SE408188B - Sett vid behandling av kopparfolie for att forbettra dess bindningshallfasthet till ett substrat - Google Patents
Sett vid behandling av kopparfolie for att forbettra dess bindningshallfasthet till ett substratInfo
- Publication number
- SE408188B SE408188B SE7210041A SE1004172A SE408188B SE 408188 B SE408188 B SE 408188B SE 7210041 A SE7210041 A SE 7210041A SE 1004172 A SE1004172 A SE 1004172A SE 408188 B SE408188 B SE 408188B
- Authority
- SE
- Sweden
- Prior art keywords
- layer
- copper
- foil
- zinc
- electrolyte
- Prior art date
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/38—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal
- H05K3/382—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by special treatment of the metal
- H05K3/384—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by special treatment of the metal by plating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/10—Electroplating with more than one layer of the same or of different metals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/60—Electroplating characterised by the structure or texture of the layers
- C25D5/605—Surface topography of the layers, e.g. rough, dendritic or nodular layers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/627—Electroplating characterised by the visual appearance of the layers, e.g. colour, brightness or mat appearance
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/03—Conductive materials
- H05K2201/0332—Structure of the conductor
- H05K2201/0335—Layered conductors or foils
- H05K2201/0355—Metal foils
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/03—Metal processing
- H05K2203/0307—Providing micro- or nanometer scale roughness on a metal surface, e.g. by plating of nodules or dendrites
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/07—Treatments involving liquids, e.g. plating, rinsing
- H05K2203/0703—Plating
- H05K2203/0723—Electroplating, e.g. finish plating
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/11—Treatments characterised by their effect, e.g. heating, cooling, roughening
- H05K2203/1105—Heating or thermal processing not related to soldering, firing, curing or laminating, e.g. for shaping the substrate or during finish plating
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S205/00—Electrolysis: processes, compositions used therein, and methods of preparing the compositions
- Y10S205/92—Electrolytic coating of circuit board or printed circuit, other than selected area coating
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12014—All metal or with adjacent metals having metal particles
- Y10T428/12028—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, etc.]
- Y10T428/12063—Nonparticulate metal component
- Y10T428/12069—Plural nonparticulate metal components
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12472—Microscopic interfacial wave or roughness
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
- Y10T428/12535—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.] with additional, spatially distinct nonmetal component
- Y10T428/12556—Organic component
- Y10T428/12569—Synthetic resin
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
- Y10T428/12639—Adjacent, identical composition, components
- Y10T428/12646—Group VIII or IB metal-base
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
- Y10T428/12708—Sn-base component
- Y10T428/12715—Next to Group IB metal-base component
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
- Y10T428/12771—Transition metal-base component
- Y10T428/12778—Alternative base metals from diverse categories
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
- Y10T428/12771—Transition metal-base component
- Y10T428/12861—Group VIII or IB metal-base component
- Y10T428/12903—Cu-base component
- Y10T428/1291—Next to Co-, Cu-, or Ni-base component
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
- Parts Printed On Printed Circuit Boards (AREA)
Description
721001æ1-5 ler laminatmissfärgning och är en i hög grad oönskad effekt. Denna laminatfläckning äger rum eftersom den matta (behandlade) sidan hos folien under lamineringsprocessen även kommer i kontakt med halvfly- tande plast. Kemiska reaktioner äger tydligen rum mellan kopparn och plastkomponenterna, vilka reaktioner ger produkter som ej är lätt lösliga i etsningslösningar använda för att få fram de tryckta kret- sarna och vilka produkter följaktligen kvarblir på laminatytan och föranleder fläckbildning eller missfärgning.
Enligt föreliggande uppfinning undanröjes ovannämnda problem genom behandling av kopparfolien för att åstadkomma en matt yta bil- dad av ett flertal kopparelektroutfällningar med vissa definierade egenskaper.
Enligt föreliggande uppfinning åstadkommes sålunda ett sätt _ vid behandling av kopparfolie för att förbättra dess bindningshåll- fasthet till ett substrat utan laminatfläckning eller missfärgning, kännetecknat av att man på folien anbringar åtminstone två skilda elektroavsatta kopparbehandlingsskikt, så att en matt yta erhålles, varvid det första skiktet i kontakt med folien omfattar ett nodulärt pulverformigt, elektroavsatt skikt och det andra skiktet omfattar ett glänsande skikt utan nodulär struktur, men som överensstämmer med det första skiktets konfiguration för att minska det första skik- tets pulveregenskaper och av att man belägger den så erhållna matta ytan med zink, mässing, nickel, kobolt, krom, kadmium, tenn eller brons, som i huvudsak upprätthåller den matta ytans bindningshåll- fasthet oförändrad och som är kemiskt inert mot ett bärande substrat, till vilket folien bindes vid tillämpning för tryckta kretsar.
I enlighet med föreliggande uppfinning underkastas sålunda en kopparfolie fihst en behandling som effektivt kommer att tjäna till att göra åtminstone en av foliens ytor skrovlig och att ge en sådan yta med en matt finish sådana bindningsegenskaper som är förbättra- de gentemot den obehandlade folien. I syfte att uppnå de önskade re- sultaten enligt föreliggande uppfinning är den inledande behandling- en av kopparfolien viktig. Det har visat sig att de önskade egenska- perna kommer att uppnås om kopparfolien utsättes för en behandling som innebär anbringande på folien av åtminstone två separata elekt- riskt utfällda kopparskikt, varvid varje efterföljande elektrout- fällt skikt har en avvikande mekanisk struktur från ett föregående elektroutfällt skikt för att ge en behandlad yta med fysikaliska egenskaper avvikande från de hos den senare. Med andra ord inbegri- per denna behandling ett flertal behandlingsoperationer med elgkt- rolytiskt utfälld koppar i ett flertal behandlingstankar, varvid 'lzióioæin-siååååiåii" 3 vart och ett framställes under olika elektropläterade betingelser.
Den första behandlingen innebär att man på kopparfolien anbringar ett elektroutfällt nodulärt pulverliknande kopparskikt som är grovt och svagt vidhäftande kopparfolien, följt av en andra behandling som inbegriper anbringande av ett elektroutfällt läsande eller glän- sande kopparskikt, som ej är nodulärt till sin struktur men som for- mar sig efter konfigurationen hos det första skiktet.
