SE408188B - Sett vid behandling av kopparfolie for att forbettra dess bindningshallfasthet till ett substrat - Google Patents

Sett vid behandling av kopparfolie for att forbettra dess bindningshallfasthet till ett substrat

Info

Publication number
SE408188B
SE408188B SE7210041A SE1004172A SE408188B SE 408188 B SE408188 B SE 408188B SE 7210041 A SE7210041 A SE 7210041A SE 1004172 A SE1004172 A SE 1004172A SE 408188 B SE408188 B SE 408188B
Authority
SE
Sweden
Prior art keywords
layer
copper
foil
zinc
electrolyte
Prior art date
Application number
SE7210041A
Other languages
English (en)
Inventor
C B Yates
A M Wolski
Original Assignee
Yates Industries
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Yates Industries filed Critical Yates Industries
Publication of SE408188B publication Critical patent/SE408188B/sv

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/38Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal
    • H05K3/382Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by special treatment of the metal
    • H05K3/384Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by special treatment of the metal by plating
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/10Electroplating with more than one layer of the same or of different metals
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/60Electroplating characterised by the structure or texture of the layers
    • C25D5/605Surface topography of the layers, e.g. rough, dendritic or nodular layers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/627Electroplating characterised by the visual appearance of the layers, e.g. colour, brightness or mat appearance
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/03Conductive materials
    • H05K2201/0332Structure of the conductor
    • H05K2201/0335Layered conductors or foils
    • H05K2201/0355Metal foils
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2203/00Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
    • H05K2203/03Metal processing
    • H05K2203/0307Providing micro- or nanometer scale roughness on a metal surface, e.g. by plating of nodules or dendrites
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2203/00Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
    • H05K2203/07Treatments involving liquids, e.g. plating, rinsing
    • H05K2203/0703Plating
    • H05K2203/0723Electroplating, e.g. finish plating
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2203/00Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
    • H05K2203/11Treatments characterised by their effect, e.g. heating, cooling, roughening
    • H05K2203/1105Heating or thermal processing not related to soldering, firing, curing or laminating, e.g. for shaping the substrate or during finish plating
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S205/00Electrolysis: processes, compositions used therein, and methods of preparing the compositions
    • Y10S205/92Electrolytic coating of circuit board or printed circuit, other than selected area coating
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/12All metal or with adjacent metals
    • Y10T428/12014All metal or with adjacent metals having metal particles
    • Y10T428/12028Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, etc.]
    • Y10T428/12063Nonparticulate metal component
    • Y10T428/12069Plural nonparticulate metal components
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/12All metal or with adjacent metals
    • Y10T428/12472Microscopic interfacial wave or roughness
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/12All metal or with adjacent metals
    • Y10T428/12493Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
    • Y10T428/12535Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.] with additional, spatially distinct nonmetal component
    • Y10T428/12556Organic component
    • Y10T428/12569Synthetic resin
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/12All metal or with adjacent metals
    • Y10T428/12493Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
    • Y10T428/12639Adjacent, identical composition, components
    • Y10T428/12646Group VIII or IB metal-base
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/12All metal or with adjacent metals
    • Y10T428/12493Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
    • Y10T428/12708Sn-base component
    • Y10T428/12715Next to Group IB metal-base component
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/12All metal or with adjacent metals
    • Y10T428/12493Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
    • Y10T428/12771Transition metal-base component
    • Y10T428/12778Alternative base metals from diverse categories
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/12All metal or with adjacent metals
    • Y10T428/12493Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
    • Y10T428/12771Transition metal-base component
    • Y10T428/12861Group VIII or IB metal-base component
    • Y10T428/12903Cu-base component
    • Y10T428/1291Next to Co-, Cu-, or Ni-base component

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
  • Parts Printed On Printed Circuit Boards (AREA)

