金屬碳酸鹽(例如碳酸鈉、碳酸鉀)、 鹼金屬重碳酸鹽類(例如碳酸氫鈉、碳酸氫鉀)、鹼金屬矽 酸鹽類(例如矽酸鈉、矽酸鉀)、鹼金屬鉀基矽酸鹽類(例如 甲基矽酸鈉、甲基矽酸鉀)、三乙醇胺、二乙醇胺、單乙醇 胺、嗎啉、四烷銨氫氧化物(例如四甲銨氫氧化物)或磷酸 鲁 三鈉。鹼性物質之濃度以〇 . 〇 1〜30質量%較佳、pH値以8 〜1 4較佳。 與水具混合性之適當有機溶劑例如甲醇、乙醇、2 -丙醇 、1 -丙醇、丁縮醛、二丙酮醇、乙二醇單甲醚、乙二醇單 乙醚、乙二醇單正丁醚、苯甲醇、丙酮、甲基乙酮、環己 酮、ε -己內酯、γ-丁內酯、二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺 、六甲基磷醯胺、乳酸乙酯、乳酸甲酯、ε -己醯胺、Ν -甲 基吡咯啶酮。與水具混合性之有機溶劑的濃度一般爲0 . 1 〜3 0重量%。 另外,顯像液中可添加習知的界面活性劑。 顯像液可使用作爲浴液、或噴霧液。爲除去感光性遮光 材料層之未硬化部分時,可混合在顯像液中以回轉刷子擦 拭或液濕潤海綿擦拭等方法。顯像液之液溫度通常以室溫 〜4 0 °C較佳。顯像處理後亦可施予水洗工程。 另外,顯像可一次處理鹼可溶熱可塑性樹脂層、氧遮斷 -73- 200300732 層及感光性樹脂層,惟爲減少顯像斑或感光性樹脂層於顯 像時因顯像液致使黑色矩陣惡化情形’可先溶解除去鹼可 溶熱可塑性樹脂層及氧遮斷層後進行感光性樹脂層之顯像 較佳。然後,進行感光性樹脂層之顯像時,除去鹼可溶熱 可塑性樹脂層及氧遮斷層時使用的顯像液以選自於不會使 感光性樹脂層.惡化者較佳。該方法就考慮鹼可溶熱可塑性 樹脂層及氧遮斷層、與感光性樹脂層間之溶解速度差而言 ,藉由選擇顯像液、或藉由適當組合液溫、噴霧壓、擦拭 時之壓力等顯像處理條件進行。藉由該方法可以抑制黑色 矩陣之顯像斑。 顯像後之加熱處理係使載負畫素(R,G,B )及黑色矩陣之受 像片板在電爐、乾燥器中加熱、或在此等映像上照射紅外 線燈予以照射加熱。加熱溫度及時間係與映像之組成或厚 度等相關,一般而言爲獲得充分的耐溶劑性、耐鹼性時之 必要時間,於畫素(R,G,B )形成時,可視使用的光及/或熱 反應性組成物之條件爲基準選擇。 於本發明(3 )中,在受像片板上形成黑色矩陣時,首先除 去濕式顯像轉印片板之覆蓋片板後,使濕式顯像轉印片板 重疊於受像片板上以使感光性樹脂層轉印後經由光罩自受 像片板表面上及/或裏面照射放射線。 使該濕式顯像轉印片板轉印於受像片板上,通常在加壓 及/或加熱下進行。該轉印可藉由使用積層器、真空積層器 及可較爲提高生產性之自動切斷積層器等習知積層器,使 感光性樹脂層貼合、再剝取載體,在受像片板上使感光性 - 74 - 200300732 樹脂層轉印。 然後,藉由自轉印有感光性樹脂層之受像片板表面上及/ 或裏面經由光罩放射線照射,僅使黑色矩陣部之感光性樹 脂層硬化、且畫素(R,G,B )對應部未硬化,藉由驗顯像除去 畫素(R,G,B )對應部上之感光性樹脂層,僅黑色矩陣部殘留 。其次,視其所需施予加熱處理。 上述方法之曝光工程在黑色矩陣範圍中具有不溶化的不 爲企求部分時,可使該部分通過光罩以實施曝光。於曝光 時在真空下或氮氣或氬氣之非氧氣氛下進行、或於曝光前 鲁 或曝光中或曝光後加熱。 放射線係與本發明(2 )所使用者相同。 繼後之濕式顯像亦以與本發明(2 )相同方法實施。藉由濕 式顯像形成的黑色矩陣間或黑色矩陣之間及黑色矩陣之周 邊部上藉由雷射熱轉印片板形成畫素(R,G,B)或畫素 (R 1,G 1,B 1 )。然後,受像片板以施有加熱處理、硏磨處理
較佳。 I 其次,說明有關上述熱轉印片板、或另與濕式顯像轉印 片板組合使用的受像片板。 [受像片板] (層構成) 受像片板係爲具有載負熱轉印片板之映像機能者,至少 由載體所成,較佳者爲在載體上具有1個以上受像層所成 ,視其所須在載體與受像層間設有1層或2層以上黏合層 、底層、剝離層、及中間層之構成。而且,載體之受像層 -75 - 200300732 在反面上具有底層時,就搬送性而言較佳。 載體一般爲玻璃,例如耐熱性可撓性樹脂、如聚醚颯等 。在載體上以設有受像層較佳,在載體與受像層間設有黏 合層之構成亦佳。黏合層例如藉由矽烷偶合劑之處理層。 黏合層之厚度以50 A〜5 μ m較佳、更佳者爲50〜1〇〇〇 A 。矽烷偶合劑例如乙烯基三氯矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷 、乙烯基參(β -甲氧基乙氧基)矽烷、γ-環氧丙氧基丙基三 甲氧基矽烷、γ-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷等已知 的「矽烷偶合劑」由信越化學股份有限公司等市售品。在 載體上設置矽烷偶合劑之方法,係使用原液、或作爲塗覆 液以旋轉器、輥塗覆器、棒塗覆器、簾塗覆器等之方法塗 覆於載體上、再予以乾燥的方法。 (受像層) 受像層係以有機聚合物黏合劑爲主體形成的層較佳。上 述黏合劑以熱可塑性樹脂較佳,例如丙烯酸、甲基丙烯酸 、丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯等之丙烯酸系單體之均聚物及 其共聚物、甲基纖維素、乙基繊維素、纖維素乙酸酯之纖 維素系聚合物、聚苯乙烯、聚乙烯基吡咯啶酮、聚乙烯基 丁縮醛、聚乙烯醇、聚氯乙烯等乙烯系單體之均聚物及其 共聚物、聚酯、聚醯胺等之縮合系聚合物、丁二稀_苯乙烯 共聚物之橡膠系聚合物。受像層之黏合劑爲得到與映像形 成層間之適度黏合力時,以玻璃轉移溫度(Tg)較9〇t低的 聚合物較佳。因此,在受像層中亦可添加可塑劑。而且, 黏合劑聚合物爲防止片板間之黏連情形時,其Tg以3(Γ(:以 -76- 200300732 上較佳。受像層之黏合劑聚合物就可提高雷射記錄時與映 像形成層之密接性、感度或映像強度而言,以使用與映像 形成層之黏合劑聚合物相同、或類似的聚合物更佳。 至少一層受像層由光硬性材料形成者亦較佳。該光硬性 材料例如與映像形成層之光及/或熱反應性之單體或組成物 相同者。例如由a )藉由加成聚合形成光聚合物之由至少一 種多官能乙烯或亞乙烯化合物所成的光聚合性單體、b )有 機聚合物、c )光聚合起始劑、及視其所需熱聚合禁止劑等 添加劑所成組合者。上述多官能乙烯基聚合物可使用聚醇 _ 之不飽和酯、特別是丙烯酸或甲基丙烯酸之酯(例如乙二醇 二丙烯酸酯、異戊四醇四丙烯酸酯)。 上述有機聚合物例如上述受像層形成用聚合物。而且, 光聚合起始劑係在層中以0 . 1〜20質量%比例使用的二苯甲 酮、米勒酮等一般的光游離基聚合起始劑。 在受像層上形成畫素(R,G,B)及黑色矩陣或映像(R,G,B,K) 後,亦可使該畫素(R,G,B)及黑色矩陣或映像(R,G,B,K)再 _ 轉印於玻璃等其他載體上。 受像層之厚度以0.01〜10μιη較佳、更佳者爲〇.〇1〜ΙμΐΏ 〇 受像層表面之平滑起始値在23 °C、55RH%下爲0 · 5〜 50nimHg(_ 0.066 5 〜6.65kPa)較佳、且 Ra 以 0.05 〜0·4μιη 較佳。藉此就可減少無法使受像層與映像形成層接觸接觸 面之多數微空隙、轉印以及畫質而言較佳。上述Ra値係使 用表面粗度測定機(Surfcom,東京精機股份有限公司製)等、 -77- 200300732 以:IIS BO 601爲基準測定。藉由美國聯邦政府試驗基準4046 使受像片板帶電後,使受像片板接地後1秒後映像形成層 之帶電電爲以-100〜100V較佳。受像層之表面電阻在23 °C 、5 5RH%下爲109Ω以下較佳。受像層表面之靜止摩擦係數 以0.2以下較佳。受像層表面之表面能量以23〜35mg/m2 較佳。 (其他層) 在載體與受像層之間亦可設置底層。該底層係在載體爲 可撓性時可另再轉印於玻璃等之上、極爲有效。 鲁 設置護墊層時,於雷射熱轉印時可提高映像形成層與受 像層之密接性、提高畫質。而且,記錄時即使在熱轉印片 板與受像片板之間混入異物時,藉由護墊層之變形作用可 使受像層與映像形成層之空隙變小,結果可減小除白等之 映像缺陷大小。另外,於映像轉印形成後,使該物轉印於另 外的印刷本紙時,由於視紙凹凸表面而定使受像表面變形 ,故可提高受像層之轉印性、且藉由降低被轉印物之光澤 以提高與印刷物之相近性。 * 護墊層係爲於受像層上施加應力時容易變形的構成,爲 達成上述效果時,以由具有低彈性率之材料、具有橡膠彈 性之材料或藉由加熱容易軟化的熱可塑性樹脂所成較佳。 護墊層之彈性率在室溫下以0 · 5MPa〜1 · OGPa較佳、更佳者 爲IMPa〜0.5GPa、最佳者爲10〜lOOMPa。而且,爲防止垃 圾等異物滲入時,以HS K25 3 0所定的針入度(25t:、100g 、5秒)爲1 0以上較佳。此外,護墊層之玻璃轉移溫度爲 -78 - 200300732 80°C以下、較佳者爲25°C以下,軟化點爲50〜200°C較佳。 此等物性例如爲調節Tg時可在黏合劑中添加可塑劑予以進 行。 作爲護墊層之黏合劑所使用的具體材料例如胺基甲酸酯 橡膠、丁二烯橡膠、腈橡膠、丙烯酸橡膠、天然橡膠等之 橡膠類、以及聚乙烯、聚丙烯、聚酯、苯乙烯-丁二烯共聚 物、乙烯-醋酸乙烯共聚物.、乙烯-丙烯酸共聚物、氯乙烯 基-醋酸乙烯共聚物、氯化亞乙烯基樹脂、加入可塑劑之氯 化乙烯基樹脂、聚醯胺樹脂、苯酚樹脂等。 而且,護墊層之厚度係視使用的樹脂之其他條件而不同 ,通常爲3〜ΙΟΟμιη、較佳者爲10〜52μπι。 受像層與護墊層必須直至雷射記錄階段黏合,惟爲使畫 素轉印於受像片板時,以設置可剝離者較佳。若爲形成濾 色片時,不是特別需要,惟視其所需轉印於剝離等之其他 載體上時,受像層與護墊層以設置可剝離者較佳。爲容易 剝離時,在護墊層與受像層之間剝離層的厚度以0 · 1〜2μιη 較佳。若膜厚過大時,由於護墊層之性能不易呈現,故必 須視剝離層之種類而定予以調整。 剝離層之黏合劑具體例如聚烯烴、聚酯、聚乙烯基縮醛 、聚乙烯基甲醛、聚仲班酸酸、聚甲基丙醯酸甲酯、聚碳 酸酯、乙基纖維素、硝基纖維素、甲基纖維素、羧基甲基 纖維素、羥基丙基纖維素、聚乙烯醇、聚氯乙烯基、胺基 甲酸酯樹脂、氟系樹脂、聚苯乙烯、丙烯酸硝基苯乙烯等 之苯乙烯類及使此等樹脂交聯者、聚醯胺、聚醯亞胺、聚 -79- 200300732 醚醯亞胺、聚碾、聚醚楓等之Tg爲6 5 °C以上熱硬性樹脂及 此等樹脂之硬化物。硬化劑例如可使用異氰酸酯、蜜胺等 一般的硬化劑。 組合上述物性以選擇剝離層之黏合劑時,聚碳酸酯、縮 醛、乙基纖維素就保存性而言較佳,另外,於受像層中使 用丙烯酸系樹脂時,雷射熱轉印後使映像再轉印時剝離性 良好,故更佳。 此外,另可利用冷卻時與受像層之黏合性極低的層作爲 剝離層。具體而言例如蠟類、黏合劑等之熱熔融性化合物 鲁 或以熱可塑性樹脂爲主成分之層。 熱熔融性化合物有特開昭6 3 - 1 93 886號記載的物質。特 別是以使用微結晶蠟、烯烴鱲、巴西棕櫚蠟等較佳。熱可 塑性樹脂以使用乙烯-醋酸乙烯系樹脂等乙烯系共聚物、纖 維素系樹脂等較佳。 該剝離層中視其所需可加入作遍添加劑之高級脂肪酸、 高級醇、高級脂肪酸酯、醯胺類、高級胺等。 剝離層之其他構成有於加熱時藉由熔融或軟化,本身凝 聚破壞具有剝離性之層。該剝離層中以含有過冷卻物質較 佳。 過冷卻物質例如聚ε -己內酯、聚環氧乙烷、苯并三唑、 三苯甲胺、香草醛等。 另外,其他構成之剝離層包含使與受像層之黏合性降低 的化合物。該化合物例如矽油等之矽系樹脂;鐵氟龍、含 氟之丙烯酸樹脂等之氟系樹脂;聚矽氧烷樹脂;聚乙烯基 - 8 0 - 200300732 丁縮醛、聚乙烯基縮醛、聚乙烯基甲醛等之縮醛系樹脂; 聚乙烯蠟、醯胺蠟等之固體蠘類;氟系、磷酸酯系界面活 性劑等。 剝離層之形成方法可使上述原料溶解於溶劑中或分散成 乳膠狀者藉由刮刀塗覆器、輥塗覆器、棒塗覆器、簾塗覆 器、照相凹板塗覆器、等塗覆法、藉由熱熔融押出之積層 法等塗覆於護墊層上予以形成。或在假基體上使上述原料 溶解於溶劑中或分散成乳膠狀者以上述方法塗覆者與護墊 層貼合後,使假載體剝離形成的方法。 組合上述熱轉印片板之受像片板可以爲兼具受像層與護 墊層的構成,此時受像片板亦可以爲載體/護墊性受像層、 或載體/底塗層/護墊性受像層之構成。此時,以設置可剝 離的可再轉印於印刷本紙之護墊性受像層較佳。再轉印於 印刷本紙後之映像爲光澤優異的映像。 而且,護墊性受像層之厚度爲5〜100 μπι、較佳者爲1〇〜 40μπι 〇 此外,受像片板上在與設置載體之受像層面相反面上設 置底層時,可使受像片板之搬送性良好,故較佳。±述底 層中添加界面活性劑或氧化錫微粒子等抗靜電劑、氧化矽 、ΡΜΜΑ粒子等消光劑時,在記錄裝置內之搬送性良好,故 較佳。 上述添加劑不僅添加於底層中,視其所需亦可添加於受 像層其他層中。添加劑之種類視其目的而定無法一槪規定 ,例如爲消光劑時平均粒徑0 · 5〜1 Ομπι之粒子在層中添加 200300732 0 · 5〜80%之程度。抗靜電劑係層之表面電阻在23 °C、5ORH% 之條件下爲1012Ω以下、較佳者爲109Ω以下時適當地選自 於各種界面活性劑、導電劑。 而且,受像片板中直接形成畫素(R,G,B)及黑色矩陣或映 像(R,G,B,K )時,在可確保其透明性之範圍內以使用上述添 加劑較佳。另外,不須使受像片板上所形成的畫素(R,G,B ) 及黑色矩陣或映像(R,G,B,K )再轉印於其他之玻璃等透明載 體上。 底層所使用的黏合劑例如明膠、聚乙烯醇、甲基纖維素鲁 、硝基纖維素、乙醯基纖維素、芳香族聚醯胺樹脂、聚矽 氧烷樹脂、環氧樹脂、烷化物樹脂、苯酚樹脂、蜜胺樹脂 、氟系樹脂、聚醯亞胺樹脂、胺基甲酸酯樹脂、丙烯酸樹 脂、胺基甲酸酯改性聚矽氧烷樹脂、聚乙烯樹脂、聚丙烯 樹脂、聚酯樹脂、鐵氟龍樹脂、聚乙烯基丁縮醛樹脂、氯 化乙烯基系樹脂、聚乙烯基乙酸酯、聚碳酸酯、有機硼化 合物、芳香族酯類、氟化聚胺基甲酸酯、聚醚碾等一般聚 合物, 肇 底層之黏合劑係使用可交聯的水溶性黏合劑,交聯具有 防止消光劑粉末掉落或提高底層塗覆之耐傷性。而且,保 存時之黏連效果大。 該交聯方法係視使用的交聯劑特性而定,可組合熱、活 性光線、壓力等任何一種等,沒有特別限定採用。視其所 需爲賦予載體具黏合性時,可在載體設置底層側設置任意 的黏合層。 - 82- 200300732 底層中較佳的添加消光劑可使用有機或無機微粒子。有 機系消光劑例如聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚苯乙烯、聚 乙烯、聚丙烯、其他游離基聚合系聚合物之微粒子、聚酯 、聚碳酸酯等縮合聚合物之微粒子等。 底層以0.5〜5g/m2之附加量設置較佳。若小於〇.5 g/m2 時塗覆性不安定,容易產生消光劑之粉末掉落問題。而若 大於5 g / m2時,較佳的消光劑粒徑非常大,保存時藉由底 層塗覆時容易產生受像層面之壓花化情形,特別是使薄膜 之映像形成層轉印的熱轉印容易產生記錄映像脫落或斑點 情形。 消光劑之數平均粒徑係較底層之黏合劑膜厚大2 . 5〜 2 0 μηι者較佳。於消光劑中8 μπι以上之粒徑粒子必須爲5 g / m2 以上,較佳者爲6〜600 g/m2。藉此特別可改善異物障害、 另外,藉由使用粒徑分布之標準偏差除以數平均粒徑之値 σ / r η (=粒徑分布之變動係數)爲〇 . 3以下之粒徑分布狹窄者 ,就可改善因具有異常大粒徑之粒子產生的缺陷而言,以 較少添加量可得企求的性能。該變動係數以0 . 1 5以下更佳 〇 底層係爲防止因與搬送輥之摩擦帶電附著異物的情形時 ,以添加抗靜電劑較佳。抗靜電劑可廣泛使用陽離子系界 面活性劑、陰離子系界面活性劑、非離子系界面活性劑、 高分子抗靜電劑、導電性微粒子、以及「1 1 290之化學商 品」化學工業日報公司、87 5〜87 6頁等記載的化合物等。 底層可倂用的抗靜電劑於上述物質中以使用碳黑、氧化 -83 - 200300732 鋅、氧化鈦、氧化錫等之金屬氧化物、有機半導體等之導 電性微粒子較佳。特別是使用導電性微粒子由於抗靜電劑 不會自底層解離且不會因環境影響、具有安定的帶電防止 效果,故較佳。 另外,底層爲具有塗覆性或脫模性時,亦可添加各種活 性劑、矽油、氟系樹脂等之脫模劑等。 底層藉由護墊層及受像層之ΤΜΑ(熱機分析器,
