SU901355A1 - Способ изготовлени масок дл нанесени на подложку - Google Patents
Способ изготовлени масок дл нанесени на подложку Download PDFInfo
- Publication number
- SU901355A1 SU901355A1 SU721845753A SU1845753A SU901355A1 SU 901355 A1 SU901355 A1 SU 901355A1 SU 721845753 A SU721845753 A SU 721845753A SU 1845753 A SU1845753 A SU 1845753A SU 901355 A1 SU901355 A1 SU 901355A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- pattern
- photoresist
- mask
- protective coating
- metal base
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
Изобретение относитс к способам производства радиоаппаратуры, в час ности масок дл изготовлени печатных схем и электронш 1х деталей. Известен способ изготовлени масок дл нанесени на подложку, например вакуумным испарением, рисунка электронных элементов и печатных проводников, включакхций выполнение методами фотолитографии рисунка из фоторезиста иа металлической основе маски {11 . Однако известный способ изготовлени масок не позвол ет получить сложный рисунок тонкопленочных элементов за один цикл нанесени , так как необходимо примен ть последовательно несколько масок. Цель изобретени - получение сло ного рисунка за один цикл нанесени Указанна цель достигаетс тем, что В способе изготовлени масок дл нанесени на подложку, например вакуумным испаре1шем, рисунка электронных элементов н печатных проводников , включак цем выполнение методами фотолитографии рисунка из фоторезиста на металлической основе маски, рисунок из фоторезиста 3if полн ют иа металлической основе маски в виде сетки, на рисунок из фоторезиста и на пробельные места сетки нанос т маскирующее защитное псжрытие, стойкое к травильным растворам , после чего удалением фоторезиста с нанесенным на него маскирующим защитным покрытием получают рисунок маски. На чертеже схематически изображено осуществление предлагаемого способа . На подложку I, изготовленную из фенольной смолы, дл улучшени сцеплени нанесенного, например вакуумньм испарением, рисунка структурного сло 2 наноситс сцепл ющее вещество Зо
Claims (1)
- Формула изобретения 5 Способ изготовления масок для нанесения на подложку, например вакуумным испарением, рисунка электронных элементов и печатных провод• ников, включающий выполнение метоуд дами фотолитографии рисунка из фоторезиста на металлической основе маски, отличающийся тем, что, с целью получения сложного рисунка за один цикл нанесения, рисунок из фоторезиста выполняют на металлической основе маски в виде сетки, на рисунок из фоторезиста и на пробельные места сетки наносят маскирующее защитное покрытие, по20 еле чего удалением фоторезиста с нанесенным на него маскирующим защитным покрытием получают рисунок маски.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU721845753A SU901355A1 (ru) | 1972-11-01 | 1972-11-01 | Способ изготовлени масок дл нанесени на подложку |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU721845753A SU901355A1 (ru) | 1972-11-01 | 1972-11-01 | Способ изготовлени масок дл нанесени на подложку |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU901355A1 true SU901355A1 (ru) | 1982-01-30 |
Family
ID=20531940
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU721845753A SU901355A1 (ru) | 1972-11-01 | 1972-11-01 | Способ изготовлени масок дл нанесени на подложку |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (1) | SU901355A1 (ru) |
-
1972
- 1972-11-01 SU SU721845753A patent/SU901355A1/ru active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4115120A (en) | Method of forming thin film patterns by differential pre-baking of resist | |
DK0664016T3 (da) | Fremgangsmåde til fremstilling og anvendelse af en serigrafiskabelon med ophøjede kanter | |
ES450758A1 (es) | Procedimiento para la fabricacion de dispositivos de memoriade semiconductores. | |
US3222173A (en) | Method of making an electrical unit | |
ATE82529T1 (de) | Verfahren zur herstellung mehrschichtiger halbleiterplatten. | |
SU901355A1 (ru) | Способ изготовлени масок дл нанесени на подложку | |
US2961314A (en) | Method of manufacturing color image reproducer | |
DE2626851C3 (de) | Verfahren zur Herstellung von Masken für die Röntgenlithographie | |
JPS55158999A (en) | Screen printing plate and manufacturing of the same | |
FR2040016A5 (en) | Printed circuit plates with continuous - coated holes | |
DE112017004155T5 (de) | Leiterplatte und Verfahren zur Herstellung derselben | |
JPS58151023A (ja) | 多層よりなるレジスト層の形成方法 | |
GB1005943A (en) | Multilayer electrical circuit assemblies and processes for producing such assemblies | |
CN109750254B (zh) | 一种金属掩膜板的制作方法 | |
JPS59197041A (ja) | スクリ−ン印刷版の製造方法 | |
JPS5649541A (en) | Multilayer wiring structure for integrated circuit | |
JPS56165244A (en) | Manufacture of multilayer thin film electrode | |
JPS5867048A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JPS5710989A (en) | Pattern manufacture for jusephson-junction element | |
DE2436568C3 (de) | Verfahren zur Strukturierung dünner Schichten | |
JPH08204313A (ja) | ファインパターン印刷回路 | |
JPS5452473A (en) | Forming method for coating for fine pattern | |
DE1765945A1 (de) | Verfahren zum Herstellen einer gedruckten Schaltung mit in mehreren Ebenen verlaufenden flaechenhaften Leiterzuegen | |
JPS6019095B2 (ja) | 螢光表示管用陽極基板の製造方法 | |
JPS6355235B2 (ru) |