JP2003177229A - カラーフィルター付回路基板の形成方法及びカラーフィルター付回路基板 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】回路の駆動に悪影響を与える金属イオンのない
カラーフィルター付き回路基板の形成方法及びそれによ
り得られる付き回路基板を提供すること。 【解決手段】 （１）支持体上に少なくとも光熱変換
層、レッド（Ｒ）、グリーン（Ｇ）、ブルー（Ｂ）また
はブラック（Ｋ）の画像形成層を有する４種のレーザー
熱転写シートを回路基板と重ねあわせ熱転写シート側か
らレーザー光を像様に照射して回路基板上に画像形成層
を転写してＲ、Ｇ、Ｂ及びＫからなる画像を形成するこ
とを特徴とするカラーフィルター付回路基板の形成方
法、及びそれにより製造されたカラーフィルター付回路
基板。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、カラーフィルター
付回路基板の形成方法及びカラーフィルター付回路基板
に関する。本発明は、特にレーザー熱転写シートを用い
た高解像度のカラーフィルター付回路基板の形成に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】感光性転写材料を用いて液晶表示体等に
使用するカラーフイルターを作成することが行われてい
る。カラーフイルターの作成原理は、感光性転写材料の
多色画像形成に基づくものである。この感光性転写材料
を用いた画像形成方法について説明する。感光性樹脂層
を加圧、加温下で基体上に貼り合わせ、その後仮支持体
を剥がし、所定のマスク等（場合により、熱可塑性樹脂
層、中間層）を介して露光し、次いで現像する。現像は
公知の方法で溶剤もしくは水性の現像液、特にアルカリ
水溶液に浸漬するか、スプレーからの現像液の噴霧を与
えること、さらにブラシでのこすりまたは超音波を照射
しつつ処理することで行なわれる。異なる色に着色した
感光性樹脂層を有する感光性転写材料を用い、この工程
を複数回繰り返せば多色画像を形成することができる。
また、近年ＯＡ化の進展に伴い、電子写真方式、インク
ジェット方式、感熱転写記録方式等の各種記録方式を利
用した複写機やプリンタ等がそれぞれの用途に応じて用
いられている。これらのうち、感熱転写記録方式は操作
や保守が容易であること、装置の小型化、低コスト化が
可能であること等の利点を有していることから、カラー
フィルター形成材料への応用がなされてきつつある。感
熱転写記録方式では、例えば、最近の印刷前工程（プリ
プレス分野）における電子化システムの普及に伴い、デ
ジタル信号から直接カラープルーフを作製する記録シス
テムが開発されている。このような電子化システムは、
特に高画質のカラープルーフを作製するのが目的であ
り、一般的には、１５０線／インチ以上の網点画像を再
現する。デジタル信号から高画質のプルーフを記録する
ためには、デジタル信号により変調可能で、かつ記録光
を細く絞り込むことが可能なレーザー光を記録ヘッドと
して用いる。このため、レーザー光に対して高い記録感
度を示し、かつ、高精細な網点を再現可能にする高解像
力を示す記録材料の開発が必要となる。

【０００３】レーザー光を利用した転写画像形成方法に
用いられる記録材料としては、支持体上に、レーザー光
を吸収して熱を発生する光熱変換層、及び顔料が熱溶融
性のワックス、バインダー等の成分中に分散された画像
形成層をこの順に有する熱溶融転写シート（特開平５−
５８０４５号公報）が知られている。これらの記録材料
を用いる画像形成方法では、光熱変換層のレーザー光照
射領域で発生した熱によりその領域に対応する画像形成
層が溶融し、転写シート上に積層配置された受像シート
上に転写され、受像層上に転写画像が形成される。

【０００４】また、特開平６−２１９０５２号公報に
は、支持体上に、光熱変換物質を含む光熱変換層、非常
に薄層（０．０３〜０．３μｍ）の熱剥離層、色材を含
む画像形成層がこの順に設けられた熱転写シートが開示
されている。この熱転写シートでは、レーザー光を照射
されることによって、前記熱剥離層の介在により結合さ
れている画像形成層と光熱変換層との間の結合力が、低
減され、熱転写シート上に積層配置した受像シート上
に、高精細な画像が形成される。前記熱転写シートを用
いた画像形成方法は、所謂「アブレーション」を利用し
ており、具体的には、レーザー光の照射を受けた領域
で、熱剥離層が一部分解し、気化するため、その領域で
の画像形成層と光熱変換層との間の接合力が弱まり、そ
の領域の画像形成層が上に積層した受像シートに転写さ
れる現象を利用している。

【０００５】これらの画像形成方法は、受像シート材料
として受像層（接着層）を付設した印刷本紙を用いるこ
とができること、色の異なる画像を次々と受像シート上
に転写することによって多色画像が容易に得られること
等の利点を有し、特にアブレーションを利用する画像形
成方法は、高精細な画像が容易に得られるという利点を
有し、カラープルーフ（ＤＤＣＰ：ダイレクト・ディジ
タル・カラープルーフ）、あるいは高精細なマスク画像
を作製するのに有用である。

【０００６】そして、上記ＤＤＣＰの技術で用いられる
レーザー熱転写多色画像形成材料は、カラーフィルター
の形成材料として有用である。カラーフィルターは透明
受像シート上に、Ｒ、Ｇ及びＢのストライプ状画像又は
ドット状画像、即ち画素をそれぞれ配置し、通常、それ
ぞれの境界をブラックマトリックスで区分した構造であ
る。ところで、カラーフィルターはＴＦＴ−ＬＣＤ等に
配備されるが、カラーフィルターの設置位置は、液晶を
介してＴＦＴ等の回路基板の反対側のガラス基板に作製
する方法が一般的である。ところが、この方式は液晶の
厚みに比例して画質が落ちることがわかっている。これ
を避ける目的でカラーフィルターを回路基板上に作成す
ることが公知である（例えば、特開２００１−２２８４
６９号公報）。しかしながら、この従来の方法ではカラ
ーフィルター作製時にアルカリ現像液を使用するため金
属イオンが残存し、この残存イオンが回路の駆動に悪影
響を与えることが分っている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、回路の駆動
に悪影響を与える金属イオンのないカラーフィルター付
き回路基板の形成方法及びそれにより得られる付き回路
基板を提供することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】即ち、前記課題を解決す
るための手段は、以下の通りである。 （１）支持体上に少なくとも光熱変換層、レッド
（Ｒ）、グリーン（Ｇ）、ブルー（Ｂ）またはブラック
（Ｋ）の画像形成層を有する４種のレーザー熱転写シー
トを回路基板と重ねあわせ熱転写シート側からレーザー
光を像様に照射して回路基板上に画像形成層を転写して
Ｒ、Ｇ、Ｂ及びＫからなる画像を形成することを特徴と
するカラーフィルター付回路基板の形成方法。 （２）上記（１）に記載のカラーフィルターの形成方法
により製造されたカラーフィルター付回路基板。

【０００９】

【発明の実施の形態】本発明のカラーフィルター付回路
基板の形成方法は、レーザー熱転写シートを回路基板と
重ねあわせ熱転写シート側からレーザー光を像様に照射
して回路基板上にＲ、Ｇ、Ｂ及びＫからなる画像を形成
することを特徴とする。ここで、Ｒ、Ｇ、Ｂ及びＫから
なる画像とは、カラーフィルターのブラックマトリック
スの間にレッドフィルターの画素（Ｒ）、グリーンフィ
ルターの画素（Ｇ）及びブルーフィルターの画素（Ｂ）
が埋め尽くされた、それら画素及びブラックマトリック
スの集合を意味し、画像（Ｒ，Ｇ，Ｂ，Ｋ）と記す。ま
た、画素の集合を画素（Ｒ，Ｇ，Ｂ）と記す。カラーフ
ィルターの画像（Ｒ，Ｇ，Ｂ，Ｋ）としては、例えば、
図3に示すようなブラックマトリックスと画素（Ｒ，
Ｇ，Ｂ）の配置が挙げられるが、これに限定されること
はなく任意である。画素（Ｒ）、画素（Ｇ）、画素
（Ｂ）のサイズは、例えば、図中、ａが１００〜３００
μｍ、ｂが３００μｍ程度、ｃのブラックマトリックス
の線幅が数μｍ〜２０μｍ程度が挙げられるが、適宜変
更可能である。カラーフィルターは、上記のように画素
（Ｒ，Ｇ，Ｂ）とブラックマトリックスの間は隙間なく
回路基板上に形成されてなければならない。

【００１０】本発明において、回路基板とは、画素
（Ｒ，Ｇ，Ｂ）への光の照射または非照射を電子的に制
御可能な回路が形成されている基板を意味し、該回路と
しては具体的には薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）等が挙げ
られる。画像（Ｒ，Ｇ，Ｂ，Ｋ）は、画素（Ｒ，Ｇ，
Ｂ）とＴＦＴの画素電極の領域が対応するように回路基
板上に形成される。ＴＦＴとしては、バックチャンネル
エッチ型（バックチャンネルカット型）、チャンネル保
護膜型（ｉストッパ型）、トップゲート方式（正スタガ
ー方式）等が挙げられる。

【００１１】また、回路は、電子伝導性の材料（例：タ
ンタル、モリブデン、タングステン、アルミニウム、
銅）、半導体材料、無機絶縁材（例：窒化ケイ素）、保
護膜等を有していても良い。カラーフィルターが形成さ
れる回路基板の表面は、カップリング剤及び高分子で処
理されることが好ましく、平滑な面でも凹凸を有する面
であってもよいが前者が好ましい。また、回路は、ガラ
ス、ソーダライムガラス（例：日本板ガラス（株）製Ｎ
ＳＧ−ＳＴ）、無アルカリガラス（例：コーニング社製
７０５０）、セキエイガラス、プラスチック板等の光透
過性かつ絶縁性の材料上に形成されていることが好まし
い。尚、回路基板は後述の受像シートのように可撓性で
あってもよい。本発明法では、レーザー熱転写シートを
用いて回路基板上に直接画像（Ｒ，Ｇ，Ｂ，Ｋ）を設け
ることができるので、従来の湿式現像法のように金属イ
オンの液晶への混入がないので、液晶の動作性を改善す
ることができる。

【００１２】本発明に用いるレーザー熱転写シートは、
シャープな網点による熱転写画像を実現し、B2サイス゛記録
（５１５ｍｍ×７２８ｍｍ、ただし、B2サイス゛は５４３ｍ
ｍ×７６５ｍｍ）が可能であるシステムに有効かつ好適
である。この熱転写画像は2400〜2540dpiの解像度で印
刷線数に応じた網点画像とすることができる。1つ1つの
網点はにじみ・欠けがほとんどなく形状が非常にシャー
プであるため、ハイライトからシャドーまでの高範囲の
網点をクリアーに形成することができる。その結果、イ
メージセッターやCTPセッターと同じ解像度で高品位な
網点出力が可能であり、設定値との近似性の良い網点を
再現することができると共に該網点を画像（Ｒ，Ｇ，
Ｂ，Ｋ）の構成要素に対応させるものである。

【００１３】また、この熱転写画像は、網点形状がシャ
ープであるためレーザービームに対応した網点、ひいて
は画素を忠実に再現でき、また記録特性の環境温湿度依
存性が非常に小さいため、幅広い温湿度環境下で色相・
濃度とも安定した繰り返し再現性を得ることができる。
この熱転写画像は、繰り返し再現性が良好なため高精度
のCMS(カラーマネージメントシステム)を実現できる。

【００１４】また、この熱転写画像は、ドット形状がシ
ャープなので、画素がきれよく再現できる。レーザー光
により発生した熱が、面方向に拡散ぜずに転写界面まで
伝えられ、加熱部／非加熱部の界面で画像形成層がシャ
ープに破断する。このために、熱転写シートにおける光
熱変換層の薄膜化と画像形成層の力学特性を制御する。
ところで、シミュレーションでは、光熱変換層は瞬間的
に約700℃に達すると推定され、膜が薄いと変形や破壊
がおこりやすい。変形・破壊が起こると光熱変換層が転
写層とともに回路基板上に転写したり、転写像が不均一
になるという実害を生じる。一方、所定の温度を得るに
は膜中に光熱変換物質を高濃度に存在させねばならず、
色素の析出や隣接層への移行といった問題も発生する。
このため、光熱変換特性の優れた赤外吸収色素及びポリ
イミド系などの耐熱性バインダーを選定することによ
り、光熱変換層を約0.5μｍ以下に薄膜化することが好
ましい。

【００１５】また、一般的には、光熱変換層の変形が起
こったり、またはそのものが高熱により変形すると、受
像層に転写した画像形成層はレーザー光の副走査パター
ンに対応した厚みムラを生じ、そのため画像（Ｒ，Ｇ，
Ｂ，Ｋ）が不均一になり見かけの転写濃度が低下する。
この傾向は画像形成層の厚みが薄いほど顕著である。一
方、画像形成層の厚みが厚いとドットのシャープさが損
なわれかつ感度も低下する。この相反する性能を両立さ
せるために、ワックス等の低融点物質を画像形成層に添
加することより転写ムラを改良することが好ましい。ま
た、バインダーの代わりに無機微粒子を添加することに
より膜厚を適正に上げることで、加熱部／非加熱部の界
面で画像形成層がシャープに破断するようにし、ドット
のシャープさ・感度を保ちつつ転写ムラを改良すること
ができる。

【００１６】また、一般にワックス等の低融点物質は、
画像形成層表面に滲み出たり、結晶化する傾向があり、
画質や熱転写シートの経時安定性に問題を生じる場合が
ある。この問題に対処するためには、画像形成層のポリ
マーとのSp値差が小さい低融点物質を使用することが好
ましく、ポリマーとの相溶性を上げ、低融点物質の画像
形成層からの分離を防止することができる。また、構造
の異なる数種類の低融点物質を混合することで共融化さ
せ結晶化を防止することも好ましい。その結果、ドット
形状がシャープでかつむらの少ない画像（Ｒ，Ｇ，Ｂ，
Ｋ）が得られる。また、一般に、熱転写シートの塗布層
が吸湿することで層の力学物性と熱物性が変化し、記録
環境の湿度依存性が生じる。この温湿度依存性を少なく
するためは、光熱変換層の色素/バインダー系、および
画像形成層のバインダー系を有機溶剤系にすることが好
ましい。また、画素が熱転写される回路基板としては、
カップリング剤、好ましくはシランカップリング剤で処
理した後にポリビニルブチラールを塗布して膜を形成し
たものが好ましい。この膜の吸水性を小さくするために
ポリビニルブチラールにポリマー疎水化技術を導入する
方法がある。ポリマー疎水化技術としては、特開平８−
２３８８５８号公報に記載のようにヒドロキシル基を疎
水基と反応させたり、２つ以上のヒドロキシル基を硬膜
剤で架橋するなどが挙げられる。

【００１７】また、通常、レーザー露光による印画時に
画像形成層にも約500℃以上の熱がかかり、従来使用し
ていた顔料では熱分解してしまうものがあったが、耐熱
性の高い顔料を画像形成層に採用することによりこれを
防止することができる。そして、印画時の高熱により、
赤外吸収色素が光熱変換層から画像形成層に移行する
と、色相が変化してしまうのを防止するために、前述し
たように保持力の強い赤外吸収色素/バインダーの組み
合わせで光熱変換層を設計することが好ましい。一般
に、高速印画ではエネルギー不足となり特にレーザー副
走査の間隔に対応する隙間が発生する。前述したように
光熱変換層の色素高濃度化および光熱変換層・画像形成
層の薄膜化は、熱の発生/伝達の効率を上げることがで
きる。さらに、加熱時に画像形成層がわずかに流動し隙
間を埋める効果と回路基板上の膜との接着性をあげる目
的で、画像形成層へ低融点物質を添加することが好まし
い。また、回路基板上の膜と画像形成層との接着性を上
げ、転写した画像（Ｒ，Ｇ，Ｂ，Ｋ）の強度を十分持た
せるために、膜のバインダーとして例えば、上述したよ
うに画像形成層と同じ樹脂を採用することが出来る。

【００１８】回路基板と熱転写シートは、真空密着によ
りレーザー記録装置に保持されることが好ましい。この
真空密着は両者の接着力制御により画像を形成している
ため回路基板の受像面と熱転写シートの画像形成層面の
クリアランスに画像転写挙動が非常に敏感なので重要で
ある。ゴミ等異物のきっかけで材料間のクリアランスが
広がってしまうと画像欠陥や画像転写ムラが生じてしま
う。このような画像欠陥や画像転写ムラを防止するに
は、熱転写シートに均一な凹凸をつけることで、エアー
のとおりをよくし均一なクリアランスを得ることが好ま
しい。

