TW199212B - - Google Patents
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- TW199212B TW199212B TW079104192A TW79104192A TW199212B TW 199212 B TW199212 B TW 199212B TW 079104192 A TW079104192 A TW 079104192A TW 79104192 A TW79104192 A TW 79104192A TW 199212 B TW199212 B TW 199212B
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Description
199212 A6 B6 經濟部中央橾準局印装 五、發明説明(\ 本發明像關於各種組合物,可將彼等施加在一基片上 成為一層,予以光成像,顯影並固化而形成一種有圖案之 永久層,適合作為印刷電路板等之抗擇劑罩靥。 本發明之背景 抗銲劑罩層是有圖案之薄膜成層,彼等被設計以永久 覆蓋在印刷電路板上之印刷電路糸統上。抗銲劑罩層的有 圖案之蔽口區域選擇性容許焊劑,黏附至印刷板的金屬上 。該抗銲劑罩層亦保護電路糸統對抗短路。 因為將抗銲劑罩層設計以提供永久層,所以該層的硬 度和耐久性被認為是抗銲劑罩層組合物之重要特徽。通常 ,抗銲劑罩層是印刷電路板的外層;因此,外觀亦屬重要 〇 可將光可成像組合物以各種方法施加至印刷電路板上 ,例如:網販印刷,靜電噴塗,帘幕塗覆或成為乾薄膜的 一層或層合物。因此,需要以各種施加方法,將光可成像 組合物施加至印刷電路板上。 本發明的一個一般目的在提供一種改進之光可成像組 合物,可將它施加至印刷電路板上,經光成像,用一種碱 性含水顯影劑顯影並予以固化以形成一種硬,永久抗銲劑 罩層。 本發明之總論 依照本發明,提供一種組合物,可將它經由各種方法 施加至印刷電路板上成為一層,曝光於有圖案之光化輻射 下以便不溶解該層之曝光部份,在碱性水溶液中顯影以移 f 4(210X297 公发) ...............::....................................裝..............................訂…:..................…線 {請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁.) X99U2 A6 B6 經濟部中央標準局印製 五、發明説明(2) 除該層的未經曝光部份,並予以固化以便化該靥之其餘部 份成為一種硬,永久掩模。該光可成像組合物包括:(a )大約10與大約4OWT%間之丙碑單體,(b)大約 3與大約1 5 W T %間之光引發劑,(c )大約5與大約 35WT%間之環氣一丙烯酸酯低聚物,(d)大約20 與大約8 0 W T %間之環氧樹脂(e )大約0 . 1與大約 1 0 W T %間之適合環氧樹脂之酸性固化劑及,可選擇使 用,但極佳之(f )大約2與大約1 5 W T %間之交聯劑 0 某些較佳具體實施例的詳細敘述 根據本發明之光可成像組合物,每種含有至少下列組 份:(a)丙烯單體,(b)光引發劑,(C)環氣一丙 烯酸酯低聚物,(d )環氧樹脂及(e )適合環氧樹脂之 酸性固化劑。通常,該光可成像組合物亦包括(f) 一種 交聯劑例如:三聚氰胺-甲醛樹脂或一種經保護之多功能 異氡酸酯》選擇此等組份(a) -(f)使其在一種有機 溶劑中,可相互混溶,以便當將彼等在一種有機溶劑中予 以混合在一起_,此等組份形成一種透明均勻溶液。於蒸 發該有機溶劑時,組份(a ) - ( f )可相互相容以便形 成均勻經乾燥之組合物。除非在其他情況予以載明,本文 中,所有百分數均俗以重量計且係相對於各組份(a) 一 (f )之總重量予以計算。任何另外成份(例如:瑱料, 溶劑)的數量偽相對於(a )至(f )等重量之總和予以 計算。(a ) _ ( f )的均勻經乾燥組合物不溶於碱性水 {請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) .裝. •打· •線· 甲 4(210X297 公沒) 199212 A6 B6 經濟部中央橾準局印製 五、發明説明(3 · 溶液中,因此,在印刷電路板上成為一層之光可成像組合 物,用碱性水溶液可顯影。 根據本發明之組合物包括一種丙烯之化學条統,組合 物偽經由此糸統予以光聚;及一種環氧化學条統,在曝光 和影像後,它可固化而使組合物硬化。然而,該兩化學条 統並非相互互斥,相信:此兩化學糸統的組份彼此起化學 上之相互作用。當組合物包括一種交聯劑(f)時,此現 象待別正確。 丙烯条統包括:丙烯單體(a),環氣-丙烯酸酯低 聚物,(c )及光引發劑(b )。環氧糸統包括:環氧樹 脂(d)及彼之酸性固化劑(e)。如果使用交聯劑(f ),則選擇它能與烯和環氣兩条統組份之羥基基因起反應 者。 