Det första behandlingsskiktet tillföres för att öka bindnings- styrkan hos kopparfolien så att den fördelaktigare kan bindas till ett underlag för att bilda ett laminat att användas i elektroniska tryckta kretsar. Denna första behandling kan öka_bindningsstyrkan hos 28,35 g folie till området 1,78 - 1,96 kg/cm bredd av laminat, beroende på det speciella tillstånd som används i denna första be- handling. Mängden av utfälld koppar i detta första skikt bör vara ca 3-5 och företrädesvis ca 4 g/m2 folie.
Det andra behandlingssteget, dvs anbringande av det "spärran- de" eller "glänsande" kopparskiktet, minskar ej den bindningsstyrka som'tillförts genom den inledande kopparskiktsbehandlingen, och kom- mer normalt att öka sådan bindningsstyrka till ca 2,14 - 2,31 kg/cm bredd av laminat. Emellertid minskar eller eliminerar det den oför- delaktiga överföringen av pulverkaraktären som folien annars skulle uppvisa som ett resultat av det första behandlingssteget. Skiktet utfällt i denna andra behandling bör ha en tjocklek sådan att detta skikt föranleder i huvudsak ej någon minskning i bindningsstyrka.
För bästa resultat är mängden av koppar utfälld i detta andra steg för att uppnå detta mål ca 3-7 och företrädesvis ca 5 g/m2 av folie.
Tabell l visar de tillämpbara områdena av betingelser såväl som de föredragna betingelserna att användas i denna fas av uppfin- ningen.
Tabell l Betingelser Nodulärt skikt Spärrskikt Katodströmtäthet (A/dm2) 16,1-32,1, företrädes- 10,7-32,1, före- vis 21,4 trädesvis 21,4 Temperatur (OC) 27-43, företrädes- 60-71, företrä- vis 32 desvis 49 Kopparkoncentration 20-30, företrädes- 50-100, företrä- (g/liter, som Cu) vis 20 desvis 70 Syrakoncentration 50-100, företrädes- 50-100, företrä- (g/liter, som HZSO4) vis 75 desvis 75 Cirkulation för elektro- 0-l00, företrädes- 0-100, företrä- lyt (liter/min.) vis 20 desvis 20 J .v2få1oo1g1-s få ä, Tabell l, forts.
Betingelser Nodulärt skikt I Spärrskikt Volt 7-8, företrädesvis 5-7, företrä- 7,5 desvis 6 Tid (sek.) 10-l4, företrädesvis 8-12, företrä- l2 desvis l2 Katod Kopparfolie Kopparfolie Anod Olösligt bly Olösligt bly Ovannämnda sätt genomföres företrädesvis i två separata behand- lingstankar som en serieoperation. Med andra ord behandlas folien i den första tanken och behandlas därefter i den andra tanken. Alterna- tivt, men mindre föredraget, kan båda behandlingarna genomföras i samma tank med tömning av tanken mellan behandlingarna.
En 28,35 g (l oz) folie behandlad i enlighet med betingelser- na i tabell l kommer att äga en bindningsstyrka av ca 2,14 - 2,31 kg/cm och har samtidigt ej problemet med överföring av pulverkarak- tären som motsvarande folie, vilken ej har underkastats spärrskikts- eller glansskiktsbehandlingen.
Den speciella anordning som användes för att påföra vart och ett av skikten på kopparfoliens yta bildar ej någon del av förelig- gande uppfinning. Sådana skikt kan emellertid bekvämt anbringas ge- nom att bringa kopparfolien genom en elektrolyt medelst en anordning som innefattar användandet av plattanoder med kopparfolien bragt att passera på ett serpentinartat sätt i närheten till sådana anoder och genom lämplig kontakt mellan kopparfolien och ledande rullar göres kopparfolien katodisk i strömkretsen. Genom att bringa kopparfolien genom en sådan anordning att ytan hos folien som skall beläggas vän- der sig mot den aktiva ytan hos anoderna, kommer metallen som skall beläggas på nämnda yta att elektroutfällas på denna från elektroly- ten. Det är underförstått att man i syfte att genomföra det föredrag- na sättet använder en anordning som består av två separata behand- lingstankar. 7 Sedan den matta ytan har utfällts på kopparfolien beläggas den med ett tunt skikt av zink. Före anbringande av zinkskiktet på den behandlade ytan är det emellertid viktigt att den behandlade ytan grundligt tvättas för att fullständigt avlägsna varje rest av svavel- syra därifrån, som annars kunde förhindra en riktig_zinkplätering.
Detta kan genomföras på varje bekvämt sätt men användandet av en se- rie av vattentvättar föredrages. Medan mängden av tvättning kommer att variera beroende på grovheten hos den matta ytan, kan utmärkta 05 0 0 “il 7210oÅ1-5 resultat erhållas genom att omväxlande rikta i serie anordnade var- ma (54°C) och kalla (rumstemperatur) vattenstrâlar mot den matta ytan under utnyttjande av en total volym vatten av ca 75 liter/min.
Den behandlade och tvättade kopparfolien bringas sedan genom ett pläteringsbad och ett skikt av zink elektroutfälles på den matta ytan av kopparfolien för att fullständigt täcka nämnda yta. Zinken bör utfällas i ett skikt av 0,3 - 3, företrädesvis l, g/m2 av folie- yta. Varje vanlig anordning för elektroutfällning av zink kan an- vändas i denna fas av uppfinningen även om en anordning av den ovan beskrivna typen föredrages. Alternativt, ehuru mindre effektivt, kan andra metoder för påförande av metallbeläggningen användas, t.ex.,ångavsättning.
I den föredragna utföringsformen kommer den behandlade kop- parfolien att bringas genom ett pläteringsbad under områden av be- tingelser som anges i tabell 2. gabeil 2 Betingelser Brett område Föredraget omrâde znso4.7H2o (9/1) 5-400 80-300 (NH4)2SO4 (9/1) 0-250 O-50 Vatten rest rest Katodströmtäthet (A/dmz) 0,54-32,10 1,07-2,14 Neddoppningstid (sek.) 5-60 5-30 Elektroiyttemp. (°c) 10-66 27-32 Katod Kopparfolie Kopparfolie Anod Olösligt bly; Kopparfolie blyantimon (8%); löslig zink- Ammoniumsulfatet /KNH4)2SO4/, som angettsiovan, användes som en buffert för att bringa badlösningen till ett pH mellan ca 1,5 och 6, företrädesvis till ett pH av 3,5.