Thermomechani cal Anlys i s )測定的軟化點以70°C以下更佳 ❿ TMA軟化點係使測定對象物以一定的昇溫速度、懸掛一 定的荷重且昇溫,藉由觀測對象物之位相求取。於本說明 書中以測定對象物之位相變化的開始溫度定義爲TMA軟化 點。藉由 TMA測定軟化點係可使用理學電器公司製 Thermoflex等裝置進行。 其次’說明有關組合上述熱轉印片板使用的電路基板。 [電路基板] (表面層構成) ^ 電路基板係載負自熱轉印片板之映像,以電路基板表面 具有1個以上受像層較佳。電路基板與受像層之間設置有 黏合層等的構成較佳。而且,在與電路基板之受像層反面 上具有底層時,就搬送性而言較佳。 載負電路之基板一般爲玻璃,亦可以爲耐熱性可撓性樹 脂、例如聚醚碾I等。電路基板上設有受像層較佳,電路基 板與受像層之間設有黏合層之構成亦較佳。黏合層例如爲 一 8 4 - 200300732 藉由偶合劑之處理層。黏合層之厚度以5〇A〜5μιη較佳、 更佳者爲5 0〜1 0 0 0 Α。矽烷偶合劑例如乙烯基三氯矽烷、 乙烯基三甲氧基矽院、乙烯基參(β -甲氧基乙氧基)砂院、γ_ 環氧丙氧基丙基三甲氧基砂垸、γ -甲基丙燃醯氧基丙基三 甲氧基矽烷等係爲已知,如「矽烷偶合劑」由信越化學股 份有限公司等市售。使矽烷偶合劑設於載體的方法可使用 原液、或作爲塗覆液以旋轉器、輥塗覆器、棒塗覆器、簾 塗覆器等方法塗覆於載體上,再予以乾燥的方法。 (受像層) 受像層係使用與上述受像片板所記載者相同。 而且,電路基板上在與設有載體之受像層反面上設置底 層時,就電路基板之搬送性良好而言較佳。底層可使用與 受像片板記載者相同。 上述熱轉印片板與上述受像片板係使熱轉印片板之映像 形成層與受像片板或其受像層重疊的積層體,利用於映像 形成而得。 熱轉印片板與受像片板之積層體可以藉由各種方法形成 。例如使熱轉印片板之映像形成層與受像片板或其受像層 重疊,藉由通過加壓加熱輥可容易製得。 同樣地,上述熱轉印片板與上述電路基板係使熱轉印片 板之映像形成層與電路基板或其受像層重疊的積層體,利 用於映像形成而得。 熱轉印片板與電路基板之積層體可以藉由各種方法形成 。例如使熱轉印片板之映像形成層與電路基板或其受像層 -85 - 200300732 重疊,藉由通過加壓加熱輥可容易製得。 爲此等時之加熱溫度爲160°C以下、較佳者爲130°C以下 〇 爲製得積層體之其他方法可使用上述之真空密接法。真 空密接法係爲在設有真空引用吸附孔之桶上先捲附受像片 板,再使較該受像片板稍大的熱轉印片板以擠壓滾筒均勻 地押出空氣且真空密接於受像片板上的方法。此外,其他 方法有在金屬桶上拉伸受像片板予以機械貼附,再於其上 相同地機械拉伸貼附熱轉印片板,予以密接的方法。此等鲁 方法中就不須加熱滾筒等溫度控制、可容易迅速均勻積層 而言,以真空密接法更佳。上述方法可以電路基板取代受 像片板使用。 (四)實施方式 於下述中藉由本發明實施例說明,惟本發明不受此等實 施例所限制。而且,文中沒有特別限定時,「份」係指「 質量份」。 實施例1 1 .雷射熱轉印片板之製作 1 . 1底層之製作 底層形成用塗覆液之組成 氯乙烯基-醋酸乙烯共聚物 2 5份 (日信化學股份有限公司製、MPR-TSL) 可塑劑6官能丙烯酸酯系單體 1 2份 (日本化藥股份有限公司製、DPCA-120、分子量1 947 ) - 86 - 200300732 界面活性劑 〇 . 4份 (梅卡法克F - 1 7 7、大日本油墨化學工業股份有限公司製) 甲基乙酮 7 5份 將其塗覆於厚度100 μπι之二軸延伸PET基體上,在乾燥 膜厚約爲20 μηι下調節塗覆量。 1 - 2光熱變換層之製作 1 )光熱變換層形成用塗覆液之調製 使下述各成分以啓動器攪拌且混合以調製光熱變換層形 成用塗覆液。 塗覆液組成 紅外線吸收色素(ΝΚ-2014、日本感光色素股份有限公司 製) 1 0份 黏合劑(里卡克頓SN-20、新日本理化股份有限公司製) 200份 Ν-甲基-2-吡咯啶酮 2000份 界面活性劑 1份 (梅卡法克F - 1 77、大日本油墨化學工業股份有限公司製) 2)在載體表面上光熱變換層之形成 在上述護墊層塗覆表面上使用回轉塗覆機塗覆上述塗覆 液後,使塗覆物在100 °C烤箱中乾燥2分鐘,在該載體上形 成光熱變換層。所得光熱變換層在波長700〜l〇〇〇nm範圍 內、在83 Onm附近有極大吸收,以馬可貝斯濃度計測定其 吸光度(光學密度:0D)時,0D=1 . 0。膜厚藉由掃描型電子 顯微鏡觀察光熱變壞層之截面時,平均爲0 . 3 μηι ° _ 8 7 _ 200300732 1 - 3映像形成層之製作 1 )映像形成層形成用塗覆液之調製 使下述各成分以塗料搖動器(東洋精機股份有限公司製) 分散處理2分鐘後,除去玻璃珠且調製紅色顏料分散母液
1 2 · 6 份 癸基丁縮醛#2000 -L 顏料分散母液組成 聚乙烯基丁縮醛 (電氣化學工業股份有限公司製 維卡軟化點5 7 °C ) 之20質量%正丙醇溶液 色材 衣魯卡井•紅色BPT(紅色) 24份 分散助劑(索魯史伯S- 20000、ICI股份有限公司製) 0.8份 1 10份 100份 調製紅色映像形成 20份 60份 0 . 0 5 份 正丙醇 玻璃珠 使下述各成分以啓動器攪拌且混合 層形成用塗覆液。 塗覆液組成 上述顏料分散母液 正丙醇 界面活性劑 (梅卡法克F - 1 7 6、大日本油墨化學工業股份有限公司製) 以下相同地綠色使用酮酞菁(綠色)顏料、藍色使用蘇丹 - 88 - 200300732 藍(藍色)顏料以調製映像形成塗覆液。 2)在光熱變換層上紅色映像形成層之形成 在上述光熱變換層表面上塗覆上述塗覆液後,使塗覆液 在100 °C之烤箱中乾燥2分鐘,在光熱變換層上形成紅色映 像形成層(顏料64 . 2質量%、聚乙烯基丁醛3 3 . 7質量%)。 以馬可貝斯濃度計TD504 (B)測定所得映像形成層之吸光度 (光學密度:0D )時,0D = 0 . 7。膜厚係與上述相同地進行測 定,平均爲1 . 6 μΐϋ。藉由上述工程製作在載體上順序設置 有底層、光熱變換層、及紅色映像形成層之雷射熱轉印片鲁 板。同樣地製作具有綠色映像形成層、藍色映像形成層之 雷射熱轉印片板。 2 . Κ色用濕式顯像轉印片之製作 在厚度ΙΟΟμπι聚對酞酸乙二酯薄膜假載體上塗覆由下述 組成所成的塗覆液Η 1予以乾燥,設置乾燥膜厚爲20 μιη之 熱可塑性樹脂層。 <熱可塑性樹脂層用塗覆液Hl> •甲基丙烯酸甲酯/丙烯酸2 -乙基己酯/甲基丙烯酸苯甲 酯/甲基丙烯酸共聚物 (共聚合組成比(莫耳比)= 55/28.8/11.7/4.5、重量平均 分子量= 90000) ·*··15 份 •聚丙二醇二丙烯酸酯 · · · · 6 · 5份 (平均分子量=82 2 ) 四乙二醇二甲基丙烯酸酯 對-甲苯楓醯胺 • · · · 1 . 5 份 0.5份 200300732 •二苯甲酮 份 •甲基乙酮 份 然後,在上述熱可塑性樹脂層上塗覆由下述組成所成的 塗覆液Β 1予以乾燥,設置乾燥膜厚爲丨· 6 μη]之氧遮斷層 <氧遮斷層用塗覆液Bl> •聚乙稀醇 *···130份 (PVA205(鹼化率= 80%);谷拉雷股份有限公司製) •聚乙烯基吡咯啶酮 籲 (PVP、K-90 ; GAF克伯雷旬公司製) · · · · 60份 •氟系界面活性劑 · · · · 10份 (旭玻璃股份有限公司公司製撒氟龍S - 1 3 1 ) •蒸餾水 · · · · 3 3 5 0份 在具有上述熱可塑性樹脂層及氧遮斷層之載體上塗覆具 有下述配方之K色感光性溶液予以乾燥,形成乾燥膜厚爲 1 . 6 μιη之K色感光性樹脂層。 〈配方〉 ^ 甲基丙烯酸苯甲酯/甲基丙烯酸共聚物:73/27(莫耳)、 黏度:0 . 1 2 60份 異戊四醇四丙烯酸酯 43 . 2份 米勒酮 2 . 4份 2-(鄰氯苯基)-4,5 -二苯基咪唑二聚物 2.5份 碳黑 5·6份 - 9 0 - 200300732 甲基纖維素乙酸酯 56Q @ 甲基乙酮 280份 另外,在上述感光性樹脂層上壓熔聚丙烯(厚度1 2 μιΏ ) 之被覆片板,製作Κ色用濕式顯像轉印片板。 3 .受像片板之製作 使用厚度1 . 1 mm之玻璃基板作爲受像片板載體’於其表 面上以矽烷偶合劑(信越化學股份有限公司製KBE- 90 3 )之 0 . 3%水溶液進行表面處理。然後,在該經處理的表面上使 用旋轉塗覆器設置由下述受像層塗覆液所成的受像層(厚度 1 μηι) 〇 受像層塗覆液 聚乙烯基丁縮醛(電氣化學工業股份有限公司製、癸基丁 縮醛 #2000-L) 16 份 界面活性劑 0 . 5份 (梅卡法克F - 1 77、大日本油墨化學工業股份有限公司製) 正丙醇 1 0 0份 4 ·藉由雷射熱轉印片板之映像形成 在設有直徑1mm之真空吸附用吸附孔(3cmx 3cm之範圍中 有1個面密度)之平台上吸附上述受像片板(25 cmx 35 cm)。 然後,使30 cmx 40 cm之熱轉印片板R自受像片板均等引出 下重疊,以擠壓滾筒擠壓且在吸附孔吸附空氣以使熱轉印 片板密接,積層受像片板與熱轉印片板。吸附孔在阻塞的 狀態下對減壓度爲1氣壓而言爲l50mmHg(与81.13kPa)。 然後’移動上述平台,在平台上之積層體表面上自外側 - 9 1 - 200300732 使波長830nm半導體雷射光以光熱變換層表面爲7μηι之點 集光、且對平台移動方向(主掃描方向)而言朝直角方向移 動(副掃描)’進行對積層體之雷射映像記錄。雷射記錄係 如第4圖所示在相當於濾色片映像之映像上藉由雷射光自 熱轉印片板進行映像照射。Α設定爲150μπι、1)設定爲ΙΟΟμηι 。雷射照射條件如下所述。