【００１９】熱転写シートに凹凸をつける方法として
は、一般にエンボス処理等の後処理、塗布層へのマット
剤添加があるが、製造工程簡略化、材料の経時安定化の
ためにマット剤添加が好ましい。マット剤は塗布層厚み
より大きいものが必要であり、マット剤を画像形成層に
添加するとマット剤の存在する部分の画像が欠落すると
いう問題が発生するので、最適な粒径のマット剤を光熱
変換層に添加することが好ましく、これにより画像形成
層そのものはほぼ均一な厚みとなり、欠陥のない画像を
回路基板上に得ることができる。

【００２０】これまで述べたようなシャープなドットを
確実に再現するため、レーザー熱転写シートが適用され
る記録装置側も高精度な設計が要求される。従来のレー
ザー熱転写用記録装置と基本的構成は同様である。この
従来の構成はハイパワーの複数のレーザーを備えた記録
ヘッドが、固定された熱転写シートと受像シートにレー
ザーを照射して記録する、いわゆるヒートモードの記録
システムである。その中で、以下の態様が好ましい構成
である。ただし、本発明では、このシステムにおいて、
受像シートが回路基板に対応する点に留意されたい。熱
転写シート及び受像シートの供給は、全自動ロール供給
とする。受像シート及び熱転写シートの記録装置への固
定は真空吸着とする。記録装置には多数の真空吸着孔を
形成し、受像シート下をブロアや減圧ポンプなどにより
減圧にすることによりシートが受像シートに吸着され
る。受像シートに熱転写シートが吸着されるために、熱
転写シートのサイズを受像シートより大きくする。

【００２１】本装置では、B2サイズという大面積のシー
トを何枚も排出台上に重ねて集積できるものとする。そ
のためにエアーを両シートの間に噴出して後から排出さ
れるシートを浮き上がらせる方法を採用するものとす
る。本装置の構成例を図２に示す。以上のような本装置
での熱転写シートによるシーケンスを説明する。 １）記録装置１の記録ヘッド２の副走査軸が副走査レー
ル３により、また記録ドラム４の主走査回転軸並びに熱
転写シートローディングユニット５が原点に復帰する。 ２）受像シートロール６が搬送ローラ７によってほどか
れて記録ドラム４上に受像シート先端が記録ドラムに設
けられた吸引孔を介して真空吸引されて固定される。 ３）記録ドラム４上にスクイーズローラー８が降りてき
て、受像シートを抑えつけながら、ドラムの回転により
受像シートがさらに規定量搬送されたところで停止しカ
ッター９によって規定長に切断される。 ４）更に記録ドラム４が１周して受像シートのローディ
ングが終了する。 ５）次に受像シートと同様のシーケンスで、１色目―黒
―の熱転写シートＫが熱転写シートロール１０Ｋから繰
り出され、切断されてローディングされる。 ６）次に記録ドラム４が高速回転を始め、副走査レール
３上の記録ヘッド２が動き始め、記録開始位置に到達し
たところで記録画像信号に従って記録ヘッド２により記
録レーザーが記録ドラム４上に照射される。記録終了位
置で照射を終了し、副走査レール動作、ドラム回転が停
止する。副走査レール上の記録ヘッドを原点に戻す。 ７）記録ドラム上に受像シートを残したまま、熱転写シ
ートＫだけを剥がしとる。そのため、熱転写シートＫの
先端を爪でひっかけて排出方向に引っ張り出して、廃棄
口３２から廃棄箱３５へ廃棄する。 ８）５）〜７）を残りの３色分繰り返す。記録順序は黒
の次は、レッド、グリーン、ブルーの順序である。即
ち、２色目―レッド―の熱転写シートＲが熱転写シート
ロール１０Ｒから、３色目―グリーン―の熱転写シート
Ｇが熱転写シートロール１０Ｇ、４色目―ブルー―の熱
転写シートＢが熱転写シートロール１０Ｂから順次繰り
出される。これらの熱転写シートＫ、Ｒ、ＧまたはＢの
順序は、基本的には任意である。 ９）８）工程が完了すると、最後に記録済みの受像シー
トを排出台３１まで排出する。ドラムから剥がしとる方
法は７）の熱転写シートと同じであるが、熱転写シート
と違い廃棄しないので、廃棄口３２まで進んだところで
スイッチバックによって排出台に戻す。排出台に排出さ
れる際には、排出口３３の下からエアー３４を噴出して
複数枚の集積を可能にしている。

【００２２】上記熱転写シートロール及び受像シートロ
ールの供給部位又は搬送部位の何れかの搬送ローラ７
に、表面に粘着材料が配設された粘着ロールを用いるこ
とが好ましい。

【００２３】粘着ロールを設けることにより、熱転写シ
ート及び受像シートの表面をクリーニングすることがで
きる。

【００２４】粘着ロールの表面に配設される粘着材料と
しては、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−エ
チルアクリレート共重合体、ポリオレフィン樹脂、ポリ
ブタジエン樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体（ＳＢ
Ｒ）、スチレン−エチレン−ブテン−スチレン共重合体
（ＳＥＢＳ）、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体
（ＮＢＲ）、ポリイソプレン樹脂（ＩＲ）、スチレン−
イソプレン共重合体（ＳＩＳ）、アクリル酸エステル共
重合体、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリ
ル樹脂、ブチルゴム、ポリノルボルネン等が挙げられ
る。

【００２５】粘着ロールは熱転写シート及び受像シート
の表面と接触することにより、その表面をクリーニング
することができ、接触圧は接触していれば格別限定され
ない。

【００２６】熱転写シートの画像形成層表面の表面粗さ
Rzとその裏面層表面の表面粗さRzの差の絶対値が3.0以
下であり、受像シートの表面粗さRzとその裏面層表面の
表面粗さRzの差の絶対値が3.0以下であることが好まし
い。このような構成により、上記のクリーニング手段と
相俟って画像欠陥を防止でき、搬送ジャムをなくし、更
にドットゲイン安定性を向上させることができる。

【００２７】本明細書で、表面粗さRzというのは、JIS
のRz（最大高さ）に相当する十点平均面粗さのことをい
い、粗さの曲面から基準面積分だけ抜き取った部分の平
均面を基準面として、最高から５番目までの山の標高の
平均値と最深から５番目までの谷底の深さの平均値との
距離を入力換算したものである。測定には東京精密(株)
製の触針式の3次元粗さ計（サーフコム570A-3DF）を用いる。
測定方向は縦方向とし、カットオフ値は0.08mm、測定面
積は0.6mmx0.4mm、送りピッチは0.005mm、測定スピード
は0.12mm/sである。

【００２８】上記の熱転写シートの画像形成層表面の表
面粗さRzとその裏面層表面の表面粗さRzの差の絶対値は
1.0以下であり、また受像シートの表面粗さRzとその裏
面層表面の表面粗さRzの差の絶対値が1.0以下であるこ
とが上記の効果をさらに向上させる観点から好ましい。

【００２９】更に、別の態様としては、熱転写シートの
画像形成層表面とその裏面層表面の表面粗さ及び又は受
像シートの表裏面の表面粗さRzが2〜30μmであることが
好ましい。このような構成によって、上記のクリーニン
グ手段と相俟って画像欠陥を防止でき、搬送ジャムをな
くし、更にドットゲイン安定性を向上させる。

【００３０】また熱転写シートの画像形成層の光沢度は
80〜99であることも好ましい。

【００３１】光沢度は、画像形成層表面の平滑性に大き
く依存し、画像形成層膜厚の均一性を左右し得る。光沢
度が高い方が画像形成層として均一で高精細画像への用
途により適しているが、平滑性が高いと搬送時の抵抗は
より大きくなり、両者がトレード・オフの関係である。
光沢度が80〜99の範囲であると、両者の両立が可能でバ
ランスが取れる。

【００３２】粘着ロールに使用する粘着性を有する素材
のビッカース硬さHvは50kg/mm²（≒490MPa）以下である
ことが、異物であるゴミを十分に取り除き、画像欠陥を
抑制可能であることから好ましい。

【００３３】ビッカース硬さというのは、対面角が１３
６度の正四角錐形のダイヤモンド圧子に静荷重をかけて
硬さを測定した硬さであり、ビッカース硬さHvは以下の
式で求められる。

【００３４】硬さHv＝１．８５４Ｐ／d²（kg/mm²）≒１
８．１６９２MPa ここでP:荷重の大きさ（Kg）、d：くぼみの正方形の対
角線長さ（mm）

【００３５】また本発明においては、上記の粘着ロール
に使用する粘着性を有する素材の20℃における弾性率が
200kg/cm²（≒19.6MPa）以下であることが、上記と同様
に異物であるゴミを十分に取り除き、画像欠陥を抑制可
能であることから好ましい。以上、アウタードラム方式
を中心に説明したが、インナードラム方式、フラットベ
ット方式を用いてもよい。受像シートに相当する回路基
板としてガラス等の剛体を含むものを用いる場合はフラ
ットベット方式が用いられる。

【００３６】次に、レーザーを用いた薄膜熱転写による
多色画像形成の機構の概略を図１を用いて説明する。熱
転写シート１０のブラック（Ｋ）、レッド（Ｒ）、グリ
ーン（Ｇ）またはブルー（Ｂ）の顔料を含む画像形成層
１６の表面に、回路基板２０を積層した画像形成用積層
体３０を用意する。熱転写シート１０は、支持体１２
と、その上に、光熱変換層１４、及び更にその上に、画
像形成層１６を有し、回路基板２０は、その上に、受像
層２４を有し、熱転写シート１０の画像形成層１６の表
面には、受像層２４が接触するように積層される（図１
（ａ））。その積層体３０の熱転写シート１０の支持体
１２側から、レーザー光を画像様に時系列的に照射する
と、熱転写シート１０の光熱変換層１４のレーザー光被
照射領域が発熱し、画像形成層１６との密着力が低下す
る（図１（ｂ））。その後、回路基板２０と熱転写シー
ト１０とを剥離すると、画像形成層１６のレーザー光被
照射領域１６'が、回路基板２０の受像層２４上に転写
される（図１（ｃ））。

【００３７】光照射に用いられるレーザー光は、マルチ
ビーム光であることが好ましく、特にマルチビーム２次
元配列であることが好ましい。マルチビーム２次元配列
とは、レーザー照射によって記録する際に、複数個のレ
ーザービームを使用し、これらのレーザービームのスポ
ット配列が、主走査方向に沿って複数列、副走査方向に
沿って複数行からなる２次元平面配列をしていることを
いう。マルチビーム２次元配列であるレーザー光を使用
することにより、レーザー記録に要する時間を短縮する
ことができる。

【００３８】使用されるレーザー光は、マルチビームで
あれば特に制限なく使用することができ、アルゴンイオ
ンレーザー光、ヘリウムネオンレーザー光、ヘリウムカ
ドミウムレーザー光等のガスレーザー光、ＹＡＧレーザ
ー光等の固体レーザー光、半導体レーザー光、色素レー
ザー光、エキシマレーザー光等の直接的なレーザー光が
利用される。あるいは、これらのレーザー光を二次高調
波素子を通して、半分の波長に変換した光等も用いるこ
とができる。多色画像形成方法においては、出力パワー
や変調のし易さ等を考慮すると、半導体レーザー光を用
いることが好ましい。多色画像形成方法では、レーザー
光は、光熱変換層上でのビーム径が５〜５０μｍ（特に
６〜３０μｍ）の範囲となるような条件で照射すること
が好ましく、また走査速度は１ｍ／秒以上（特に３ｍ／
秒以上）とすることが好ましい。

【００３９】黒、レッド、グリーン、ブルーの各熱転写
シートにおける画像形成層の層厚が、好ましくは０．１
〜５μｍであり、更に好ましくは０．３〜４μｍ、特に
好ましくは０．５〜３μｍである。前記各色の熱転写シ
ートにおける画像形成層の層厚が０．１μｍ未満である
と、レーザー記録時に転写ムラによる濃度低下が生じる
ことがあり、一方、５μｍを超えると転写感度の低下又
は解像力の悪化を生じることがある。

【００４０】形成した画像（Ｒ，Ｇ，Ｂ，Ｋ）上に更に
透明保護層を施しても良い。

【００４１】レーザー光照射を用いる熱転写記録は、レ
ーザービームを熱に変換しその熱エネルギーを利用して
顔料を含む画像形成層を回路基板に転写し、回路基板上
に画像を形成し得るものであれば、転写時の顔料、色素
乃至画像形成層の状態変化は、特に問わず、固体状態、
軟化状態、液体状態、気体状態のいずれの状態をも包含
するが、好ましくは固体乃至軟化状態である。レーザー
光照射を用いる熱転写記録は、例えば、従来から知られ
る溶融型転写、アブレーションによる転写、昇華型転写
等も包含される。中でも前述の薄膜転写型、溶融・アブ
レーション型は良好な色相の画像を作成するという点で
好ましい。

【００４２】上記４種のレーザー熱転写シートを用いて
カラーフィルターの画像（Ｒ，Ｇ，Ｂ，Ｋ）を製版シス
テムを適用して印刷物として形成する場合には、PDシス
テムが適用できる。システムの具体的接続例を以下に挙
げる。製版システム（例えば、富士写真フィルム社製Ce
lebra）からの印刷物のプルーフをとる場合、システム
接続としては以下のようになる。製版システムにCTP（C
omputer To Plate）システムを接続する。これで出力し
た印刷版を印刷機にかけることによって最終印刷物が得
られる。製版システムに多色画像として上記記録装置を
接続するが、その間に色や網点を印刷物に近づけるため
のプルーフドライブソフトウェアとしてPDシステム（登
録商標）を接続する。製版システムでラスターデータに
変換されたコントーン（連続調）データは、網点用の２
値データに変換されてCTPシステムに出力され、最終的
に印刷される。一方、同じコントーンデータはPDシステ
ムにも出力される。PDシステムは受け取ったデータを４
次元（Ｒ、Ｂ、Ｇ，Ｋ）のテーブルによって前記印刷物
に色が一致するように変換する。そして最後に前記印刷
物の網点と一致するように網点用の２値データに変換
し、レーザー熱転写シートを保持した記録装置に出力
し、回路基板上に画像（Ｒ，Ｇ，Ｂ，Ｋ）からなるフィ
ルターが形成される。前記４次元テーブルは予め実験的
に作成しておき、システム内に保存しておく。作成のた
めの実験とは次のようなものである。重要色データを、
CTPシステム経由で印刷した画像と、PDシステム経由で
記録装置で出力した画像を用意し、その測色値を比較し
てその差が最小になるようにテーブルを作成する。

【００４３】以下に、上記システムの記録装置に好適に
用いられる熱転写シート及び回路基板について説明す
る。 ［熱転写シート］熱転写シートは、支持体上に、少なく
とも光熱変換層及び画像形成層を有し、更に必要に応じ
て、その他の層を有してなる。

【００４４】（支持体）熱転写シートの支持体の材料に
は特に限定はなく、各種の支持体材料を目的に応じて用
いることができる。支持体は剛性を有し、寸法安定性が
良く、画像形成の際の熱に耐えるものが好ましい。支持
体材料の好ましい例としては、ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリエチレン−２，６−ナフタレート、ポリカー
ボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレン、
ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデ
ン、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合
体、ポリアミド（芳香族または脂肪族）、ポリイミド、
ポリアミドイミド、ポリスルホン、ポリエーテルスルホ
ン等の合成樹脂材料を挙げることができる。中でも、二
軸延伸ポリエチレンテレフタレートやポリエーテルスル
ホンが、機械的強度や熱に対する寸法安定性を考慮する
と好ましい。尚、レーザー記録を利用したカラープルー
フの作製に用いる場合には、熱転写シートの支持体はレ
ーザー光を透過させる透明な合成樹脂材料から形成する
のが好ましい。支持体の厚みは２５〜１３０μｍである
ことが好ましく、５０〜１２０μｍであることが特に好
ましい。画像形成層側の支持体の中心線平均表面粗さＲ
ａ（表面粗さ測定機（Ｓｕｒｆｃｏｍ，東京精機（株）
製）等を用いてＪＩＳ Ｂ０６０１に基づき測定）は
０．１μｍ未満であることが好ましい。支持体の長手方
向のヤング率は２００〜１２００Ｋｇ／ｍｍ²（≒２〜
１２ＧＰａ）が好ましく、幅方向のヤング率は２５０〜
１６００Ｋｇ／ｍｍ²（≒２．５〜１６ＧＰａ）である
ことが好ましい。支持体の長手方向のＦ−５値は、好ま
しくは５〜５０Ｋｇ／ｍｍ²（≒４９〜４９０ＭＰ
ａ）、支持体幅方向のＦ−５値は、好ましくは３〜３０
Ｋｇ／ｍｍ² （≒２９．４〜２９４ＭＰａ）であり、支
持体長手方向のＦ−５値が支持体幅方向のＦ−５値より
高いのが一般的であるが、特に幅方向の強度を高くする
必要があるときはその限りではない。また、支持体の長
手方向および幅方向の１００℃３０分での熱収縮率は好
ましくは３％以下、さらに好ましくは１．５％以下、８
０℃３０分での熱収縮率は好ましくは１％以下、さらに
好ましくは０．５％以下である。破断強度は両方向とも
５〜１００Ｋｇ／ｍｍ² （≒４９〜９８０ＭＰａ）、弾
性率は１００〜２０００Ｋｇ／ｍｍ²（≒０．９８〜１
９．６ＧＰａ）が好ましい。