Istället för en zinksulfatlösning, kan zinkfluoborat användas.
Likaså kan användas ett zinkatbad av zinksulfat plus natriumhydroxid.
Efter utfällning av zinkskiktet på kopparns matta yta under- kastas den flerskiktade folien en värmning vid en temperatur mellan l2l°C och 20400, företrädesvis 204OC, inom en tidsperiod i ett om- råde av ca 30 minuter till ca 10 timmar, företrädesvis 30 minuter.
Denna värmning kan genomföras på varje bekvämt sätt, men i den före- dragna utföringsformen_lindas folien på en stålkärna och piaceras i en ugn innehållande en inert atmosfär (exempelvis argon) som har 72100141-5 värmts till en lämplig temperatur. Värmningen av folien kan genomfö- ras omedelbart efter påförande av zinkskiktet eller kan den uppskju- tas till en tidpunkt före klistring av folien på ett lämpligt under- lag. Före värmning av den belagda ytan kommer folien att visa en blågrâ färg, uppenbarligen färgen hos zinkskiktet. Efter värmning kommer emellertid den behandlade ytan hos folien att antaga en gul- aktig eller guldaktig färgton, som visar att zinken har legerat sig självt med den underliggande kopparn för att bilda ett mässingsskikt. 7 Om den behandlade folien utsättes för temperaturer överstigan- de ovan angivna, kan den glänsande sidan av folien oxidera. Dessutom kan sådana högre temperaturer föranleda rekristallisation hos kopparn resulterande iden förlust av egenskaper såsom hårdhet, tänjbarhet, etc, som är viktiga för tryckta kretsar.
Eftersom zink- och kopparskikten båda är lösliga i samma typ av surt etsbad (ehuru, som nedan anges, i olika omfattning), kan etsningen av folien när den är bunden till ett lämpligt underlag genomföras utan onödig utgift med att använda ett etsmedel för be- läggníngsmetallen och ett separat etsbad för den underliggande mat- ta kopparytan. Vidare kommer ej det resulterande etsade laminatet att utsättas för fläckbildning eller missfärgning. Denna förbättring möjliggöres, eftersom.zinken ej reagerar med de plaster som vanligt- vis användes för tryckta kretsar. Eftersom dessutom zink är lättlös- ligare än koppar i vanliga etsningslösningar, åstadkommer laminatet enligt föreliggande uppfinning förbättrad etsning och rena tryckta kretsar. ' Såsom förut nämnts ligger det inom ramen för föreliggande uppfinning inte endast att åstadkomma ett nytt sätt för att framstäl- la kopparfolie som har god bindningsstyrka och icke utsättes för en laminatmissfärgning i tryckta kretsar och till folier framställda därigenom utan även att åstadkomma laminat bestående av nämnda kop- parfolie bunden till ett lämpligt underlag. Som det kommer att fram- gå kommer det speciellt använda underlaget i detta laminat att varie- ra beroende på den användning, för vilken laminatet är avsedd och de servicetillstånd under vilka laminatet skall användas. Särskilt lämpliga underlag som är passande för laminat som skall användas för framställning av tryckta kretsar inbegriper icke-böjliga underlag såsom Teflon -impregnerat fiberglas, Kel-F-impregnerat fiberglas ("Kel-F" är ett handelsnamn för vissa fluorkolprodukter inbegripande polymerer av trifluorokloroetylen och vissa sampolymerer) och lik- nande. Flexibla underlag inbegriper polyamider såsom de kända under 7 7210041 s beteckningarna Kapton(É)och "H-Film" (båda är framställda av duPont och är polyamidplaster framställda genom kondensering av en pyromel- litinsyraanhydrid med en aromatisk diamin).
Bindemedlen som användes för att binda den behandlade koppar- folien till underlaget är de som vanligen användes för de specifika tillämpningarna ifråga, "FEP" (en fluorinerad etenpropenplast i form av en sampolymer av tetrafluoreten och hexafluorpropen med egenska- per liknande Teflon) är särskilt lämpliga för Teflon-materialet och Kel-F-materialet och vanliga epoxihartser är användbara för de andra materialenr Sättet att binda kopparfolien till underlaget är vanligt och bildar ej någon del av föreliggande uppfinning. Typiska detaljer för sådan bindning anges exempelvis i amerikanska patentskriften 3 328 275.
Uppfinningen belyses ytterligare med hjälp av efterföljande exempel.
Exempel l I detta exempel anbragtes kopparskikt på folie i en elektro- lytisk cell av den generella typ som inledningsvis beskrivits.
En rulle av 28,35 g kopparfolie försågs genom elektroutfäll- ning med ett nodulärt kopparskikt i en första behandlingstank med tillämpning av följande betingelser: Katodströmtäthet (A/dmz) 21,4 Temperatur (°C) 32 Kopparkoncentration (g/liter som Cu) 20 Syrakoncentration (g/liter som HZSO4) 75 Cirkulation (liter/min.) 20 Volt 7,5 Tid (sek.) 12 Katod Kopparfolie _Anod Olösligt bly.
Den så behandlade kopparfolien hade på en av dess ytor en pul- verformig nodulär kopparelektroutfällning. Som ett resultat av detta behandlingssteg hade den behandlade folien en bindningsstyrka av ca 1,78 - 1,96 kg/cm. Denna folie hade emellertid de ofördelaktiga pul- veröverföringsegenskaperna som visades genom att när folien anbrag- tes på ett underlag för att bilda ett laminat, laminatet missfärga- des, när det etsades.
Denna rulle av kopparfolie som hade utsatts för den nodulära behandlingen behandlades sedan i en andra behandlingstank för att . A _ 3 elektroutfälla ett glänsande eller spärrande kopparskikt över det förut anbragta nodulära kopparskiktet. Denna glänsnings- eller spärr- ningsbehandling genomfördes under tillämpning av följande betingel- ser: Katodströmtäthet (A/dmz) 21,4 Temperatur (OC) 49 Kopparkoncentration (g/liter) . 70 Syrakoncentration som HZSO4 (g/lit.) 75 Cirkulation (liter/min.) 20 Volt' G Tid (sek.) _ l2 Katod ' Éopparfolie Anod ' 'Olösligt bly.