雷射能量:1 1 OmW 主掃描速度:4 m /秒 副掃描間距(1通道之副掃描量):1 0(Im 溫度、濕度:25°C、50RH% 使進行上述雷射映像記錄之積層體自平台上取出,以手 拉引受像片板與熱轉印片板R時,可確知僅映像形成層之 雷射照射部自轉印片板轉印於受像片板上。與上述相同地 ’進行有關雷射熱轉印片板G及B之映像轉印,在受像片 板上形成畫素(R,G,B)。 然後’在形成有畫素(R,G,B)之受像片板上使用積層器( 大成積層器股份有限公司製V對II)、加壓2kg/cm2(与 1 9 6 kP a )、加熱(1 3 0 °C )貼合K色用濕式顯像轉印片板,然 後,剝離載體與熱可塑性樹脂層之界面,且除去載體。 然後’自受像片板裏面使紫外線400m] / cm2曝光,再使 用1 %二乙醇胺水溶液溶解除去熱可塑性樹脂層及氧遮斷層 。此時’感光性樹脂層沒有實質顯像。然後,使用1 %碳酸 鈉水溶液使感光性樹脂層顯像,除去不要部分,在玻璃基 板上形成線寬(弟4c圖)爲20μπι之黑色矩陣。 - 92- 200300732 其次’在該受像片板上進行2 0 0 °C、2 0分鐘加熱處理, 使黑色矩陣硬化以製作濾色片。 比較例1 於實施例1中除使用Κ色用雷射熱轉印片板取代κ色用 濕式顯像轉印片板外,相同地形成畫素(R,G,Β ),製作具有 線寬(第4c圖)爲20μπι之黑色矩陣的濾色片。κ色雷射熱 轉印片板係於雷射熱轉印片板R之製作中使用下述黑色映 像形成用塗覆液取代映像形成用塗覆液外,相同地_ f乍。 黑色映像形成層用塗覆液之調製 使下述各成分加入混練磨中,添加少量溶劑且施力卩0 _ 力,進行分散前處理。在該分散物中另加入溶劑,調製最 終下述組成,且進行砂磨分散2小時以製得顏料分散母液 〇 [黑色顏料分散母液組成] 組成1 •聚乙烯基丁縮醛 1 2 · 6份 (「耶里雷克B BL-SH」、積水化學工業股份有限公司製) • Pigment Black(顏料黑色) 7(碳黑 C.I.N〇.77266) 4.5份 (「三菱碳黑 MA100」、三菱化學股份有限公司製、PVC 黑度:1 ) •分散助劑 〇 . 8份 (「索魯史伯S- 20000」、ICI股份有限公司製) •正丙醇 7 9 · 4份 -93- 200300732 組成2 •聚乙嫌基丁縮醒 126份 (「耶里雷克B BL - SH」、積水化學工業股份有限公司製) • Pigment Black(顏料黑色)7 (碳黑 C . I . N 〇 · 7 7 2 6 6 ) 1 0 · 5 份 (「三菱碳黑 #5」、三菱化學股份有限公司製、PVC黑 度:10) •分散助劑 0 . 8份 (「索魯史伯S-20000」、ICI股份有限公司製) •正丙醇 7 9 . 4份 然後,使下述成分以啓動器攪拌且混合,調製黑色映像 形成層用塗覆液。 [黑色映像形成層用塗覆液組成] •上述碳黑顏料分散母液 1 85 · 7份 組成1 ··組成2 = 70 : 30 (份) •聚乙烯基丁縮醛 1 1 · 9份 (「耶里雷克B BL-SH」、積水化學工業股份有限公司製) •蠟系化合物 (硬脂酸醯胺「優頓龍2」' 日本精化股份有限公司製) 1 · 7份 (山菡酸醯胺「賴耶米頓BM」、曰本化成股份有限公司製) 1 · 7份 (月桂酸醯胺「賴耶米頓Y」、曰本化成股份有限公司製) 1 . 7份 一 9 4 一 200300732 (棕櫚酸醯胺「賴耶米頓κρ」 、曰本化成股份有限公司製) 1 .7份 (芥酸醯胺「賴耶米頓L- 200」 i 、曰本化成股份有限公司製) 1 .7份 (油酸醢胺「賴耶米頓鄰2 0 0」 i 、日本化成股份有限公司製) 1 · 7份 •松香 1 1 · 4 份 「KE - 3 1 1」、荒川化學股份有限公司製) (成分:樹脂酸80〜97 %;樹脂酸成分:松香酸30〜4〇 % 、新松香酸1 0〜20%、二氫松香酸1 4%、四氫松香酸1 4% ) •界面活性劑 2 · 1份 (「梅卡法克F-176PF」、固成分20%、大日本油墨化學 工業公司製) •無機顏料 7 . 1份 (「MEK-ST」、30%甲基乙酮溶液、日產化學股份有限公 司公司製) •正丙醇 1 0 5 0份 •甲基乙酮 29 5份 與上述具有紅色映像形成層之熱轉印片板之形成相同地 ’在上述光熱變換層表面上塗覆上述黑色映像形成層用塗 覆液’製作具有黑色映像形成層之熱轉印片板。 使以實施例1及比較例1所得濾色片藉由下述評估,如 表 1所示。 <評估方法> -95- 200300732 a · ^置精度:以對黑色矩陣之基準線寬2〇μπι而言形成 線寬表希。 ◎ ·· 20μΐΏ 〇· 18 〜2 0 厶:16 〜18μπι X : 16μπι 以下 b ·要或不要位置組合 表1 -— ---- 位置精度 位置組合 ◎ 不需要 _比較例1 △ ___n*n 比較實施例1及比較例1所得濾色片時,實施例1由於 黑色矩陣形成時不須位置組合,故黑色矩陣與畫素(R,G,B ) 間沒有隙間’且此等接觸部沒有段差;而比較例1由於於 黑色矩陣形成時必須位置組合,故黑色矩陣與畫素(R,G,B) 之間有隙間,且因此等接觸部重疊有段差產生。 實施例2 1 · K色用濕式顯像轉印片板之製作 與實施例1相同地製作。惟乾燥膜厚爲2μιτι。 2 .雷射熱轉印片板之製作 1 - 1底層之製作 與實施例1相同地製作。 1- 2光熱變換層之製作 -96- 200300732 與實施例1相同地製作。 1 - 3映像形成層之製作 1)映像形成層之製作 使下述各成分以塗料搖動器(東洋精機股份有限公司製) 分散處理2分鐘後,除去玻璃珠,調製紅色顏料分散母液 〇 顏料分散母液組成 黏合劑(丙烯酸:二乙二醇單乙醚丙烯酸酯:苯乙烯=32 :6: 62(莫耳比)、質量平均分子量1萬)之20質量%正丙 醇溶液 1 2 . 6份 顏料 衣魯卡井•紅色BPT(紅色) 24份 分散助劑(索魯史伯斯S- 20000、ICI股份有限公司製) 0.8份 正丙醇 1 1 0份 玻璃珠 100份 使下述各成分以啓動器攪拌且混合,調製紅色映像性成 層形成用塗覆液。 塗覆液組成 上述顏料分散母液 20份 聚合起始劑 米勒酮 〇 . 1份 2.0份 熱硬性單體 異戊四醇四丙烯酸酯 - 97 - 200300732 正丙醇 60份 界面活性劑 0 . 0 5份 (梅卡法克F - 176PF、大日本油墨化學工業股份有限公司 製) 以下相同地使用酞菁(綠色)顏料作爲綠色、蘇丹藍(藍色) 作爲藍色以調製映像形成塗覆液。 2 )在光熱變換層上紅色映像形成層之形成 在上述光熱變換層表面上塗覆上述塗覆液後,使塗覆液 在100°C之烤箱中乾燥2分鐘,在光熱變換層上形成紅色映 像形成層(顏料6 4 . 2質量%、聚乙烯基丁醛3 3 . 7質量% )。 以馬可貝斯濃度計TD504(B)測定所得映像形成層之吸光度 (光學.密度:OD)時,OD = 0 . 7。膜厚係與上述相同地進行測 定,平均爲2μιη。藉由上述工程製作在載體上順序設置有 底層、光熱變換層、及紅色映像形成層之雷射熱轉印片板 。同樣地製作具有綠色映像形成層、藍色映像形成層之雷 射熱轉印片板。 3 .受像片板之製作 與實施例1相同地製作。 4 .濾色片之形成 在受像片板上使用積層器(大成積層器股份有限公司製V 對I I )、加壓2kg/ cm2(与1 96kPa)、加熱(1 30°C )貼合Κ色用 濕式顯像轉印片板,然後,剝離載體與熱可塑性樹脂層之 界面,且除去載體。 