【００４５】熱転写シートの支持体には、その上に設け
られる光熱変換層との密着性を向上させるために、表面
活性化処理及び／又は一層又は二層以上の下塗層の付設
を行ってもよい。表面活性化処理の例としては、グロー
放電処理、コロナ放電処理等を挙げることができる。下
塗層の材料としては、支持体と光熱変換層の両表面に高
い接着性を示し、かつ熱伝導性が小さく、また耐熱性に
優れたものであることが好ましい。そのような下塗層の
材料の例としては、スチレン、スチレン−ブタジエン共
重合体、ゼラチン等を挙げることができる。下塗層全体
の厚さは通常０．０１〜２μｍである。また、熱転写シ
ートの光熱変換層付設側とは反対側の表面には、必要に
応じて、反射防止層や帯電防止層等の各種の機能層の付
設、あるいは表面処理を行うこともできる。 （バック層）

【００４６】熱転写シートの光熱変換層、画像形成層の
反対面にバック層を設けることができる。バック層に使
用される帯電防止剤としては、ポリオキシエチレンアル
キルアミン、グリセリン脂肪酸エステル等の非イオン系
界面活性剤、第４級アンモニウム塩等のカチオン系界面
活性剤、アルキルホスフェート等のアニオン系界面活性
剤、両性界面活性剤、導電性樹脂等の化合物が使用でき
る。

【００４７】また、導電性微粒子を帯電防止剤として用
いることもできる。このような導電性微粒子としては、
例えば、ＺｎＯ、ＴｉＯ₂ 、ＳｎＯ₂ 、Ａｌ₂Ｏ₃ 、Ｉ
ｎ₂Ｏ ₃ 、ＭｇＯ、ＢａＯ、ＣｏＯ、ＣｕＯ、Ｃｕ₂Ｏ、
ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ₂、ＰｂＯ、ＰｂＯ₂ 、ＭｎＯ₃
、ＭｏＯ₃ 、ＳｉＯ₂ 、ＺｒＯ₂ 、Ａｇ₂Ｏ、Ｙ₂Ｏ₃、
Ｂｉ₂Ｏ₃、Ｔｉ₂Ｏ₃ 、Ｓｂ₂Ｏ₃ 、Ｓｂ₂Ｏ₅ 、Ｋ₂Ｔｉ
₆Ｏ₁₃、ＮａＣａＰ₂Ｏ ₁₈、ＭｇＢ₂Ｏ₅等の酸化物；Ｃｕ
Ｓ、ＺｎＳ等の硫化物；ＳｉＣ、ＴｉＣ、ＺｒＣ、Ｖ
Ｃ、ＮｂＣ、ＭｏＣ、ＷＣ等の炭化物；Ｓｉ₃Ｎ₄、Ｔｉ
Ｎ、ＺｒＮ、ＶＮ、ＮｂＮ、Ｃｒ₂Ｎ等の窒化物；Ｔｉ
Ｂ₂ 、ＺｒＢ₂、ＮｂＢ₂ 、ＴａＢ₂ 、ＣｒＢ、Ｍｏ
Ｂ、ＷＢ、ＬａＢ₅ 等の硼化物；ＴｉＳｉ₂ 、ＺｒＳｉ
₂ 、ＮｂＳｉ₂、ＴａＳｉ₂ 、ＣｒＳｉ₂ 、ＭｏＳｉ
₂ 、ＷＳｉ₂ 等の珪化物；ＢａＣＯ₃ 、ＣａＣＯ₃ 、Ｓ
ｒＣＯ₃ 、ＢａＳＯ₄ 、ＣａＳＯ₄ 等の金属塩；ＳｉＮ
₄ −ＳｉＣ、９Ａｌ₂Ｏ₃ −２Ｂ₂Ｏ₃ 等の複合体が挙げ
られ、これら１種を単独で又は２種以上を併用してもよ
い。これらのうち、ＳｎＯ₂ 、ＺｎＯ、Ａｌ₂Ｏ₃ 、Ｔ
ｉＯ₂、Ｉｎ₂Ｏ₃ 、ＭｇＯ、ＢａＯ及びＭｏＯ₃が好ま
しく、ＳｎＯ₂ 、ＺｎＯ、Ｉｎ₂Ｏ₃及びＴｉＯ₂ がさら
に好ましく、ＳｎＯ₂ が特に好ましい。

【００４８】なお、バック層に用いる帯電防止剤はレー
ザー光を透過できるように実質的に透明であることが好
ましい。

【００４９】導電性金属酸化物を帯電防止剤として使用
する場合には、その粒子径は光散乱をできるだけ小さく
するために小さい程好ましいが、粒子とバインダーの屈
折率の比をパラメータとして使用して決定されるべきも
のであり、ミー（Ｍｉｅ）の理論を用いて求めることが
できる。一般に平均粒子径が０．００１〜０．５μｍの
範囲であり、０．００３〜０．２μｍの範囲が好まし
い。ここでいう、平均粒子径とは、導電性金属酸化物の
一次粒子径だけでなく高次構造の粒子径も含んだ値であ
る。

【００５０】バック層には帯電防止剤の他に、界面活性
剤、滑り剤及びマット剤等の各種添加剤やバインダーを
添加することができる。

【００５１】バック層の形成に使用されるバインダーと
しては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル
酸エステル、メタクリル酸エステル等のアクリル酸系モ
ノマーの単独重合体及び共重合体、ニトロセルロース、
メチルセルロース、エチルセルロース、セルロースアセ
テートのようなセルロース系ポリマー、ポリエチレン、
ポリプロピレン、ポリスチレン、塩化ビニル系共重合
体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルピロ
リドン、ポリビニルブチラール、ポリビニルアルコール
のようなビニル系ポリマー及びビニル化合物の共重合
体、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミドのような
縮合系ポリマー、ブタジエン−スチレン共重合体のよう
なゴム系熱可塑性ポリマー、エポキシ化合物のような光
重合性若しくは熱重合性化合物を重合、架橋させたポリ
マー、メラミン化合物等を挙げることができる。

【００５２】（光熱変換層）光熱変換層は、光熱変換物
質、バインダー、及び必要に応じてマット剤を含有し、
更に必要に応じて、その他の成分を含有する。光熱変換
物質は、照射される光エネルギーを熱エネルギーに変換
する機能を有する物質である。一般的には、レーザー光
を吸収することのできる色素（顔料を含む。以下、同様
である。）である。赤外線レーザーにより画像記録を行
う場合は、光熱変換物質としては、赤外線吸収色素を用
いるのが好ましい。前記色素の例としては、カーボンブ
ラック等の黒色顔料、フタロシアニン、ナフタロシアニ
ン等の可視から近赤外域に吸収を有する大環状化合物の
顔料、光ディスク等の高密度レーザー記録のレーザー吸
収材料として使用される有機染料（インドレニン染料等
のシアニン染料、アントラキノン系染料、アズレン系色
素、フタロシアニン系染料）、及びジチオールニッケル
錯体等の有機金属化合物色素を挙げることができる。中
でも、シアニン系色素は、赤外線領域の光に対して、高
い吸光係数を示すので、光熱変換物質として使用する
と、光熱変換層を薄層化することができ、その結果、熱
転写シートの記録感度をより向上させることができるの
で好ましい。光熱変換物質としては、色素以外にも、黒
化銀等の粒子状の金属材料等、無機材料を用いることも
できる。

【００５３】光熱変換層に含有されるバインダーとして
は、支持体上に層を形成し得る強度を少なくとも有し、
高い熱伝導率を有する樹脂が好ましい。更に、画像記録
の際に、光熱変換物質から生じる熱によっても分解しな
い、耐熱性を有する樹脂であると、高エネルギーの光照
射を行っても、光照射後の光熱変換層の表面の平滑性を
維持できるので好ましい。具体的には、熱分解温度（Ｔ
ＧＡ法（熱質量分析法）で１０℃／分の昇温速度で、空
気気流中で５％質量減少する温度）が４００℃以上の樹
脂が好ましく、前記熱分解温度が５００℃以上の樹脂が
より好ましい。また、バインダーは、２００〜４００℃
のガラス転移温度を有するのが好ましく、２５０〜３５
０℃のガラス転移温度を有するのがより好ましい。ガラ
ス転移温度が２００℃より低いと、形成される画像にカ
ブリが発生する場合があり、４００℃より高いと、樹脂
の溶解性が低下し、生産効率が低下する場合がある。
尚、光熱変換層のバインダーの耐熱性（例えば、熱変形
温度や熱分解温度）は、光熱変換層上に設けられる他の
層に使用される材料と比較して、より高いのが好まし
い。

【００５４】具体的には、ポリメタクリル酸メチル等の
アクリル酸系樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、
塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体、ポリビニルアルコー
ル等のビニル系樹脂、ポリビニルブチラール、ポリエス
テル、ポリ塩化ビニル、ポリアミド、ポリイミド、ポリ
エーテルイミド、ポリスルホン、ポリエーテルスルホ
ン、アラミド、ポリウレタン、エポキシ樹脂、尿素／メ
ラミン樹脂等が挙げられる。これらの中でも、ポリイミ
ド樹脂が好ましい。

【００５５】特に、下記一般式（Ｉ）〜（VII）で表さ
れるポリイミド樹脂は、有機溶媒に可溶であり、これら
のポリイミド樹脂を使用すると、熱転写シートの生産性
が向上するので好ましい。また、光熱変換層用塗布液の
粘度安定性、長期保存性、耐湿性が向上する点でも好ま
しい。

【００５６】

【化１】

【００５７】前記一般式（Ｉ）及び（II）中、Ａｒ
¹は、下記構造式（１）〜（３）で表される芳香族基を
示し、ｎは、１０〜１００の整数を示す。

【００５８】

【化２】

【００５９】

【化３】

【００６０】前記一般式（III）及び（IV）中、Ａｒ
²は、下記構造式（４）〜（７）で表される芳香族基を
示し、ｎは、１０〜１００の整数を示す。

【００６１】

【化４】

【００６２】

【化５】

【００６３】前記一般式（Ｖ）〜（VII）中、ｎ及びｍ
は１０〜１００の整数を示す。式（VI）において、ｎ：
ｍの比は６：４〜９：１である。

【００６４】尚、樹脂が有機溶媒に可溶であるか否かを
判断する目安としては、２５℃において、樹脂がＮ−メ
チルピロリドン１００質量部に対して、１０質量部以上
溶解することを基準とし、１０質量部以上溶解する場合
は、光熱変換層用の樹脂として好ましく用いられる。よ
り好ましくは、Ｎ−メチルピロリドン１００質量部に対
して、１００質量部以上溶解する樹脂である。

【００６５】光熱変換層に含有されるマット剤として
は、無機微粒子や有機微粒子を挙げることができる。こ
の無機微粒子としては、シリカ、酸化チタン、酸化アル
ミニウム、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、硫酸バリウ
ム、硫酸マグネシウム、水酸化アルミニウム、水酸化マ
グネシウム、窒化ホウ素等の金属塩、カオリン、クレ
ー、タルク、亜鉛華、鉛白、ジークライト、石英、ケイ
ソウ土、バーライト、ベントナイト、雲母、合成雲母等
が挙げられる。有機微粒子としては、フッ素樹脂粒子、
グアナミン樹脂粒子、アクリル樹脂粒子、スチレン−ア
クリル共重合体樹脂粒子、シリコーン樹脂粒子、メラミ
ン樹脂粒子、エポキシ樹脂粒子等の樹脂粒子を挙げるこ
とができる。

【００６６】マット剤の粒径は、通常、０．３〜３０μ
ｍであり、好ましくは０．５〜２０μｍであり、添加量
は０．１〜１００ｍｇ／ｍ²が好ましい。

【００６７】光熱変換層には、更に必要に応じて、界面
活性剤、増粘剤、帯電防止剤等が添加されてもよい。

【００６８】光熱変換層は、光熱変換物質とバインダー
とを溶解し、これに必要に応じてマット剤及びその他の
成分を添加した塗布液を調製し、これを支持体上に塗布
し、乾燥することにより設けることができる。ポリイミ
ド樹脂を溶解するための有機溶媒としては、例えば、ｎ
−ヘキサン、シクロヘキサン、ジグライム、キシレン、
トルエン、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、メチルエ
チルケトン、アセトン、シクロヘキサノン、１，４−ジ
オキサン、１，３−ジオキサン、ジメチルアセテート、
Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルスルホオキサイ
ド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、γ
−ブチロラクトン、エタノール、メタノール等が挙げら
れる。塗布、乾燥は、通常の塗布、乾燥方法を利用して
行うことができる。乾燥は、通常、３００℃以下の温度
で行い、２００℃以下の温度で行うのが好ましい。支持
体として、ポリエチレンテレフタレートを使用する場合
は、８０〜１５０℃の温度で乾燥するのが好ましい。

【００６９】光熱変換層におけるバインダーの量が少な
すぎると、光熱変換層の凝集力が低下し、形成画像が回
路基板に転写される際に、光熱変換層が一緒に転写され
やすくなり、画像の混色の原因となる。またポリイミド
樹脂が多すぎると、一定の光吸収率を達成するために光
熱変換層の層厚が大きくなって、感度低下を招きやす
い。光熱変換層における光熱変換物質とバインダーとの
固形分質量比は、１：２０〜２：１であるのが好まし
く、特に、１：１０〜２：１であるのがより好ましい。
また、光熱変換層を薄層化すると、前記した様に、熱転
写シートを高感度化できるので好ましい。光熱変換層
は、０．０３〜１．０μｍであるのが好ましく、０．０
５〜０．５μｍであるのがより好ましい。また、光熱変
換層では、レーザー光の吸収波長が700〜1500nmの範
囲、特に750〜1000nmが好ましい。また、波長８３０ｎ
ｍの光に対して、０．７〜１．１の光学濃度を有してい
ると、画像形成層の転写感度が向上するので好ましく、
前記波長の光に対して０．８〜１．０の光学濃度を有し
ているとより好ましい。波長８３０ｎｍにおける光学濃
度が０．７未満であると、照射された光を熱に変換する
ことが不充分となり、転写感度が低下することがある。
一方、１．１を超えると、記録時に光熱変換層の機能に
影響を与え、かぶりが発生することがある。

【００７０】（画像形成層）画像形成層は、回路基板に
転写されて画像（Ｒ，Ｇ，Ｂ，Ｋ）を形成するための顔
料を少なくとも含有し、更に、層を形成するためのバイ
ンダー、及び所望により、その他の成分を含有する。顔
料は一般に有機顔料と無機顔料とに大別され、前者は特
に塗膜の透明性に優れ、後者は一般に隠蔽性に優れる等
の特性を有しているので、用途に応じて、適宜選択すれ
ばよい。またその他にも、金属粉、酸化金属粉、蛍光顔
料等も用いる場合がある。好適に使用される顔料の例と
しては、アゾ系顔料、フタロシアニン系顔料、アントラ
キノン系顔料、ジオキサジン系顔料、キナクリドン系顔
料、イソインドリノン系顔料、ニトロ系顔料を挙げるこ
とができる。画像形成層に用いられる顔料を、色相別に
分けて、以下に列挙するが、これらに限定されるもので
はない。これら顔料は単独もしくは複数組み合わせて用
いられる。