Den så behandlade folien hade en bindningsstyrka av ca 2,14- 2,3l kg/cm. Den resulterande kopparfolien ägde ej de ofördelaktiga pulveröverföringsegenskaperna.
Exempel 2 Kopparfolien behandlad i enlighet med exempel l tvättades i en serie av fem vattentvättar på dess behandlade sida. Tvättarna var omväxlande varma och kalla, varvid det varma vattnet värmdes till en temperatur av 54°C och det kalla vattnet hölls vid rums- temperatur. Den tvättade folien bragtes sedan genom en elektrolyt innehållande zinkjoner i en elektrolytcell av den typ som beskrivits inledningsvis. Betingelserna under vilka kopparfolien behandlades var följande: Tillstånd ZnS04.7H2O (g/l) 240 Vatten rest Katoaströmtäthet (A/am2> 1,07 Neddoppningstid (sek.) 10 Elektrolyttemperatur (OC) rumstemperatur Katod 7 Kopparfolie Anoa i s olösliga bly (Pb 92 v1kt¿%; sh 8%, vikt).
Bindningsstyrkan hos den zinkbelagda folien var ca 2,14 - 2,31 kg/cm. . _ Efter avslutad behandling lindades den zinkbelagda folien på en rostfri stâlkärna och placerades i en argonatmosfär i en ugn som hade en temperatur av 204°C under en tid av 30 minuter. Efter värm- " 'móóhiii-is 9 ning hade den behandlade ytan hos folien en gulaktig färgton eller "mässing"-färg. I I föregående beskrivning har beskrivits anbringandet av en zinkbeläggning på kopparfolie behandlad med ett flertal kopparskikt som den föredragna utföringsformen enligt föreliggande uppfinning.
Alternativt, ehuru ej föredraget, kan ett mässingskikt anbringas direkt över det andra kopparskiktet. I sådant fall behöver emeller- tid den färdigbehandlade folien ej utsättas för en värmebehandling, eftersom det ej föreligger någon nödvändighet att bilda ett mässing- skikt genom att legera den slutgiltiga zinkbeläggningen och under- liggande kopparskiktí Mässingskiktet pâföres företrädesvis elektrolytiskt under an- vämkmde av den tidigare beskrivna anordningen och ett pläteringsbad och betingelser som beskrives i tabell 3.
Tabell 3 Betingelser Brett område Föredraget område cu2(cN)2 (9/1) .lo-zoo 30 Zn(CN)2 (9/1) 1-100 9 Vatten rest rest NaCH eller KCN (som jon- tillförare för att öka ledningsförmâgan)(g/l) 20-200 0 80 f Na2CO3 eller KZCO3 (buffert) (Q/l) 0-200 60 NaoH (g/l) 0-100 0 (NH4)2SO4 (för att påverka färgton) (ml/liter) 0-50 l Katoaströmtäfhet (A/anz) o,1 - 10,7 1,07 Neddoppningstid (sek.) 5-50 20 Elektrolyttemp. (OC) 10-38 rumstemperatur Katod Kopparfolie Kopparfolie Anod Mässing Mässing I förutnämnda mässingpläteringsprocess ligger pH hos elektro- lyten vid ca 10-13 och företrädesvis 12.
Alternativt kan mässingskiktet anbringas strömlöst. Tjockle- ken hos mässingskiktet som är anbragt bör emellertid vara detsamma som den hos zinkskiktet.
Det ligger även inom ramen för föreliggande uppfinning att åstadkomma ett alster hos vilket, istället för avsättning av ett zink- . 72100111 5 10 eller mässingskikt ovanpå den matta ytan bildad genom ett flertal kopparskiktsbehandlingar, ett skikt av metall användes som är i hu- vudsak kemiskt inert till det bärande underlaget, på vilket folien skall bindas i tillämpningar för tryckta kretsar för att förhindra laminatmissfärgning. Sådan metall bör fullständigt täcka den matta ytan och bör vara av en sådan tjocklek att den ej föranleder någon sänkning i bindningsstyrkan hos den matta ytan vid den tidpunkt den bindes till nämnda underlag. Metaller som kan användas istället för zink eller mässing inbegriper, som exempel, nickel, kobolt, krom, kadmium, tenn och brons. Varje sådan metall kan utfällas elektroly- tiskt på vanligt sätt, företrädesvis elektrolytisk utfällning, på flertalet av kopparskikt som förutbelagts på grundfolien. Av nyss- nämnda metaller föredrages nickel, kobolt, kadmium, tenn och brons.
Exempel 3 Proceduren enligt exempel l följdes, varefter man belade det så erhållna matta kopparskiktet med nickel under användning av en pläteringslösning sammansatt av: Nickelsulfat 240 g/1 Nickelklorid 45 Borsyra 1 30 Strömtätheten var 3,3 A/dmg, temperaturen 40-45°C, pH 2,5 - 3,0 och tiden 20 sek. Tjockleken hos barriärskiktet var 21,6 mil- liondelar av en cm.
Exempel 4 Proceduren enligt exempel l följdes, varefter man belade det så erhållna matta kopparskiktet med kobolt under användning av en pläteríngslösning sammansatt av: Koboltammoniumsulfat 175 g/1 Borsyra 25 Anoder kol Strömtätheten var 2,7 A/dmz, temperaturen 24°C och tiden 75 sek.
Exempel 5 Proceduren enligt exempel l följdes, varefter man belade det så erhållna matta kopparskiktet med krom under användning av en pläteringslösning sammansatt av: kromsyra (CrO3) 250 g/1 svavelsyra 2,5 Anoder bly 7210041-s 11 Strömtätheten var 2,7 A/dmz vid rumstemperatur och tiden 60 sek.
Exempel 6 Proceduren enligt exempel l följdes, varefter man belade det så erhållna matta kopparskíktet med kadmium under användning av en pläteringslösning sammansatt av: cd(BF4)2 250 g/l NH4BF4 90 Anod kadmium.
Strömtätheten var 3 A/dmz, temperaturen 25°C, pH 2,5 - 3 och tiden 10 sek. Éxempel 7 Proceduren enligt exempel l följdes, varefter man belade det så erhållna matta kopparskiktet med tenn under användning av en sur förtenningsmetod känd som "Kenvert Tintillate“, baserad på stanno- sulfat, svavelsyra och några ej närmare specificerade tillsatser.