然後’自受像片板裏面使紫外線4〇〇m}/cm2曝光,再使 - 98 - 200300732 用1 %三乙醇胺水溶液溶解除去熱可塑性樹脂層及氧遮斷層 。此時,感光性樹脂層沒有實質顯像。然後,使用1 %碳酸 鈉水溶液使感光性樹脂層顯像,除去不要部分,在玻璃基 板上形成線寬(第5 c圖)爲2 0 μηι之黑色矩陣。 設有直徑1mm之真空吸附用吸附孔(3cmx 3cm之範圍中有 1個面密度)之平台上吸附上述受像片板(25cmx 35cm)。然 後,使30 cmx 40cm之熱轉印片板R自受像片板均等引出重 疊,以擠壓滾筒擠壓且在吸附孔吸附空氣以使熱轉印片板 密接,積層受像片板與熱轉印片板。吸附孔在阻塞的狀態 下對減壓度爲1.氣壓而言爲150mmHg(^81.13kPa)。 然後,移動上述平台,在平台上之積層體表面上自外側 使波長8 3 0nm半導體雷射光以光熱變換層表面爲7μπι之點 集光、且對平台移動方向(主掃描方向)而言朝直角方向移 動(副掃描),進行對積層體之雷射映像記錄。雷射記錄係 如第5圖所示在相當於濾色片映像之映像上藉由雷射光自 熱轉印片板進行映像照射。a設定爲150μπι、b設定爲ΙΟΟμιη 、d爲3 μπι。雷射照射條件如下所述。
雷射能量:110mW 主掃描速度:4m/秒 副掃描間距(1通道之副掃描量):1 ΟμίΏ 溫度、濕度:25°C、50RH% 使進行上述雷射映像記錄之積層體自平台上取出,以手 拉引受像片板與熱轉印片板R時,可確知僅映像形成層之 雷射照射部自轉印片板轉印於受像片板上。與上述相同地 200300732 ,進行有關雷射熱轉印片板G及B之映像轉印,在受像片 板上形成畫素(R 1,G 1 , B 1 )。 然後,在該受像片板上進行200°C、20分鐘加熱處理及 藉由超高壓水銀燈進行400m】 /cm2曝光處理,使黑色矩陣 硬化與畫素(R1,G1,B1)硬化。 繼後,藉由液晶濾色片硏磨裝置(SANAH IN股份有限公司 製PL-201-TL)使黑色矩陣及畫素(R1,G1,B1)表面硏磨處理 ,製作具有平坦表面之濾色片。 比較例2 於實施例2中除使用K色用雷射熱轉印片板取代K色用 濕式顯像轉印片板、使線寬(第5 c圖)爲2 0 μπι黑色矩陣以 與畫素(R 1,G 1,Β 1 )相同的雷射熱轉印製作、且畫素 (R1,G1,B1)形成中d設定爲ΟμίΏ外,與上述相同地形成畫 素(R,G,Β ),製作濾色片。Κ色用雷射熱轉印片板與比較例 1相同地製作。 使以實施例2及比較例2所得濾色片藉由下述評估,如 表1所示。 <評估方法> a .位置精度 以記錄基準位置與記錄位置之差評估。 ◎ : 1 μιη以下 〇:1〜2μπι △ ·· 2 〜3 μ m X : 3μηι以上 - 100- 200300732 b.蝕刻形狀 ◎:端部爲直線。角度爲9 0度時沒有破片等。 〇:端部稍有變形’惟幾乎仍爲直線。 △:端部有變形,角度爲圓形。 X :端部變形大,角度爲圓形,產生破片等情形。 表2
位置精度 蝕刻形狀 實施例2 ◎ ◎ 比較例2 △〜X △〜X 實施例2中黑色矩陣與畫素(R,G,B )間沒有隙間,且此_ 接觸部沒有段差,以及蝕刻形狀佳;而比較例2中與咳基 準位置之差爲2〜3μπι或3μπι,黑色矩陣與畫素(R,G,B)$ 間有隙間,且因此等接觸部重疊有段差產生,蝕刻形状$ 佳。 實施例3 1 ·雷射熱轉印片板之製作 1 - 1護墊層之製作 與實施例1相同地製作。 1 - 2光熱變換層之製作 與實施例1相同地製作。 1 - 3映像形成層之製作 3 )映像形成層之製作 使下述各成分以塗料搖動器(東洋精機股份有限公司製) 分散處理2分鐘後,除去玻璃珠,調製紅色顏料分散母液 -101- 200300732 顏料分散母液組成 聚乙烯基丁縮醛 1 2 . 6份 (電氣化學工業股份有限公司製、癸烷丁縮醛#20000-L、 維卡軟化點5 7 °C )之2 0質量%正丙醇溶液 色材 衣魯卡井•紅色BPT(紅色) 24份 分散助劑(索魯史伯斯S - 2 0 0 0 0、I C I股份有限公司製) 0.8份 正丙醇 1 1 0份 玻璃珠 1 0 0份 下述二氧化矽分散液 2〇份 <二氧化矽分散液之調製> 使下述組成之混合物以引擎磨Μ - 5 0 (艾卡公司製),使用 直徑0.65mm之銷珠’以周速9m/s分散1小時,調製二氧 化矽分散液。此時黏度爲3 · 9 c p,分散性佳。 •R-972(日本亞耶羅吉魯公司製) · · · ·1〇份 •索魯史伯斯20000 (壬尼卡公司製) · · · · 2份 •1-甲氧基-2-丙基乙酸酯 ·,··88份 使下述各成分以啓動器攪拌且混合,調製紅色映像性成 層形成用塗覆液。 塗覆液組成 20份 60份
上述顏料分散母液 正丙醇 -102- 200300732 界面活性劑 0.05份 (梅卡法克F _丨7 6PF、大日本油墨化學工業股份有限公司 製) 以下相同地使用酞菁(綠色)顏料作爲綠色、蘇丹藍(藍色) 作爲藍色以調製映像形成塗覆液。 4 )在光熱變換層上紅色映像形成層之形成 在上述光熱變換層表面上塗覆上述塗覆液後,使塗覆液 在100°C之烤箱中乾燥2分鐘,在光熱變換層上形成紅色映 像形成層(顏料64.2質量%、聚乙烯基丁醛33.7質量%)。 以馬可貝斯濃度計TD504(B)測定所得映像形成層之吸光度 (光學密度:OD)時,OD = 0.7。膜厚係與上述相同地進行測 定,平均爲1 · 6μπι。藉由上述工程製作在載體上順序設置 有底層、光熱變換層、及紅色映像形成層之雷射熱轉印片 板。同樣地製作具有綠色映像形成層、藍色映像形成層之 雷射熱轉印片板。 然後,除使用黑色映像形成層用塗覆液外,與上述相同 地調製具有黑色映像形成層之雷射熱轉印片板。 [黑色顏料分散母液組成] 組成1 •聚乙烯基丁縮醛 1 2 . 6份 (「耶里雷克B BL-SH」、積水化學工業股份有限公司製) • Pigment Black(顏料黑色)7 (碳黑 C · I · No . 7 7 2 6 6 ) 4.5份
(「三菱碳黑 MA100」、三菱化學股份有限公司製、PVC - 103 - 200300732 黑度:1 ) •分散助劑 (「索魯史伯S- 20000 •正丙醇 0.8份 I C I股份有限公司製) 7 9 · 4 份 組成2 •聚乙烯基丁縮醛 1 2 . 6份 (「耶里雷克B BL-SH」、積水化學工業股份有限公司製) •Pigment Black(顏料黑色) 7(碳黑 C.I.No.77266) 1 〇 . 5 份 (「三菱碳黑 度·· 10) •分散助劑 (「索魯史伯 •正丙醇 #5」、三菱化學股份有限公司製、PVC黑 〇 · 8份 • 20000」、ICI股份有限公司製) 7 9 · 4 份 然後,使下述成分以啓動器攪拌且混合,調製黑色映像 形成層用塗覆液。 [黑色映像形成層用塗覆液組成] •上述碳黑顏料分散母液 1 8 5 · 7份 組成1 :組成2 = 70 : 3 0 (份) •聚乙烯基丁縮醛 11.9份 (「耶里雷克BBL-SH」、積水化學工業股份有限公司製) •上述二氧化矽分散液 20份 •蠟系化合物 (硬脂酸醯胺「優頓龍2」、日本精化股份有限公司製) _ 1 0 4 - 200300732 1 ·7份 (山窬酸醯胺「賴耶米頓ΒΜ」、日本化成股份有限公司製 1 .7份 (月桂酸醯胺「賴耶米頓γ」、日本化成股份有限公司製 1 .7份 (棕櫚酸醯胺「賴耶米頓ΚΡ」、日本化成股份有限公司 製) 1 . 7份 (芥酸醯胺「賴耶米頓L - 2 0 0」、日本化成股份有限公司 製) 1 · 7份 (油酸醯胺「賴耶米頓鄰2 0 0」、日本化成股份有限公司 製) 1 · 7份 •松香 1 1 . 4份 (「KE-31 1」、荒川化學股份有限公司製) (成分··樹脂酸80〜97%;樹脂酸成分:松香酸30〜40% 、新松香酸10〜20%、二氫松香酸14%、四氫松香酸14%) •界面活性劑 2 · 1份 (「梅卡法克F-176PF」、固成分20%、大日本油墨化學 工業公司製) •無機顏料 7 · 1份 (「MEK-ST」、30%甲基乙酮溶液、日產化學股份有限公 1 〇 5 0 份 295份