單髏僳由各種丙烯酸酯中所選出,例如:丙烯酸甲酯 ,甲基丙烯酸甲酯,丙烯酸羥乙酯,甲基丙烯酸丁酯,丙 烯酸辛酯,甲基丙烯酸,2 -乙氣基乙酯,丙烯酸,第三 丁酯,二丙烯酸,1,5 —戊二醇酯,丙烯酸Ν,Ν -二 乙胺基乙酯,二丙烯酸乙二醇酯,二丙烯酸,1 , 4 -丁 二醇酯,二丙烯酸二甘醇酯,二丙烯酸己二醇酯,二丙烯 酸,1,3 -丙二醇酯,二丙烯酸癸二醇酯,二甲基丙烯 酸癸二醇酯,二丙烯酸,1,4 —環己二醇酯,2 , 2 -二經甲基丙院,甘油二丙稀酸醋,二丙稀酸三丙二醇酷, 甘油三丙烯酸酯,三羥甲基丙烷三丙烯酸酯,三丙烯酸季 戊四醇酯,2,2 -二(對-羥苯基)丙烷二丙烯酸酯, {請先閲讀背面之注意事項再填寫本耳) •装· .訂· -缘· f 甲 4(210X297 公泠) 經濟部中央標準局印裝 199312 A6 _B6_ 五、發明説明(4) 四丙烯酸季戊四醇酯,2,2-二(對-羥苯基)丙烷二 甲基丙烯酸酯,二丙烯酸三甘醇酯,聚氣乙基-乙- 2 -二(對-羥苯基)丙烷二甲基丙烯酸0|,二甲基丙烯酸三 甘醇酯,聚氧丙基三羥甲基丙烷三丙烯酸酯,二甲基丙烯 酸乙二醇酯,二甲基丙烯酸丁二醇酯,二甲基丙烯酸,1 ,3 -丙二醇酯,二甲基丙烯酸丁二醇酯,二甲基丙烯酸 ,:I,3 -丙二醇酯,三甲基丙烯酸,1,2,4- 丁三 醇酯,二甲基丙烯酸,2,2,4-三甲基-1,3 —戊 二醇酯,三甲基丙烯酸季戊二醇酯,次乙基-1,2 -二 甲基丙烯酸,1 -苯酯,四甲基丙烯酸季戊四醇酯,三羥 甲基丙烷三甲基丙烯酸酯,二甲基丙烯酸,1,5 -戊二 醇酯及二甲基丙烯酸,1,4_苯二醇酯。此等丙烯單體 (a)典型地包括1 0與大約4 OWT%間的組份(a) 至(f )。較低之濃度可能不足以使正曝光於光化輻射下 之光可成像組合物層的各部份不溶。較高濃度之丙烯單體 可能導致供許多應用時太軟之抗銲劑罩層。 本文中,按環氧-丙烯酸酯低聚物(c)係意指:自 能與丙烯酸起反應之環氣骨幹所形成之低聚物,以便至少 大約9 0 %環氣基圃,用丙烯酸予以酯化◊各種丙烯酸例 如上述之丙烯(酯)單體中所使用者,適合於此項目的。 在丙烯基圃與環氣低聚物之環氧基圍起反應時,各酸分子 ,每一値與低聚物背景形成一種酯而羥基基圃則被形成在 鄰位之碩原子上。因為實質上,所有環氣基圃與丙烯酸部 份起反應*所以該環氧-丙烯酸酯低聚物主要發揮丙烯酸 Θ «...............................打:…...........................緣 (請先閱讀背面之注专事項再填寫本耳) 甲 4(210X297 公寿) i992i2 A6 B6___ 五、發明説明(3 酯之功能,低聚物的丙烯酸酯部份像在經光引發之反應( 它致使光可成像組合物層的經曝光部份不溶於含水之碱溶 液中)期間,連同丙烯單髏而聚合。果使用此項交聯劑 (f),則實質之羥基功能提供與交聯劑(f)相交聯之 基礎。 較佳之環氣-丙烯酸酯低聚物是雙酚a型樹脂的二丙 烯酸酯(或甲基丙烯酸酯)酯類。將此等低聚物發展出, 目的在使良好UV/ΕΒ固化反應與環氧樹脂的抗化學劑 性與耐久性相聯合。此等環氣-丙烯酸酯低聚物係自具有 2之功能之雙酚A樹脂所衍生出,因此彼等亦具有2之功 能。 自相當之環氧衍生物合成多功能丙烯酸酯樹脂及其他 不飽和酯記述於下列各美國專利案中:N 〇. 3,2 5 6 ,226;3,317,465;3,345,401; 3,373»2 2 1;3,377,406;3,432 ,478;3»548»030;3»564,074; 3,634,542&3,637,618〇 經濟部中央橾準局印來 環氣-丙烯酸酯低聚物通常包含:大約5與大約2 5 W T %間的組份(a ) - ( f )之總重量,宜為大約1 2 與18WT%之間。光可成像組合物中所使用之環氣一丙 烯酸酯低聚物宜具有大約5 0 0至2 0 0 0之分子量。 連同可聚合之丙烯酸酯物質,亦所需要者是一種化學 引發劑条統,於有光化輻射存在時,它産生自由基而藉以 造成丙烯物質之聚合。聚合丙烯單體和環氣-丙烯酸酯, 甲 4(210X297 公沒) (請先《讀背面之注老事項再填寫本页·} —τ·- - ί992ί2 Α6 Β6 濟 部 中 央 捸 準 Μ 印 五、發明説明(1 低聚物之丙烯部份成為一種三維構造,不溶光可成像組合 物。感光性,産生自由基之引發条統的選擇,對於本發明 之應用,並不認為重要*可將各類的牝種化合物成功地利 用於本發明之應用中^化學光引發劑糸統的實例包括:二 苯甲酮,苯偁姻醚,苯偶醯縮酮和苯乙酮及其衍生物。其 他適當引發劑条統,舉例而言,記述於下列各美國專利案 中 Nos. 3,469,982;4,451,523 及 4,3 5 8,4 7 7。其教旨併入本文以供參考。基於可 聚合之丙烯物質,待殊光引發劑条統和所需要之顯影時間 ,所使用之光引發劑的數量可在廣大範圍内變更。通常, 光引發劑化學条統構成大約3與大約1 5 W T %間的組份 (a )至(f )的總重量。 物料,它在顯影及最後固化後,授予優良硬度及耐久 性與薄膜或薄靥者是環氣樹脂或其混合物。各環氣樹脂構 成以重量計大約2 0與大約8 0 %間(宜為在大約8 0 W T %與大約6 0 W T %間)的組份(a ) - ( f )總重量 。在高溫下及/或在有催化劑存在時,樹脂分子的環氧基 園開啓並與所存在之其他物料起反應。主要,此等環氧樹 脂分子與酸性固化劑(e)起反應,然而,在最後固化期 間,此等環氧分子與交聯劑(f )起反應達某一程度,而 且也許與經光聚之丙烯物料及任何其餘之未經聚合丙烯酸 酯單體或部份起反應。