Detta “Kenvert Tintillate" tillverkas av Conversion Chemical Corpo- ration, Rockville, Conn. och användes inom elektronikindustrin för tennplätering.
Anoder rent tenn.
Strömtätheten var 1,6 A/dmz vid rumstemperatur och tiden l0 sek.
Exempel 8 Proceduren enligt exempel l följdes, varefter man belade det så erhållna matta kopparskiktet med brons under användning av en pläteringslösning sammansatt av: Kaliumstannat 60,0 g/l Kaliumhydroxid 7,5 Kopparcyanid 40,0 Kaliumcyanid 90,0 Anoder koppar.
Strömtätheten var 2,1 A/dmz, temperaturen 60°C och tiden 20 sek.
När i beskrivning och patentkrav säges att någon väsentlig minskning i bindningsstyrka hos nämnda matta yta ej skall uppstå så avses att förlusten i bindningsstyrkan bör vara mindre än 0,18 kg/cm. J
Claims (11)
1. l. Sätt vid behandling av kopparfolie för att förbättra dess bindningshållfasthet till ett substrat utan laminatfläckning eller missfärgning, k ä n n e t e c k n a t av att man på folien anbrin- gar åtminstone två skilda elektroavsatta kopparbehandl/ingsskikt, så att en matt yta erhålles, varvid det första skiktet i kontakt med folien omfattar ett nodulärt pulverformigt, elektroavsatt skikt och det andra skiktet omfattar ett glänsande skikt utan nodulär struk- tur, men som.överensstämmer med det första skiktets konfiguration för att minska det första skiktets pulveregenskaper och av att man belägger den så erhållna matta ytan med zink, mässing, nickel, ko- bolt, krom, kadmium, tenn eller brons, som i huvudsak upprätthålls- den matta ytans bindningshållfasthet oförändrad och som är kemiskt inert mot ett bärande substrat, till vilket folien bindes vid till- lämpning för tryckta kretsar.
2. Sätt enligt krav l, k ä n n e t e c k n a t av att me- tallen, som anbringas, är zink.
3. Sätt enligt krav 2, k ä n n e t e c k n a t av att den belagda folien värmes efter det attzínkskiktet anbringats för att bringa zinkskiktet till legering med den matta kopparytan så att ett mässingskikt bildas åtminstone partiellt.
4. Sätt enligt krav 3, k ä n n e t e c k n a t_ av att foli- en med zinkskiktet värmes till en temperatur från l2l°C till 204°C under 30 minuter upp till 10 timmar.
5. Sätt enligt krav 2, k ä n n e t e c k n a t av att zink- skiktet påföres i en mängd av 0,3 - 3 g/mz folie.
6. Sätt enligt krav l, k ä n n e t e c k n a t av att det första kopparskiktet utfälles i en mängd av 3-5 g/m2 folie och att det andra kopparskiktet utfälles i en mängd av 3-7 g/m2 folie.
7. Sätt enligt krav 2, k ä n n e t e c k n a t av att kop- parutfällningarna anbringas på kopparfolien från sura bad och att den behandlade folien tvättas tillräckligt för att avlägsna syrares- ter från folien före det att zinkskiktet anbringas. 7210041- 13
8. Sätt enligt krav 2, k ä n n e t e c k n a t av att zink- skiktet utfälles elektrolytiskt på den matta ytan.
9. Sätt enligt krav 2, k ä n n e t e c k n a t av att zink- skiktet påföres vid en katodströmtäthet av 0,54 - 32,1 A/dmz, en elektrolyttemperatur av 10°C - 66oC, en zinkkoncentration (beräknad som ZnSO4.7H2O) i elektrolyten av 5 - 400 g/liter, en tid för den elektriska utfällningen av 5 - 60 sekunder, varvid pH i elektrolyten är 1,5 - 6.
10. Sätt enligt krav 1, k ä n n e t e c k n a t av att det första nodulära kopparskiktet anbringas vid en katodströmtäthet av 16,1 - 32,1 A/dmz, en elektrolyttemperatur av 27 - 43°C, en koppar- koncentration i elektrolyten av 20 - 30 g/liter uttryckt som koppar, en syrakoncentration i elektrolyten uttryckt som HZSO4 av 50 - 100 g/liter och en utfällningstid av 10 - 14 sekunder.