【００７１】１）レッド顔料 Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド９７、Ｃ．Ｉ．ピグメント
・レッド１２２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１４９、
Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１６８、Ｃ．Ｉ．ピグメン
ト・レッド１７７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１８
０、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１９２、Ｃ．Ｉ．ピグ
メント・レッド２１５、C.I.No.12085、C.I.No.12120、
C.I.No.12140、C.I.No.12315等の有機顔料 ２）グリーン顔料 Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン７、Ｃ．Ｉ．ピグメント
・グリーン３６、C.I.No.42053、C.I.No.42085、C.I.N
o.42095等の有機顔料 ３）ブルー顔料 Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：１、Ｃ．Ｉ．ピグメ
ント・ブルー１５：４、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１
５：６、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー２２、Ｃ．Ｉ．ピ
グメント・ブルー６０、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー６
４、C.I.No.42052、C.I.No.42090等の有機顔料

【００７２】４）イエロー顔料 Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ（ピグメントイエロー）
１２（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．２１０９０） 例）Ｐｅｒｍａｎｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ（パーマネント
イエロー） ＤＨＧ（クラリアントジャパン（株）
製）、Ｌｉｏｎｏｌ Ｙｅｌｌｏｗ（リオノールイエロ
ー） １２１２Ｂ（東洋インキ製造（株）製）、Ｉｒｇ
ａｌｉｔｅ Ｙｅｌｌｏｗ（イルガライトイエロー）
ＬＣＴ（チバ・スペシャルティー・ケミカルズ（株）
製）、Ｓｙｍｕｌｅｒ Ｆａｓｔ Ｙｅｌｌｏｗ（シム
ラーファーストイエロー） ＧＴＦ ２１９（大日本イ
ンキ化学工業（株）製） Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ（ピグメントイエロー）
１３（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．２１１００） 例）Ｐｅｒｍａｎｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ（パーマネント
イエロー） ＧＲ（クラリアントジャパン（株）製）、
Ｌｉｏｎｏｌ Ｙｅｌｌｏｗ（リオノールイエロー）
１３１３（東洋インキ製造（株）製） Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ（ピグメントイエロー）
１４（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．２１０９５） 例）Ｐｅｒｍａｎｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ（パーマネント
イエロー） Ｇ（クラリアントジャパン（株）製）、Ｌ
ｉｏｎｏｌ Ｙｅｌｌｏｗ（リオノールイエロー） １
４０１−Ｇ（東洋インキ製造（株）製）、Ｓｅｉｋａ
Ｆａｓｔ Ｙｅｌｌｏｗ（セイカファーストイエロー）
２２７０（大日精化工業（株）製）、Ｓｙｍｕｌｅｒ
Ｆａｓｔ Ｙｅｌｌｏｗ（シムラーファーストイエロ
ー） ４４００（大日本インキ化学工業（株）製） Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ（ピグメントイエロー）
１７（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．２１１０５） 例）Ｐｅｒｍａｎｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ（パーマネント
イエロー） ＧＧ０２（クラリアントジャパン（株）
製）、Ｓｙｍｕｌｅｒ Ｆａｓｔ Ｙｅｌｌｏｗ（シム
ラーファーストイエロー） ８ＧＦ（大日本インキ化学
工業（株）製） Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ（ピグメントイエロー）
１５５ 例）Ｇｒａｐｈｔｏｌ Ｙｅｌｌｏｗ（グラフトールイ
エロー） ３ＧＰ（クラリアントジャパン（株）製） Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ（ピグメントイエロー）
１８０（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．２１２９０） 例）Ｎｏｖｏｐｅｒｍ Ｙｅｌｌｏｗ（ノボパームイエ
ロー） Ｐ−ＨＧ（クラリアントジャパン（株）製）、
ＰＶ Ｆａｓｔ Ｙｅｌｌｏｗ（ファーストイエロー）
ＨＧ（クラリアントジャパン（株）製） Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ（ピグメントイエロー）
１３９（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．５６２９８） 例）Ｎｏｖｏｐｅｒｍ Ｙｅｌｌｏｗ（ノボパームイエ
ロー） Ｍ２Ｒ ７０（クラリアントジャパン（株）
製）

【００７３】５）マゼンタ顔料 Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ（ピグメントレッド） ５７：
１（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．１５８５０：１） 例）Ｇｒａｐｈｔｏｌ Ｒｕｂｉｎｅ（グラフトールル
ビン） Ｌ６Ｂ（クラリアントジャパン（株）製）、Ｌ
ｉｏｎｏｌ Ｒｅｄ（リオノールレッド） ６Ｂ−４２
９０Ｇ（東洋インキ製造（株）製）、Ｉｒｇａｌｉｔｅ
Ｒｕｂｉｎｅ（イルガライトルビン） ４ＢＬ（チバ
・スペシャルティー・ケミカルズ（株）製）、Ｓｙｍｕ
ｌｅｒ Ｂｒｉｌｌｉａｎｔ Ｃａｒｍｉｎｅ（シムラ
ーブリリアントカーミン） ６Ｂ−２２９（大日本イン
キ化学工業（株）製） Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ（ピグメントレッド） １２２
（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．７３９１５） 例）Ｈｏｓｔｅｒｐｅｒｍ Ｐｉｎｋ（ホスターパーム
ピンク） Ｅ（クラリアントジャパン（株）製）、Ｌｉ
ｏｎｏｇｅｎ Ｍａｇｅｎｔａ（リオノゲンマゼンタ）
５７９０（東洋インキ製造（株）製）、Ｆａｓｔｏｇ
ｅｎ Ｓｕｐｅｒ Ｍａｇｅｎｔａ（ファストゲンスー
パーマゼンタ） ＲＨ（大日本インキ化学工業（株）
製） Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ（ピグメントレッド） ５３：
１（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．１５５８５：１） 例）Ｐｅｒｍａｎｅｎｔ Ｌａｋｅ Ｒｅｄ（パーマネ
ントレイクレッド） ＬＣＹ（クラリアントジャパン（株）製）、Ｓｙｍｕｌ
ｅｒ Ｌａｋｅ Ｒｅｄ（シムラーレイクレッド） Ｃ
ｃｏｎｃ（大日本インキ化学工業（株）製） Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ（ピグメントレッド） ４８：
１（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．１５８６５：１） 例）Ｌｉｏｎｏｌ Ｒｅｄ（リオノールレッド） ２Ｂ
３３００（東洋インキ製造（株）製）、Ｓｙｍｕｌｅ
ｒ Ｒｅｄ（シムラーレッド） ＮＲＹ（大日本インキ
化学工業（株）製） Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ（ピグメントレッド） ４８：
２（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．１５８６５：２） 例）Ｐｅｒｍａｎｅｎｔ Ｒｅｄ（パーマネントレッ
ド） Ｗ２Ｔ（クラリアントジャパン（株）製）、Ｌｉ
ｏｎｏｌ Ｒｅｄ（リオノールレッド） ＬＸ２３５
（東洋インキ製造（株）製）、Ｓｙｍｕｌｅｒ Ｒｅｄ
（シムラーレッド）３０１２（大日本インキ化学工業
（株）製） Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ（ピグメントレッド） ４８：
３（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．１５８６５：３） 例）Ｐｅｒｍａｎｅｎｔ Ｒｅｄ（パーマネントレッ
ド） ３ＲＬ（クラリアントジャパン（株）製）、Ｓｙ
ｍｕｌｅｒ Ｒｅｄ（シムラーレッド） ２ＢＳ（大日
本インキ化学工業（株）製） Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ（ピグメントレッド） １７７
（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．６５３００） 例）Ｃｒｏｍｏｐｈｔａｌ Ｒｅｄ（クロモフタルレッ
ド） Ａ２Ｂ（チバ・スペシャルティー・ケミカルズ
（株）製）

【００７４】６）シアン顔料 Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ（ピグメントブルー） １５
（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．７４１６０） 例）Ｌｉｏｎｏｌ Ｂｌｕｅ（リオノールブルー） ７
０２７（東洋インキ製造（株）製）、Ｆａｓｔｏｇｅｎ
Ｂｌｕｅ（ファストゲンブルー） ＢＢ（大日本イン
キ化学工業（株）製） Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ（ピグメントブルー） １
５：１（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．７４１６０） 例）Ｈｏｓｔｅｒｐｅｒｍ Ｂｌｕｅ（ホスターパーム
ブルー） Ａ２Ｒ（クラリアントジャパン（株）製）、
Ｆａｓｔｏｇｅｎ Ｂｌｕｅ（ファストゲンブルー）
５０５０（大日本インキ化学工業（株）製） Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ（ピグメントブルー） １
５：２（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．７４１６０） 例）Ｈｏｓｔｅｒｐｅｒｍ Ｂｌｕｅ（ホスターパーム
ブルー） ＡＦＬ（クラリアントジャパン（株）製）、
Ｉｒｇａｌｉｔｅ Ｂｌｕｅ（イルガライトブルー）
ＢＳＰ（チバ・スペシャルティー・ケミカルズ（株）
製）、Ｆａｓｔｏｇｅｎ Ｂｌｕｅ（ファストゲンブル
ー） ＧＰ（大日本インキ化学工業（株）製） Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ（ピグメントブルー） １
５：３（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．７４１６０） 例）Ｈｏｓｔｅｒｐｅｒｍ Ｂｌｕｅ（ホスターパーム
ブルー） Ｂ２Ｇ（クラリアントジャパン（株）製）、
Ｌｉｏｎｏｌ Ｂｌｕｅ（リオノールブルー） ＦＧ７３３０（東洋インキ製造（株）製）、Ｃｒｏｍｏ
ｐｈｔａｌ Ｂｌｕｅ（クロモフタルブルー） ４ＧＮ
Ｐ（チバ・スペシャルティー・ケミカルズ（株）製）、
Ｆａｓｔｏｇｅｎ Ｂｌｕｅ（ファストゲンブルー）
ＦＧＦ（大日本インキ化学工業（株）製） Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ（ピグメントブルー） １
５：４（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．７４１６０） 例）Ｈｏｓｔｅｒｐｅｒｍ Ｂｌｕｅ（ホスターパーム
ブルー） ＢＦＬ（クラリアントジャパン（株）製）、
Ｃｙａｎｉｎｅ Ｂｌｕｅ（シアニンブルー） ７００−１０ＦＧ（東洋インキ製造（株）製）、Ｉｒｇ
ａｌｉｔｅ Ｂｌｕｅ（イルガライトブルー） ＧＬＮ
Ｆ（チバ・スペシャルティー・ケミカルズ（株）製）、
Ｆａｓｔｏｇｅｎ Ｂｌｕｅ（ファストゲンブルー）
ＦＧＳ（大日本インキ化学工業（株）製） Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ（ピグメントブルー） １
５：６（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．７４１６０） 例）Ｌｉｏｎｏｌ Ｂｌｕｅ（リオノールブルー） Ｅ
Ｓ（東洋インキ製造（株）製） Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ（ピグメントブルー） ６０
（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．６９８００） 例）Ｈｏｓｔｅｒｐｅｒｍ Ｂｌｕｅ（ホスターパーム
ブルー） ＲＬ０１（クラリアントジャパン（株）
製）、Ｌｉｏｎｏｇｅｎ Ｂｌｕｅ（リオノゲンブル
ー） ６５０１（東洋インキ製造（株）製） ７）ブラック顔料 Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌａｃｋ（ピグメントブラック）
７（カーボンブラックＣ．Ｉ．Ｎｏ．７７２６６） 例）三菱カーボンブラック ＭＡ１００（三菱化学
（株）製）、三菱カーボンブラック ＃５（三菱化学
（株）製）、Ｂｌａｃｋ Ｐｅａｒｌｓ（ブラックパー
ルズ） ４３０（Ｃａｂｏｔ Ｃｏ．（キャボット社）
製） また、本発明で用いることのできる顔料としては、「顔
料便覧、日本顔料技術協会編、誠文堂新光社、１９８
９」、「ＣＯＬＯＵＲ ＩＮＤＥＸ、THE SOCIETY OF
DYES ＆ COLOURIST、THIRD EDITION、１９８７」な
どを参照して適宜商品を選択できる。

【００７５】前記顔料の平均粒径としては、０．０３〜
１μｍが好ましく、０．０５〜０．５μｍがより好まし
い。前記粒径が０．０３μｍ未満であると、分散コスト
が上がったり、分散液がゲル化等を起こすことがあり、
一方、１μｍを超えると、顔料中の粗大粒子が、画像形
成層と回路基板との密着性を阻害することがあり、ま
た、画像形成層の透明性を阻害する場合がある。

【００７６】画像形成層のバインダーとしては、例え
ば、ブチラール樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエチレンイ
ミン樹脂、スルホンアミド樹脂、ポリエステルポリオー
ル樹脂、石油樹脂、スチレン、ビニルトルエン、α−メ
チルスチレン、２−メチルスチレン、クロルスチレン、
ビニル安息香酸、ビニルベンゼンスルホン酸ソーダ、ア
ミノスチレン等のスチレン及びその誘導体、置換体の単
独重合体や共重合体、メチルメタクリレート、エチルメ
タクリレート、ブチルメタクリレート、ヒドロキシエチ
ルメタクリレート等のメタクリル酸エステル類及びメタ
クリル酸、メチルアクリレート、エチルアクリレート、
ブチルアクリレート、α−エチルヘキシルアクリレート
等のアクリル酸エステル及びアクリル酸、ブタジエン、
イソプレン等のジエン類、アクリロニトリル、ビニルエ
ーテル類、マレイン酸及びマレイン酸エステル類、無水
マレイン酸、ケイ皮酸、塩化ビニル、酢酸ビニル等のビ
ニル系単量体の単独あるいは他の単量体等との共重合体
を用いることができる。これらの樹脂は２種以上混合し
て用いることもできる。画像形成層には熱及び／又は光
のエネルギーを受けることにより重合乃至架橋する反応
性化合物、例えば、モノマー、オリゴマー及び／又は重
合体、必要により重合開始剤を含む単体または組成物を
含むことが好ましい。これらを含有させることにより画
像形成層の耐熱性、耐薬品性を改善することができる。
更に、該光及び／又は熱反応性の単体または組成物は、
（１）上述のように光及び／又は熱反応性ではないバイ
ンダーと併用して画像形成層を形成してもよいし、
（２）画像形成層として単独で光熱変換層上に設けても
よいし、（３）光熱変換層と光及び／又は熱反応性では
ない画像形成層の間に層状に設けてもよいし、（４）光
及び／又は熱反応性ではない画像形成層の上に設けても
よい。（４）の場合には、光及び／又は熱反応性ではな
い画像形成層は、溶解するように構成してもよい。ま
た、該光及び／又は熱反応性の単体または組成物は、レ
ーザー熱転写されて形成されたカラーフィルター上に層
状に設けられてもよい。

【００７７】光及び／又は熱反応性の単体または組成物
に用いられる成分を以下に挙げる。光重合性モノマーと
しては、沸点が常圧で１００℃以上の化合物が好まし
く、例えば、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリ
レート（ポリエチレングリコールジアクリレート及びポ
リエチレングリコールジメタクリレートを意味する。以
下同様である）、ポリプロピレングリコールジ（メタ）
アクリレート、トリメチロールエタントリアクリレー
ト、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメ
チロールプロパンジアクリレート、ネオペンチルグリコ
ールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテ
トラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ
（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ
（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ
（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）ア
クリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイ
ルオキシプロピル）エーテル、トリ（アクリロイルオキ
シエチル）イソシアヌレート、トリ（アクリロイルオキ
シエチル）シアヌレート、グリセリントリ（メタ）アク
リレート、トリメチロールプロパンもしくはグリセリン
等の多官能アルコールにエチレンオキシドやプロピレン
オキシドを付加反応させた後で（メタ）アクリレート化
したもの、更に、特公昭４８−４１７０８号、同５０−
６０３４号、特開昭５１−３７１９３号の各公報に開示
されているウレタンアクリレート類、特開昭４８−６４
１８３号、特公昭４９−４３１９１号、同５２−３０４
９０号の各公報に開示されているポリエステルアクリレ
ート類、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応生成
物であるエポキシアクリレート類等の多官能アクリレー
トやメタクリレートを挙げることができる。

【００７８】これらの中で好ましいのは、トリメチロー
ルプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリ
トールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリ
トールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリ
トールペンタ（メタ）アクリレートである。