環氧樹脂或樹脂之混合物在大約室 溫下宜為固體《可將光可成像組合物,在首先溶解固態環 氧樹脂在以溶劑為基質之混合物中後,施加至基Η上成液 t請先聞讀背面之注意事項再填寫本耳) •装· •打· •線· 肀 4 (210X297 公潑) -8- 199212 A6 B6 經濟部中央橾準局印裝 7 五、發明説明() 態薄膜。 各種之環氧樹脂適合供依照本發明而使用。典型,使 用雙酚A及酚醛清漆型的環氣化物。碑他適當環氧樹脂, 舉例而言,記述於美國專利案No. 4,0 9 2,4 4 3 中,其教旨併入本文以供參考。環脂族環氧化物,例如: 由CT, Danbury市之聯合碳化物公司所售之商業名字為 Cyanacure UVR — 6 1 0 0 和 UVR_ 6 1 1 0 等亦屬 有用。依照本發明所使用之環氣樹脂宜具有2 〇 0與大約 7 0 0間之環氣化物當量。 根據本發明之光可成像組合物意欲被硬化以形成永久 抗銲劑罩層。硬化主要歸因於環氣樹脂之固化。為了充份 分促進迅速固化環氧樹脂,本發明之光可成像組合物採用 一種酸性固化劑^酸性固化催化劑包括:不僅具有游離羧 基基園之物質,而且可以産生游離羧基基圃之化學物例如 :酸酐◊事實上,就本發明之許多應用而論,酸酐,例如 :多功能羧酸的酸酐是較佳之固化劑,其他有用之催化劑 是具有一値受保護之羧基基圃者,在臨界溫度下*它變成 脱去保護。環氧固化催化劑,通常係以自大約〇 . 1至大 約10WT%的組份(a) — (f)總重量之標準而予使 用0 雖然依照本發明之光可成像組合物並不一定須要另外 之交聯劑,但是一種交聯劑(f)是極所意欲的。於連接 丙烯酸酯化學劑糸統和環氧化學劑糸統入最後抗銲劑罩層 中之單一交連網路中時,交聯劑恃別有用。各種游離羥基 {請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁.) •裝· ♦打· •線· 甲 4(210X297 公沒) 199212 A6 B6 組 濟 部 中 央 揉 準 局 印 ,8 五、發明說明() 基圃,例如:在環氧樹脂上及環氧_丙烯酸酯低聚物上者 *通常提供此項交聯之基礎。典型地,交聯劑(f)係以 至少大約2WT%之级位而使用,以3 - 5WT%為佳。 依照本發明之一個觀點,該交聯劑是三聚氰胺-甲醛 樹脂。如果璟氣固化劑是一種酸酐,則三聚氣胺-甲醛樹 脂特別有用。在起始施加光可成像之組合物成為一層時, 相信:三聚氣胺-甲醛樹脂與酸酐起反應達某一程度。此 項反應開啓酸酐,提供羧基功能度供隨後之環氣固化。此 項起始反應亦具有表面乾燥之效果。三聚気胺-甲醛樹脂 ,通常游離羧基基圃而充作交聯。較佳之三聚氟胺-甲醛 樹脂具有經甲基化之三聚银胺部份。 依照本發明之另外觀點,可以使用經保護之多官能異 氣酸酯作為交聯劑。應選擇受保護之異氰酸酯’以便通常在 環氣樹脂之固化溫度下脱去保護。適當之經保護之異氮酸 酯的賁例是經ε _己丙醯胺保護之異佛爾酮。如果經保護 之異氱酸酯是交聯劑而酸酐是固化劑,則在固化前,需要 連續預熱光可成像組合物。此項預熱開啓了酸酐種屬,提 供促進固化環氧樹脂所必須之酸官能度。 須選擇光可成像組合物的各組份係可溶於一種共同溶 劑中以形成一種單相液態組合物。可將該液態光可成像組 合物經由各種施加方法施加至基片上,包括:網販印刷, 帘幕塗覆,锟塗及擠出塗覆。每種施加方法具有其自己之 特點,而依照本發明之可成像組合物可以依照特殊施加方 法之特殊要求予以調配。 (請先«讀背面之注意事項再填寫本頁) .裝. .打. Λ-. 甲 4 (210X297 公沒) 199212 A6 B6_ 9 五、發明説明() 須選擇組份(a) - (f)因此使:此等組份的均勻 經乾燥組合物可溶於碱性水溶液中,因此,一層的光可成 像組合物可以在碱水溶液(例如:l^Na2C03)中予 以顯像。 組份(a) - (f)的混合物典型地,是太黏滯而不 能容易地施加成為一靥,因此,通常應用方式是:使用一 種有機溶劑,稀釋組份(a ) - ( f )。典型地,溶劑係 以相對於組份(a) - (f) ,:LO — 6 0WT%的濃度 而予使用,但此可基於施加之方法而變更。就網版印刷而 論,通常,溶劑以1 〇- 2 0%而使用;就靜電噴塗而論 ,以2 0 - 6 0%;就帘塗而論,通常以4 0-5 0%; 而關於施加成為乾膜,典型為大約5 0%。適當之溶劑包 括(但並非限制為)下列:乙二醇-乙醚,乙二醇-丙醚 ,乙二醇一丁醚,乙二醇,2 -乙基己醚,乙二醇—己醚 ,二甘醇—甲醚,二甘醇-乙醚,二甘醚-丙醚,二甘醇 -丁醚,雙丙甘醇甲醚,丙二醇-丁_,丙二醇-丙醚, 丙二醇甲醚,乙二醇-乙醚乙酸鹽,乙二醇-丁醚乙酸鹽 ,二甘醇—乙醚乙酸鹽,二甘醇-丁_乙酸鹽,丙二醇-甲酸乙酸鹽,乙二醇二乙酸酯,CH3COO (ch2) „ COOCH3,=2 , 3 , 4,乙酸2-乙基己酯,乙酸 正-丁酯,乙酸異丁酯乙酸正-丙酯,乙酸乙酯,雙丙酮 醇,二甲基甲醯胺,異佛爾酮,二異丁基甲酮,璟己酮, 異丁酸異丁酯,甲基,正戊基甲酮,乙酸戊酯,甲基,戊 基甲酮,甲基,異代基甲酮,2 -硝基丙烷,甲基,異丁 {請先聞讀背面之注意事項再填鸾本页.) •装· -訂. .