11. Sätt enligt krav 1, k ä n n e t e c k n a t av att det glansiga kopparskiktet anbringas vid en katodströmtäthet av 17,8 - 32,1 A/dmz, en elektrolyttemperatur av 60 - 71°C, en kopparkoncent- ration i elektrolyten av 50-100 g/liter uttryckt som koppar, en sy- rakoncentration i elektrolyten uttryckt som HZSO4 av 50 - 100 g/li- ter och en utfällningstid av 8 - 12 sekunder. ANFÖRDA PUBLIKATIONER: Sverige patentansökan 13 565/69 US 2 802 897 (174-110), 3 293 109 (29-193)
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US16875571A | 1971-08-03 | 1971-08-03 | |
US00215648A US3857681A (en) | 1971-08-03 | 1972-01-05 | Copper foil treatment and products produced therefrom |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SE408188B true SE408188B (sv) | 1979-05-21 |
Family
ID=26864421
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SE7210041A SE408188B (sv) | 1971-08-03 | 1972-08-01 | Sett vid behandling av kopparfolie for att forbettra dess bindningshallfasthet till ett substrat |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3857681A (sv) |
JP (1) | JPS5339376B1 (sv) |
BE (1) | BE786975A (sv) |
DE (1) | DE2235522C3 (sv) |
FR (1) | FR2148025B1 (sv) |
GB (1) | GB1349696A (sv) |
IT (1) | IT965923B (sv) |
LU (1) | LU65829A1 (sv) |
NL (1) | NL161648C (sv) |
SE (1) | SE408188B (sv) |
Families Citing this family (83)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS534498B2 (sv) * | 1973-06-23 | 1978-02-17 | ||
CA1044636A (en) * | 1974-01-07 | 1978-12-19 | Betty L. Berdan | Method of nodularizing a metal surface |
US4273837A (en) * | 1975-04-18 | 1981-06-16 | Stauffer Chemical Company | Plated metal article |
JPS5856758B2 (ja) * | 1975-12-17 | 1983-12-16 | ミツイアナコンダドウハク カブシキガイシヤ | ドウハクヒヨウメンシヨリホウホウ |
US4061837A (en) * | 1976-06-17 | 1977-12-06 | Hutkin Irving J | Plastic-metal composite and method of making the same |
US4171993A (en) * | 1976-09-01 | 1979-10-23 | Borg-Warner Corporation | Coated metal nodule solar heat collector |
US4088547A (en) * | 1976-09-01 | 1978-05-09 | Borg-Warner Corporation | Method for producing a coated metal nodular solar heat collector |
US4190474A (en) * | 1977-12-22 | 1980-02-26 | Gould Inc. | Method of making a printed circuit board having mutually etchable copper and nickel layers |
US4265678A (en) * | 1977-12-27 | 1981-05-05 | Tokyo Rope Mfg. Co., Ltd. | Metal wire cord |
JPS54145965A (en) * | 1978-05-08 | 1979-11-14 | Nippon Mining Co | Method of and apparatus for producing board for printed circuit |
US4323632A (en) * | 1978-10-17 | 1982-04-06 | Gould Inc. | Metal composites and laminates formed therefrom |
US4234395A (en) * | 1978-10-17 | 1980-11-18 | Gould Inc. | Metal composites and laminates formed therefrom |
JPS55145396A (en) * | 1979-04-27 | 1980-11-12 | Furukawa Circuit Foil | Copper foil for printed circuit and method of fabricating same |
JPS56155592A (en) * | 1980-04-03 | 1981-12-01 | Furukawa Circuit Foil | Copper foil for printed circuit and method of manufacturing same |
JPS56155593A (en) * | 1980-04-08 | 1981-12-01 | Furukawa Circuit Foil | Steel foil for printed circuit and method of manufacturing same |
US4357395A (en) * | 1980-08-22 | 1982-11-02 | General Electric Company | Transfer lamination of vapor deposited foils, method and product |
US4383003A (en) * | 1980-09-22 | 1983-05-10 | General Electric Company | Transfer lamination of copper thin sheets and films, method and product |
US4455181A (en) * | 1980-09-22 | 1984-06-19 | General Electric Company | Method of transfer lamination of copper thin sheets and films |
US4386139A (en) * | 1980-10-31 | 1983-05-31 | Furukawa Circuit Foil Co., Ltd. | Copper foil for a printed circuit and a method for the production thereof |
US4387006A (en) * | 1981-07-08 | 1983-06-07 | Fukuda Metal Foil & Powder Co., Ltd. | Method of treating the surface of the copper foil used in printed wire boards |
US4468293A (en) * | 1982-03-05 | 1984-08-28 | Olin Corporation | Electrochemical treatment of copper for improving its bond strength |
US4503769A (en) * | 1982-06-21 | 1985-03-12 | Armotek Industries, Inc. | Metal coated thin wall plastic printing cylinder for rotogravure printing |
EP0112635B1 (en) * | 1982-12-01 | 1987-04-22 | Electrofoils Technology Limited | Treatment of copper foil |
US4515671A (en) * | 1983-01-24 | 1985-05-07 | Olin Corporation | Electrochemical treatment of copper for improving its bond strength |
US4490218A (en) * | 1983-11-07 | 1984-12-25 | Olin Corporation | Process and apparatus for producing surface treated metal foil |
US4549940A (en) * | 1984-04-23 | 1985-10-29 | Karwan Steven J | Method for surface treating copper foil |
JPS6113688A (ja) * | 1984-06-28 | 1986-01-21 | 福田金属箔粉工業株式会社 | 印刷回路用銅箔およびその製造方法 |
DE3427554A1 (de) * | 1984-07-26 | 1986-02-06 | Dornier System Gmbh, 7990 Friedrichshafen | Verfahren zur erzeugung einer haftvermittelnden metallschicht |
JPS61110794A (ja) * | 1984-11-06 | 1986-05-29 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | 銅箔の表面処理方法 |
US4568431A (en) * | 1984-11-13 | 1986-02-04 | Olin Corporation | Process for producing electroplated and/or treated metal foil |
US4549941A (en) * | 1984-11-13 | 1985-10-29 | Olin Corporation | Electrochemical surface preparation for improving the adhesive properties of metallic surfaces |
US4552627A (en) * | 1984-11-13 | 1985-11-12 | Olin Corporation | Preparation for improving the adhesion properties of metal foils |
US4549950A (en) * | 1984-11-13 | 1985-10-29 | Olin Corporation | Systems for producing electroplated and/or treated metal foil |
