RU2018130600A - Рассеивающий материал из синтезированного кварцевого стекла и способ получения формованного изделия, полностью или частично состоящего из него - Google Patents
Рассеивающий материал из синтезированного кварцевого стекла и способ получения формованного изделия, полностью или частично состоящего из него Download PDFInfo
- Publication number
- RU2018130600A RU2018130600A RU2018130600A RU2018130600A RU2018130600A RU 2018130600 A RU2018130600 A RU 2018130600A RU 2018130600 A RU2018130600 A RU 2018130600A RU 2018130600 A RU2018130600 A RU 2018130600A RU 2018130600 A RU2018130600 A RU 2018130600A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- paragraphs
- scattering material
- sio
- quartz glass
- synthesized
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/06—Other methods of shaping glass by sintering, e.g. by cold isostatic pressing of powders and subsequent sintering, by hot pressing of powders, by sintering slurries or dispersions not undergoing a liquid phase reaction
- C03B19/066—Other methods of shaping glass by sintering, e.g. by cold isostatic pressing of powders and subsequent sintering, by hot pressing of powders, by sintering slurries or dispersions not undergoing a liquid phase reaction for the production of quartz or fused silica articles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/14—Other methods of shaping glass by gas- or vapour- phase reaction processes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B20/00—Processes specially adapted for the production of quartz or fused silica articles, not otherwise provided for
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C11/00—Multi-cellular glass ; Porous or hollow glass or glass particles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/06—Glass compositions containing silica with more than 90% silica by weight, e.g. quartz
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C4/00—Compositions for glass with special properties
- C03C4/005—Compositions for glass with special properties for opaline glass
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/12—Other methods of shaping glass by liquid-phase reaction processes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/07—Impurity concentration specified
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/20—Doped silica-based glasses doped with non-metals other than boron or fluorine
- C03B2201/21—Doped silica-based glasses doped with non-metals other than boron or fluorine doped with molecular hydrogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/20—Doped silica-based glasses doped with non-metals other than boron or fluorine
- C03B2201/23—Doped silica-based glasses doped with non-metals other than boron or fluorine doped with hydroxyl groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2201/00—Glass compositions
- C03C2201/06—Doped silica-based glasses
- C03C2201/20—Doped silica-based glasses containing non-metals other than boron or halide
- C03C2201/21—Doped silica-based glasses containing non-metals other than boron or halide containing molecular hydrogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2201/00—Glass compositions
- C03C2201/06—Doped silica-based glasses
- C03C2201/20—Doped silica-based glasses containing non-metals other than boron or halide
- C03C2201/23—Doped silica-based glasses containing non-metals other than boron or halide containing hydroxyl groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2201/00—Glass compositions
- C03C2201/80—Glass compositions containing bubbles or microbubbles, e.g. opaque quartz glass
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2203/00—Production processes
- C03C2203/50—After-treatment
- C03C2203/52—Heat-treatment
- C03C2203/54—Heat-treatment in a dopant containing atmosphere
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
Claims (18)
1. Рассеивающий материал из синтезированного кварцевого стекла, содержащего поры, имеющего химическую чистоту по SiO2 по меньшей мере 99,9%, содержание кристобалита не более 1% и плотность в диапазоне от 2,0 до 2,18 г/см3, отличающийся тем, что кварцевое стекло имеет содержание гидроксильных групп не ниже 200 в.ч./млн, и тем, что по меньшей мере 80% пор имеет максимальный размер поры менее 20 мкм.
2. Рассеивающий материал по п. 1, отличающийся тем, что объем пор составляет от 0,9% до 5%, предпочтительно превышает 2,5%.
3. Рассеивающий материал по п. 1 или 2, отличающийся тем, что по меньшей мере 80% пор имеют максимальный размер пор менее 10 мкм.
4. Рассеивающий материал по любому из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что распределение плотности является однородным в том смысле, что пять образцов для измерения плотности, которые однородно распределены на длине измерения 5 см и каждый из которых имеет объем 1 см3, имеют диапазон отклонений удельной плотности менее 0,01 г/см3.
5. Рассеивающий материал по любому из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что поры содержат неон.
6. Рассеивающий материал по любому из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что кварцевое стекло имеет содержание гидроксильных групп 450±50 в.ч./млн.
7. Рассеивающий материал по любому из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что кварцевое стекло содержит водород в диапазоне концентраций от 1017 молекул/см3 до 1019 молекул/см3.
8. Способ получения формованного изделия, состоящего, по меньшей мере частью, из синтезированного рассеивающего материала по любому из пп. 1-7, отличающийся тем, что неспеченное изделие получают из суспензии, содержащей дисперсионную жидкость и пылевидные частицы синтезированного SiO2 с чистотой по SiO2 по меньшей мере 99,9%, и неспеченное изделие обрабатывают спеканием с получением рассеивающего материала, причем способ включает следующие стадии:
измельчение исходного материала из синтезированного прозрачного кварцевого стекла с содержанием гидроксильных групп по меньшей мере 200 в.ч./млн с получением зерен SiO2,
мокрый размол зерен SiO2 в дисперсионной жидкости, чтобы образовать суспензию дисперсионной жидкости и пылевидных частиц SiO2, большинство из которых имеет размер менее 10 мкм, и
формование суспензии с получением неспеченного изделия из пылевидных частиц SiO2.
9. Способ по п. 8, отличающийся тем, что в суспензию добавляют компоненты, разлагающиеся при спекании.
10. Способ по любому из пп. 8 или 9, отличающийся тем, что температура спекания ниже 1400°C.