司公司製) •正丙醇 •甲基乙酮 3 )受像片板之製作 -105 - 200300732 與實施例1相同地製作。 4 )藉由雷射熱轉印片板之映像形成 設有直徑1mm之真空吸附用吸附孔(3cmx 3cm之範圍中有 1個面密度)之平台上吸附上述受像片板(25cmx 35cm)。然 後,使30 cmx 40cm之熱轉印片板R自受像片板均等引出重 疊,以擠壓滾筒擠壓且在吸附孔吸附空氣以使熱轉印片板 密接,積層受像片板與熱轉印片板。吸附孔在阻塞的狀態 下對減壓度爲1氣壓而言爲150mmHg(#81.13kPa)。 然後,移動上述平台,在平台上之積層體表面上自外側 · 使波長8 3 0nm半導體雷射光以光熱變換層表面爲7μπι之點 集光、且對平台移動方向(主掃描方向)而言朝直角方向移 動(副掃描),進行對積層體之雷射映像記錄。雷射記錄係 如第4圖所示在相當於濾色片映像之映像上藉由雷射光自 熱轉印片板進行映像照射。a設定爲150μπι、b設定爲ΙΟΟμιη 、c爲20μηι。雷射照射條件如下所述。
雷射能量:110mW 主掃描速度:4m/秒 ^ 副掃描間距(1通道之副掃描量):1 Ομπι 溫度、濕度:25°C、50RH% 使進行上述雷射映像記錄之積層體自平台上取出,以手 拉引受像片板與熱轉印片板K時,可確知僅映像形成層之 雷射照射部自轉印片板轉印於受像片板上。與上述相同地 ,進行有關雷射熱轉印片板R、G及B之映像轉印,在受像 片板上形成畫素(1〇,3,!()。而且,記錄能量爲10〜 -106- 200300732 600mJ/ cm2 ° 比較例3 於實施例3中除在映像(r , g,B,K )形成用熱轉印片板之映 像形成層中沒有使用二氧化矽分散液外,與實施例1相同 地形成濾色片。 使以實施例3及比較例3所得濾色片藉由下述評估,如 表3所示。 <評估方法> 轉印感度 變化記錄能量,在映像(R,G,B,K )鈾刻部分之形狀在端部 爲直線且角度爲90度沒有破片下以記錄能量評估。 ◎ : 200mJ/cm2 以下 〇:200〜300mJ/cm2 △ ·· 3 00 〜500mJ /cm2 x ·· 5 0 0 mJ/cm2 以上 表3
轉印感度 實施例3 ◎ 比較例3 △〜X
比較實施例3及比較例3所得濾色片時,實施例3中記 錄能量爲200mJ / cm2之低値且映像(R,G,B,K)之蝕刻形狀佳 ,而比較例3中該記錄能量下無法得到良好蝕刻形狀。 實施例4 與實施例1相同地,製作畫素(R,G,B )用3種熱轉印片板 -107- 200300732 及比較例1之K用熱轉印片板。惟畫素(r,g,b )用映像形成 層之厚度爲2.5μιη、且K用熱轉印片板之映像形成層厚度 爲1 . 2 5 μΐΏ。而且,受像片板與實施例1相同。 -藉由雷射熱轉印片板之映像形成 首先使熱轉印片板Κ以與實施例3相同的條件進行雷射 映像記錄,使積層體自平台取出,以手剝離受像片板與熱 轉印片板Κ時,可確知僅映像形成層之雷射照射部自轉印 片板轉印於受像片板上。與上述相同地有關雷射熱轉印片 板R、G、Β及Κ與實施例3相同地進行雷射記錄及映像轉 印,在受像片板上形成映像(R,G,Β,Κ ),製得濾色片。Κ以 2次記錄時可得膜厚2 . 5μπι。 比較例4 於實施例4中使Κ用雷射熱轉印片板之層厚與畫素(R,G,Β > 用雷射熱轉印片板相同,使該雷射熱轉印片板Κ爲1次轉 印外,與實施例相同地形成映像(R,G,Β,Κ ),製得濾色片。 藉由下述評估實施例4與比較例4所得濾色片,如表4 所示。 <評估方法〉 a .畫質:以蝕刻部分之形狀判斷。 ◎:端部爲直線。角度爲90度時沒有破片等。 〇:端部稍有變形,惟幾乎仍爲直線。 △:端部有變形,角度爲圓形。 X :端部變形大,角度爲圓形,產生破片等情形。 b ·濃度:測定映像(R,G,Β,K )之透過濃度(馬可貝斯濃度計 - 1 0 8 - 200300732 TD904 ) ° ◎ : 3 · 0以上 〇:2 · 8〜3 · 0 △ : 2 · 6 〜2 · 8 X : 2 .6以下 c .段差:以α階段厚度計測定K色與BGR畫素之段差 ◎ : 0 · 1 μπι以下 〇:〇. 1 〜0 · 2 μπι △ : 0 · 2 〜0 · 3 μπι X : 0 .3 μπι以上 -109- 200300732
表4 晝質 濃度 段差 實施例4 ◎ ◎ ◎ 比較例4 △〜X △〜X X 可知實施例4中有關映像(r,g,B , K )之蝕刻形狀、光學濃 度及段差較比較例4爲優異。 實施例5 與實施例1相同地,製作畫素(R,G,Β )用3種熱轉印片板 及比較例1之Κ用熱轉印片板。惟Κ用熱轉印片板之映像 形成層厚度爲2 · 0 μπι。另外,受像片板與實施例1相同者 〇 藉由雷射熱轉印片板之映像形成 首先,使熱轉印片板Κ以與實施例3相同的條件進行雷 射映像記錄,使積層體自平台取出,以手剝離受像片板與 熱轉印片板Κ時,可確知僅映像形成層之雷射照射部自轉 印片板轉印於受像片板上。與上述相同地有關雷射熱轉印 片板R、G、Β及Κ與實施例3相同地進行雷射記錄及映像 轉印,在受像片板上形成映像(R,G,Β,Κ ),製得濾色片。 在受像片板上所形成的濾色片映像上藉由旋轉塗覆、以 回轉數約500 r pm予以全面塗覆下述調製的光硬性樹脂組成 物用塗覆液,且在熱風循環式乾燥爐中、8 0 °C下乾燥5分 鐘,製得塗膜(厚度爲3 μπι:^0·2μιη下調整回轉數)。使該 塗膜在超高壓水銀燈下、以100m〗/cm2紫外線照射後,在200 °C之熱風循環式乾燥爐中後烘烤60分鐘,製得保護層。 -110- 200300732 <光硬性樹脂組成物用塗覆液配方> 共聚物溶液 66份 (甲基丙烯酸苯甲酯/甲基丙烯酸共聚物=73/27(莫耳比) 、重量平均分子量=40,000 )之溶液(固成分濃度40%之甲氧 基丙醇)·醋酸酯溶液) 單體 2 7 · 2份 (二異戊四醇六丙烯酸酯與五丙烯酸酯之混合物、日本化 藥股份有限公司製KAYARAD DPHA ) 光聚合起始劑 1 · 3 1份 (2 -三氯甲基- 5(4,-丁氧基苯乙烯基)-1,3 ,4 -噚二唑) 環氧化合物 8 · 2份 (雙酚A型環氧樹脂、東都化成股份有限公司製耶伯頓頓 YD8125、環氧當量=173、黏度=4300cp) 熱聚合防止劑 (2,6 -二-第3 - 丁基-對-甲酚) 〇 · 0 1 4份 石夕院偶合劑 1 · 〇份 (N -苯基-γ -胺基丙基三甲氧基矽烷、信越化學股份有限 公司製、ΚΒΜ5 7 3 ) 乳酸乙酯 122份 爲在所形成的保護層上藉由濺射法形成〇 · 〇 5〜〇 . 1 μηι厚 度之I TO膜,且進行I TO膜之蝕刻時,使正型光阻劑藉由 塗覆乾燥形成於IT0膜上’使對應畫素(R,G,B)之圖樣以光 罩曝光後,使曝光部以pH= 1 2之鹼顯像液顯像。然後,以 氯化亞鐵與鹽酸之水溶液使沒有以光阻劑覆蓋的〗τ〇部蝕 200300732 刻,使殘留的光阻劑以5%氫氧化鈉水溶液剝離。以該一連 串工程在對應於畫素(R , G,B )範圍之保護層上形成I T0電極 之圖樣。 自具有ΙΤ0電極圖樣之受像片板表面與上述雷射熱轉印 片板R之映像形成層除去著色顏料,藉由與使作爲樹脂層 之雷射熱轉印片板之數層重疊形成上述映像(R,G,B,K )時相 同的映像形成方法,在黑色矩陣上以大約ΙΟΟμπι間隔形成 一邊ΙΟμπι、平均高度2μηι之柱狀間隔片。 其次,在形成有該間隔片之濾色片上形成聚醯亞胺之配鲁 向膜,使耐龍製布以捲附輥積層後,使與濾色片側之基板 對向的TFT基板以密封材密封,注入液晶且製作彩色液晶 液晶元件。 比較例5 與實施例5相同的玻璃基板上以濺射法製作0 . 1 μΐϊΐ厚度 之鉻金屬,使用光阻劑進行蝕刻,製得與實施例1相同圖 樣之黑色矩陣。然後,使用特開平1 1 - 6462 1號公報記載的 轉印型濾色片,製作與實施例1相同大小、同形狀之圖樣 。於其上形成與實施例1相同的保護層及I Τ0電極。 使下述間隔片用感光性轉印材料之覆蓋薄膜剝離,且使 感光性樹脂層面使用積層器(裝置名:V對II,大成積層器 股份有限公司製),以線壓100N/cm、130°c之加壓加熱條件 下貼合於上述基板上。其次,使假載體自熱可塑性樹脂層 剝離,除去假載體。 調聚用感光性轉印材料之製作 - 112- 200300732 在厚度ΙΟΟμηι之聚對酞酸乙二酯薄膜假載體上使由下述 組成所成的塗覆液Η 1且予以乾燥,設置乾燥膜厚爲20μιη 之熱可塑性樹脂層。 <熱可塑性樹脂層用塗覆液Η 1 > •甲基丙烯酸甲酯/ 2-乙基己基丙烯酸酯/甲基丙烯酸苯 甲酯/甲基丙烯酸共聚物 (共聚合組成比(莫耳比)= 55/28.8/11.7/4.5、重量平均 分子量=90000 ) · · · · 1 5 份 •聚丙二醇二丙烯酸酯 • · · · 6 . 5 份 (平均分子量: = 822 ) •四乙二醇二 甲基丙烯酸 • · · · 1 · 5 份 •對-甲苯楓醯胺 • · · · 0 · 5 份 •二苯甲酮 • · · · 1 . 0 份 •甲基乙酮 • · · · 3 0 份 繼後,在上述熱可塑性樹脂層上塗覆由下述組成所成的 塗覆液Β1予以乾燥,設置膜厚爲1 · 6μπι厚度之中間層。 <中間層用塗覆液Β 1 > •聚乙烯醇 · · · · 1 3 0份 (PVA20 5 (鹼化率=80%);克拉雷股份有限公司製) • · · · 60 份 • · · · 10 份 • · · 3 3 5 0 份 •聚乙烯基吡咯啶酮 (PVP、K-90 ; GAF克伯雷旬公司製) •氟系界面活性劑 (旭玻璃股份有限公司製塞夫龍S - 1 3 1 ) •蒸餾水 200300732 此外,使由下述組成所成的感光性樹脂層用塗覆液τ 1塗 覆、乾燥,形成乾燥膜厚爲5 . 0 μιη之感光性樹脂層Τ1。而 且,在上述感光性樹脂層Τ 1上貼附設置聚丙烯(厚度1 2 μπι) 之覆蓋薄膜,製作間隔片用感光性轉印材料。 <感光性樹脂層用塗覆液Tl> •苯甲基甲基丙烯酸酯/甲基丙烯酸共聚物 (共聚合組成比(吴耳比)= 73/27、分子量3萬) • · · · 9 · 7 份 •二異戊四醇六丙烯酸酯 份 鲁 •吩嚷哄 ····0.005份 •2,4-雙(三氯甲基)-6-[4-(^^二乙氧基羰基甲基)-3-溴苯基]-s -三畊 · · · · 0 . 5份 •索魯史伯斯20000(壬尼卡公司製) ····0.9份
• ΒΟΗ •聚(Ν -丙基全氟辛烷楓醯胺乙基丙烯酸酯)-共-(聚丙二 醇甲醚丙烯酸酯) • · · · 0 · 0 3 份 • · · ·47·6 份 • · · · 2 9 · 4 份 • · · · 1 · 9 份 (共聚合組成比(莫耳比)=40 / 60 ) •甲基乙酮 • 1-甲氧基-2-丙基乙酸酯 •甲醇 然後,經由光罩以超高壓水銀燈20mJ/cm2之近接效應曝 光,然後,使用1 %乙醇胺水溶液溶解除去熱可塑性樹脂層 及中間層。此時,感光性樹脂層沒有被實質顯像。然後, 使用1 %碳酸鈉水溶液使感光性樹脂層顯像,經由刷洗工程 -114- 200300732 除去不要部分後,在2 3 0°C下烘烤120分鐘,在濾色片之黑 色矩陣上形成與實施例1相同的間隔片。 然後,與實施例5相同地製得液晶元件。 比較例6 於比較例5中除使用直徑約4 · 3 μπι之二氧化砂粒子作爲 間隔片取代間隔片用感光性轉印材料外,與比較例5相同 地製作液晶元件。 藉由下述評估實施例5與比較例5及6所得液晶元件, 如表5所示。 <評估方法> a · m質變化:評估製作後經過一疋期間後之書菅惡化情形 畫質完全沒有變化 〇:畫質幾乎沒有變化 △:僅畫面下部與上不之色相變化 X:畫面下部與上部之色相皆有變化
b ·價格:製作費用 表5 位置精度 ---位置組合 低價 -實施例5 ◎ .比較例5 ◎ __ 高價 __ _比較例6 △〜X __ 高價 -115- 200300732 實施例5及比較例5之元件不會因經時有畫質變化情形 ,後者與實施例5相比爲高價。而且,比較例會有因經時 之畫質變化,且高價。 實施例6 與實施例5相同地製作映像(R,G,B,K )用4種熱轉印片板 〇 電路基板之表面調整 使TFT基板純水洗淨後,在矽烷偶合劑液(N - β (胺基乙基) -γ -胺基丙基三甲氧基矽烷 0 · 3質量%水溶液)浸漬3 0秒. 再於純水中浸漬3 0秒,在1 1 (TC下乾燥5分鐘。其次,在 該表面經處理的表面上使用旋轉滾筒設置由下述受像層塗 覆液之受像層(厚度Ιμπι)。 受像層塗覆液 聚乙烯基丁縮醛(電氣化學工業股份有限公司製、癸烷丁 縮醛 #2000 -L) 16 份 界面活性劑 0 . 5份 (梅卡法克F _ 1 7 7、大日本油墨化學工業股份有限公司製) 正丙醇 1 0 0份 藉由雷射熱轉印之映像形成 首先’使熱轉印片板K以與實施例5相同的條件進行雷 射映像記錄,使積層體自平台取出,以手拉出電路基板與 熱轉印片板時,可知僅映像形成層之雷射照射部自轉印片 板轉印於電路基板上。與上述相同地有關雷射熱轉印片板 R、G、及B,與實施例5相同地進行雷射記錄及映像轉印 -116- 200300732 ,在電路基板上形成映像(R,G,B,Κ )以製得濾色片。 在電路基板上形成的濾色片映像上使用與實施例5相同 的光硬性樹脂組成物塗覆液,可得同樣的保護層。 比較例7 與實施例6相同地在施有矽烷偶合劑處理及受像層之電 路基板表面上剝離下述一體型薄膜Κ 1之保護薄膜後予以積 層,且浸營20mJ/cm2之圖樣曝光後,在三乙醇胺系顯像液 中淋浴顯像,除去熱可塑性樹脂層與氧遮斷層。然後,以 碳酸系顯像液淋浴顯像以使感光性樹脂層顯像,製得與實 施例6相同的黑色矩陣之圖樣映像。其次,自兩面進行500 mJ / cm2後曝光,再於22CTC下實施後烘烤25分鐘,製得黑 色矩陣。同樣地,使用下述一體型薄膜R1、G1、B1,與實 施例6之畫素(R,G,B)相同的畫素在TFT基板上形成。 (一體型薄膜之製作) 在厚度75μιη之聚酞酸乙二酯薄膜假載體上塗覆由下述配 方Η1所成塗覆液予以乾燥,然後,塗覆由下述配方01所 成的塗覆液且予以乾燥,再塗覆下述感光性樹脂層溶液Κ1 、Rl、Gl、Bl、C1且予以乾燥,在該假載體上設置乾燥膜 厚爲14.6μπι之熱可塑性樹脂層與乾燥膜厚爲1.6μηι之氧遮 斷層與乾燥膜厚爲2μπι感光層,使保護薄膜(厚度12μιιι聚 丙烯薄膜)壓熔。製作使該假載體與熱可塑性樹脂層與氧遮 斷層與感光層一體化的薄膜,各試樣名係使用感光性樹脂 層溶液之記號Kl、Rl、Gl、Bl、C1,作爲一體型薄膜Κ1、 Rl 、 Gl 、 Bl 、 C1 。 - 117- 200300732 熱可塑性樹脂層配方Η 1 : •氯化乙烯基/醋酸乙烯基共聚物 3 00份 •聚化乙烯基-醋酸乙烯基-馬來酸共聚物 80份 •酞酸二丁酯 90份 (以甲基乙酮作爲溶劑) 氧遮斷膜配方01 : •聚乙烯醇 180份 •氟系界面活性劑 8份 (以水作爲溶劑) _ 感光性樹脂層溶液Κ 1 ζ •苯甲基甲基丙烯酸酯/甲基丙烯酸共聚物 60份 •異戊四醇四丙烯酸酯 40份 •米勒酮 3份 •2-(鄰氯苯基)-4,5 -二苯基咪唑二聚物 3份 •碳黑分散物 100份 (以甲基乙酮作爲溶劑) 感光性樹脂層溶液R1 : •苯甲基甲基丙烯酸酯/甲基丙烯酸酯共聚合 13份 •異戊四醇六丙烯酸酯 3 8份 •吩噻畊 0 . 8份 •2 -三氯甲基-5_(對-苯乙烯基甲基)-1,3,4 -噚二唑 3. 1份 •2,4, 6 -參[2, 4 -雙(甲氧基羰氧基)苯基]-1,3,5 -三畊 3 · 8份 - 11 8 - 200300732 • 7 - [ 2 - [ 4 - ( 3 -羥基甲基吡阱基)-6 -二乙基胺基]三畊基 胺基]-3 -苯基 1 5份 • C . I .顏料•紅色2 5 4分散液 2 20份 (以甲基乙酮作爲溶劑) 感光性樹脂層溶液G 1 : •苯甲基甲基丙烯酸酯/甲基丙烯酸共聚物 3 2份 •異戊四醇六丙烯酸酯 40份 •吩噻畊 0 . 0 4份
•2 -三氯甲基- 5- (對-苯乙烯基甲基)-1,3,4 -噚二唑 1 · 9份 • 7- [2-[4-(3 -羥基甲基吡畊基)-6-二乙基胺基]三畊基 基]-3 -苯基 13份 • C . I .顏料•綠色3 6分散液 160份 • C . I .顏料•黃色1 3 8分散液 1 10份 (以甲基乙酮作爲溶劑) 感光性樹脂層溶液B 1 :