線· 經濟部中央標準局印装 A6 B6 199212 五、發明説明(β 基,甲酮,甲基正丙基甲酮,乙酸異丙酯,甲基乙基甲酮 ,四氩呋喃,丙酮,乙酸甲酯,N -甲基吡咯烷酮,及7 一丁内酯◊ 除去上述各組份以外。(此等組份對於依照本發明之 光可成像組合物甚重要),該光可成像組合物可以選擇性 含有該項技藝中為準之另外組份◊該光可成像組合物可含 有有機或無機填料,其级位是:相對於組份(a) - (f )之總重量,至多大約3 5 WT%填料的某些實例是微滑 石,經研磨之聚乙烯,黏土,煅製二氧化矽及聚偏氣乙烯 。又,可加入比較小量的流量控制劑,抗氣化劑,染料等 。填料可影響抗銲劑罩層之最後外觀,即提供:無光整理 於應用時,將光可成像組合物施加至印刷電路板上成 為一層(或在乾膜之情況,施加至一支載片上)。在施加 後,使該層乾燥以去除有機溶劑。在此乾燥期間,組份之 某些反應可能發生,待別是酸酐與三聚氰胺-甲醛樹脂之 間。在乾燥後,將經均勻乾燥之光可成像層曝光於有圖案 之光化輻射下,然後以傳統方式,在碱性含水顯像劑中顯 像。在此時,其較佳者為:實施uv固化以便繫住任何未 起反應之丙烯酸酯;然而,此步驟是隨意使用者。隨後, 將該層熱固化:即在1 5 0°C下歴至少1小時。在熱固化 前,即在活化瓌氧化學条統以前,該層的光可成像組合物 依然經由通常剝除器可剝離,如有任何需要除去此層,例 如:以便再用。 中 4 (210X297 公廣) {請先聞讀背面之注意事項再填寫本页.) •裝· •打· •線· 經 滴· 部 中 央· 準 局 印 199212 A6 B6 五、發明説明(V 能使用含水或碱性水溶液予以顯像之能力被認為是本 發明的光可成像組合物的一個重要優點。消除須要以溶劑 為基質之顯像劑,消除了溶劑的成本Μ及健康,環境和循 環等問題。雖然依照本發明所形成之薄膜,在没有任何有 機溶劑之水溶液中可顥像,但是顯像劑可包括一些有機溶 劑,假定:所添加之有機溶劑不致溶解膜的經曝光之部份 〇 本發明現在經由特殊實例予以更詳盡敘述。 (請先聞讀背面之注意事項再洗寫本耳) •装· *打· 經濟部中央標準局印裂 甲 4(210X297 199212 A6 B6 經濟部中央標準局印製 五、發明説明(β 實例1 以如下方式,製備一種組合物·· 成份 重量% 三(2-羥乙基)異氰尿酸酯)異氡尿酸酯 18.7 三丙烯酸酯經甲基化之三聚氡胺 3.4
Hetron 912(環氣甲基丙烯酸酯樹脂) 6.2
Novacure 3701 (雙酚A環氧樹脂之二丙烯酸酯) 6.2 環氧甲酚酚醛清漆樹脂,環氧當量235 23.8 雙酚A環氣樹脂575-685 23.3 5-(2,5-二氧代四氫呋喃基)-3-甲基-3- 8.6 環已烯-1,2-二羧酸酐 2,2-二甲氣基-2-苯基苯乙酮 1.4 2 -甲基-1-〔4-(甲硫基)苯基]-2- 6.2 (4 -嗎啉基)-1-丙_ 異丙基硫代黃療圈 2.3 100.0 甲 4(210X297 公发) .................……:-·..........................5t..............................ίτ...........................:……^ {請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁.) 14--- 經濟部中央標準局印裝 199°12 A6 B6 五、發咧説明(' 加均化劑: Modaf low 0.9 Byk 361,306(等份) 0.8 顔料(Penn Green ) 1.0 填料(煅製二氧化矽) 1.5 抑制劑(MEHQ ) 0.1 溶劑(數量及型式適合於 施加之方法) 所使用之溶劑:3-乙氣基丙酸-乙酯(EEP) vt 將光可成像組合物,經由帘幕塗覆方法,施加成為濕 薄膜。使用下列塗覆狀況:為了獲得2. 0至2. 2密耳 厚度之模擬乾膜在層合物上及0. 8至0. 9密耳厚乾膜 在銅電路条統上,及施加每平方呎層合物,11.1克濕 塗覆物料。塗覆速率是8 0至9 0米/分。在塗覆期間, 光可成像組合物之加工黏度是2 2秒的Zahn No. 5杯讀數(2 5 °C)。此相當於大概6 0WT%固體粒子 。將該光可成像組合物在9 0 °C下乾燥歴1 5分鐘,並冷 卻至室溫。然後將第二面,以相同於第一面之方式塗覆。 將第二面在9 0°C下乾燥成為一種不賦黏之表面歴3 0分 鐘。將一値重氮圔模直接放置在薄膜上,並將該膜曝光於 甲 4(210X 297公沒) (請先閲讀背面之注惫事項再琪寫本貫)
199312 A6 ____B6___ 五、發明説明(β 具有在工作表面上,至少3 5 0 m joules/cm2的UV能 量曝光能鈒之光化輻射下。曝光時間應為使:在含水之顯 像過程期間,塗層的經曝光部份依然_損之一段時間。薄 膜傜在一種碱性水溶液中予以顯像,即:在以重量計1 % N a 2 C 0 3 Η 2 0中。將薄膜經由曝光於具有至少2 joules/ cm2 之 U V 能量 曝光能级之光化輻射下予以 U V 固化 。熱固化是在1 5 0 eC下,歷1小時。 {請先《讀背面之注意事項再填窝本百·) 經濟部中央橾準局印裝 te 肀 4(210X297 公沒) 經濟部中央標準局印裝 199212 A6 _ B6 五、發明説明(¥ 實 例 2 以如下方式,製備一種組合物: 組份 重量 三(2-羥乙基)異氡尿酸酯. 18.5 三丙烯酸酯 甲基化之三聚氡胺 3.4
