SU957746A1 - Устройство дл проведени плазмохимических процессов - Google Patents
Устройство дл проведени плазмохимических процессов Download PDFInfo
- Publication number
- SU957746A1 SU957746A1 SU813265543A SU3265543A SU957746A1 SU 957746 A1 SU957746 A1 SU 957746A1 SU 813265543 A SU813265543 A SU 813265543A SU 3265543 A SU3265543 A SU 3265543A SU 957746 A1 SU957746 A1 SU 957746A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- chemical processes
- plasma
- lower electrode
- plates
- pins
- Prior art date
Links
Landscapes
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Abstract
УСТРОЙСТВО ДЛЯ ПРОВЕДЕНИЯ ПЛАЗМОХИМИЧЕСКИХ ПРОЦЕССОВ, содержащее реакционную камеру, нижний элект род, верхний электрод, систему подачи и отвода реакционных газов, источник энергии, устройство дл перемещени обрабатываемых пластин, отличающеес тем, что, с целью повыиени производительности плазмохимических процессов и упеличени выхода годных изделий, устройство дл перемещени обрабатываемых пластин относительно нижне го электрода выполнено в виде группы вертикально расположенных штырей с возможностью возвратно-поступательного движени , на концах которых располагаютс пластины, а в нижнем электроде выполнены отверсти дл перемещени штырей.
Description
19 Изобретение относитс к технической физике и премен етс дл проведе ни плазмохимических процессов. Известно устройство дл проведени плазмохимических процессов, содержащее реакционную камеру, верхний и нижний электроды, устройство дл перемещени нижнего электрода с пласти нами, систему подачи и отвода реакционных газов. Недостатком этого уст ройства вл етс неэффективное использование реакционных газов и низкое качество обработки из-за подтрав ливани образцов. Известно также уст ройство дл проведени плазмохимичес ких процессов, содержащее реакционну камеру, нижний и верхний электроды, систему подачи и отвода реакционных газов, источник энергии. Недостатком этого устройства вл етс низка производительность плазмохимических процессов и низкий выход годных изделий . Цель изобретени - повьшение производительности плазмохимических процессов и увеличение выхода годных изделий. Цель достигаетс тем, что в устройстве дтт проведени плазмохимичес ких процессов, содержащем реакционную камеру, нижний электрод, верхний электрод, систему подачи и отвода ре акционных газов, источник энергии, устройство дл перемещени обрабатываемЬ1Х пластин, последнее выполнено в виде группы вертикально расположенных штырей с возможностью возврат но-поступательного движени , на концах которых располагаютс пластины, а в нижнем электроде вьшолнены отверсти дд перемещени штырей. Изобретение по сн етс чертежом, на котором изображено устройство 6 дл проведени плазмохимических процессов , содержащее реакционную камеру 1 с крышкой 2, нижний электрод 3 с выступом 4, верхний электрод 5с токовводом 6, систему 7 подачи реакционных газов, систему 8 отвода реакционных газов (отверсти ), устройство 9 дл вертикального перемещени обрабатываемых пластин 10 со штыр ми 11. Устройство работает следующим образом . При помощи ступенчатого вращени нижнего электрода 3 загрузочными штыр ми 11 и их устройствами 9 обрабатываемые пластины 10 устанавливаютс на месте обработки на выступе 4 нижнего электрода 3. Объем реакционной камеры 1 вакуумируетс через систему (отверсти ) 8, и через сопло системы 7 подачи в реакционную камеру 1 напускают реакционные газы. Через токовводь 6 на электрод 5 подаетс высокочастотна энерги , в результате чего между электродом 5 и электродом 3 возбуждаетс плазменный разр д. При этом, нар ду с другими процессами, имеющими место в плазменном разр де (возбуждение и ионизаци молекул и атомов), происходит образование химически активных радикалов , посредством которых осуществл етс процесс плазмохимической обработки поверхности пластин 10, размещенных на электроде 3. Мен состав газообразных реагентов , а также услови в реакционной камере 1 (давление, температуру), возможно осуществление процесса плазмохимического осаждени материалов. Использование в устройстве подъемных штырей позвол ет автоматизировать процесс загрузки-выгрузки обрабатываемых пластин, исключить загр знение их оператором, т.е. повысить качество обработки.
Claims (1)
- УСТРОЙСТВО ДЛЯ ПРОВЕДЕНИЯ ПЛАЗМОХИМИЧЕСКИХ ПРОЦЕССОВ щее реакционную жения, на концах которых располагаются пластины, а в нижнем электроде полнены отверстия для перемещения штырей.I , содержакамеру, нижний элект-777777SU ...957746
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU813265543A SU957746A1 (ru) | 1981-01-16 | 1981-01-16 | Устройство дл проведени плазмохимических процессов |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU813265543A SU957746A1 (ru) | 1981-01-16 | 1981-01-16 | Устройство дл проведени плазмохимических процессов |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU957746A1 true SU957746A1 (ru) | 1988-04-07 |
Family
ID=20949565
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU813265543A SU957746A1 (ru) | 1981-01-16 | 1981-01-16 | Устройство дл проведени плазмохимических процессов |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (1) | SU957746A1 (ru) |
-
1981
- 1981-01-16 SU SU813265543A patent/SU957746A1/ru active
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
Новое в конструировании оборудо вани полупроводниковой промышленности. Электроника.,т. 50 № 15 * |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4264393A (en) | Reactor apparatus for plasma etching or deposition | |
US4358686A (en) | Plasma reaction device | |
KR970058390A (ko) | 플라즈마 처리장치의 챔버 에칭방법 및 그를 실시하기 위한 플라즈마 처리 장치 | |
KR20040048272A (ko) | 대기압 플라즈마를 이용한 표면처리장치 | |
US3616461A (en) | Apparatus for exciting a gas by means of an electrodeless discharge | |
JPH0423429A (ja) | 半導体装置のプラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | |
SU957746A1 (ru) | Устройство дл проведени плазмохимических процессов | |
JPH088234A (ja) | プラズマ処理装置 | |
JPH10237657A (ja) | プラズマ処理装置 | |
JP3394263B2 (ja) | 真空処理方法及び装置 | |
JPH0573051B2 (ru) | ||
KR20050024172A (ko) | 대기압 플라즈마 표면처리장치 및 표면처리방법 | |
JP4407100B2 (ja) | プラズマ放電処理装置 | |
JPS62159433A (ja) | レジスト除去方法及び装置 | |
JP2791795B2 (ja) | エッチング装置 | |
JP2000328269A (ja) | ドライエッチング装置 | |
JP3010443U (ja) | プラズマ処理装置 | |
JPS635526A (ja) | ドライエツチング装置 | |
JPH11144891A (ja) | プラズマ処理装置 | |
JPH05326453A (ja) | マイクロ波プラズマ処理装置 | |
JP3839570B2 (ja) | プラズマ処理装置 | |
JPH04343222A (ja) | プラズマ処理装置 | |
JPH0551952U (ja) | プラズマ処理装置 | |
JPH0254928A (ja) | プラズマ処理装置 | |
RU1407384C (ru) | Способ обработки металлических деталей импульсной плазмой |