【００７９】エポキシ化合物としては、ブチルグリシジ
ルエーテル、オクチルグリシジルエーテル、デシルグリ
シジルエーテル、アリールグリシジルエーテル、フェニ
ルグリシジルエーテル等の炭素数２〜２０のアルコール
のグリシジルエーテル類、ポリエチレングリコールジグ
リシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシ
ジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテ
ル、プロピレングリコールジグリシジルエーテルネオペ
ンチルグリコールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキ
サンジオールジグリシジルエーテルジブロモネオペンチ
ルグリコールジグリシジルエーテル、グリセロールトリ
グリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリ
シジルエーテルジグリセロールテトラグリシジルエーテ
ル、ポリグリセロールポリグリシジルエーテル等のポリ
オールのポリグリシジルエーテル類、２，６−ジグリシ
ジルフェニルグリシジルエーテル、２，６，２'，６'−
テトラメチル−４，４'−ビフェニルグリシジルエーテ
ル、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、水素添加型ビス
フェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポ
キシ樹脂、水素添加型ビスフェノールＦ型エポキシ樹
脂、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂、水素添加型ビス
フェノールＳ型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型
エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、
ハロゲン化フェノールノボラック型エポキシ樹脂および
臭素化エポキシ樹脂等のグリシジルエーテル型エポキシ
化合物、アリサイクリックジエポキシアセタール、アリ
サイクリックジエポキシアジペートおよびビニルシクロ
ヘキセンジオキサイド等の環式脂肪族エポキシ化合物、
グリシジル（メタ）アクリレート、テトラヒドロキシフ
タル酸ジグリシジルエステル、ソルビン酸グリシジルエ
ステル、オレイン酸グリシジルエステル、リノレイン酸
グリシジルエステル等の不飽和酸グリシジルエステル
類、ブチルグリシジルエステル、オクチルグリシジルエ
ステルヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエステル等の
アルキルカルボン酸グリシジルエステル類および安息香
酸グリシジルエステル、ｏ−フタル酸ジグリシジルエス
テル、ジグリシジルｐ−オキシ安息香酸およびダイマー
酸グリシジルエステル等の芳香族カルボン酸グリシジル
エステル類等のグリシジルエステル型エポキシ化合物、
テトラグリシジルジアミノジフェニルメタン、トリグリ
シジル−ｐ−アミノフェノール、トリグリシジル−ｍ−
アミノフェノール、ジグリシジルアニリン、ジグリシジ
ルトルイジン、テトラグリシジル−ｍ−キシリレンジア
ミン、ジグリシジルトリブロムアニリンおよびテトラグ
リシジルビスアミノメチルシクロヘキサン等のグリシジ
ルアミン型エポキシ化合物、ジグリシジルヒダントイ
ン、グリシジルグリシドオキシアルキルヒダントインお
よびトリグリシジジルイソシアヌレート等の複素環式エ
ポキシ化合物等が挙げられる。特に好ましくは、フェノ
ールノボラック型エポキシ樹脂とクレゾールノボラック
型エポキシ樹脂が挙げられる。特に好ましいエポキシ化
合物としてはビスフェノールＡ型エポキシ樹脂やビスフ
ェノールＦ型エポキシ樹脂であり、市販品としては東都
化成製エポトートＹＤ１２８、ＹＤ８１２５、大日本イ
ンキ化学製エピクロン８４０Ｓ、８５０Ｓ、１０５０、
８３０が含まれる。

【００８０】上記エポキシ化合物のエポキシ基を熱反応
させるために熱硬化触媒であるエポキシ熱硬化促進剤を
用いることができる。このエポキシ熱硬化促進剤として
は、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、
テトラエチレンペンタミン、イミノビスプロピルアミン
（ジプロピルトリアミン）、ビス（ヘキサメチレン）ト
リアミンおよび１，３，６−トリスアミノメチルヘキサ
ン等のポリアミン類、トリメチルヘキサメチレンジアミ
ン、ポリエーテルジアミンおよびジエチルアミノプロピ
ルアミン等のポリメチレンジアミン類、メンセンジアミ
ン、イソフォロンジアミン、ビス（４−アミノ−３−メ
チルシクロヘキシル）メタンおよびＮ−アミノエチルピ
ペラジン等の脂環族ポリアミン類等の脂肪族第一アミ
ン、メタフェニレンジアミン、ジアミノフェニルメタ
ン、ジアミノフェニルスルフォンおよび芳香族ジアミン
共融混合物等の芳香族第一アミン類、ポリアミンエポキ
シ樹脂アダクト、ポリアミン−エチレンオキシドアダク
ト、ポリアミン−プロピレンオキシドアダクト、シアノ
エチル化ポリアミンおよびケトイミン等の変性アミン、
ピペリジン、ピペラジン、モルフォリン等の第二アミン
およびテトラメチルグアニジン、トリエタノールアミ
ン、ベンジルジメチルアミン、２，４，６−トリス（ジ
メチルアミノメチル）フェノール等の第三アミン等のア
ミン化合物類、フタル酸無水物、トリメリット酸無水
物、エチレングリコールビス（アンヒドロトリメリテー
ト）、グリセリントリス（アンヒドロトリメリテー
ト）、ピロメリット酸無水物および３，３'，４，４'−
ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物等の芳香族酸無
水物、マレイン酸無水物、コハク酸無水物、テトラヒド
ロフタル酸無水物、メチルテトラヒドロフタル酸無水
物、エンドメチレンテトラヒドロフタル酸無水物、メチ
ルエンドメチレンテトラヒドロフタル酸無水物、アルケ
ニルコハク酸無水物、ヘキサヒドロフタル酸無水物、メ
チルヘキサヒドロフタル酸無水物およびメチルシクロヘ
キセンテトラカルボン酸無水物等の環状脂肪族酸無水
物、ポリアジピン酸無水物、ポリアゼライン酸無水物お
よびポリセバシン酸無水物等の脂肪族酸無水物、クロレ
ンド酸無水物およびテトラブロモ無水フタル酸等のハロ
ゲン化酸無水物等の酸無水物類、２−メチルイミダゾー
ル、２−エチル−４−メチルイミダゾール、２−ウンデ
シルイミダゾール、２−ヘプタデシルイミダゾール、２
−フェニルイミダゾール、１−ベンジル−２−メチルイ
ミダゾール、１−シアノエチル−２−メチルイミダゾー
ル、１−シアノエチル−２−エチル−４−メチルイミダ
ゾール、１−シアノエチル−２−ウンデシルイミダゾー
ル、１−シアノエチル−２−ウンデシルイミダゾリウム
・トリメリテート、１−シアノエチル−２−フェニルイ
ミダゾリウム・トリメリテート、２−メチルイミダゾリ
ウム・イソシアヌレート、２−フェニルイミダゾリウム
・イソシアヌレート、２，４−ジアミノ−６−〔２−メ
チルイミダゾリル−（１）〕−エチル−ｓ−トリアジ
ン、２，４−ジアミノ−６−〔２−エチル−４−メチル
イミダゾリル−（１）〕−エチル−ｓ−トリアジン、
２，４−ジアミノ−６−〔２−ウンデシルイミダゾリル
−（１）〕−エチル−ｓ−トリアジン、２−フェニル−
４−メチル−５−ヒドロキシメチルイミダゾール、２−
フェニル−４，５−ジヒドロキシメチルイミダゾール、
１−シアノエチル−２−フェニル−４，５−ジ（シアノ
エトキシメチル）イミダゾール、１−ドデシル−２−メ
チル−３−ベンジルイミダゾリウム・クロライドおよび
１，３−ジベンジル−２−メチルイミダゾリウム・クロ
ライド等のイミダゾール化合物類、ジシアンジアミド、
ｏ−トリルビグアニド、フェニルビグアニド、およびα
−２，５−ジメチルビグアニド等のジシアンジアミド誘
導体、カルボン酸類、フェノール類、第四級アンモニウ
ム塩類、メラミン誘導体、有機酸ヒドラジド類、または
メチロール基含有化合物類等の公知のエポキシ硬化促進
剤が挙げられる。特に好ましくは、ジシアンジアミド、
１−ベンジル−２−メチルイミダゾールが挙げられる。
これらのエポキシ熱硬化促進剤は単独または２種以上混
合して用いてもよい。

【００８１】光及び／又は熱反応性の組成物には、更
に、所望により架橋剤やその触媒などを添加することも
できる。架橋剤としては、例えば、低分子化合物として
は、ポリカルボン酸もしくはそれらの酸無水物（例えば
イタコン酸、メチルマレイン酸無水物、ドデカンジオン
酸、２−ドデセンジオン酸、ドデセニルコハク酸無水
物、フタル酸無水物、テトラヒドロフタル酸無水物、ト
リメリット酸無水物、１，２−、１，３−及び１，４−
シクロヘキサンジカルボン酸、ヘキサヒドロフタル酸無
水物又はそれらの混合物）、ポリカルボン酸セミエステ
ル（ポリオール、例えば１，６−ヘキサンジオール、ト
リメチロールプロパンと酸無水物、例えばヘキサヒドロ
フタル酸無水物、メチルヘキサヒドロフタル酸無水物の
反応物）、芳香族ポリアミン、脂肪族ポリアミン、トリ
アジン化合物、ポリメルカプタン、ビスフェノールＡ、
テトラブロモビスフェノールＡ、トリメチロールアリル
オキシフェノール、ポリイソシアネート化合物等が挙げ
られ、高分子化合物としては、フェノールノボラック樹
脂、ブチル化フェノール樹脂等のフェノール類、カルボ
キシル基含有不飽和もしくは飽和ポリエステル、エーテ
ル化されていてもよい尿素−及び／又はトリアジン−ホ
ルムアルデヒド樹脂等が挙げられる。

【００８２】熱硬化触媒としては、例えば、テトラエチ
ルアンモニウムブロマイド、テトラブチルホスホニウム
ブロマイド、トリフェニルベンジルホスホニウムクロラ
イド、トリエチルアミン、トリブチルアミン、硝酸ビス
マス、２-エチルヘキサン酸鉛、ナトリウムトリクロロ
フェノレート、酢酸リチウム、塩化トリブチルスズ、ト
リブチルスズシアネート、四塩化チタン、二塩化ジブチ
ルチタン、三塩化鉄、フェロセン、トルフェニルアンチ
モン、酢酸銅、ピリジンボラン、酢酸カルシウム、酢酸
バリウムなどを挙げることができる。

【００８３】光及び／又は熱反応性の単体または組成物
に用いられる反応性ポリマーとしては、不飽和結合を有
する基、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基、メル
カプト基、水酸基、イソシナネート基などを有するポリ
マーが挙げられる。例えば、第１に、一般式（ａ）で表
されるモノマー、一般式（ｂ）で表されるモノマー及び
一般式（ｃ）で表されるモノマーからなる共重合体が挙
げられる。

【００８４】

【化６】

【００８５】上記モノマーにおいて、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃及
びＲ₅は、それぞれ水素原子または炭素数１〜３のアル
キル基を示し、水素原子または炭素数１〜２のアルキル
基が好ましい。Ｒ₄は炭素数１〜５のアルキル基を示
し、炭素数１〜３のアルキル基が好ましい。Ｒ₆は水素
原子、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアル
コキシル基またはハロゲン原子を示し、水素原子、炭素
数１〜２のアルキル基、炭素数１〜２のアルコキシル基
または塩素原子、臭素原子が好ましい。ｎは１〜１０の
整数を示し、１〜８が好ましい。

【００８６】上記モノマー（ａ）、モノマー（ｂ）及び
モノマー（ｃ）の共重合体は、そのモノマー配列は特に
制限はなくランダムでも規則的、例えば、ブロックでも
グラフトでもよい。

【００８７】また、反応性ポリマーとしては、第２に
（Ａ）アクリル酸及びメタクリル酸からなる群から選ば
れた少なくとも１種の化合物から導かれた繰り返し単
位、（Ｂ）ベンジルアクリレート及びベンジルメタクリ
レートからなる群より選ばれた少なくとも１種の化合物
から導かれた繰り返し単位、及び場合により（Ｃ）炭素
数１〜１２のアルキル基を含有するアルキルメタクリレ
ートからなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物か
ら導かれた繰り返し単位、を含有する共重合体で、且
つ、質量平均分子量が好ましくは５，０００〜５０，０
００、更に好ましくは１０，０００〜４２，０００であ
るものが挙げられる。

【００８８】上記（Ｃ）成分の具体例としては、メチル
（メタ）アクリレート（メチルアクリレート及びメチル
メタクリレートを意味する。以下同様である）、エチル
（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレー
ト、１ープロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メ
タ）アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレー
ト、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メ
タ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、２
−メチルブチル（メタ）アクリレート、３−メチルブチ
ル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレー
ト、２−エチルブチル（メタ）アクリレート、シクロヘ
キシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリ
レート、オクチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘ
キシル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレ
ート、デシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）
アクリレート、上記モノマー（ａ）、モノマー（ｂ）及
びモノマー（ｃ）等を挙げることができる。これらの中
ではメチルメタクリレート等が好ましい。

【００８９】第２の反応性ポリマーの内、好ましい具体
的な例として、ベンジルメタクリレート／メタクリル酸
共重合体（繰り返し単位のモル比＝７３：２７、質量平
均分子量＝４０，０００）、ベンジルメタクリレート／
ベンジルアクリレート／メタクリル酸三元共重合体（繰
り返し単位のモル比＝６０：１３：２７、質量平均分子
量＝３２，０００）、ベンジルメタクリレート／アクリ
ル酸／メタクリル酸三元共重合体（繰り返し単位のモル
比＝７３：８：１９、質量平均分子量＝３５，００
０）、ベンジルメタクリレート／メチルメタアクリレー
ト／メタクリル酸三元共重合体（繰り返し単位のモル比
＝６０：１３：２７、質量平均分子量＝４６，０００）
を挙げる事ができる。

【００９０】本発明に用いられる光重合開始剤として
は、例えばベンジル、ジアセチル等のα−ジケトン類、
ベンゾイン等のアシロイン類、ベンゾインメチルエーテ
ル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピ
ルエーテル等のアシロインエーテル類、チオキサント
ン、２，４−ジエチルチオキサントン、チオキサントン
−１−スルホン酸、チオキサントン−４−スルホン酸等
のチオキサントン類、ベンゾフェノン、４，４'−ビス
（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４'−ビス
（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等のベンゾフェノン
類、アセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノ
ン、α，α'−ジメトキシアセトキシアセトフェノン、
２，２'−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、
ｐ−メトキシアセトフェノン、２−メチル−［４−（メ
チルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プロパ
ノン等のアセトフェノン類およびアントラキノン、１，
４−ナフトキノン等のキノン類、フェナンシルクロライ
ド、トリブロモメチルフェニルスルホン、トリス（トリ
クロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（トリ
クロロメチル）−６−（４−メトキシフェニル）トリア
ジン、特開昭６３−１５３５４２号に記載の化合物等の
ハロゲン化合物、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド等の過
酸化物等が挙げられる。特に好ましくは２，２'−ジメ
トキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−メチル−
［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−
１−プロパノン（チバ・ガイギー社製商品名：イルガキ
ュアー９０７）が挙げられる。特に好ましい例として、
２−トリクロロメチル−４'−ブトキシスチリル−１，
３，４−オキサジアゾール、２，４−ビス（トリクロロ
メチル），６−（４'−メトキシフェニル）−ｓ−トリ
アジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−
｛４'−（Ｎ，Ｎ−ジエトキシカルボニルメチルアミ
ノ）−３'−ブロモ｝フェニル−ｓ−トリアジンを挙げ
ることができる。

【００９１】これらの光重合開始剤は単独または２種以
上混合して用いてもよい。この様に２種以上混合した例
としては、２，４，５−トリアリールイミダゾール二量
体と２−メルカプトベンズオキサゾール又はロイコクリ
スタルバイオレット等との組み合わせ、米国特許第３４
２７１６１号に記載の４，４'−ビス（ジメチルアミ
ノ）ベンゾフェノンとベンゾフェノン又はベンゾインメ
チルエーテルとの組み合わせ、米国特許第４２３９８５
０号に記載のベンゾイル−Ｎ−メチルナフトチアゾリン
と２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メト
キシフェニル）トリアジンとの組み合わせ、特開昭５７
−２３６０２号に記載のジメチルチオキサントンと４−
ジアルキルアミノ安息香酸エステルとの組み合わせ、特
開昭５９−７８３３９号に記載の４，４'−ビス（ジア
ルキルアミノ）ベンゾフェノンとケトン類とトリハロゲ
ン化メチル含有化合物との組み合わせ等が挙げられる。