Description

721001æ1-5 ler laminatmissfärgning och är en i hög grad oönskad effekt. Denna laminatfläckning äger rum eftersom den matta (behandlade) sidan hos folien under lamineringsprocessen även kommer i kontakt med halvfly- tande plast. Kemiska reaktioner äger tydligen rum mellan kopparn och plastkomponenterna, vilka reaktioner ger produkter som ej är lätt lösliga i etsningslösningar använda för att få fram de tryckta kret- sarna och vilka produkter följaktligen kvarblir på laminatytan och föranleder fläckbildning eller missfärgning.
Enligt föreliggande uppfinning undanröjes ovannämnda problem genom behandling av kopparfolien för att åstadkomma en matt yta bil- dad av ett flertal kopparelektroutfällningar med vissa definierade egenskaper.
Enligt föreliggande uppfinning åstadkommes sålunda ett sätt _ vid behandling av kopparfolie för att förbättra dess bindningshåll- fasthet till ett substrat utan laminatfläckning eller missfärgning, kännetecknat av att man på folien anbringar åtminstone två skilda elektroavsatta kopparbehandlingsskikt, så att en matt yta erhålles, varvid det första skiktet i kontakt med folien omfattar ett nodulärt pulverformigt, elektroavsatt skikt och det andra skiktet omfattar ett glänsande skikt utan nodulär struktur, men som överensstämmer med det första skiktets konfiguration för att minska det första skik- tets pulveregenskaper och av att man belägger den så erhållna matta ytan med zink, mässing, nickel, kobolt, krom, kadmium, tenn eller brons, som i huvudsak upprätthåller den matta ytans bindningshåll- fasthet oförändrad och som är kemiskt inert mot ett bärande substrat, till vilket folien bindes vid tillämpning för tryckta kretsar.
I enlighet med föreliggande uppfinning underkastas sålunda en kopparfolie fihst en behandling som effektivt kommer att tjäna till att göra åtminstone en av foliens ytor skrovlig och att ge en sådan yta med en matt finish sådana bindningsegenskaper som är förbättra- de gentemot den obehandlade folien. I syfte att uppnå de önskade re- sultaten enligt föreliggande uppfinning är den inledande behandling- en av kopparfolien viktig. Det har visat sig att de önskade egenska- perna kommer att uppnås om kopparfolien utsättes för en behandling som innebär anbringande på folien av åtminstone två separata elekt- riskt utfällda kopparskikt, varvid varje efterföljande elektrout- fällt skikt har en avvikande mekanisk struktur från ett föregående elektroutfällt skikt för att ge en behandlad yta med fysikaliska egenskaper avvikande från de hos den senare. Med andra ord inbegri- per denna behandling ett flertal behandlingsoperationer med elgkt- rolytiskt utfälld koppar i ett flertal behandlingstankar, varvid 'lzióioæin-siååååiåii" 3 vart och ett framställes under olika elektropläterade betingelser.
Den första behandlingen innebär att man på kopparfolien anbringar ett elektroutfällt nodulärt pulverliknande kopparskikt som är grovt och svagt vidhäftande kopparfolien, följt av en andra behandling som inbegriper anbringande av ett elektroutfällt läsande eller glän- sande kopparskikt, som ej är nodulärt till sin struktur men som for- mar sig efter konfigurationen hos det första skiktet.
Det första behandlingsskiktet tillföres för att öka bindnings- styrkan hos kopparfolien så att den fördelaktigare kan bindas till ett underlag för att bilda ett laminat att användas i elektroniska tryckta kretsar. Denna första behandling kan öka_bindningsstyrkan hos 28,35 g folie till området 1,78 - 1,96 kg/cm bredd av laminat, beroende på det speciella tillstånd som används i denna första be- handling. Mängden av utfälld koppar i detta första skikt bör vara ca 3-5 och företrädesvis ca 4 g/m2 folie.
Det andra behandlingssteget, dvs anbringande av det "spärran- de" eller "glänsande" kopparskiktet, minskar ej den bindningsstyrka som'tillförts genom den inledande kopparskiktsbehandlingen, och kom- mer normalt att öka sådan bindningsstyrka till ca 2,14 - 2,31 kg/cm bredd av laminat. Emellertid minskar eller eliminerar det den oför- delaktiga överföringen av pulverkaraktären som folien annars skulle uppvisa som ett resultat av det första behandlingssteget. Skiktet utfällt i denna andra behandling bör ha en tjocklek sådan att detta skikt föranleder i huvudsak ej någon minskning i bindningsstyrka.
För bästa resultat är mängden av koppar utfälld i detta andra steg för att uppnå detta mål ca 3-7 och företrädesvis ca 5 g/m2 av folie.
Tabell l visar de tillämpbara områdena av betingelser såväl som de föredragna betingelserna att användas i denna fas av uppfin- ningen.
Tabell l Betingelser Nodulärt skikt Spärrskikt Katodströmtäthet (A/dm2) 16,1-32,1, företrädes- 10,7-32,1, före- vis 21,4 trädesvis 21,4 Temperatur (OC) 27-43, företrädes- 60-71, företrä- vis 32 desvis 49 Kopparkoncentration 20-30, företrädes- 50-100, företrä- (g/liter, som Cu) vis 20 desvis 70 Syrakoncentration 50-100, företrädes- 50-100, företrä- (g/liter, som HZSO4) vis 75 desvis 75 Cirkulation för elektro- 0-l00, företrädes- 0-100, företrä- lyt (liter/min.) vis 20 desvis 20 J .v2få1oo1g1-s få ä, Tabell l, forts.
Betingelser Nodulärt skikt I Spärrskikt Volt 7-8, företrädesvis 5-7, företrä- 7,5 desvis 6 Tid (sek.) 10-l4, företrädesvis 8-12, företrä- l2 desvis l2 Katod Kopparfolie Kopparfolie Anod Olösligt bly Olösligt bly Ovannämnda sätt genomföres företrädesvis i två separata behand- lingstankar som en serieoperation. Med andra ord behandlas folien i den första tanken och behandlas därefter i den andra tanken. Alterna- tivt, men mindre föredraget, kan båda behandlingarna genomföras i samma tank med tömning av tanken mellan behandlingarna.
En 28,35 g (l oz) folie behandlad i enlighet med betingelser- na i tabell l kommer att äga en bindningsstyrka av ca 2,14 - 2,31 kg/cm och har samtidigt ej problemet med överföring av pulverkarak- tären som motsvarande folie, vilken ej har underkastats spärrskikts- eller glansskiktsbehandlingen.
Den speciella anordning som användes för att påföra vart och ett av skikten på kopparfoliens yta bildar ej någon del av förelig- gande uppfinning. Sådana skikt kan emellertid bekvämt anbringas ge- nom att bringa kopparfolien genom en elektrolyt medelst en anordning som innefattar användandet av plattanoder med kopparfolien bragt att passera på ett serpentinartat sätt i närheten till sådana anoder och genom lämplig kontakt mellan kopparfolien och ledande rullar göres kopparfolien katodisk i strömkretsen. Genom att bringa kopparfolien genom en sådan anordning att ytan hos folien som skall beläggas vän- der sig mot den aktiva ytan hos anoderna, kommer metallen som skall beläggas på nämnda yta att elektroutfällas på denna från elektroly- ten. Det är underförstått att man i syfte att genomföra det föredrag- na sättet använder en anordning som består av två separata behand- lingstankar. 7 Sedan den matta ytan har utfällts på kopparfolien beläggas den med ett tunt skikt av zink. Före anbringande av zinkskiktet på den behandlade ytan är det emellertid viktigt att den behandlade ytan grundligt tvättas för att fullständigt avlägsna varje rest av svavel- syra därifrån, som annars kunde förhindra en riktig_zinkplätering.