US4532014A (en) * | 1984-11-13 | 1985-07-30 | Olin Corporation | Laser alignment system |
US4551210A (en) * | 1984-11-13 | 1985-11-05 | Olin Corporation | Dendritic treatment of metallic surfaces for improving adhesive bonding |
DE3515629A1 (de) * | 1985-05-02 | 1986-11-06 | Held, Kurt, 7218 Trossingen | Verfahren und vorrichtung zur herstellung kupferkaschierter laminate |
US4572768A (en) * | 1985-06-28 | 1986-02-25 | Square D Company | Treatment for copper foil |
FI85060C (sv) * | 1985-11-11 | 1992-02-25 | Mitsubishi Materials Corp | Värmeöverföringsmaterial och förfarande för framställning av detsamma |
FI86475C (sv) * | 1985-11-27 | 1992-08-25 | Mitsubishi Materials Corp | Värmeöverföringsmaterial och dess framställningsförfarande |
AU604462B2 (en) * | 1986-07-28 | 1990-12-20 | Furukawa Electric Co. Ltd., The | Fin of heat exchanger and method of making it |
US4692221A (en) * | 1986-12-22 | 1987-09-08 | Olin Corporation | In-situ dendritic treatment of electrodeposited foil |
US4927700A (en) * | 1988-02-24 | 1990-05-22 | Psi Star | Copper etching process and product with controlled nitrous acid reaction |
US4846918A (en) * | 1988-02-24 | 1989-07-11 | Psi Star | Copper etching process and product with controlled nitrous acid reaction |
US5243320A (en) * | 1988-02-26 | 1993-09-07 | Gould Inc. | Resistive metal layers and method for making same |
US5057193A (en) * | 1989-04-05 | 1991-10-15 | Olin Corporation | Anti-tarnish treatment of metal foil |
US4961828A (en) * | 1989-04-05 | 1990-10-09 | Olin Corporation | Treatment of metal foil |
US5022968A (en) * | 1990-09-20 | 1991-06-11 | Olin Corporation | Method and composition for depositing a chromium-zinc anti-tarnish coating on copper foil |
US5230932A (en) * | 1989-10-13 | 1993-07-27 | Olin Corporation | Chromium-zinc anti-tarnish coating for copper foil |
US5098796A (en) * | 1989-10-13 | 1992-03-24 | Olin Corporation | Chromium-zinc anti-tarnish coating on copper foil |
US5250363A (en) * | 1989-10-13 | 1993-10-05 | Olin Corporation | Chromium-zinc anti-tarnish coating for copper foil having a dark color |
JPH0819550B2 (ja) * | 1990-06-05 | 1996-02-28 | 福田金属箔粉工業株式会社 | 印刷回路用銅箔の表面処理方法 |
US5304428A (en) * | 1990-06-05 | 1994-04-19 | Fukuda Metal Foil And Powder Co., Ltd. | Copper foil for printed circuit boards |
TW208110B (sv) * | 1990-06-08 | 1993-06-21 | Furukawa Circuit Foil Kk | |
US5017271A (en) * | 1990-08-24 | 1991-05-21 | Gould Inc. | Method for printed circuit board pattern making using selectively etchable metal layers |
US5207889A (en) * | 1991-01-16 | 1993-05-04 | Circuit Foil Usa, Inc. | Method of producing treated copper foil, products thereof and electrolyte useful in such method |
US6042711A (en) * | 1991-06-28 | 2000-03-28 | Gould Electronics, Inc. | Metal foil with improved peel strength and method for making said foil |
US5215646A (en) * | 1992-05-06 | 1993-06-01 | Circuit Foil Usa, Inc. | Low profile copper foil and process and apparatus for making bondable metal foils |
US5779870A (en) * | 1993-03-05 | 1998-07-14 | Polyclad Laminates, Inc. | Method of manufacturing laminates and printed circuit boards |
US5447619A (en) * | 1993-11-24 | 1995-09-05 | Circuit Foil Usa, Inc. | Copper foil for the manufacture of printed circuit boards and method of producing the same |
US5679230A (en) * | 1995-08-21 | 1997-10-21 | Oak-Mitsui, Inc. | Copper foil for printed circuit boards |
TW420729B (en) * | 1996-02-12 | 2001-02-01 | Gould Electronics Inc | A non-cyanide brass plating bath and a method of making metallic foil having a brass layer using the non-cyanide brass plating bath |
US6117300A (en) * | 1996-05-01 | 2000-09-12 | Honeywell International Inc. | Method for forming conductive traces and printed circuits made thereby |
US5863410A (en) * | 1997-06-23 | 1999-01-26 | Circuit Foil Usa, Inc. | Process for the manufacture of high quality very low profile copper foil and copper foil produced thereby |
US6270645B1 (en) | 1997-09-26 | 2001-08-07 | Circuit Foil Usa, Inc. | Simplified process for production of roughened copper foil |
US6060666A (en) * | 1997-12-22 | 2000-05-09 | Foil Technology Development Corporation | Electrolytic layer applied to metallic foil to promote adhesion to a polymeric substrate |
US5989727A (en) * | 1998-03-04 | 1999-11-23 | Circuit Foil U.S.A., Inc. | Electrolytic copper foil having a modified shiny side |
JP2000340911A (ja) | 1999-05-25 | 2000-12-08 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | プリント配線板用銅箔 |
US6372113B2 (en) | 1999-09-13 | 2002-04-16 | Yates Foil Usa, Inc. | Copper foil and copper clad laminates for fabrication of multi-layer printed circuit boards and process for producing same |
US6224991B1 (en) | 1999-09-13 | 2001-05-01 | Yates Foil Usa, Inc. | Process for electrodeposition of barrier layer over copper foil bonding treatment, products thereof and electrolyte useful in such process |
US6342308B1 (en) | 1999-09-29 | 2002-01-29 | Yates Foil Usa, Inc. | Copper foil bonding treatment with improved bond strength and resistance to undercutting |
US6270648B1 (en) | 1999-10-22 | 2001-08-07 | Yates Foil Usa, Inc. | Process and apparatus for the manufacture of high peel-strength copper foil useful in the manufacture of printed circuit boards, and laminates made with such foil |
US6547946B2 (en) * | 2000-04-10 | 2003-04-15 | The Regents Of The University Of California | Processing a printed wiring board by single bath electrodeposition |