【００９２】光重合開始剤は、４００ｎｍ以上の波長の
光に対して実質的に感度を有さないことが好ましい。実
質的に感度を有さないとは、その光重合開始剤の分光感
度スペクトルと熱転写シートの分光特性により決定さ
れ、光重合開始剤の分光感度スペクトルの４００ｎｍ以
上の面積（Ａ）と該熱転写シートの透過率が１０％以上
となる最低波長から４００ｎｍ以下の面積（Ｂ）の比
（Ａ／Ｂ）で定義され、Ａ／Ｂの値が０．１以下である
ことを意味する。

【００９３】光及び／又は熱反応性の組成物は、必要に
応じて、顔料等の着色剤、熱重合防止剤、密着促進剤、
分散剤、可塑剤、垂れ防止剤、レベリング剤、消泡剤、
難燃化剤、光沢剤等の補助的添加剤を配合しても良い。
熱重合防止剤としては、例えば、ハイドロキノン、ｐ−
メトキシフェノール、ｐ−ｔ−ブチルカテコール、２，
６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、β−ナフトー
ル、ピロガロール等の芳香族ヒドロキシ化合物、ベンゾ
キノン、ｐ−トルキノン等のキノン類、ナフチルアミ
ン、ピリジン、ｐ−トルイジン、フェノチアジン等のア
ミン類、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンのア
ルミニウム塩またはアンモニウム塩、クロラニール、ニ
トロベンゼン等が挙げられる。密着促進剤としては、例
えばアルキルフェノール／ホルムアルデヒドノボラック
樹脂、ポロビニルエチルエーテル、ポリビニルイソブチ
ルエーテル、ポリビニルブチラール、ポリイソブチレ
ン、スチレン−ブタジエン共重合体ゴム、ブチルゴム、
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ゴム、アクリル
樹脂系粘着剤、芳香族系、脂肪族系または脂環族系の石
油樹脂、シランカップリング剤等が挙げられる。

【００９４】本発明に用いるの熱転写シートは、その画
像（Ｒ，Ｇ，Ｂ，Ｋ）と回路基板との密着性、耐熱性、
耐薬品性などを満足するよう光及び／又は熱反応性の単
体または組成物における成分の配合割合が調整されるべ
きである。該組成物における成分の配合割合の目安とし
ては、以下が例示される。光重合開始剤が、反応性モノ
マーに対して０．１〜３０質量部が好ましく、特に０．
１５〜１５質量部使用することが好ましい。０．１質量
部未満では感度が低下し、３０質量部を越えると結晶の
析出、膜質の劣化等が起こる場合がある。架橋剤は、一
般に当該組成物１００質量部に対して０．２〜１０質量
部の範囲である。熱硬化触媒の使用量は、通常、当該組
成物１００質量部に対して０．０２〜５質量部の範囲で
ある。エポキシ化合物は当該組成物１００質量部に対し
て通常、１〜４０質量部、好ましくは５〜３０質量部使
用することができる。反応性ポリマーは、当該組成物１
００質量部に対して通常、１０〜９５質量部、好ましく
は２０〜９０質量部用いることができる。上記配合割合
は、後述の（１）〜（５）の態様に応じて適宜最適に選
定されるべきである。

【００９５】光及び／又は熱反応性の単体または組成物
は、（１）光及び／又は熱反応性ではないバインダーと
混合して画像形成層としてもよいし、（２）単独で光熱
変換層上に画像形成層として設けてもよいし、（３）光
熱変換層と光及び／又は熱反応性ではない画像形成層の
間に層状に設け、レーザー熱転写により画像形成層と共
に回路基板上に転写するように構成してもよいし、
（４）光及び／又は熱反応性ではない画像形成層の上に
設けてもよいし、（５）画像（Ｒ，Ｇ，Ｂ，Ｋ）上に設
けてもよい。上記（１）〜（５）の画像形成層などの層
を形成するためには、各々の組成物を塗布液として用い
る。塗布液に使用する有機溶剤としては、メチルエチル
ケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、トルエン、キ
シレン等の芳香族炭化水素類、メトキシエタノール、エ
トキシエタノール、ブトキシエタノール等のアルコキシ
エタノール類、カルビトール、ブチルカビトール等のカ
ルビトール類、酢酸エチル、酢酸ブチル、エトキシエタ
ノール酢酸エステル、ブトキシエタノール酢酸エステ
ル、カルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセ
テート等の酢酸エステル類、乳酸メチル、乳酸エチルな
どがある。これらの有機溶剤は単独または２種以上混合
して用いてもよい。

【００９６】光及び／又は熱反応性の塗布層は、通常、
６０〜１５０℃、０．５〜１０分間の条件にて乾燥され
る。熱転写シートから回路基板に転写された画像（Ｒ，
Ｇ，Ｂ，Ｋ）は、光照射処理及び／又は加熱処理が施さ
れる。この光照射処理としては、通常、０．１〜５００
ｍＪ／ｃｍ²の紫外線照射が挙げられ、光源としては超
高圧水銀灯等が好ましい。また、加熱処理は１５０〜２
５０℃、１０〜１２０分間が好ましい。なお、上記光照
射処理と加熱処理は、少なくともいずれか一方が行われ
るが、両者を行うことが好ましく、同時に行ってもよ
く、加熱処理を光照射処理の先に行っても後に行っても
よい。

【００９７】画像形成層は、着色顔料を３０〜７０質量
％含有しているのが好ましく、３０〜５０質量％含有し
ているのがより好ましい。また、画像形成層は、樹脂を
７０〜３０質量％含有しているのが好ましく、７０〜４
０質量％含有しているのがより好ましい。

【００９８】前記画像形成層は、以下の〜の成分を
前記その他の成分として含有することができる。 ワックス類 ワックス類としては、鉱物系のワックス類、天然ワック
ス類、合成ワックス類等が挙げられる。前記鉱物系のワ
ックスの例としては、パラフィンワックス、マイクロク
リスタリンワックス、エステルワックス、酸化ワックス
等の石油ロウ、モンタンロウ、オゾケライト、セレシン
等が挙げられる。なかでも、パラフィンワックスが好ま
しい。該パラフィンワックスは、石油から分離されるも
のであり、その融点によって各種のものが市販されてい
る。前記天然ワックスの例としては、カルナバロウ、木
ロウ、オウリキュリーロウ、エスパルロウ等の植物ロ
ウ、密ロウ、昆虫ロウ、セラックロウ、鯨ロウ等の動物
ロウが挙げられる。

【００９９】前記合成ワックスは、一般に滑剤として用
いられ、通常は高級脂肪酸系の化合物からなる。このよ
うな合成ワックスの例としては、下記のものが挙げられ
る。 １）脂肪酸系ワックス 下記一般式で表される直鎖の飽和脂肪酸：ＣＨ₃（Ｃ
Ｈ₂）_nＣＯＯＨ前記式中、ｎは６〜２８の整数を示す。
具体例としては、ステアリン酸、ベヘン酸、パルミチン
酸、１２−ヒドロキシステアリン酸、アゼライン酸等が
挙げられる。また、上記脂肪酸等の金属塩（例えば、
Ｋ、Ｃａ、Ｚｎ、Ｍｇなど）が挙げられる。 ２）脂肪酸エステル系ワックス 前記脂肪酸のエステルの具体例としては、ステアリン酸
エチル、ステアリン酸ラウリル、ベヘン酸エチル、ベヘ
ン酸ヘキシル、ミリスチン酸ベヘニル等が挙げられる。 ３）脂肪酸アミド系ワックス 前記脂肪酸のアミドの具体例としては、ステアリン酸ア
ミド、ラウリン酸アミド等が挙げられる。 ４）脂肪族アルコール系ワックス 下記一般式で表される直鎖飽和脂肪族アルコール：ＣＨ
₃（ＣＨ₂）_nＯＨ前記式中、ｎは６〜２８の整数を表
す。具体例としては、ステアリルアルコール等が挙げら
れる。

【０１００】前記１）〜４）の合成ワックスのなかで
も、特にステアリン酸アミド、ラウリン酸アミド等の高
級脂肪酸アミドが好適である。尚、前記ワックス系化合
物は、所望により単独もしくは適宜組み合わせて使用す
ることができる。

【０１０１】可塑剤 前記可塑剤としては、エステル化合物が好ましく、フタ
ル酸ジブチル、フタル酸ジ−ｎ−オクチル、フタル酸ジ
（２−エチルヘキシル）、フタル酸ジノニル、フタル酸
ジラウリル、フタル酸ブチルラウリル、フタル酸ブチル
ベンジル等のフタル酸エステル類、アジピン酸ジ（２−
エチルヘキシル）、セバシン酸ジ（２−エチルヘキシ
ル）等の脂肪族二塩基酸エステル、リン酸トリクレジ
ル、リン酸トリ（２−エチルヘキシル）等のリン酸トリ
エステル類、ポリエチレングリコールエステル等のポリ
オールポリエステル類、エポキシ脂肪酸エステル等のエ
ポキシ化合物等、公知の可塑剤が挙げられる。これらの
中でもビニルモノマーのエステル、特に、アクリル酸又
はメタクリル酸のエステルが、添加による転写感度の向
上や転写ムラの改良効果、及び破断伸びの調節効果が大
きい点で好ましい。

【０１０２】前記アクリル酸又はメタクリル酸のエステ
ル化合物としては、ポリエチレングリコールジメタクリ
レート、１，２，４−ブタントリオールトリメタクリレ
ート、トリメチロールエタントリアクリレート、ペンタ
エリスリトールアクリレート、ペンタエリスリトールテ
トラアクリレート、ジペンタエリスリトール−ポリアク
リレート等が挙げられる。

【０１０３】また、前記可塑剤は高分子であってもよ
く、なかでもポリエステルは、添加効果が大きい点、及
び保存条件下で拡散し難い点等で好ましい。該ポリエス
テルとしては、例えば、セバシン酸系ポリエステル、ア
ジピン酸系ポリエステル等が挙げられる。尚、画像形成
層中に含有させる前記添加剤は、これらに限定されるも
のではない。また、可塑剤は、１種単独で用いてもよ
く、２種以上を併用してもよい。

【０１０４】画像形成層中の前記添加剤の含有量が多す
ぎると、転写画像の解像度が低下したり、画像形成層自
身の膜強度が低下したり、光熱変換層と画像形成層との
密着力の低下による未露光部の回路基板への転写が起き
る場合がある。上記観点から、前記ワックス類の含有量
としては、画像形成層中の全固形分の０．１〜３０質量
％が好ましく、１〜２０質量％がより好ましい。また、
前記可塑剤の含有量としては、画像形成層中の全固形分
の０．１〜２０質量％が好ましく、０．１〜１０質量％
がより好ましい。

【０１０５】その他 画像形成層は、更に、上記の成分の他に、界面活性剤、
無機あるいは有機微粒子（金属粉、シリカゲル等）、オ
イル類（アマニ油、鉱油等）、増粘剤、帯電防止剤等を
含有してもよい。黒色の画像を得る場合を除き、画像記
録に用いる光源の波長を吸収する物質を含有すること
で、転写に必要なエネルギーを少なくできる。光源の波
長を吸収する物質としては、顔料、染料のいずれでも構
わないが、カラー画像を得る場合には、画像記録に半導
体レーザー等の赤外線の光源を使用して、可視部に吸収
の少ない、光源の波長の吸収の大きな染料を使用するこ
とが、色再現上好ましい。近赤外線染料の例としては、
特開平３−１０３４７６号公報に記載の化合物を挙げる
ことができる。

【０１０６】画像形成層は、顔料と前記バインダー等と
を溶解又は分散した塗布液を調製し、これを光熱変換層
上（光熱変換層上に下記感熱剥離層が設けられている場
合は、該層上）に塗布し、乾燥することにより設けるこ
とができる。塗布液の調製に使用される溶媒としては、
ｎ−プロピルアルコール、メチルエチルケトン、プロピ
レングリコールモノメチルエーテル（ＭＦＧ）、メタノ
ール、水等が挙げられる。塗布、乾燥は、通常の塗布、
乾燥方法を利用して行うことができる。 （クッション層）支持体と光熱変換層との間に、クッシ
ョン機能を有するクッション層を設けることが好まし
い。クッション層を設けると、レーザー熱転写時に画像
形成層と、受像層の密着性を向上させ、画質を向上させ
ることができる。また、記録時、熱転写シートと回路基
板の間に異物が混入しても、クッション層の変形作用に
より、受像層と画像形成層の空隙が小さくなり、結果と
して白ヌケ等の画像欠陥サイズを小さくすることもでき
る。

【０１０７】クッション層は、界面に応力が加えられた
際に変形し易い構成であり、前記効果を達成するには、
低弾性率を有する材料、ゴム弾性を有する材料あるいは
加熱により容易に軟化する熱可塑性樹脂からなるのが好
ましい。クッション層の弾性率としては、室温で好まし
くは０．５ＭＰａ〜１．０ＧＰａ、特に好ましくは１Ｍ
Ｐａ〜０．５ＧＰａ、より好ましくは１０〜１００ＭＰ
ａである。また、ゴミ等の異物をめり込ませるために
は、ＪＩＳ Ｋ２５３０で定められた針入度（２５℃、
１００ｇ、５秒）が１０以上であることが好ましい。ま
た、クッション層のガラス転移温度は８０℃以下、好ま
しくは２５℃以下、軟化点は５０〜２００℃が好まし
い。これらの物性、例えば、Ｔｇを調節するために可塑
剤をバインダー中に添加することも好適に行うことがで
きる。

【０１０８】クッション層のバインダーとして用いられ
る具体的な材料としては、ウレタンゴム、ブタジエンゴ
ム、ニトリルゴム、アクリルゴム、天然ゴム等のゴム類
の他に、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステ
ル、スチレン−ブタジエン共重合体、エチレン−酢酸ビ
ニル共重合体、エチレン−アクリル共重合体、塩化ビニ
ル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニリデン樹脂、可塑剤
入り塩化ビニル樹脂、ポリアミド樹脂、フェノール樹脂
等が挙げられる。尚、クッション層の厚みは使用する樹
脂その他の条件により異なるが、通常３〜１００μｍ、
好ましくは１０〜５２μｍである。

【０１０９】前記熱転写シートの光熱変換層の上には、
光熱変換層で発生した熱の作用により気体を発生する
か、付着水等を放出し、これにより光熱変換層と画像形
成層との間の接合強度を弱める感熱材料を含む感熱剥離
層を設けることができる。そのような感熱材料として
は、それ自身が熱により分解若しくは変質して気体を発
生する化合物（ポリマー又は低分子化合物）、水分等の
易気化性気体を相当量吸収若しくは吸着している化合物
（ポリマー又は低分子化合物）等を用いることができ
る。これらは併用してもよい。

【０１１０】熱により分解若しくは変質して気体を発生
するポリマーの例としては、ニトロセルロースのような
自己酸化性ポリマー、塩素化ポリオレフィン、塩素化ゴ
ム、ポリ塩化ゴム、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデ
ンのようなハロゲン含有ポリマー、水分等の揮発性化合
物が吸着されているポリイソブチルメタクリレート等の
アクリル系ポリマー、水分等の揮発性化合物が吸着され
ているエチルセルロース等のセルロースエステル、水分
等の揮発性化合物が吸着されているゼラチン等の天然高
分子化合物等を挙げることができる。熱により分解若し
くは変質して気体を発生する低分子化合物の例として
は、ジアゾ化合物やアジド化のような発熱分解して気体
を発生する化合物を挙げることができる。尚、上記のよ
うな、熱による感熱材料の分解や変質等は２８０℃以下
で発生することが好ましく、特に２３０℃以下で発生す
ることが好ましい。

【０１１１】感熱剥離層の感熱材料として低分子化合物
を用いる場合には、バインダーと組み合わせることが望
ましい。バインダーとしては、上記のそれ自身が熱によ
り分解若しくは変質して気体を発生するポリマーを用い
ることもできるが、そのような性質を持たない通常のバ
インダーを使用することもできる。感熱性の低分子化合
物とバインダーとを併用する場合には、前者と後者の質
量比は０．０２：１〜３：１であることが好ましく、
０．０５：１〜２：１であることが更に好ましい。感熱
剥離層は、光熱変換層を、そのほぼ全面にわたって被覆
していることが望ましく、その厚さは一般に０．０３〜
１μｍであり、０．０５〜０．５μｍの範囲にあること
が好ましい。