•苯甲基甲基丙烯酸酯/甲基丙烯酸共聚合 22份 •異戊四醇六丙烯酸 40份 •吩噻畊 0 . 2份 •2 -三氯甲基- 5- (對-苯乙烯基甲基)-1,3,4-噚二唑 2份 • 2,4, 6 -參[2, 4-雙(甲氧基羰氧基)苯基]-1,3, 5 -三哄 2 . 5份 • C . I .顏料•藍色 1 5 : 6分散液 1 60份 -119- 200300732 (以甲基乙酮作爲溶劑) 感光性樹脂層溶液c 1 : •聚合物溶液 2 4 0份 苯乙烯/馬來酸共聚物苯甲基胺改性物=6 8 / 3 2 (莫耳比) •二異戊四醇六丙烯酸酯 2 0 0份 •環己酮 7 30份 •光聚合起始劑 IRG184(CAS947 - 1 9 - 3 ) 1 0 份 (添加適量甲基乙酮) 使實施例6與比較例7所得的附有濾色片之電路基板藉 由下述評估,如表6所示。 <評估方法> a·金屬離子量:濾色片膜面之金屬離子量以吸光光度法 測定。 b ·價格:製作費用 表6 金屬離子量 價格 實施例6 1 ppm以下 低價 比較例7 300〜50ppm 高價 由於實施例6之濾色片較比較例7之金屬離子量少,藉 由混於液晶中可改善液晶之動作不良情形。而且,比較例 7比實施例6較爲高價。 產業上之利用價値 本發明(2 )及(3 )由於使用雷射熱轉印片與濕式顯像轉印 片,故可提供低價且經度佳的大尺寸(A 2 / B 2 )濾色片。本發 -120- 200300732 明(2 )及(3 )係使用雷射薄膜熱轉印方式形成畫素(R,G,B ), 進行實點記錄可轉印於受像片上。而且,可提供在不同溫 濕度條件下藉由數條2次配列之雷射光,以高能量雷射記 錄時畫素(R,G,B )佳,使安定的轉印濃度之畫素(R,G,B )在 受像片上形成,在該畫素(R,G,B )之空間藉由濕式顯像轉印 片使黑色矩陣沒有空隙、且沒有段差下所設置的濾色片。 另外,使黑色使用濕式顯像轉印片開始製作,且在該空間 使用雷射轉印片形成畫素(R,G,B )的方法,可提供良好且使 安定的轉印濃度在黑色矩陣間沒有隙縫、沒有段差下設置 的優異蝕刻形狀之濾色片。 此外,本發明之(7 )及(9 )由於使用雷射熱轉印片,可提 供低價且精度佳的大尺寸(A2/B2)之濾色片。而且,於不同 溫濕度條件下藉由數條2次配列之雷射光記錄時,畫素 (R,G,B,K )佳,且以高光學濃度在受像片板上形成蝕刻形狀 之良好映像(R,G,B,K )而得。 本發明(1 3 )由於使用雷射熱轉印片,可提供低價且精度 佳的大尺寸(A2/B2)之濾色片。而且,於不同溫濕度條件下 藉由數條2次配列之雷射光記錄時,畫素(R,G,B,K )佳,且 藉由變動液晶厚度、可提供沒有畫質變化之液晶元件。 本發明(1 6 )由於使用雷射熱轉印片,可低價且精度佳的 大尺寸(A2/B2)之附濾色片之電路基板。而且,可提供低價 且精度佳的大尺寸(A2/B2)之濾色片。而且,於不同溫濕度 條件下藉由數條2次配列之雷射光記錄時畫素(R,G,B,K )佳 ,且藉由在液晶中混有金屬離子可提供沒有畫質變質之液 -121- 200300732 晶元件。 (五)圖式之簡單說明 第1圖及第2圖係爲說明藉由使用雷射之薄膜熱轉印的 多色映像形成機構之簡略圖。 第3圖係表示雷射熱轉印用記錄裝置之構成例圖。 第4圖係表示瀘色片之畫素形成例。 第5圖係爲濾色片之畫素形成法說明圖。 符號說明 1 記錄裝置 2 記錄頂部 3 副掃描軌跡 4 記錄桶 5 熱轉印片板記錄單位 6 受像片板輥 7 搬送輥 8 擠壓滾筒 9 切斷器 10 熱轉印片板 10K、10R、10G、10B 熱轉印片板輥 12 載體 14 光熱變換層 16 映像形成層 20 受像片板或電路基板 22 受像片板用載體 -122- 200300732 2 4 受像層 30 積層體 3 1 排出台 32 廢棄口 33 排出口 34 空氣 35 廢棄箱 41 濾色片
4 2 紅色灑色片之畫素 43 綠色濾色片之畫素 44 藍色濾色片之畫素 44 黑色矩陣
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Claims (1)

  1. 200300732 拾、申請專利範圍丨 :: ....... , . . , ·, , . , , . . .., · . ·· ·. ... · · . . . · ; ; ·- ...... ' .. · 1 · 一種濾色片形成材料,其特徵爲由在載體上至少具有光 變換層、具紅色(R )、綠色(G )或藍色(B )之映像形成層的 雷射熱轉印片、與在載體上至少具有黑色(κ)之感光性樹 脂層的濕式顯像轉印片所成。 2 · —種濾色片之形成方法,其特徵爲自使如申請專利範圍 第1項之熱轉印片板與受像片板重疊的熱轉印片板側使 雷射光像樣照射,在受像片板上形成由R、G及β所成映 像’使如申請專利範圍第1項之濕式顯像轉印片板重疊 於該映像上以使該感光性樹脂層轉印後,自受像片板裏 面放射線照射且濕式顯像,然後加熱處理。 3 · —種濾色片之形成方法,其特徵爲在受像片板上使如申 請專利範圍第1項之濕式顯像轉印片板重疊以使該感光 性樹脂層轉印後,自受像片板表面上及/或裏面上經由光 罩放射線照射,再濕式顯像以形成黑色矩陣,然後,使 如申請專利範圍第1項之雷射熱轉印片板重疊於受像片 板,自熱轉印片板側使雷射光像樣照射,受像片板上黑 色矩陣間或黑色矩陣之間及黑色矩陣周邊部形成由R、G 及Β所成映像。 4 ·如申請專利範圍第3項之濾色片形成方法,其中含有載 負以如申請專利範圍第3項之方法製作的黑色矩陣及由 R、G及Β所成映像之受像片板加熱處理的工程,以及使 受像片板表面硏磨處理的工程。 5 · —種濾色片,其特徵爲藉由如申請專利範圍第2〜4項中 -124 - 200300732 任一項之濾色片的形成方法製造。 6 · —種濾色片形成材料,其特徵爲由在載體上至少具有光 熱變換層、紅色(R)、綠色(G)、藍色(B)或黑色(κ)之映 像形成層的4種雷射熱轉印片板所成,且該映像形成層 含有塡充顏料’且映像形成層之層厚爲0.1〜5gm。 7 · —種濾色片形成方法,其特徵爲使如申請專利範圍第6 項之熱轉印片板與受像片板重疊,自熱轉印片板側使雷 射光像樣照射,在受像片板上形成由R、G、b及K所成 映像。 8 · —種濾色片,其特徵爲藉由如申請專利範圍第7項之濾 色片形成方法予以製造。 9· 一種濾色片形成方法,其包含使在載體上至少具有光熱 變換層、紅色(R)、綠色(G)、藍色(B)或黑色(K)之映像 形成層的4種雷射熱轉印片板與受像片板重疊,自熱轉 印片板側使雷射光以像樣照射,在受像片板上轉印映像 形成層以形成由R、G、B及K所成映像之方法,其中至 少一種該4種雷射熱轉印片板轉印2次以上。 I 〇 ·如申請專利範圍第9項之濾色片形成方法,其中具有κ 映像形成層之雷射熱轉印片板之映像形成層的轉印在最 初或最後進行。 II ·如申請專利範圍第9或1 〇項之濾色片形成方法,其中映 像形成層之層厚爲〇 . 1〜5 μηι。 1 2 · —種濾色片,其特徵爲藉由如申請專利範圍第9〜1 1項 中任一項之濾、色片的形成方法製造。 -125- 200300732 1 3 . —種濾色片之形成方法,其特徵爲具有使在載體上至少 具有光熱變換層、紅色(R)、綠色(G)、藍色(B)或黑色(K) 之映像形成層的4種雷射熱轉印片板與受像片板重疊’ 自熱轉印片板側使雷射光以像樣照射,在受像片板上轉 印映像形成層以形成由R、G、B及K所成映像的工程’ 與使受像片板表面與具有樹脂層之雷射熱轉印片板重疊 ,自熱轉印片板側使雷射光像樣照射,在映像上使樹脂 層轉印以形成間隔片的工程。 1 4 . 一種濾色片,其特徵爲藉由如申請專利範圍第1 3項之濾 色片的形成方法製造。 1 5 . —種液晶元件,其特徵爲使用如申請專利範圍第1 4項之 濾色片。 1 6 . —種附有濾色片之電路基板的形成方法,其特徵爲使在 載體上至少具有光熱變換層、紅色(R)、綠色(G)、藍色(B) 或黑色(K )之映像形成層的4種雷射熱轉印片板與受像片 板重疊,自熱轉印片板側使雷射光像樣照射,在電路基 板上轉印映像形成層以形成由R、G、B及K所成映像。 1 7 · —種附有濾色片之電路基板,其特徵爲藉由如申請專利 範圍第1 6項之濾色片形成方法製造。 1 8 · —種液晶元件,其特徵爲如申請專利範圍第1 7項之附有 濾色片之電路基板。 1 9 · 一種液晶元件,其特徵爲使用如申請專利範圍第5、8或 1 2項之濾色片。 -1 2 6 -
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