Hetron 912 6.1
Novacure 3701 6.1 環氣甲酚酚醛清漆樹脂,環氣當量235 46.7 5-(2,5-二氣代四氫呋喃基)-3-甲基-3- 8.5 環已烯-1,2-二錢酸酐 3.7 2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮 2-甲基-1-〔4-(甲硫基)苯基]-2- 4.7 (4 -嗎啉基)-1-丙酮 異丙基硫代黃原酮 2.2 99.9 rf--- 甲 4 (210X297 公沒) (請先聞讀背面之注意事項再瑱寫本頁) •装· .打. •«L. 199212 A6 B6 五,發明説明($ 加均化劑: Byk 361,306(等份) 顔料(Penn Chips ) 填料(沈澱之矽石) 抑制劑(MEHQ ) 0.8 1.0 1 · 5 0.1 溶劑(數量及型式適合於 施加之方法) 所使用之溶劑:Ethy卜3-乙氣基丙酸乙酯 (請先聞諸背面之注意事項再填窝本页) 此組合物係依照實例1予以處理。 實例3 ” .訂. 實例1及2之每種組合物,其處理如下: ά. 經 濟 部 中 捃 準 Μ 印 將光可成像組合物,經由靜電噴霧法施加成為濕膜。 使用下列之塗覆狀況。使用一種適當溶劑,將光可成像組 合物稀釋至60秒的Zahn杯No. 2黏度。將各板經 由以5呎/分之速率,通過氣溶膠噴洒所輸送之靜電放電 溶液予以塗覆。將光可成像組合物,經由施加7 0,0 0 〇,伏恃予以充電。在乾燥前,將板之兩面均塗覆。乾燥 在8 Ot:下進行歴3 0分鐘》將一重氮圔模直接放置在不 賦黏之薄膜上,並將該膜曝光於具有在工作表面上,至少 3 5 0 m joules/cm2的U V能量曝光能级之光化輻射 下。曝光時間應為使:在含水之顯像過程期間*塗層的經 甲 4(210X297 公沒) 199 312 A6 '_B6 五、發明説明(i]7 {請先聞讀背面之注惫事項再填寫本頁) 曝光部份依然無損之一段時間。薄膜係在一種碱性水溶液 中予以顯像,即:在以重量計l%Na2C〇3,H2〇中 。將薄膜經由曝光於具有至少2 joules /cm2之UV能 量曝光能级之光化輻射下予以U V固化。熱固化是在150 °C下,歷1小時。 實例4 實例1及2之毎種組合物,其處理如下·· 將光成像組合物*成為濕膜而施加至基片上,以便形 成乾薄膜。將6密耳厚之濕膜,以預拉伸方式,施加垄基 片上。將溶劑自使用一聚酯片所覆蓋之膜中蒸發掉。將此 膜經由熱锟層合施加至電路板上。在成像期間,將重氮圖 模放置在覆蓋Μ上,但在顯像前,移去覆蓋片。將該膜曝 光於具有至少3 5 0 joules /cm2的UV能量曝光能級 在工作表面上之光化輻射下。曝光時間應為使:在含水之 顯像過程期間,塗層的經曝光部份依然無損之一段時間。 薄膜係在一種碱性水溶液中予以顯像,即:在以重量計1 %Na2C〇3· H20中。將薄膜經由曝光於具有至少2 joules /cm2之U V能量曝光能级之光化輻射下予以U V 固化◊熱固化是在1 5 0 °C下,歴1小時。 實例5 經濟部中央揉準局印裝 甲 4(210X297 公沒) 199212 Α6 Β6 五、發明説明(¥ 一種組合物,以如下方式予以製備: 組份 重量% 三(2-羥乙基)異氡尿酸酯 7.8 三丙烯酸酯 四丙烯酸季戊四醇酯 5.7 環氧甲酚酚醛清漆樹脂,環氧當量235 37.6
Novacure 3701 19.9 以己内醯胺保護之異佛爾酮 9.7 (D i isocyanate based adduct ) 5-(2,5-二氣代四氫呋喃基)-3-甲基-3- 10.3 環已烯-1.2-二羧酸訢 2,2-二甲氣基-2-苯基苯乙酮 5.0 2-甲基-1-〔4-(甲硫基)苯基]-2- 2.8 (4 -嗎琳基)-1-丙酮 經濟部中央捃準局印裝 {請先閲讀背面之注意事項再填寫本育) 異丙基硫代黃原酮 1.1 99.9 甲 4(210X297 公沒) -20 - 199212 A6 B6 五、發明説明( 加均化劑: 泡沫軋碎劑 Byk 077 Byk 306 顔料(Penn Green ) 填料(煅製之s i Ο 2) 抑制劑(MEHQ ) 1.9 2.0 1.1 1.2 3.5 0.05 {請先閏讀背面之注意事項再填寫本页·) .裝. 溶劑(數量及型式適合於 施加之方法) .打· 所使用之溶劑:3-氧基丙酸乙酯 二甘醇-乙醚乙酸酯(1:1) .線· 經濟部中央揉準局印裝