Detta kan genomföras på varje bekvämt sätt men användandet av en se- rie av vattentvättar föredrages. Medan mängden av tvättning kommer att variera beroende på grovheten hos den matta ytan, kan utmärkta 05 0 0 “il 7210oÅ1-5 resultat erhållas genom att omväxlande rikta i serie anordnade var- ma (54°C) och kalla (rumstemperatur) vattenstrâlar mot den matta ytan under utnyttjande av en total volym vatten av ca 75 liter/min.
Den behandlade och tvättade kopparfolien bringas sedan genom ett pläteringsbad och ett skikt av zink elektroutfälles på den matta ytan av kopparfolien för att fullständigt täcka nämnda yta. Zinken bör utfällas i ett skikt av 0,3 - 3, företrädesvis l, g/m2 av folie- yta. Varje vanlig anordning för elektroutfällning av zink kan an- vändas i denna fas av uppfinningen även om en anordning av den ovan beskrivna typen föredrages. Alternativt, ehuru mindre effektivt, kan andra metoder för påförande av metallbeläggningen användas, t.ex.,ångavsättning.
I den föredragna utföringsformen kommer den behandlade kop- parfolien att bringas genom ett pläteringsbad under områden av be- tingelser som anges i tabell 2. gabeil 2 Betingelser Brett område Föredraget omrâde znso4.7H2o (9/1) 5-400 80-300 (NH4)2SO4 (9/1) 0-250 O-50 Vatten rest rest Katodströmtäthet (A/dmz) 0,54-32,10 1,07-2,14 Neddoppningstid (sek.) 5-60 5-30 Elektroiyttemp. (°c) 10-66 27-32 Katod Kopparfolie Kopparfolie Anod Olösligt bly; Kopparfolie blyantimon (8%); löslig zink- Ammoniumsulfatet /KNH4)2SO4/, som angettsiovan, användes som en buffert för att bringa badlösningen till ett pH mellan ca 1,5 och 6, företrädesvis till ett pH av 3,5.
Istället för en zinksulfatlösning, kan zinkfluoborat användas.
Likaså kan användas ett zinkatbad av zinksulfat plus natriumhydroxid.
Efter utfällning av zinkskiktet på kopparns matta yta under- kastas den flerskiktade folien en värmning vid en temperatur mellan l2l°C och 20400, företrädesvis 204OC, inom en tidsperiod i ett om- råde av ca 30 minuter till ca 10 timmar, företrädesvis 30 minuter.
Denna värmning kan genomföras på varje bekvämt sätt, men i den före- dragna utföringsformen_lindas folien på en stålkärna och piaceras i en ugn innehållande en inert atmosfär (exempelvis argon) som har 72100141-5 värmts till en lämplig temperatur. Värmningen av folien kan genomfö- ras omedelbart efter påförande av zinkskiktet eller kan den uppskju- tas till en tidpunkt före klistring av folien på ett lämpligt under- lag. Före värmning av den belagda ytan kommer folien att visa en blågrâ färg, uppenbarligen färgen hos zinkskiktet. Efter värmning kommer emellertid den behandlade ytan hos folien att antaga en gul- aktig eller guldaktig färgton, som visar att zinken har legerat sig självt med den underliggande kopparn för att bilda ett mässingsskikt. 7 Om den behandlade folien utsättes för temperaturer överstigan- de ovan angivna, kan den glänsande sidan av folien oxidera. Dessutom kan sådana högre temperaturer föranleda rekristallisation hos kopparn resulterande iden förlust av egenskaper såsom hårdhet, tänjbarhet, etc, som är viktiga för tryckta kretsar.
Eftersom zink- och kopparskikten båda är lösliga i samma typ av surt etsbad (ehuru, som nedan anges, i olika omfattning), kan etsningen av folien när den är bunden till ett lämpligt underlag genomföras utan onödig utgift med att använda ett etsmedel för be- läggníngsmetallen och ett separat etsbad för den underliggande mat- ta kopparytan. Vidare kommer ej det resulterande etsade laminatet att utsättas för fläckbildning eller missfärgning. Denna förbättring möjliggöres, eftersom.zinken ej reagerar med de plaster som vanligt- vis användes för tryckta kretsar. Eftersom dessutom zink är lättlös- ligare än koppar i vanliga etsningslösningar, åstadkommer laminatet enligt föreliggande uppfinning förbättrad etsning och rena tryckta kretsar. ' Såsom förut nämnts ligger det inom ramen för föreliggande uppfinning inte endast att åstadkomma ett nytt sätt för att framstäl- la kopparfolie som har god bindningsstyrka och icke utsättes för en laminatmissfärgning i tryckta kretsar och till folier framställda därigenom utan även att åstadkomma laminat bestående av nämnda kop- parfolie bunden till ett lämpligt underlag. Som det kommer att fram- gå kommer det speciellt använda underlaget i detta laminat att varie- ra beroende på den användning, för vilken laminatet är avsedd och de servicetillstånd under vilka laminatet skall användas. Särskilt lämpliga underlag som är passande för laminat som skall användas för framställning av tryckta kretsar inbegriper icke-böjliga underlag såsom Teflon -impregnerat fiberglas, Kel-F-impregnerat fiberglas ("Kel-F" är ett handelsnamn för vissa fluorkolprodukter inbegripande polymerer av trifluorokloroetylen och vissa sampolymerer) och lik- nande. Flexibla underlag inbegriper polyamider såsom de kända under 7 7210041 s beteckningarna Kapton(É)och "H-Film" (båda är framställda av duPont och är polyamidplaster framställda genom kondensering av en pyromel- litinsyraanhydrid med en aromatisk diamin).
Bindemedlen som användes för att binda den behandlade koppar- folien till underlaget är de som vanligen användes för de specifika tillämpningarna ifråga, "FEP" (en fluorinerad etenpropenplast i form av en sampolymer av tetrafluoreten och hexafluorpropen med egenska- per liknande Teflon) är särskilt lämpliga för Teflon-materialet och Kel-F-materialet och vanliga epoxihartser är användbara för de andra materialenr Sättet att binda kopparfolien till underlaget är vanligt och bildar ej någon del av föreliggande uppfinning. Typiska detaljer för sådan bindning anges exempelvis i amerikanska patentskriften 3 328 275.
Uppfinningen belyses ytterligare med hjälp av efterföljande exempel.
Exempel l I detta exempel anbragtes kopparskikt på folie i en elektro- lytisk cell av den generella typ som inledningsvis beskrivits.
En rulle av 28,35 g kopparfolie försågs genom elektroutfäll- ning med ett nodulärt kopparskikt i en första behandlingstank med tillämpning av följande betingelser: Katodströmtäthet (A/dmz) 21,4 Temperatur (°C) 32 Kopparkoncentration (g/liter som Cu) 20 Syrakoncentration (g/liter som HZSO4) 75 Cirkulation (liter/min.) 20 Volt 7,5 Tid (sek.) 12 Katod Kopparfolie _Anod Olösligt bly.
