SU957746A1 - Устройство дл проведени плазмохимических процессов - Google Patents

Устройство дл проведени плазмохимических процессов Download PDF

Info

Publication number
SU957746A1
SU957746A1 SU813265543A SU3265543A SU957746A1 SU 957746 A1 SU957746 A1 SU 957746A1 SU 813265543 A SU813265543 A SU 813265543A SU 3265543 A SU3265543 A SU 3265543A SU 957746 A1 SU957746 A1 SU 957746A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
chemical processes
plasma
lower electrode
plates
pins
Prior art date
Application number
SU813265543A
Other languages
English (en)
Inventor
В.А. Сологуб
В.И. Иванов
Ю.Н. Николаев
А.П. Медведев
О.П. Гущин
Original Assignee
Предприятие П/Я В-8495
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Предприятие П/Я В-8495 filed Critical Предприятие П/Я В-8495
Priority to SU813265543A priority Critical patent/SU957746A1/ru
Application granted granted Critical
Publication of SU957746A1 publication Critical patent/SU957746A1/ru

Links

Landscapes

  • Drying Of Semiconductors (AREA)

Abstract

УСТРОЙСТВО ДЛЯ ПРОВЕДЕНИЯ ПЛАЗМОХИМИЧЕСКИХ ПРОЦЕССОВ, содержащее реакционную камеру, нижний элект род, верхний электрод, систему подачи и отвода реакционных газов, источник энергии, устройство дл  перемещени  обрабатываемых пластин, отличающеес  тем, что, с целью повыиени  производительности плазмохимических процессов и упеличени  выхода годных изделий, устройство дл  перемещени  обрабатываемых пластин относительно нижне го электрода выполнено в виде группы вертикально расположенных штырей с возможностью возвратно-поступательного движени , на концах которых располагаютс  пластины, а в нижнем электроде выполнены отверсти  дл  перемещени  штырей.

Description

19 Изобретение относитс  к технической физике и премен етс  дл  проведе ни  плазмохимических процессов. Известно устройство дл  проведени плазмохимических процессов, содержащее реакционную камеру, верхний и нижний электроды, устройство дл  перемещени  нижнего электрода с пласти нами, систему подачи и отвода реакционных газов. Недостатком этого уст ройства  вл етс  неэффективное использование реакционных газов и низкое качество обработки из-за подтрав ливани  образцов. Известно также уст ройство дл  проведени  плазмохимичес ких процессов, содержащее реакционну камеру, нижний и верхний электроды, систему подачи и отвода реакционных газов, источник энергии. Недостатком этого устройства  вл етс  низка  производительность плазмохимических процессов и низкий выход годных изделий . Цель изобретени  - повьшение производительности плазмохимических процессов и увеличение выхода годных изделий. Цель достигаетс  тем, что в устройстве дтт  проведени  плазмохимичес ких процессов, содержащем реакционную камеру, нижний электрод, верхний электрод, систему подачи и отвода ре акционных газов, источник энергии, устройство дл  перемещени  обрабатываемЬ1Х пластин, последнее выполнено в виде группы вертикально расположенных штырей с возможностью возврат но-поступательного движени , на концах которых располагаютс  пластины, а в нижнем электроде вьшолнены отверсти  дд  перемещени  штырей. Изобретение по сн етс  чертежом, на котором изображено устройство 6 дл  проведени  плазмохимических процессов , содержащее реакционную камеру 1 с крышкой 2, нижний электрод 3 с выступом 4, верхний электрод 5с токовводом 6, систему 7 подачи реакционных газов, систему 8 отвода реакционных газов (отверсти ), устройство 9 дл  вертикального перемещени  обрабатываемых пластин 10 со штыр ми 11. Устройство работает следующим образом . При помощи ступенчатого вращени  нижнего электрода 3 загрузочными штыр ми 11 и их устройствами 9 обрабатываемые пластины 10 устанавливаютс  на месте обработки на выступе 4 нижнего электрода 3. Объем реакционной камеры 1 вакуумируетс  через систему (отверсти ) 8, и через сопло системы 7 подачи в реакционную камеру 1 напускают реакционные газы. Через токовводь 6 на электрод 5 подаетс  высокочастотна  энерги , в результате чего между электродом 5 и электродом 3 возбуждаетс  плазменный разр д. При этом, нар ду с другими процессами, имеющими место в плазменном разр де (возбуждение и ионизаци  молекул и атомов), происходит образование химически активных радикалов , посредством которых осуществл етс  процесс плазмохимической обработки поверхности пластин 10, размещенных на электроде 3. Мен   состав газообразных реагентов , а также услови  в реакционной камере 1 (давление, температуру), возможно осуществление процесса плазмохимического осаждени  материалов. Использование в устройстве подъемных штырей позвол ет автоматизировать процесс загрузки-выгрузки обрабатываемых пластин, исключить загр знение их оператором, т.е. повысить качество обработки.

Claims (1)

  1. УСТРОЙСТВО ДЛЯ ПРОВЕДЕНИЯ ПЛАЗМОХИМИЧЕСКИХ ПРОЦЕССОВ щее реакционную жения, на концах которых располагаются пластины, а в нижнем электроде полнены отверстия для перемещения штырей.
    I , содержакамеру, нижний элект-
    777777
    SU ...957746
SU813265543A 1981-01-16 1981-01-16 Устройство дл проведени плазмохимических процессов SU957746A1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU813265543A SU957746A1 (ru) 1981-01-16 1981-01-16 Устройство дл проведени плазмохимических процессов

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU813265543A SU957746A1 (ru) 1981-01-16 1981-01-16 Устройство дл проведени плазмохимических процессов

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU957746A1 true SU957746A1 (ru) 1988-04-07

Family

ID=20949565

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU813265543A SU957746A1 (ru) 1981-01-16 1981-01-16 Устройство дл проведени плазмохимических процессов

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU957746A1 (ru)

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Новое в конструировании оборудо вани полупроводниковой промышленности. Электроника.,т. 50 № 15 *

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4264393A (en) Reactor apparatus for plasma etching or deposition
US4358686A (en) Plasma reaction device
KR970058390A (ko) 플라즈마 처리장치의 챔버 에칭방법 및 그를 실시하기 위한 플라즈마 처리 장치
KR20040048272A (ko) 대기압 플라즈마를 이용한 표면처리장치
US3616461A (en) Apparatus for exciting a gas by means of an electrodeless discharge
JPH0423429A (ja) 半導体装置のプラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
SU957746A1 (ru) Устройство дл проведени плазмохимических процессов
JPH088234A (ja) プラズマ処理装置
JPH10237657A (ja) プラズマ処理装置
JP3394263B2 (ja) 真空処理方法及び装置
JPH0573051B2 (ru)
KR20050024172A (ko) 대기압 플라즈마 표면처리장치 및 표면처리방법
JP4407100B2 (ja) プラズマ放電処理装置
JPS62159433A (ja) レジスト除去方法及び装置
JP2791795B2 (ja) エッチング装置
JP2000328269A (ja) ドライエッチング装置
JP3010443U (ja) プラズマ処理装置
JPS635526A (ja) ドライエツチング装置
JPH11144891A (ja) プラズマ処理装置
JPH05326453A (ja) マイクロ波プラズマ処理装置
JP3839570B2 (ja) プラズマ処理装置
JPH04343222A (ja) プラズマ処理装置
JPH0551952U (ja) プラズマ処理装置
JPH0254928A (ja) プラズマ処理装置
RU1407384C (ru) Способ обработки металлических деталей импульсной плазмой