此光可成像組合物偽經由網販印刷被施加在印刷電路 板上,成為濕膜。網板篩是自6 1變至1 2 0篩孔之聚酯 。將經網印之光可成像組合物在8 0°C下乾燥歴3 0分鐘 ,産生一種不賦黏之薄膜。將一重氮圔模直接放置在薄膜 上,並將薄膜曝光於具有至少3 5 0 joules /cm2的U V能量曝光能级之光化輻射下。薄膜俗在一種碱性水溶液 中予以顯像,即:在以重量計,l%Na2C〇3*H2〇 中。將薄膜經由曝光於具有至少2 joules /cm2之UV T 4 (210X297 公角) 經濟部中央標準局印裝 199212 A6 B6 五、發明説明(2P 能量曝光能级之光化輻射下予以u V固化。熱固化是在1 5 0 °C下,歴1小時。 實例6 - 8 亦將賁例5中所述之光所成像組合物經由帘幕塗覆施 加至印刷電路板上成為濕膜,經由靜電噴塗成為濕膜,及 如上述各實例中所述,成為乾膜。 依照本發明之光可成像組合物的數種特徵現在可被更 為完全了解。作為液體,該組合物容許包膠複雜電路板設 計。該組合物是含水可顯像者。使該組合物迅速成像,提 供容易顯像。顯像留置組合物可剝除(如果此傜所需要的 話)直至最後固化。此組合物可能接觸成像而無覆蓋片, 較許多傳統式乾膜抗銲劑罩層組合物,産生較佳分辦。該 組合物顯示:耐熱性及抗化學性連同低離子污染數值及良 好抗熱震性。該組合物産生具有良好外觀之抗銲劑罩靥。 雖然本發明傜以某些較佳具體實施例計予以敘述,但 是只要不遠離本發明之範圍,可作成變型,為普通精於此 項技藝之人士顯然可見者。 本發明的各種特徵在下列申請專利範圍中特舉出。 ................!*……..........................*...............................................ίτ...................................................W {請先《讀背面之注意事項再填寫本瓦) 甲 4 (210X297 公潘) -22Γ=
Claims (1)
- X99212 公告本 « #正補充 Α7 Β7 C7 D7 經濟部中夬標準局胃工消費合作杜印^ 六、申锖專刊範圊 附件1A:第79104192號專利申請案 中文申請專利範圍修正本 民國8 1年1 1月修訂 1 . 一種光可成像組合物,包括: (a) 15至35重量%的一種可聚合之多官能基丙 烯酸糸單體, (b) 3至15重量%的一種感光性,産生自由基之 引發劑化學糸統,於有光化輻射存在時,此糸統引發丙烯 酸集部分的聚合, (c) 5至35重量%之環氧一丙烯酸酯低聚物,其 為雙酚環氣化物及/或酚醛環氧化物之丙烯酸酯, (d) 20至80重量%之一種環氣樹脂組合物,包 含雙酚環氣化物及/或酚醛環氧化物,隨著曝光於光化輻 射中後,此組合物可固化而使該光可成像組合物硬化, (e ) 0. 1至10重量%之適合環氣樹脂之一種酸 性固化劑,其為具有羧酸保護部分之羧酸酐或羧酸, (f)至多15重量%之一種能與羥基基圍起反應之 交聯劑,其為三聚氮胺一甲醛樹脂或經保護之多官能基異 氡酸醋, 組份(a )至(f )係被選擇以使此等組份能在一種 有機溶劑中形成均匀溶液,再乾燥成為均勻組合物(此組 合物可溶於碱性水溶液中),因此,該光可成像組合物在 (沆先閱碛背面之注意事項再填寫本頁) k· 訂: •哚· 木紙诋尺度適;Π屮阀W家標準(CNS) 4说格(210 X 297公货) 199212 A" C1 D1 經济部中央標準曷員工消費合作社印製 六、申边專.彳1苑® , 含水或碱性水溶液中可顯像。 2. 根據申請專利範圍第1項之光可成像组合物,其 ,中固彳b濟I (e)是一種潛在催化剤(具有羧基基園及保護 « ·· 此等羧基之保護部份),高於一臨界溫度時,此催化劑變 成脱去保護,於是在高於該臨界溫度時,促進了環氣樹脂 的固化。 3. 根據申請專利範圍第1項之光可成像組合物,其 中交聯劑(f )是三聚氰胺一甲醛樹脂。 4. 根據申請專利範圍第1項之光可成像組合物,其 中交聯劑(f)是經保護之多官能基異氛酸酯。 5. 根據申請專利範圍第1項之光可成像组合物,更 包括一種可分散之有機或無機填料,其濃度為:相對於組 份(a) — (f)之總重量,至多35重量%。 6. —種組合體,具有一基質及於其上之一層根據申 請專利範圍第1項的光可成像組合物,該基質是印刷電路 板,該層之光可成像組合物可處理而産生抗銲劑罩層。 7. 根據申諳專利範圍第1項之光可成像組合物,另 外包括一種有機溶劑,其濃度為:相對於组份(a ) — ( f)的總重量,在10與6◦重量%間。 8 .根據申請專利範圍第1項之光可成像組合物,其 可被塗覆於擔體片上而成為一層乾膜。 (請先閱讀背面之:ίχ意事ifi再填寫本百) .打.,· •哚. 本紙張尺度適爪t W S家標準(CMS) τ 4規格(210 X 297公釐) -2 -
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US36440389A | 1989-06-09 | 1989-06-09 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW199212B true TW199212B (zh) | 1993-02-01 |
Family
ID=23434388
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW079104192A TW199212B (zh) | 1989-06-09 | 1990-05-23 |
Country Status (11)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0403170B1 (zh) |