Den så behandlade kopparfolien hade på en av dess ytor en pul- verformig nodulär kopparelektroutfällning. Som ett resultat av detta behandlingssteg hade den behandlade folien en bindningsstyrka av ca 1,78 - 1,96 kg/cm. Denna folie hade emellertid de ofördelaktiga pul- veröverföringsegenskaperna som visades genom att när folien anbrag- tes på ett underlag för att bilda ett laminat, laminatet missfärga- des, när det etsades.
Denna rulle av kopparfolie som hade utsatts för den nodulära behandlingen behandlades sedan i en andra behandlingstank för att . A _ 3 elektroutfälla ett glänsande eller spärrande kopparskikt över det förut anbragta nodulära kopparskiktet. Denna glänsnings- eller spärr- ningsbehandling genomfördes under tillämpning av följande betingel- ser: Katodströmtäthet (A/dmz) 21,4 Temperatur (OC) 49 Kopparkoncentration (g/liter) . 70 Syrakoncentration som HZSO4 (g/lit.) 75 Cirkulation (liter/min.) 20 Volt' G Tid (sek.) _ l2 Katod ' Éopparfolie Anod ' 'Olösligt bly.
Den så behandlade folien hade en bindningsstyrka av ca 2,14- 2,3l kg/cm. Den resulterande kopparfolien ägde ej de ofördelaktiga pulveröverföringsegenskaperna.
Exempel 2 Kopparfolien behandlad i enlighet med exempel l tvättades i en serie av fem vattentvättar på dess behandlade sida. Tvättarna var omväxlande varma och kalla, varvid det varma vattnet värmdes till en temperatur av 54°C och det kalla vattnet hölls vid rums- temperatur. Den tvättade folien bragtes sedan genom en elektrolyt innehållande zinkjoner i en elektrolytcell av den typ som beskrivits inledningsvis. Betingelserna under vilka kopparfolien behandlades var följande: Tillstånd ZnS04.7H2O (g/l) 240 Vatten rest Katoaströmtäthet (A/am2> 1,07 Neddoppningstid (sek.) 10 Elektrolyttemperatur (OC) rumstemperatur Katod 7 Kopparfolie Anoa i s olösliga bly (Pb 92 v1kt¿%; sh 8%, vikt).
Bindningsstyrkan hos den zinkbelagda folien var ca 2,14 - 2,31 kg/cm. . _ Efter avslutad behandling lindades den zinkbelagda folien på en rostfri stâlkärna och placerades i en argonatmosfär i en ugn som hade en temperatur av 204°C under en tid av 30 minuter. Efter värm- " 'móóhiii-is 9 ning hade den behandlade ytan hos folien en gulaktig färgton eller "mässing"-färg. I I föregående beskrivning har beskrivits anbringandet av en zinkbeläggning på kopparfolie behandlad med ett flertal kopparskikt som den föredragna utföringsformen enligt föreliggande uppfinning.
Alternativt, ehuru ej föredraget, kan ett mässingskikt anbringas direkt över det andra kopparskiktet. I sådant fall behöver emeller- tid den färdigbehandlade folien ej utsättas för en värmebehandling, eftersom det ej föreligger någon nödvändighet att bilda ett mässing- skikt genom att legera den slutgiltiga zinkbeläggningen och under- liggande kopparskiktí Mässingskiktet pâföres företrädesvis elektrolytiskt under an- vämkmde av den tidigare beskrivna anordningen och ett pläteringsbad och betingelser som beskrives i tabell 3.
Tabell 3 Betingelser Brett område Föredraget område cu2(cN)2 (9/1) .lo-zoo 30 Zn(CN)2 (9/1) 1-100 9 Vatten rest rest NaCH eller KCN (som jon- tillförare för att öka ledningsförmâgan)(g/l) 20-200 0 80 f Na2CO3 eller KZCO3 (buffert) (Q/l) 0-200 60 NaoH (g/l) 0-100 0 (NH4)2SO4 (för att påverka färgton) (ml/liter) 0-50 l Katoaströmtäfhet (A/anz) o,1 - 10,7 1,07 Neddoppningstid (sek.) 5-50 20 Elektrolyttemp. (OC) 10-38 rumstemperatur Katod Kopparfolie Kopparfolie Anod Mässing Mässing I förutnämnda mässingpläteringsprocess ligger pH hos elektro- lyten vid ca 10-13 och företrädesvis 12.
Alternativt kan mässingskiktet anbringas strömlöst. Tjockle- ken hos mässingskiktet som är anbragt bör emellertid vara detsamma som den hos zinkskiktet.
Det ligger även inom ramen för föreliggande uppfinning att åstadkomma ett alster hos vilket, istället för avsättning av ett zink- . 72100111 5 10 eller mässingskikt ovanpå den matta ytan bildad genom ett flertal kopparskiktsbehandlingar, ett skikt av metall användes som är i hu- vudsak kemiskt inert till det bärande underlaget, på vilket folien skall bindas i tillämpningar för tryckta kretsar för att förhindra laminatmissfärgning. Sådan metall bör fullständigt täcka den matta ytan och bör vara av en sådan tjocklek att den ej föranleder någon sänkning i bindningsstyrkan hos den matta ytan vid den tidpunkt den bindes till nämnda underlag. Metaller som kan användas istället för zink eller mässing inbegriper, som exempel, nickel, kobolt, krom, kadmium, tenn och brons. Varje sådan metall kan utfällas elektroly- tiskt på vanligt sätt, företrädesvis elektrolytisk utfällning, på flertalet av kopparskikt som förutbelagts på grundfolien. Av nyss- nämnda metaller föredrages nickel, kobolt, kadmium, tenn och brons.
Exempel 3 Proceduren enligt exempel l följdes, varefter man belade det så erhållna matta kopparskiktet med nickel under användning av en pläteringslösning sammansatt av: Nickelsulfat 240 g/1 Nickelklorid 45 Borsyra 1 30 Strömtätheten var 3,3 A/dmg, temperaturen 40-45°C, pH 2,5 - 3,0 och tiden 20 sek. Tjockleken hos barriärskiktet var 21,6 mil- liondelar av en cm.
Exempel 4 Proceduren enligt exempel l följdes, varefter man belade det så erhållna matta kopparskiktet med kobolt under användning av en pläteríngslösning sammansatt av: Koboltammoniumsulfat 175 g/1 Borsyra 25 Anoder kol Strömtätheten var 2,7 A/dmz, temperaturen 24°C och tiden 75 sek.
Exempel 5 Proceduren enligt exempel l följdes, varefter man belade det så erhållna matta kopparskiktet med krom under användning av en pläteringslösning sammansatt av: kromsyra (CrO3) 250 g/1 svavelsyra 2,5 Anoder bly 7210041-s 11 Strömtätheten var 2,7 A/dmz vid rumstemperatur och tiden 60 sek.
Exempel 6 Proceduren enligt exempel l följdes, varefter man belade det så erhållna matta kopparskíktet med kadmium under användning av en pläteringslösning sammansatt av: cd(BF4)2 250 g/l NH4BF4 90 Anod kadmium.
Strömtätheten var 3 A/dmz, temperaturen 25°C, pH 2,5 - 3 och tiden 10 sek. Éxempel 7 Proceduren enligt exempel l följdes, varefter man belade det så erhållna matta kopparskiktet med tenn under användning av en sur förtenningsmetod känd som "Kenvert Tintillate“, baserad på stanno- sulfat, svavelsyra och några ej närmare specificerade tillsatser.
Detta “Kenvert Tintillate" tillverkas av Conversion Chemical Corpo- ration, Rockville, Conn. och användes inom elektronikindustrin för tennplätering.
Anoder rent tenn.
Strömtätheten var 1,6 A/dmz vid rumstemperatur och tiden l0 sek.
Exempel 8 Proceduren enligt exempel l följdes, varefter man belade det så erhållna matta kopparskiktet med brons under användning av en pläteringslösning sammansatt av: Kaliumstannat 60,0 g/l Kaliumhydroxid 7,5 Kopparcyanid 40,0 Kaliumcyanid 90,0 Anoder koppar.
Strömtätheten var 2,1 A/dmz, temperaturen 60°C och tiden 20 sek.
När i beskrivning och patentkrav säges att någon väsentlig minskning i bindningsstyrka hos nämnda matta yta ej skall uppstå så avses att förlusten i bindningsstyrkan bör vara mindre än 0,18 kg/cm. J