【０１１２】支持体の上に、光熱変換層、感熱剥離層、
画像形成層がこの順に積層された構成の熱転写シートの
場合には、感熱剥離層は、光熱変換層から伝えられる熱
により分解、変質し、気体を発生する。そして、この分
解あるいは気体発生により、感熱剥離層が一部消失する
か、あるいは感熱剥離層内で凝集破壊が発生し、光熱変
換層と画像形成層との間の結合力が低下する。このた
め、感熱剥離層の挙動によっては、その一部が画像形成
層に付着して、最終的に形成される画像の表面に現わ
れ、画像の混色の原因となることがある。従って、その
ような感熱剥離層の転写が発生しても、形成された画像
に目視的な混色が現われないように、感熱剥離層はほと
んど着色していないこと、即ち、可視光に対して高い透
過性を示すことが望ましい。具体的には、感熱剥離層の
光吸収率が、可視光に対し、５０％以下、好ましくは１
０％以下である。尚、前記熱転写シートには、独立した
感熱剥離層を設ける代わりに、前記の感熱材料を光熱変
換層塗布液に添加して光熱変換層を形成し、光熱変換層
と感熱剥離層とを兼ねるような構成とすることもでき
る。熱転写シートの画像形成層が塗設されている側の最
表層の静摩擦係数を０．３５以下、好ましくは０．２０
以下にすることは好ましい。最表層の静摩擦係数を０．
３５以下とすることで熱転写シートを搬送する際のロー
ル汚れをなくし、形成される画像を高画質化し得る。静
摩擦係数の測定法は特願２０００−８５７５９の段落
（0011）に記載の方法に従う。画像形成層表面のスムー
スター値が23℃、55%RHで0.5〜50ｍｍHg（≒0.0665〜6.
65ｋＰａ）が好ましく、かつＲａが０．０５〜０．４μ
ｍであることが好ましく、このことにより接触面に受像
層と画像形成層とが接触し得ない多数のミクロな空隙を
少なく出来、転写、更には画質の点で好ましい。前記Ｒ
ａ値は、表面粗さ測定機（Ｓｕｒｆｃｏｍ，東京精機
（株）製）等を用いてＪＩＳ Ｂ０６０１に基づき測定
することができる。画像形成層の表面硬さがサファイヤ
針で１０ｇ以上であることが好ましい。米国連邦政府試
験基準４０４６により熱転写シートに帯電させた後、熱
転写シートを接地後１秒後の画像形成層の帯電電位が-1
00〜100Vであることが好ましい。画像形成層の表面抵抗
が23℃、55%RHで１０⁹Ω以下であることが好ましい。

【０１１３】次に前記熱転写シートと組み合わされて使
用される回路基板について説明する。 ［回路基板］ （表面層構成）回路基板は、熱転写シートからの画像を
担持するが、好ましくは回路基板表面に１以上の受像層
を有していることが好ましい。回路基板と受像層との間
に接着層等を設けた構成ガ好ましい。また、回路基板の
受像層とは反対側の面に、バック層を有すると、搬送性
の点で好ましい。回路を担持する基板はガラスが一般的
であるが、耐熱性の可撓性樹脂、例えば、ポリエーテル
スルホン等でもよい。回路基板上には、受像層が設けら
れていることが好ましく、回路基板と受像層との間に接
着層を設けた構成も好ましい。接着層はシランカップリ
ング剤による処理層が挙げられる。接着層の厚さは、５
０Å〜５μｍが好ましく、より好ましくは５０〜１００
０Åである。シランカップリング剤としては、例えばビ
ニルトリクロルシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビ
ニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、γ−グリ
シドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロ
キシプロピルトリメトキシシラン等が知られており「シ
ランカップリング剤」として信越化学（株）等から市販
されている。シランカップリング剤を支持体に設ける方
法としては、原液のまま、または塗布液としてスピンナ
ー、ロールコーター、バーコーター、カーテンコーター
などの方法で支持体上に塗布、次いで乾燥する方法が用
いられる。

【０１１４】（受像層）受像層は有機重合体バインダー
を主体として形成される層であるのが好ましい。前記バ
インダーは、熱可塑性樹脂であることが好ましく、その
例としては、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸エ
ステル、メタクリル酸エステル等のアクリル系モノマー
の単独重合体及びその共重合体、メチルセルロース、エ
チルセルロース、セルロースアセテートのようなセルロ
ース系ポリマー、ポリスチレン、ポリビニルピロリド
ン、ポリビニルブチラール、ポリビニルアルコール、ポ
リ塩化ビニル等のようなビニル系モノマーの単独重合体
及びその共重合体、ポリエステル、ポリアミド等のよう
な縮合系ポリマー、ブタジエン−スチレン共重合体のよ
うなゴム系ポリマーを挙げることができる。受像層のバ
インダーは、画像形成層との間の適度な接着力を得るた
めに、ガラス転移温度（Ｔｇ）が９０℃より低いポリマ
ーであることが好ましい。このために、受像層に可塑剤
を添加することも可能である。また、バインダーポリマ
ーは、シート間のブロッキングを防ぐために、そのＴｇ
が３０℃以上であることが好ましい。受像層のバインダ
ーポリマーとしては、レーザー記録時の画像形成層との
密着性を向上させ、感度や画像強度を向上させる点で、
画像形成層のバインダーポリマーと同一、若しくは類似
のポリマーを用いることが特に好ましい。受像層の少な
くとも一層を光硬化性材料から形成することも好まし
い。このような光硬化性材料としては、画像形成層の光
及び／又は熱反応性の単体または組成物と同様のものが
挙げられる。例えば、ａ）付加重合によって光重合体を
形成しうる多官能ビニル又はビニリデン化合物の少なく
とも一種からなる光重合性モノマー、ｂ）有機ポリマ
ー、ｃ）光重合開始剤、及び必要に応じて熱重合禁止剤
等の添加剤からなる組み合わせを挙げることができる。
上記の多官能ビニルモノマーとしては、ポリオールの不
飽和エステル、特にアクリル酸もしくはメタクリル酸の
エステル（例えば、エチレングリコールジアクリレー
ト、ペンタエリスリトールテトラアクリレート）が用い
られる。

【０１１５】前記有機ポリマーとしては前記受像層形成
用ポリマーが挙げられる。また、光重合開始剤として
は、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトン等の通常の光ラ
ジカル重合開始剤が、層中の０．１〜２０質量％の割合
で用いられる。

【０１１６】受像層上に一旦、画像（Ｒ，Ｇ，Ｂ，Ｋ）
を形成した後、ガラス等他の支持体へ再転写することも
できる。

【０１１７】受像層の厚みは０．０１〜１０μｍが好ま
しく、より好ましくは０．０１〜１μｍである。受像層
表面のスムースター値が23℃、55%RHで0.5〜50ｍｍHg
（≒0.0665〜6.65ｋＰａ）が好ましく、かつＲａが０．
０５〜０．４μｍであることが好ましく、このことによ
り接触面に受像層と画像形成層とが接触し得ない多数の
ミクロな空隙を少なく出来、転写、更には画質の点で好
ましい。前記Ｒａ値は、表面粗さ測定機（Ｓｕｒｆｃｏ
ｍ，東京精機（株）製）等を用いてＪＩＳ Ｂ０６０１
に基づき測定することができる。米国連邦政府試験基準
４０４６により回路基板に帯電させた後、回路基板を接
地後１秒後の受像層の帯電電位が-100〜100Vであること
が好ましい。受像層の表面抵抗が23℃、55%RHで１０⁹Ω
以下であることが好ましい。受像層表面の静止摩擦係数
が０．２以下であることが好ましい。受像層表面の表面
エネルギーが23〜35mg/m²であることが好ましい。

【０１１８】また、回路基板には、支持体の受像層が設
けられている面とは反対側の面に、バック層を設ける
と、回路基板の搬送性が良化するので好ましい。前記バ
ック層には、界面活性剤や酸化錫微粒子等による帯電防
止剤、酸化珪素、ＰＭＭＡ粒子等によるマット剤を添加
すると、記録装置内での搬送性を良化させる点で好まし
い。前記添加剤はバック層のみならず、必要によって受
像層その他の層に添加することもできる。添加剤の種類
についてはその目的により一概には規定できないが、例
えば、マット剤の場合、平均粒径０．５〜１０μｍの粒
子を層中、０．５〜８０％程度添加することができる。
帯電防止剤としては、層の表面抵抗が２３℃、５０％Ｒ
Ｈの条件で１０¹²Ω以下、より好ましくは１０⁹Ω以下
となるように、各種界面活性剤、導電剤の中から適宜選
択して用いることができる。尚、回路基板にカラーフィ
ルターの画像（Ｒ，Ｇ，Ｂ，Ｋ）をそのまま形成するの
で、その透明性が確保される範囲で上記添加剤が用いら
れることが好ましい。

【０１１９】バック層に用いられるバインダーとして
は、ゼラチン、ポリビニルアルコール、メチルセルロー
ス、ニトロセルロース、アセチルセルロース、芳香族ポ
リアミド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、アルキ
ド樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、弗素樹脂、ポ
リイミド樹脂、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、ウレタン
変性シリコーン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレ
ン樹脂、ポリエステル樹脂、テフロン（登録商標）樹
脂、ポリビニルブチラール樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポ
リビニルアセテート、ポリカーボネート、有機硼素化合
物、芳香族エステル類、弗化ポリウレタン、ポリエーテ
ルスルホンなど汎用ポリマーを使用することができる。
バック層のバインダーとして架橋可能な水溶性バインダ
ーを用い、架橋させることは、マット剤の粉落ち防止や
バックコートの耐傷性の向上に効果がある。又、保存時
のブロッキングにも効果が大きい。この架橋手段は、用
いる架橋剤の特性に応じて、熱、活性光線、圧力の何れ
か一つ又は組み合わせなどを特に限定なく採用すること
ができる。場合によっては、支持体への接着性を付与す
るため、支持体のバック層を設ける側に任意の接着層を
設けてもよい。

【０１２０】バック層に好ましく添加されるマット剤と
しては、有機又は無機の微粒子が使用できる。有機系マ
ット剤としては、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭ
Ａ）、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン、
その他のラジカル重合系ポリマーの微粒子、ポリエステ
ル、ポリカーボネートなど縮合ポリマーの微粒子などが
挙げられる。バック層は０．５〜５ｇ／m²程度の付量で
設けられることが好ましい。０．５ｇ／m²未満では塗布
性が不安定で、マット剤の粉落ち等の問題が生じ易い。
又、５ｇ／m²を大きく超えて塗布されると好適なマット
剤の粒径が非常に大きくなり、保存時にバックコートに
よる受像層面のエンボス化が生じ、特に薄膜の画像形成
層を転写する熱転写では記録画像の抜けやムラが生じ易
くなる。マット剤は、その数平均粒径が、バック層のバ
インダーのみの膜厚よりも２．５〜２０μｍ大きいもの
が好ましい。マット剤の中でも、８μｍ以上の粒径の粒
子が５ｍｇ／m²以上が必要で、好ましくは６〜６００ｍ
ｇ／m²である。これによって特に異物故障が改善され
る。又、粒径分布の標準偏差を数平均粒径で割った値σ
／ｒｎ（＝粒径分布の変動係数）が０．３以下となるよ
うな、粒径分布の狭いものを用いることで、異常に大き
い粒径を有する粒子により発生する欠陥を改善できる
上、より少ない添加量で所望の性能が得られる。この変
動係数は０．１５以下であることが更に好ましい。

【０１２１】バック層には、搬送ロールとの摩擦帯電に
よる異物の付着を防止するため、帯電防止剤を添加する
ことが好ましい。帯電防止剤としては、カチオン系界面
活性剤、アニオン系界面活性剤、非イオン系界面活性
剤、高分子帯電防止剤、導電性微粒子の他、「１１２９
０の化学商品」化学工業日報社、８７５〜８７６頁等に
記載の化合物などが広く用いられる。バック層に併用で
きる帯電防止剤としては、上記の物質の中でも、カーボ
ンブラック、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化錫などの金属
酸化物、有機半導体などの導電性微粒子が好ましく用い
られる。特に、導電性微粒子を用いることは、帯電防止
剤のバック層からの解離がなく、環境によらず安定した
帯電防止効果が得られるために好ましい。又、バック層
には、塗布性や離型性を付与するために、各種活性剤、
シリコーンオイル、弗素系樹脂等の離型剤などを添加す
ることも可能である。バック層は、クッション層及び受
像層のＴＭＡ（Thermomechanical Analysis）により測
定した軟化点が７０℃以下である場合に特に好ましい。

【０１２２】ＴＭＡ軟化点は、測定対象物を一定の昇温
速度で、一定の荷重を掛けながら昇温し、対象物の位相
を観測することにより求める。本発明においては、測定
対象物の位相が変化し始める温度を以てＴＭＡ軟化点と
定義する。ＴＭＡによる軟化点の測定は、理学電気社製
Ｔｈｅｒｍｏｆｌｅｘなどの装置を用いて行うことがで
きる。

【０１２３】前記熱転写シートと前記回路基板は、熱転
写シートの画像形成層と回路基板又はその受像層とを重
ね合わせた積層体として、画像形成に利用され得る。熱
転写シートと回路基板との積層体は、各種の方法によっ
て形成することができる。例えば、熱転写シートの画像
形成層と回路基板又はその受像層とを重ねて、加圧加熱
ローラに通すことによって容易に得ることができる。こ
の場合の加熱温度は１６０℃以下、もしくは１３０℃以
下が好ましい。

【０１２４】積層体を得る別の方法として、前述した真
空密着法も好適に用いられる。真空密着法は、真空引き
用のサクション孔が設けられた部材の上に、先ず回路基
板を保持し、次いでその回路基板よりややサイズの大き
な熱転写シートを、スクイーズローラーで空気を均一に
押し出しながら回路基板に真空密着させる方法である。
また別の方法としては、部材の上に回路基板を引っ張り
つつ機械的に保持し、更にその上に熱転写シートを同様
に機械的に引っ張りつつ貼り付け、密着させる方法もあ
る。これらの方法の中で、ヒートローラー等の温度制御
が不要で、迅速・均一に積層しやすい点で、真空密着法
が特に好ましい。

【０１２５】

【実施例】以下に、本発明の実施例を説明するが、本発
明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。
尚、文中で特に断りのない限り「部」は「質量部」を意
味する。 実施例１ −１．レーザー熱転写シートの作成 １−１．クッション層の作製 クッション層形成用塗布液の組成 塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 ２５部 （日信化学（株）製、ＭＰＲ−ＴＳＬ） 可塑剤 ６官能アクリレート系モノマー １２部 （日本化薬（株）製、ＤＰＣＡ−１２０、分子量１９４７） 界面活性剤 ０．４部 （メガファックＦ−１７７、大日本インキ化学工業（株）製） メチルエチルケトン ７５部 これを厚み100μｍの２軸延伸PETベースに塗布、乾燥膜
厚が約２０μｍとなるように塗布量を調節した。

【０１２６】１−２．光熱変換層の作製 １）光熱変換層形成用塗布液の調製 下記の各成分をスターラーで攪拌しながら混合して光熱
変換層形成用塗布液を調製した。 塗布液組成 赤外線吸収色素（ＮＫ−２０１４、日本感光色素（株）製） １０部 バインダー（リカコートＳＮ−２０、新日本理化（株）製） ２００部 Ｎ−メチル−２−ピロリドン ２０００部 界面活性剤 １部 （メガファックＦ−１７７、大日本インキ化学工業（株）製） ２）支持体表面への光熱変換層の形成 上記クッション層塗布表面上に、上記の塗布液を回転塗
布機（ホワイラー）を用いて塗布した後、塗布物を１０
０℃のオーブン中で２分間乾燥して、該支持体上に光熱
変換層を形成した。得られた光熱変換層は、波長７００
〜１０００ｎｍの範囲では８３０ｎｍ付近に吸収極大が
あり、その吸光度（光学密度：ＯＤ）をマクベス濃度計
で測定したところ、ＯＤ＝１．０であった。膜厚は、走
査型電子顕微鏡により、光熱変換層の断面を観察したと
ころ、平均で０．３μｍであった。