JP (1) | JPH0329951A (zh) |
KR (1) | KR920005776B1 (zh) |
AT (1) | ATE122161T1 (zh) |
AU (1) | AU620716B2 (zh) |
CA (1) | CA2017860C (zh) |
DE (1) | DE69019067T2 (zh) |
HK (1) | HK152596A (zh) |
IL (1) | IL94474A (zh) |
NO (1) | NO902552L (zh) |
TW (1) | TW199212B (zh) |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB9105561D0 (en) * | 1991-03-15 | 1991-05-01 | Coates Brothers Plc | Image formation |
US5928839A (en) * | 1992-05-15 | 1999-07-27 | Morton International, Inc. | Method of forming a multilayer printed circuit board and product thereof |
US5539012A (en) * | 1993-08-18 | 1996-07-23 | Loctite Corporation | Fiber/resin composites and method of preparation |
US5679719A (en) * | 1993-03-24 | 1997-10-21 | Loctite Corporation | Method of preparing fiber/resin composites |
US5565499A (en) * | 1993-03-24 | 1996-10-15 | Loctite Corporation | Filament-winding compositions for fiber/resin composites |
TW290583B (zh) * | 1993-10-14 | 1996-11-11 | Alpha Metals Ltd | |
TW353858B (en) * | 1994-07-07 | 1999-03-01 | Morton Int Inc | Method of forming a multilayer printed circuit board and product thereof |
US5458921A (en) * | 1994-10-11 | 1995-10-17 | Morton International, Inc. | Solvent system for forming films of photoimageable compositions |
AU708172B2 (en) * | 1996-02-26 | 1999-07-29 | Rohm And Haas Company | Dual-cure latex compositions |
TWI289238B (en) | 2000-01-13 | 2007-11-01 | Fujifilm Corp | Negative resist compositions using for electronic irradiation |
CN101225184B (zh) * | 2007-01-19 | 2011-01-26 | 财团法人工业技术研究院 | 树脂组成物 |
CN103616799B (zh) * | 2013-11-07 | 2016-02-24 | 李厚民 | 一种固化后有机可溶的光敏树脂、制备方法及溶解方法 |
US9606430B2 (en) * | 2014-08-28 | 2017-03-28 | Xerox Corporation | Method of aerosol printing a solder mask ink composition |
US9796864B2 (en) * | 2014-08-28 | 2017-10-24 | Xerox Corporation | Solder mask ink composition |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4849425A (zh) * | 1971-10-22 | 1973-07-12 | ||
JPS4873148A (zh) * | 1971-12-28 | 1973-10-02 | ||
JPS592018B2 (ja) * | 1975-03-26 | 1984-01-17 | 住友化学工業株式会社 | カイリヨウサレタカンコウセイジユシソセイブツカラナルゲンケイ |
US4102687A (en) * | 1977-02-14 | 1978-07-25 | General Electric Company | UV Curable composition of a thermosetting condensation resin and Group VIa onium salt |