Claims (11)

váíöááíès , 12 Modifikationer inom ramen för uppfinningen är möjliga för så- vida de faller inom ramen för efterföljande patentkrav. P rav
1. l. Sätt vid behandling av kopparfolie för att förbättra dess bindningshållfasthet till ett substrat utan laminatfläckning eller missfärgning, k ä n n e t e c k n a t av att man på folien anbrin- gar åtminstone två skilda elektroavsatta kopparbehandl/ingsskikt, så att en matt yta erhålles, varvid det första skiktet i kontakt med folien omfattar ett nodulärt pulverformigt, elektroavsatt skikt och det andra skiktet omfattar ett glänsande skikt utan nodulär struk- tur, men som.överensstämmer med det första skiktets konfiguration för att minska det första skiktets pulveregenskaper och av att man belägger den så erhållna matta ytan med zink, mässing, nickel, ko- bolt, krom, kadmium, tenn eller brons, som i huvudsak upprätthålls- den matta ytans bindningshållfasthet oförändrad och som är kemiskt inert mot ett bärande substrat, till vilket folien bindes vid till- lämpning för tryckta kretsar.
2. Sätt enligt krav l, k ä n n e t e c k n a t av att me- tallen, som anbringas, är zink.
3. Sätt enligt krav 2, k ä n n e t e c k n a t av att den belagda folien värmes efter det attzínkskiktet anbringats för att bringa zinkskiktet till legering med den matta kopparytan så att ett mässingskikt bildas åtminstone partiellt.
4. Sätt enligt krav 3, k ä n n e t e c k n a t_ av att foli- en med zinkskiktet värmes till en temperatur från l2l°C till 204°C under 30 minuter upp till 10 timmar.
5. Sätt enligt krav 2, k ä n n e t e c k n a t av att zink- skiktet påföres i en mängd av 0,3 - 3 g/mz folie.
6. Sätt enligt krav l, k ä n n e t e c k n a t av att det första kopparskiktet utfälles i en mängd av 3-5 g/m2 folie och att det andra kopparskiktet utfälles i en mängd av 3-7 g/m2 folie.
7. Sätt enligt krav 2, k ä n n e t e c k n a t av att kop- parutfällningarna anbringas på kopparfolien från sura bad och att den behandlade folien tvättas tillräckligt för att avlägsna syrares- ter från folien före det att zinkskiktet anbringas. 7210041- 13
8. Sätt enligt krav 2, k ä n n e t e c k n a t av att zink- skiktet utfälles elektrolytiskt på den matta ytan.
9. Sätt enligt krav 2, k ä n n e t e c k n a t av att zink- skiktet påföres vid en katodströmtäthet av 0,54 - 32,1 A/dmz, en elektrolyttemperatur av 10°C - 66oC, en zinkkoncentration (beräknad som ZnSO4.7H2O) i elektrolyten av 5 - 400 g/liter, en tid för den elektriska utfällningen av 5 - 60 sekunder, varvid pH i elektrolyten är 1,5 - 6.
10. Sätt enligt krav 1, k ä n n e t e c k n a t av att det första nodulära kopparskiktet anbringas vid en katodströmtäthet av 16,1 - 32,1 A/dmz, en elektrolyttemperatur av 27 - 43°C, en koppar- koncentration i elektrolyten av 20 - 30 g/liter uttryckt som koppar, en syrakoncentration i elektrolyten uttryckt som HZSO4 av 50 - 100 g/liter och en utfällningstid av 10 - 14 sekunder.
11. Sätt enligt krav 1, k ä n n e t e c k n a t av att det glansiga kopparskiktet anbringas vid en katodströmtäthet av 17,8 - 32,1 A/dmz, en elektrolyttemperatur av 60 - 71°C, en kopparkoncent- ration i elektrolyten av 50-100 g/liter uttryckt som koppar, en sy- rakoncentration i elektrolyten uttryckt som HZSO4 av 50 - 100 g/li- ter och en utfällningstid av 8 - 12 sekunder. ANFÖRDA PUBLIKATIONER: Sverige patentansökan 13 565/69 US 2 802 897 (174-110), 3 293 109 (29-193)
SE7210041A 1971-08-03 1972-08-01 Sett vid behandling av kopparfolie for att forbettra dess bindningshallfasthet till ett substrat SE408188B (sv)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US16875571A 1971-08-03 1971-08-03
US00215648A US3857681A (en) 1971-08-03 1972-01-05 Copper foil treatment and products produced therefrom