JP2003051673A (ja) * | 2001-08-06 | 2003-02-21 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | プリント配線板用銅箔及びそのプリント配線板用銅箔を用いた銅張積層板 |
US6610417B2 (en) | 2001-10-04 | 2003-08-26 | Oak-Mitsui, Inc. | Nickel coated copper as electrodes for embedded passive devices |
CN100540773C (zh) * | 2001-10-29 | 2009-09-16 | 奥尔巴尼国际公司 | 无纺布的高速纺粘生产 |
DE10354760A1 (de) * | 2003-11-21 | 2005-06-23 | Enthone Inc., West Haven | Verfahren zur Abscheidung von Nickel und Chrom(VI)freien metallischen Mattschichten |
JP4948579B2 (ja) * | 2009-08-14 | 2012-06-06 | 古河電気工業株式会社 | 高周波伝送特性に優れる耐熱性銅箔及びその製造方法、回路基板、銅張積層基板及びその製造方法 |
JP5128695B2 (ja) | 2010-06-28 | 2013-01-23 | 古河電気工業株式会社 | 電解銅箔、リチウムイオン二次電池用電解銅箔、該電解銅箔を用いたリチウムイオン二次電池用電極、該電極を使用したリチウムイオン二次電池 |
JP5555146B2 (ja) * | 2010-12-01 | 2014-07-23 | 株式会社日立製作所 | 金属樹脂複合構造体及びその製造方法、並びにバスバ、モジュールケース及び樹脂製コネクタ部品 |
EP2654111B1 (en) | 2010-12-27 | 2018-04-18 | Furukawa Electric Co., Ltd. | Lithium-ion secondary battery, electrode for secondary battery, and electrolytic copper foil for secondary battery electrode |
US10050277B2 (en) | 2012-06-27 | 2018-08-14 | Furukawa Electric Co., Ltd. | Electrolytic copper foil, negative electrode for lithium ion secondary battery, and lithium ion secondary battery |
WO2017090161A1 (ja) * | 2015-11-26 | 2017-06-01 | 近藤 和夫 | 酸性銅めっき液、酸性銅めっき物および半導体デバイスの製造方法 |
JP7421208B2 (ja) | 2019-12-24 | 2024-01-24 | 日本電解株式会社 | 表面処理銅箔及びその製造方法 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2115749A (en) * | 1936-05-08 | 1938-05-03 | Thomas Steel Company | Method of coating ferrous articles |
US2402384A (en) * | 1941-04-09 | 1946-06-18 | Resinous Prod & Chemical Co | Ion exchange polyamine resins and method of preparing same |
US2428033A (en) * | 1941-11-24 | 1947-09-30 | John S Nachtman | Manufacture of rustproof electrolytic coatings for metal stock |
US2392456A (en) * | 1942-07-16 | 1946-01-08 | Udylite Corp | Thermally diffused copper and zinc plate on ferrous articles |
US2802897A (en) * | 1952-07-18 | 1957-08-13 | Gen Electric | Insulated electrical conductors |
US3220897A (en) * | 1961-02-13 | 1965-11-30 | Esther S Conley | Conducting element and method |
US3293109A (en) * | 1961-09-18 | 1966-12-20 | Clevite Corp | Conducting element having improved bonding characteristics and method |
NL128730C (sv) * | 1962-03-06 | |||
US3328275A (en) * | 1963-12-18 | 1967-06-27 | Revere Copper & Brass Inc | Treatment of copper to form a dendritic surface |
US3377259A (en) * | 1965-03-15 | 1968-04-09 | Gen Dynamics Corp | Method for preventing oxidation degradation of copper by interposing barrier betweencopper and polypropylene |
US3585010A (en) * | 1968-10-03 | 1971-06-15 | Clevite Corp | Printed circuit board and method of making same |
-
1972
- 1972-01-05 US US00215648A patent/US3857681A/en not_active Expired - Lifetime
- 1972-07-14 DE DE2235522A patent/DE2235522C3/de not_active Expired
- 1972-07-20 IT IT51659/72A patent/IT965923B/it active
- 1972-07-20 JP JP7211372A patent/JPS5339376B1/ja active Pending
- 1972-07-25 FR FR7226760A patent/FR2148025B1/fr not_active Expired
- 1972-07-31 BE BE786975A patent/BE786975A/xx not_active IP Right Cessation
- 1972-08-01 LU LU65829A patent/LU65829A1/xx unknown
- 1972-08-01 SE SE7210041A patent/SE408188B/sv unknown
- 1972-08-03 GB GB3634572A patent/GB1349696A/en not_active Expired
- 1972-08-03 NL NL7210661.A patent/NL161648C/xx not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US3857681A (en) | 1974-12-31 |
FR2148025B1 (sv) | 1977-08-05 |
BE786975A (fr) | 1972-11-16 |
DE2235522C3 (de) | 1980-03-20 |
NL7210661A (sv) | 1973-02-06 |
JPS5339376B1 (sv) | 1978-10-20 |
DE2235522A1 (de) | 1973-02-22 |
IT965923B (it) | 1974-02-11 |
NL161648C (nl) | 1980-02-15 |
GB1349696A (sv) | 1974-04-10 |
DE2235522B2 (de) | 1979-07-19 |
NL161648B (nl) | 1979-09-17 |
LU65829A1 (sv) | 1973-01-15 |
FR2148025A1 (sv) | 1973-03-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
SE408188B (sv) | Sett vid behandling av kopparfolie for att forbettra dess bindningshallfasthet till ett substrat | |
KR900000865B1 (ko) | 구리-크롬-폴리이미드 복합체 및 그의 제조방법 | |
US4193849A (en) | Method for making a raw board for use in printed circuits | |
CN1993501B (zh) | 复合铜箔及其制造方法 | |
JPH06169169A (ja) | 印刷回路用銅箔及びその製造方法 | |
EP0252139A1 (en) | METHOD AND DEVICE FOR ELECTROPLATING A COPPER BLADE. | |
JPH05235542A (ja) | 印刷回路用銅箔及びその製造方法 | |
US4490218A (en) | Process and apparatus for producing surface treated metal foil | |
WO2006028207A1 (ja) | プライマー樹脂層を備えたキャリア箔付電解銅箔及びその製造方法 | |
JP3306404B2 (ja) | 表面処理銅箔の製造方法及びその製造方法で得られた表面処理銅箔を用いた銅張積層板 | |
JPS6255714B2 (sv) | ||
KR20010089713A (ko) | 표면처리 동박 및 그 표면처리 동박의 제조방법 | |
KR100974373B1 (ko) | 인쇄회로용 동박의 표면처리 방법과 그 동박 및 도금장치 | |
US5322975A (en) | Universal carrier supported thin copper line | |
JPH0471292A (ja) | 印刷回路用銅箔及びその表面処理方法 | |
EP0790332A1 (en) | A non-cyanide brass plating bath and a method of making metallic foil having a brass layer using the non-cyanide brass plating bath | |
US5207889A (en) | Method of producing treated copper foil, products thereof and electrolyte useful in such method | |
US20040108211A1 (en) | Surface treatment for a wrought copper foil for use on a flexible printed circuit board (FPCB) | |
JPH08236930A (ja) | 印刷回路用銅箔及びその製造方法 | |
JP2717910B2 (ja) | 印刷回路用銅箔及びその製造方法 | |
CN1144670C (zh) | Tab带载体的铜箔以及使用铜箔的tab载体带和tab带载体 | |
JPS5912039B2 (ja) | 印刷回路用銅箔およびその製造方法 | |
US6224991B1 (en) | Process for electrodeposition of barrier layer over copper foil bonding treatment, products thereof and electrolyte useful in such process | |
JPH0219994B2 (sv) | ||
JP2739507B2 (ja) | 銅箔の電解処理方法 |