GB8307220D0 (en) * | 1983-03-16 | 1983-04-20 | Ciba Geigy Ag | Production of images |
US4572890A (en) * | 1983-05-11 | 1986-02-25 | Ciba-Geigy Corporation | Process for the production of images |
JPS61264340A (ja) * | 1985-05-20 | 1986-11-22 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
JPH0618856B2 (ja) * | 1986-02-14 | 1994-03-16 | 日本合成ゴム株式会社 | 液状感光性樹脂組成物およびそれを用いる画像形成法 |
JPS62226145A (ja) * | 1986-03-27 | 1987-10-05 | Toshiba Corp | ソルダ−レジスト |
JPH0814697B2 (ja) * | 1987-05-12 | 1996-02-14 | 日立化成工業株式会社 | 感光性樹脂組成物 |
JPS63289014A (ja) * | 1987-05-21 | 1988-11-25 | Tamura Kaken Kk | 感光性皮膜組成物 |
KR940007784B1 (ko) * | 1987-12-07 | 1994-08-25 | 모르톤 티오콜 인코오포레이티드 | 광영상 조성물 및 이를 사용한 필름 형성 방법 |
-
1990
- 1990-05-22 IL IL94474A patent/IL94474A/xx not_active IP Right Cessation
- 1990-05-23 TW TW079104192A patent/TW199212B/zh active
- 1990-05-25 AU AU55965/90A patent/AU620716B2/en not_active Ceased
- 1990-05-30 CA CA002017860A patent/CA2017860C/en not_active Expired - Fee Related
- 1990-06-05 JP JP2145546A patent/JPH0329951A/ja active Pending
- 1990-06-08 NO NO90902552A patent/NO902552L/no unknown
- 1990-06-08 DE DE69019067T patent/DE69019067T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1990-06-08 AT AT90306257T patent/ATE122161T1/de not_active IP Right Cessation
- 1990-06-08 EP EP90306257A patent/EP0403170B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-06-09 KR KR1019900008564A patent/KR920005776B1/ko not_active IP Right Cessation
-
1996
- 1996-08-08 HK HK152596A patent/HK152596A/xx not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE69019067D1 (de) | 1995-06-08 |
IL94474A (en) | 1993-07-08 |
AU620716B2 (en) | 1992-02-20 |
HK152596A (en) | 1996-08-16 |
EP0403170B1 (en) | 1995-05-03 |
CA2017860A1 (en) | 1990-12-09 |
IL94474A0 (en) | 1991-03-10 |
ATE122161T1 (de) | 1995-05-15 |
EP0403170A3 (en) | 1991-06-26 |
KR920005776B1 (ko) | 1992-07-18 |
NO902552L (no) | 1990-12-10 |
KR910001462A (ko) | 1991-01-30 |
CA2017860C (en) | 1997-05-20 |
EP0403170A2 (en) | 1990-12-19 |
JPH0329951A (ja) | 1991-02-07 |
AU5596590A (en) | 1990-12-13 |
NO902552D0 (no) | 1990-06-08 |
DE69019067T2 (de) | 1995-08-31 |
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