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SE408188B true SE408188B (sv) 1979-05-21

Family

ID=26864421

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SE7210041A SE408188B (sv) 1971-08-03 1972-08-01 Sett vid behandling av kopparfolie for att forbettra dess bindningshallfasthet till ett substrat

Country Status (10)

Country Link
US (1) US3857681A (sv)
JP (1) JPS5339376B1 (sv)
BE (1) BE786975A (sv)
DE (1) DE2235522C3 (sv)
FR (1) FR2148025B1 (sv)
GB (1) GB1349696A (sv)
IT (1) IT965923B (sv)
LU (1) LU65829A1 (sv)
NL (1) NL161648C (sv)
SE (1) SE408188B (sv)

Families Citing this family (83)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS534498B2 (sv) * 1973-06-23 1978-02-17
CA1044636A (en) * 1974-01-07 1978-12-19 Betty L. Berdan Method of nodularizing a metal surface
US4273837A (en) * 1975-04-18 1981-06-16 Stauffer Chemical Company Plated metal article
JPS5856758B2 (ja) * 1975-12-17 1983-12-16 ミツイアナコンダドウハク カブシキガイシヤ ドウハクヒヨウメンシヨリホウホウ
US4061837A (en) * 1976-06-17 1977-12-06 Hutkin Irving J Plastic-metal composite and method of making the same
US4171993A (en) * 1976-09-01 1979-10-23 Borg-Warner Corporation Coated metal nodule solar heat collector
US4088547A (en) * 1976-09-01 1978-05-09 Borg-Warner Corporation Method for producing a coated metal nodular solar heat collector
US4190474A (en) * 1977-12-22 1980-02-26 Gould Inc. Method of making a printed circuit board having mutually etchable copper and nickel layers
US4265678A (en) * 1977-12-27 1981-05-05 Tokyo Rope Mfg. Co., Ltd. Metal wire cord
JPS54145965A (en) * 1978-05-08 1979-11-14 Nippon Mining Co Method of and apparatus for producing board for printed circuit
US4323632A (en) * 1978-10-17 1982-04-06 Gould Inc. Metal composites and laminates formed therefrom
US4234395A (en) * 1978-10-17 1980-11-18 Gould Inc. Metal composites and laminates formed therefrom
JPS55145396A (en) * 1979-04-27 1980-11-12 Furukawa Circuit Foil Copper foil for printed circuit and method of fabricating same
JPS56155592A (en) * 1980-04-03 1981-12-01 Furukawa Circuit Foil Copper foil for printed circuit and method of manufacturing same
JPS56155593A (en) * 1980-04-08 1981-12-01 Furukawa Circuit Foil Steel foil for printed circuit and method of manufacturing same
US4357395A (en) * 1980-08-22 1982-11-02 General Electric Company Transfer lamination of vapor deposited foils, method and product
US4383003A (en) * 1980-09-22 1983-05-10 General Electric Company Transfer lamination of copper thin sheets and films, method and product
US4455181A (en) * 1980-09-22 1984-06-19 General Electric Company Method of transfer lamination of copper thin sheets and films
US4386139A (en) * 1980-10-31 1983-05-31 Furukawa Circuit Foil Co., Ltd. Copper foil for a printed circuit and a method for the production thereof
US4387006A (en) * 1981-07-08 1983-06-07 Fukuda Metal Foil & Powder Co., Ltd. Method of treating the surface of the copper foil used in printed wire boards
US4468293A (en) * 1982-03-05 1984-08-28 Olin Corporation Electrochemical treatment of copper for improving its bond strength
US4503769A (en) * 1982-06-21 1985-03-12 Armotek Industries, Inc. Metal coated thin wall plastic printing cylinder for rotogravure printing
EP0112635B1 (en) * 1982-12-01 1987-04-22 Electrofoils Technology Limited Treatment of copper foil
US4515671A (en) * 1983-01-24 1985-05-07 Olin Corporation Electrochemical treatment of copper for improving its bond strength
US4490218A (en) * 1983-11-07 1984-12-25 Olin Corporation Process and apparatus for producing surface treated metal foil
US4549940A (en) * 1984-04-23 1985-10-29 Karwan Steven J Method for surface treating copper foil
JPS6113688A (ja) * 1984-06-28 1986-01-21 福田金属箔粉工業株式会社 印刷回路用銅箔およびその製造方法
DE3427554A1 (de) * 1984-07-26 1986-02-06 Dornier System Gmbh, 7990 Friedrichshafen Verfahren zur erzeugung einer haftvermittelnden metallschicht
JPS61110794A (ja) * 1984-11-06 1986-05-29 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd 銅箔の表面処理方法
US4568431A (en) * 1984-11-13 1986-02-04 Olin Corporation Process for producing electroplated and/or treated metal foil
US4549941A (en) * 1984-11-13 1985-10-29 Olin Corporation Electrochemical surface preparation for improving the adhesive properties of metallic surfaces
US4552627A (en) * 1984-11-13 1985-11-12 Olin Corporation Preparation for improving the adhesion properties of metal foils
US4549950A (en) * 1984-11-13 1985-10-29 Olin Corporation Systems for producing electroplated and/or treated metal foil
US4532014A (en) * 1984-11-13 1985-07-30 Olin Corporation Laser alignment system
US4551210A (en) * 1984-11-13 1985-11-05 Olin Corporation Dendritic treatment of metallic surfaces for improving adhesive bonding
DE3515629A1 (de) * 1985-05-02 1986-11-06 Held, Kurt, 7218 Trossingen Verfahren und vorrichtung zur herstellung kupferkaschierter laminate
US4572768A (en) * 1985-06-28 1986-02-25 Square D Company Treatment for copper foil
FI85060C (sv) * 1985-11-11 1992-02-25 Mitsubishi Materials Corp Värmeöverföringsmaterial och förfarande för framställning av detsamma
FI86475C (sv) * 1985-11-27 1992-08-25 Mitsubishi Materials Corp Värmeöverföringsmaterial och dess framställningsförfarande
AU604462B2 (en) * 1986-07-28 1990-12-20 Furukawa Electric Co. Ltd., The Fin of heat exchanger and method of making it
US4692221A (en) * 1986-12-22 1987-09-08 Olin Corporation In-situ dendritic treatment of electrodeposited foil