【０１２７】１−３．画像形成層の作製 ３）画像形成層形成用塗布液の調製 下記の各成分をペイントシェーカー（東洋精機（株）
製）で２時間分散処理した後、ガラスビーズを除去し、
レッド顔料分散母液を調製した。 顔料分散母液組成 ポリビニルブチラール １２．６部 （電気化学工業（株）製、デンカブチラール＃２０００−Ｌ、ビカット軟化点５ ７℃）の２０質量％ｎ−プロピルアルコール溶液 色材 イルガジン・レッドBPT(赤色) ２４部 分散助剤（ソルスパースＳ−２００００、ＩＣＩ（株）製） ０．８部 ｎ−プロピルアルコール １１０部 ガラスビーズ １００部

【０１２８】下記の各成分をスターラーで攪拌しながら
混合して、レッド画像形成層形成用塗布液を調製した。 塗布液組成 上記顔料分散母液 ２０部 ｎ−プロピルアルコール ６０部 界面活性剤 ０．０５部 （メガファックＦ−１７６ＰＦ、大日本インキ化学工業（株）製） 以下同様にしてグリーン色で銅フタロシアニン(緑色)顔
料、ブルー色でスーダンブルー(青色)を使用して画像形
成塗布液を調製した。 ４）光熱変換層表面へのレッド画像形成層の形成 前記の光熱変換層の表面に、上記塗布液を塗布した後、
塗布物を１００℃のオーブン中で２分間乾燥して、光熱
変換層の上にレッド画像形成層（顔料６４．２質量％、
ポリビニルブチラール３３．７質量％）を形成した。膜
厚は、前記と同様にして測定したところ、平均で１．６
μｍであった。以上の工程により、支持体の上に、クッ
ション層、光熱変換層、及びレッド画像形成層がこの順
に設けられたレーザー熱転写シートを作成した。同様に
してグリーン画像形成層、ブルー画像形成層を有するレ
ーザー熱転写シートを作製した。

【０１２９】また、下記ブラック画像形成層用塗布液を
用いた以外は上記と同様にして層厚が２μｍのレーザー
熱転写シートＫを作成した。 ［ブラック顔料分散母液組成］ 組成１ ・ポリビニルブチラール １２．６部 （「エスレックＢ ＢＬ−ＳＨ」、積水化学工業（株）製） ・Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌａｃｋ（ピグメントブラック） ７（カーボンブラック Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．７７２６６） ４．５部 （「三菱カーボンブラック ＃５」、三菱化学（株）製、ＰＶＣ黒度：１） ・分散助剤 ０．８部 （「ソルスパースＳ−２００００」、ＩＣＩ（株）製） ・ｎ−プロピルアルコール ７９．４部 組成２ ・ポリビニルブチラール １２．６部 （「エスレックＢ ＢＬ−ＳＨ」、積水化学工業（株）製） ・Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌａｃｋ（ピグメントブラック） ７（カーボンブラック Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．７７２６６） １０．５ 部 （「三菱カーボンブラック ＭＡ１００」、三菱化学（株）製、ＰＶＣ黒度：１ ０） ・分散助剤 ０．８部 （「ソルスパースＳ−２００００」、ＩＣＩ（株）製） ・ｎ−プロピルアルコール ７９．４部

【０１３０】次に、下記の成分をスターラーで攪拌しな
がら混合して、ブラック画像形成層用塗布液を調製し
た。 ［ブラック画像形成層用塗布液組成］ ・上記ブラック顔料分散母液 １８５．７部 組成１：組成２＝７０：３０（部） ・ポリビニルブチラール １１．９部 （「エスレックＢ ＢＬ−ＳＨ」、積水化学工業（株）製） ・ワックス系化合物 （ステアリン酸アミド「ニュートロン２」、日本精化（株）製） １．７部 （ベヘン酸アミド「ダイヤミッドＢＭ」、日本化成（株）製） １．７部 （ラウリル酸アミド「ダイヤミッドＹ」、日本化成（株）製） １．７部 （パルミチン酸アミド「ダイヤミッドＫＰ」、日本化成（株）製） １．７部 （エルカ酸アミド「ダイヤミッドＬ−２００」、日本化成（株）製） １．７部 （オレイン酸アミド「ダイヤミッドＯ−２００」、日本化成（株）製）１．７部 ・ロジン １１．４部 （「ＫＥ−３１１」、荒川化学（株）製） （成分：樹脂酸80〜97％；樹脂酸成分：アビエチン酸30〜40％、ネオアビエチ ン酸10〜20％、ジヒドロアビエチン酸14％、テトラヒドロアビエチン酸14％） ・界面活性剤 ２．１部 （「メガファックＦ−１７６ＰＦ」、固形分２０％、大日本インキ化学工業社製 ） ・無機顔料 ７．１部 （「ＭＥＫ−ＳＴ」、３０％メチルエチルケトン溶液、日産化学（株）社製） ・ｎ−プロピルアルコール １０５０部 ・メチルエチルケトン ２９５部

【０１３１】−３．回路基板の表面調整 ＴＦＴ基板を純水洗浄後、シランカップリング液（Ｎ−
β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシ
ラン０．３質量％水溶液）に３０秒浸漬し、引き続き純
水に３０秒浸漬し、１１０℃で５分乾燥した。次いで、
その処理した表面にスピンコーターを用いて下記受像層
塗布液から受像層（厚み1μｍ）を設けた。 受像層塗布液 ポリビニルブチラール（電気化学工業（株）製、デンカブチラール＃２０００− Ｌ） １６部 界面活性剤 ０．５部 （メガファックＦ−１７７、大日本インキ化学工業（株）製） ｎ−プロピルアルコール １００部 −４．レーザー熱転写シートによる画像の形成 直径１ｍｍの真空吸着用のサクション穴（３ｃｍ×３ｃ
ｍのエリアに１個の面密度）が設けられたフラットベッ
ドに、上記回路基板（２５ｃｍ×３５ｃｍ）を吸着させ
た。次いで３０ｃｍ×４０ｃｍの熱転写シートＫを回路
基板から均等にはみ出すように重ね、スクイズローラー
でスクイーズさせつつ、サクション孔に空気が吸われる
ようにして熱転写シートを密着させ、回路基板と熱転写
シートとを積層した。サクション孔が塞がれた状態での
減圧度は１気圧に対して−１５０ｍｍＨｇ（≒８１．１
３ｋＰａ）であった。ついで、上記のフラットベッドを
移動させ、フラットベッド上の積層体の表面に外側から
波長８３０ｎｍの半導体レーザー光を、光熱変換層の表
面で７μｍのスポットとなるように集光し、フラットベ
ッドの移動方向（主走査方向）に対して直角方向に移動
させながら（副走査）、積層体へのレーザー画像記録を
行った。レーザー記録は、図３に示すカラーフィルター
画像に相当する画像をレーザー光により像様に熱転写シ
ート側から照射することで行った。ａは１５０μｍ、ｂ
は１００μｍ、ｃは２０μｍに設定した。レーザー照射
条件は以下のとおりである。 レーザーパワー：１１０ｍＷ 主走査速度：４ｍ／秒 副走査ピッチ（１チャンネル当たりの副走査量）：１０
μｍ 温度、湿度：２５℃、５０％ＲＨ 上記のレーザー画像記録を行った積層体をフラットベッ
ドから取り外し、回路基板と熱転写シートＫとを手で引
きはがしたところ、画像形成層のレーザー照射部のみが
転写シートから回路基板に転写されているのが確認され
た。上記と同様にしてレーザー熱転写シートＲ、Ｇ及び
Ｂについて画像の転写を行い、回路基板上に画像（Ｒ，
Ｇ，Ｂ，Ｋ）を形成し、カラーフィルターを得た。回路
基板上に形成されたカラーフィルター画像上に下記調製
した光硬化性樹脂組成物用塗布液をスピンコート法によ
り、回転数約５００ｒｐｍで全面的に塗布し、熱風循環
式乾燥炉中において８０℃で５分間乾燥し塗膜を得た
（厚み、３μｍ±０．２μｍになるように回転数を調節
した）。この塗膜を超高圧水銀灯下、１００ｍJ／ｃｍ²
で紫外線照射した後、２００℃の熱風循環式乾燥炉中で
６０分間ポストキュアーして保護層を得た。 ＜光硬化性樹脂組成物用塗布液処方＞ 共重合体溶液 ６６部 （ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７３／２７（モル）、質量平均分 子量（Ｍｗ）：４００００）の溶液（固形分濃度４０％のメトキシプロパノール ・酢酸エステル溶液） モノマー ２７．２部 （ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとペンタアクリレートの混合物、 日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ） 光重合開始剤 １．３１部 （２−トリクロロメチル−５（４’−ブトキシスチリル）−１，３，４−オキサ ジアゾール） エポキシ化合物 ８．２部 （ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、東都化成（株）製エポトートＹＤ８１２５ 、エポキシ当量＝１７３、粘度＝４３００ｃｐ） 熱重合防止剤 （２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール） ０．０１４部 シランカップリング剤 １．０部 （Ｎ−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、信越化学（株）製、 ＫＢＭ５７３） 乳酸エチル １２２部

【０１３２】比較例１ 実施例１と同じようにシランカップリング処理及び受像
層を施した回路基板表面に下記一体型フイルムＫ１の保
護フイルムを剥離後ラミネートし、２０ｍＪ／ｃｍ²の
パターン露光後、トリエタノールアミン系現像液にてシ
ャワー現像し熱可塑性樹脂層と酸素遮断膜を除去した。
引き続き炭酸系現像液でシャワー現像し感光性樹脂層を
現像し実施例１と同じブラックマトリックスのパターニ
ング画像を得た。その後、両面から５００mJ/cm²ポスト
露光を行い、引き続き２２０℃２５分ポストベーク処理
を実施し、ブラックマトリックスを得た。同様に、下記
一体型フイルムＲ１、Ｇ１、Ｂ１を用い、実施例１の画
素（Ｒ，Ｇ，Ｂ）と同じ画素（Ｒ，Ｇ，Ｂ）をＴＦＴ基
板上に形成した。

【０１３３】（一体型フイルムの作成）厚さ７５μｍの
ポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体の上に下
記の処方Ｈ１からなる塗布液を塗り付け、乾燥させ、次
に下記処方Ｂ１から成る塗布液を塗り付け、乾燥させ、
さらに下記感光性樹脂層溶液Ｋ１、Ｒ１、Ｇ１、Ｂ１、
Ｃ１を塗り付け、乾燥させ、該仮支持体の上に乾燥膜厚
が１４．６μｍの熱可塑性樹脂層と乾燥膜厚が１．６μ
ｍの酸素遮断膜と乾燥膜厚が２μｍ感光層を設け、保護
フイルム（厚さ１２μｍポリプロピレンフィルム）を圧
着した。こうして仮支持体と熱可塑性樹脂層と酸素遮断
膜と感光層が一体となったフイルムを作成し、それぞれ
のサンプル名を、使用した感光性樹脂層溶液の記号Ｋ
１、Ｒ１、Ｇ１、Ｂ１、Ｃ１を用いて、一体型フイルム
Ｋ１、Ｒ１、Ｇ１、Ｂ１、Ｃ１とした。

【０１３４】 熱可塑性樹脂層処方Ｈ１： ・ 塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体 ３００部 ・ 塩化ビニル−酢酸ビニル−マレイン酸共重合体 ８０部 ・ フタル酸ジブチル ９０部 （メチルエチルケトンを溶媒とした）

【０１３５】 酸素遮断膜処方Ｂ１： ・ ポリビニルアルコール １８０部 ・ 弗素系界面活性剤 ８部 （水を溶媒とした）

【０１３６】 感光性樹脂層溶液Ｋ１： ・ ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体 ６０部 ・ ペンタエリスリトールテトラアクリレート ４０部 ・ ミヒラーズケトン ３部 ・ ２-（ｏ-クロロフェニル）-４，５-ジフェニルイミダゾール二量体 ３部 ・ カーボンブラック分散物 １００部 （メチルエチルケトンを溶媒とした）

【０１３７】 感光性樹脂層溶液Ｒ１： ・ ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合 １３部 ・ ペンタエリスリトールヘキサアクリレート ３８部 ・ フェノチアジン ０．８部 ・ ２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スリチルメチル） −１，３，４−オキサジアゾール ３．１部 ・２，４，６−トリス［２，４−ビス（メトキシカルボニルオキシ）フェニル］ −１，３，５トリアジン ３．８部 ・７−［２−［４−（３−ヒドロキシメチルピペリジノ） −６−ジエチルアミノ］トリアジルアミノ］−３−フェニル １５部 ・Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２５４分散液 ２２０部 （メチルエチルケトンを溶媒とした）

【０１３８】 感光性樹脂層溶液Ｇ１： ・ ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合 ３２部 ・ ペンタエリスリトールヘキサアクリレート ４０部 ・フェノチアジン ０．０４部 ・２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スリチルメチル） −１，３，４−オキサジアゾール １．９部 ・７−［２−［４−（３−ヒドロキシメチルピペリジノ） −６−ジエチルアミノ］トリアジルアミノ］−３−フェニル １３部 ・Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン３６分散液 １６０部 ・Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１３８分散液 １１０部 （メチルエチルケトンを溶媒とした）

【０１３９】 感光性樹脂層溶液Ｂ１： ・ ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合 ２２部 ・ ペンタエリスリトールヘキサアクリレート ４０部 ・フェノチアジン ０．２部 ・２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スリチルメチル） −１，３，４−オキサジアゾール ２部 ・２，４，６−トリス［２，４−ビス（メトキシカルボニルオキシ）フェニル］ −１，３，５トリアジン ２．５部 ・Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー １５：６分散液 １６０部 （メチルエチルケトンを溶媒とした）

【０１４０】 感光性樹脂層溶液Ｃ１： ・ポリマー溶液 ２４０部 スチレン／マレイン酸共重合体ベンジルアミン変性物＝６８／３２（モル比 ） ・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート ２００部 ・シクロヘキサノン ７３０部 ・光重合開始剤 ＩＲＧ１８４（CAS947-19-3） １０部 （メチルエチルケトンを適宜添加）

【０１４１】実施例と比較例で得られたカラーフィルタ
ー付回路基板を以下により評価し、表１に示した。 ＜評価方法＞ ａ．金属イオン量：カラーフィルター膜面の金属イオン
量を吸光光度法にて測定した。 ｂ．価格：作成費用

【０１４２】

【表１】

【０１４３】実施例１のカラーフィルターは比較例１よ
り金属イオン量が少ないので、液晶への混在による液晶
の動作不良を改善することができる。また、比較例は実
施例に比べ高価である。

【０１４４】

【発明の効果】本発明によれば、レーザー熱転写シート
を用いるため、大サイズ（Ａ２／Ｂ２）のカラーフィル
ター付回路基板を安価かつ精度よく提供できる。また、
異なる温湿度条件下において、マルチビーム２次元配列
であるレーザー光により、記録した場合も、画像（Ｒ，
Ｇ，Ｂ，Ｋ）が良好で、液晶への金属イオン混在による
画質変化のない液晶素子を提供できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】レーザーを用いた薄膜熱転写による多色画像形
成の機構の概略を説明する図である。

【図２】レーザー熱転写用記録装置の構成例を示す図で
ある。

【図３】カラーフィルターの画素の形成例を示す。

【符号の説明】

１ 記録装置 ２ 記録ヘッド ３ 副走査レール ４ 記録ドラム ５ 熱転写シートローディングユニット ６ 受像シートロール ７ 搬送ローラ ８ スクイーズローラー ９ カッター １０ 熱転写シート １０Ｒ、１０Ｇ、１０Ｂ 熱転写シートロール １２ 支持体 １４ 光熱変換層 １６ 画像形成層 ２０ 回路基板 ２４ 受像層 ３０ 積層体 ３１ 排出台 ３２ 廃棄口 ３３ 排出口 ３４ エアー ３５ 廃棄箱 ４１ カラーフィルター ４２ レッドフィルターの画素 ４３ グリーンフィルターの画素 ４４ ブルーフィルターの画素 ４５ ブラックマトリックス

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 支持体上に少なくとも光熱変換層、レッ
   ド（Ｒ）、グリーン（Ｇ）、ブルー（Ｂ）またはブラッ
   ク（Ｋ）の画像形成層を有する４種のレーザー熱転写シ
   ートを回路基板と重ねあわせ熱転写シート側からレーザ
   ー光を像様に照射して回路基板上に画像形成層を転写し
   てＲ、Ｇ、Ｂ及びＫからなる画像を形成することを特徴
   とするカラーフィルター付回路基板の形成方法。
2. 【請求項２】 請求項１に記載のカラーフィルターの形
   成方法により製造されたカラーフィルター付回路基板。