RU1407384C - Способ обработки металлических деталей импульсной плазмой - Google Patents

Способ обработки металлических деталей импульсной плазмой

Info

Publication number
RU1407384C
RU1407384C SU4013606A RU1407384C RU 1407384 C RU1407384 C RU 1407384C SU 4013606 A SU4013606 A SU 4013606A RU 1407384 C RU1407384 C RU 1407384C
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
metal parts
parts
radius
treatment
electrodes
Prior art date
Application number
Other languages
English (en)
Inventor
шенко В.Н. Л
Ю.В. Скворцов
С.С. Церевитинов
Original Assignee
шенко В.Н. Л
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by шенко В.Н. Л filed Critical шенко В.Н. Л
Priority to SU4013606 priority Critical patent/RU1407384C/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU1407384C publication Critical patent/RU1407384C/ru

Links

Landscapes

  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)

Abstract

Изобретение относитс  к способам обработки метанпических деталей импульсной плазмой. Целью изобетени   вл етс  улучшение качеава поверхности цилиндрических металлических деталей за счет модификации кристаллической структуры . Дл  этого процесс ведут при выполнении следующих режимных параметров: величину разр дного тока 1 в камере поддерживают i2:(10 V/lnR/r) . где f - радиус детали. R - внутренний радиус изол ционной камеры, а врем  о аботки детали находитс  в пределах 10 - 100 МКС 1 ил.

Description

Изобретение относитс  к технологии обработки деталей путем облучени  мх поверхности ,потока энергии илм частиц и может быть использовано во всех отрасл х народного хоз йства, в частности в авиационной и судостроительной промышленности , дл  увеличени  срока службы деталей,
Целью изобретени   вл етс  улучшение качества поверхности цилиндрических металлических деталей за счет модификации кристаллической структуры.
На чертеже изображена схема устройства дл  обработки металлических деталей импульсной плазмой.
Два электрода 1 установлены соосно напротив друг друга. Изол тор 2 опираетс  своими торцовыми поверхност ми на торцовые поверхности электродов. Полость изол тора 2 имеет цилиндрическую форму радиусом R. В одном из злектродов 1, в его центрэльной части, выполнено сквозное отверстие 3, предназначенного дл  ввода через него в полость изол тора обрабатываемой детали 4, а также дл  установки зажимных злементов с целью крепле- нм  обрабатываемой детали 4, сквозное отверстие 5 дл  напуска рабочего газа, сквозное отверстие 6 дл  напуска воздуха. В другом электроде выполнено сквозное отверстие 7 дл  откачки воздуха с целью ваку- умировзнил объема камеры. Электроды 1 запмтываютс  от импульсного источника знергии, например конденсаторной батареи .
Обработка,металлических деталей производитс  следующим образом.
Через сквозное отверстие 3 с помощью зажимных злементов обрабатываемую деталь 4 помещают в полость изол тора 2. Откачку воздуха прекращают и через отверстие 5 напускают рабочий газ. например водород, азот, гелий. Производ т зар дку
0
5
0
источника питани  электродов 1, например конденсаторной батареи. По окончании зар дки , например, конденсаторной батареи инициируют высоковольтный электрический пробой на электроды 1. После пробо  межэлектродного промежутка область, зан та  плазмой, благодар  скин-эффекту, представл ет собой тонкий цилиндрический слой, прилегающий к внутренней стенке изол тора 2. Этот слой отрываетс  от изол тора 2 и сначала, медленно, а затем все быстрее ст гиваетс  равномерно к продольной оси цилиндрического изол тора электродинамическими силами, пропорциональными величине , где t - ток электрического разр да, г - радиус плазменного сло , и по достижении плазмой поверхности обрабатываемой детали происходит модификаци  поверхностного сло  детали. Указанный процесс происходит при поддержании тока разр да
iS (
In R/r
)
где г - радиус детали:
R - внутренний радиус изол ционного корпуса,
а врем  обработки составл ет 10-100мкс. В случае выхода за эти пределы цилиндрический плазменный слой не будет обладать энергией, достаточной дл  модификации кристаллической структуры поверхности металлических цилиндрических деталей.
(56) Алексеев В.А. и др. Образование аморфной металлической поверхности при облучении импульсным потоком водородной плазмы. ПисьмавЖТФ, 1983,вып. I.e.42-45.
Авторское свидетельство СССР Ns 1134022. кл. G 21 В 1/00, 1983.

Claims (1)

  1. Формула изобретени 
    Способ обработки металлических деталей импульсной плазмой, заключающийс  в размещение детали в полости изол ционного цилиндрического корпуса, в торцах которого установлены . эле,ктродь, вакуумировании объема полости с последующим напуском газа и подачей напр жени  на электроды, отличающийс  тем, что.
    45
    50
    с целью улучщени  качества поверхности цилиндрических металлических деталей за счет модификации кристаллической структуры , величину разр дного тока поддержива/ „ ,,1/2 , I }
    ЮТ разной 1 .--fy/ , где г-радиус
    J п R/r;
    детали, R - внутренний радиус изол ционного цилиндрического корпуса, а врем  обработки детали составл ет 10-100 мкс.
    f
    jL
SU4013606 1986-01-22 1986-01-22 Способ обработки металлических деталей импульсной плазмой RU1407384C (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU4013606 RU1407384C (ru) 1986-01-22 1986-01-22 Способ обработки металлических деталей импульсной плазмой

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU4013606 RU1407384C (ru) 1986-01-22 1986-01-22 Способ обработки металлических деталей импульсной плазмой

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU1407384C true RU1407384C (ru) 1993-10-15

Family

ID=21218434

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU4013606 RU1407384C (ru) 1986-01-22 1986-01-22 Способ обработки металлических деталей импульсной плазмой

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU1407384C (ru)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4414765B2 (ja) プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
US6204605B1 (en) Electrodeless discharge at atmospheric pressure
US5221427A (en) Plasma generating device and method of plasma processing
KR880005840A (ko) 플라즈마 처리방법 및 장치
KR930001351A (ko) 전자기 rf 연결부를 사용하는 플라즈마 처리기 및 방법
KR900013595A (ko) 플라즈마 에칭방법 및 장치
GB805164A (en) Improvements in and connected with the starting and carrying out of processes using electrical glow discharges
JP2002289583A (ja) ビーム処理装置
JPS61226925A (ja) 放電反応装置
RU1407384C (ru) Способ обработки металлических деталей импульсной плазмой
EP1273025B1 (de) Vorrichtung zum plasmabehandeln der oberfläche von substraten durch ionenätzung
AU2004310860A1 (en) Plasma discharger
JPS57210631A (en) Reactive type ion etching method
KR970073239A (ko) 플라즈마 이온 주입에 의한 고분자 소재의 표면 개질 방법 및 그 장치(Method for Modifying a Surface of Polymeric Material Using Plasma Source Ion Implantation and Apparatus Therefor)
JP3254282B2 (ja) パルス状イオンビーム発生方法
JPH0573051B2 (ru)
JPS6424835A (en) Discharge process and apparatus for modifying surface of solid
RU2029411C1 (ru) Способ плазменного травления тонких пленок
KR20020083565A (ko) 유해가스 제거장치
RU2170283C2 (ru) Способ очистки поверхности металлических изделий
JPS5635775A (en) Ion beam etching method
JPS6298542A (ja) イオン源
KR970003611A (ko) 플라즈마 처리 방법
RU2065891C1 (ru) Способ ионной обработки поверхности изделий и устройство для его осуществления
JP2004134716A (ja) 2電源方式プラズマ発生装置