US4927700A (en) * 1988-02-24 1990-05-22 Psi Star Copper etching process and product with controlled nitrous acid reaction
US4846918A (en) * 1988-02-24 1989-07-11 Psi Star Copper etching process and product with controlled nitrous acid reaction
US5243320A (en) * 1988-02-26 1993-09-07 Gould Inc. Resistive metal layers and method for making same
US5057193A (en) * 1989-04-05 1991-10-15 Olin Corporation Anti-tarnish treatment of metal foil
US4961828A (en) * 1989-04-05 1990-10-09 Olin Corporation Treatment of metal foil
US5022968A (en) * 1990-09-20 1991-06-11 Olin Corporation Method and composition for depositing a chromium-zinc anti-tarnish coating on copper foil
US5230932A (en) * 1989-10-13 1993-07-27 Olin Corporation Chromium-zinc anti-tarnish coating for copper foil
US5098796A (en) * 1989-10-13 1992-03-24 Olin Corporation Chromium-zinc anti-tarnish coating on copper foil
US5250363A (en) * 1989-10-13 1993-10-05 Olin Corporation Chromium-zinc anti-tarnish coating for copper foil having a dark color
JPH0819550B2 (ja) * 1990-06-05 1996-02-28 福田金属箔粉工業株式会社 印刷回路用銅箔の表面処理方法
US5304428A (en) * 1990-06-05 1994-04-19 Fukuda Metal Foil And Powder Co., Ltd. Copper foil for printed circuit boards
TW208110B (sv) * 1990-06-08 1993-06-21 Furukawa Circuit Foil Kk
US5017271A (en) * 1990-08-24 1991-05-21 Gould Inc. Method for printed circuit board pattern making using selectively etchable metal layers
US5207889A (en) * 1991-01-16 1993-05-04 Circuit Foil Usa, Inc. Method of producing treated copper foil, products thereof and electrolyte useful in such method
US6042711A (en) * 1991-06-28 2000-03-28 Gould Electronics, Inc. Metal foil with improved peel strength and method for making said foil
US5215646A (en) * 1992-05-06 1993-06-01 Circuit Foil Usa, Inc. Low profile copper foil and process and apparatus for making bondable metal foils
US5779870A (en) * 1993-03-05 1998-07-14 Polyclad Laminates, Inc. Method of manufacturing laminates and printed circuit boards
US5447619A (en) * 1993-11-24 1995-09-05 Circuit Foil Usa, Inc. Copper foil for the manufacture of printed circuit boards and method of producing the same
US5679230A (en) * 1995-08-21 1997-10-21 Oak-Mitsui, Inc. Copper foil for printed circuit boards
TW420729B (en) * 1996-02-12 2001-02-01 Gould Electronics Inc A non-cyanide brass plating bath and a method of making metallic foil having a brass layer using the non-cyanide brass plating bath
US6117300A (en) * 1996-05-01 2000-09-12 Honeywell International Inc. Method for forming conductive traces and printed circuits made thereby
US5863410A (en) * 1997-06-23 1999-01-26 Circuit Foil Usa, Inc. Process for the manufacture of high quality very low profile copper foil and copper foil produced thereby
US6270645B1 (en) 1997-09-26 2001-08-07 Circuit Foil Usa, Inc. Simplified process for production of roughened copper foil
US6060666A (en) * 1997-12-22 2000-05-09 Foil Technology Development Corporation Electrolytic layer applied to metallic foil to promote adhesion to a polymeric substrate
US5989727A (en) * 1998-03-04 1999-11-23 Circuit Foil U.S.A., Inc. Electrolytic copper foil having a modified shiny side
JP2000340911A (ja) 1999-05-25 2000-12-08 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd プリント配線板用銅箔
US6372113B2 (en) 1999-09-13 2002-04-16 Yates Foil Usa, Inc. Copper foil and copper clad laminates for fabrication of multi-layer printed circuit boards and process for producing same
US6224991B1 (en) 1999-09-13 2001-05-01 Yates Foil Usa, Inc. Process for electrodeposition of barrier layer over copper foil bonding treatment, products thereof and electrolyte useful in such process
US6342308B1 (en) 1999-09-29 2002-01-29 Yates Foil Usa, Inc. Copper foil bonding treatment with improved bond strength and resistance to undercutting
US6270648B1 (en) 1999-10-22 2001-08-07 Yates Foil Usa, Inc. Process and apparatus for the manufacture of high peel-strength copper foil useful in the manufacture of printed circuit boards, and laminates made with such foil
US6547946B2 (en) * 2000-04-10 2003-04-15 The Regents Of The University Of California Processing a printed wiring board by single bath electrodeposition
JP2003051673A (ja) * 2001-08-06 2003-02-21 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd プリント配線板用銅箔及びそのプリント配線板用銅箔を用いた銅張積層板
US6610417B2 (en) 2001-10-04 2003-08-26 Oak-Mitsui, Inc. Nickel coated copper as electrodes for embedded passive devices
CN100540773C (zh) * 2001-10-29 2009-09-16 奥尔巴尼国际公司 无纺布的高速纺粘生产
DE10354760A1 (de) * 2003-11-21 2005-06-23 Enthone Inc., West Haven Verfahren zur Abscheidung von Nickel und Chrom(VI)freien metallischen Mattschichten
JP4948579B2 (ja) * 2009-08-14 2012-06-06 古河電気工業株式会社 高周波伝送特性に優れる耐熱性銅箔及びその製造方法、回路基板、銅張積層基板及びその製造方法
JP5128695B2 (ja) 2010-06-28 2013-01-23 古河電気工業株式会社 電解銅箔、リチウムイオン二次電池用電解銅箔、該電解銅箔を用いたリチウムイオン二次電池用電極、該電極を使用したリチウムイオン二次電池
JP5555146B2 (ja) * 2010-12-01 2014-07-23 株式会社日立製作所 金属樹脂複合構造体及びその製造方法、並びにバスバ、モジュールケース及び樹脂製コネクタ部品
EP2654111B1 (en) 2010-12-27 2018-04-18 Furukawa Electric Co., Ltd. Lithium-ion secondary battery, electrode for secondary battery, and electrolytic copper foil for secondary battery electrode
US10050277B2 (en) 2012-06-27 2018-08-14 Furukawa Electric Co., Ltd. Electrolytic copper foil, negative electrode for lithium ion secondary battery, and lithium ion secondary battery
WO2017090161A1 (ja) * 2015-11-26 2017-06-01 近藤 和夫 酸性銅めっき液、酸性銅めっき物および半導体デバイスの製造方法
JP7421208B2 (ja) 2019-12-24 2024-01-24 日本電解株式会社 表面処理銅箔及びその製造方法

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2115749A (en) * 1936-05-08 1938-05-03 Thomas Steel Company Method of coating ferrous articles
US2402384A (en) * 1941-04-09 1946-06-18 Resinous Prod & Chemical Co Ion exchange polyamine resins and method of preparing same
US2428033A (en) * 1941-11-24 1947-09-30 John S Nachtman Manufacture of rustproof electrolytic coatings for metal stock
US2392456A (en) * 1942-07-16 1946-01-08 Udylite Corp Thermally diffused copper and zinc plate on ferrous articles
US2802897A (en) * 1952-07-18 1957-08-13 Gen Electric Insulated electrical conductors
US3220897A (en) * 1961-02-13 1965-11-30 Esther S Conley Conducting element and method
US3293109A (en) * 1961-09-18 1966-12-20 Clevite Corp Conducting element having improved bonding characteristics and method
NL128730C (sv) * 1962-03-06
US3328275A (en) * 1963-12-18 1967-06-27 Revere Copper & Brass Inc Treatment of copper to form a dendritic surface
US3377259A (en) * 1965-03-15 1968-04-09 Gen Dynamics Corp Method for preventing oxidation degradation of copper by interposing barrier betweencopper and polypropylene
US3585010A (en) * 1968-10-03 1971-06-15 Clevite Corp Printed circuit board and method of making same

Also Published As

Publication number Publication date
US3857681A (en) 1974-12-31
FR2148025B1 (sv) 1977-08-05
BE786975A (fr) 1972-11-16
DE2235522C3 (de) 1980-03-20
NL7210661A (sv) 1973-02-06
JPS5339376B1 (sv) 1978-10-20
DE2235522A1 (de) 1973-02-22
IT965923B (it) 1974-02-11
NL161648C (nl) 1980-02-15
GB1349696A (sv) 1974-04-10
DE2235522B2 (de) 1979-07-19
NL161648B (nl) 1979-09-17
LU65829A1 (sv) 1973-01-15
FR2148025A1 (sv) 1973-03-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
SE408188B (sv) Sett vid behandling av kopparfolie for att forbettra dess bindningshallfasthet till ett substrat
KR900000865B1 (ko) 구리-크롬-폴리이미드 복합체 및 그의 제조방법
US4193849A (en) Method for making a raw board for use in printed circuits
CN1993501B (zh) 复合铜箔及其制造方法
JPH06169169A (ja) 印刷回路用銅箔及びその製造方法
EP0252139A1 (en) METHOD AND DEVICE FOR ELECTROPLATING A COPPER BLADE.
JPH05235542A (ja) 印刷回路用銅箔及びその製造方法
US4490218A (en) Process and apparatus for producing surface treated metal foil
WO2006028207A1 (ja) プライマー樹脂層を備えたキャリア箔付電解銅箔及びその製造方法
JP3306404B2 (ja) 表面処理銅箔の製造方法及びその製造方法で得られた表面処理銅箔を用いた銅張積層板
JPS6255714B2 (sv)
KR20010089713A (ko) 표면처리 동박 및 그 표면처리 동박의 제조방법
KR100974373B1 (ko) 인쇄회로용 동박의 표면처리 방법과 그 동박 및 도금장치
US5322975A (en) Universal carrier supported thin copper line
JPH0471292A (ja) 印刷回路用銅箔及びその表面処理方法
EP0790332A1 (en) A non-cyanide brass plating bath and a method of making metallic foil having a brass layer using the non-cyanide brass plating bath
US5207889A (en) Method of producing treated copper foil, products thereof and electrolyte useful in such method
US20040108211A1 (en) Surface treatment for a wrought copper foil for use on a flexible printed circuit board (FPCB)
JPH08236930A (ja) 印刷回路用銅箔及びその製造方法
JP2717910B2 (ja) 印刷回路用銅箔及びその製造方法
CN1144670C (zh) Tab带载体的铜箔以及使用铜箔的tab载体带和tab带载体
JPS5912039B2 (ja) 印刷回路用銅箔およびその製造方法
US6224991B1 (en) Process for electrodeposition of barrier layer over copper foil bonding treatment, products thereof and electrolyte useful in such process
JPH0219994B2 (sv)
JP2739507B2 (ja) 銅箔の電解処理方法