11. Способ по любому из пп. 8-10, отличающийся тем, что спекание проводится в атмосфере, содержащей неон.
12. Способ по любому из пп. 8-11, отличающийся тем, что синтезированное кварцевое стекло получают как исходный материал способом синтеза, который включает пламенный гидролиз кремнийсодержащего исходного соединения.
13. Способ по любому из пп. 8-12, отличающийся тем, что исходный материал на длине волны 1064 нм имеет коэффициент поглощения 10 ppm/см или меньше, а на длине волны 946 нм коэффициент поглощения 2000 ppm/см или меньше, и/или тем, что исходный материал на длине волны 200 нм имеет коэффициент экстинкции k200 менее 5×10-3 см-1.
14. Способ по любому из пп. 8-13, отличающийся тем, что рассеивающий материал для наполнения водородом обрабатывают при давлении по меньшей мере 1 бар и при температуре ниже 500°C в водородсодержащей атмосфере.
15. Формованное изделие, состоящее из рассеивающего материала по любому из пп. 1-7 для применения в качестве диффузора в спектроскопии и в области космонавтики, в качестве денситометрического стандарта, для целей дистанционного зондирования, для лазерных резонаторов и лазерных рефлекторов, в фотометрических шарах или в качестве облицовочного материала для источников света.
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP16155505 | 2016-02-12 | ||
| EP16155505.7 | 2016-02-12 | ||
| EP16157577.4 | 2016-02-26 | ||
| EP16157577.4A EP3205630B1 (de) | 2016-02-12 | 2016-02-26 | Diffusormaterial aus synthetisch erzeugtem quarzglas sowie verfahren zur herstellung eines vollständig oder teilweise daraus bestehenden formkörpers |
| PCT/EP2017/053126 WO2017137618A1 (en) | 2016-02-12 | 2017-02-13 | Diffuser material of synthetically produced quartz glass and method for the manufacture of a molded body consisting fully or in part thereof |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2018130600A3 RU2018130600A3 (ru) | 2020-03-12 |
| RU2018130600A true RU2018130600A (ru) | 2020-03-12 |
| RU2720729C2 RU2720729C2 (ru) | 2020-05-13 |
Family
ID=55701688
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2018130600A RU2720729C2 (ru) | 2016-02-12 | 2017-02-13 | Рассеивающий материал из синтезированного кварцевого стекла и способ получения формованного изделия, полностью или частично состоящего из него |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US11390556B2 (ru) |
| EP (1) | EP3205630B1 (ru) |
| JP (1) | JP6840765B2 (ru) |
| KR (1) | KR102295377B1 (ru) |
| CN (1) | CN108698908B (ru) |
| RU (1) | RU2720729C2 (ru) |
| WO (1) | WO2017137618A1 (ru) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110082349B (zh) * | 2019-02-01 | 2021-11-02 | 南京师范大学 | 一种基于olci的内陆富营养化湖泊水体蓝藻生物量比例遥感估算方法 |
| DE112020001821T5 (de) * | 2019-04-08 | 2021-12-23 | Ams Ag | Optischer sensor mit integriertem diffusor |
| CN111393022B (zh) * | 2020-03-23 | 2022-11-01 | 黄冈师范学院 | 一种高纯度、低羟基石英玻璃原料的制备方法 |
| RU2753600C1 (ru) * | 2020-08-20 | 2021-08-18 | Акционерное общество "ЭКОС-1" | Способ получения особо чистого порошкообразного кристобалита из диоксида кремния |
| EP4108641A1 (de) | 2021-06-24 | 2022-12-28 | Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG | Formkörper aus opakem quarzglas sowie verfahren zur herstellung desselben |
| CN113415978B (zh) * | 2021-07-03 | 2022-06-24 | 四川神光石英科技有限公司 | 一种耐辐照石英玻璃的制备方法及制备用坩埚和料架 |
Family Cites Families (29)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4257798A (en) * | 1979-07-26 | 1981-03-24 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Method for introduction of gases into microspheres |
| JPS61126502A (ja) * | 1984-11-24 | 1986-06-14 | Komatsugawa Kakoki Kk | 光学的拡散部材 |
| JPH0667765B2 (ja) * | 1985-09-06 | 1994-08-31 | 日本電信電話株式会社 | 石英ガラスの製造方法および製造装置 |
| US5462705A (en) | 1988-10-27 | 1995-10-31 | Labsphere, Inc. | Method of forming diffusely reflecting sintered fluorinated long-chain addition polymers doped with pigments for color standard use |
| EP0546196B1 (en) * | 1991-06-29 | 1997-05-02 | Shin-Etsu Quartz Products Co., Ltd. | Synthetic quartz glass optical member for excimer laser and production thereof |
| JP3007510B2 (ja) * | 1993-04-27 | 2000-02-07 | 信越化学工業株式会社 | 合成石英ガラス部材の製造方法 |
| US5674792A (en) * | 1993-11-12 | 1997-10-07 | Heraeus Quarzglas Gmbh | Shaped body having a high silicon dioxide content and a process for producing such shaped bodies |
| JP2980094B2 (ja) | 1997-05-16 | 1999-11-22 | 住友電気工業株式会社 | 石英ガラス物品及びその製造方法 |
| JP3715163B2 (ja) * | 1999-12-24 | 2005-11-09 | 東芝セラミックス株式会社 | 高出力ＡｒＦエキシマレーザー用合成石英ガラス部材およびその製造方法 |
| JP2001270731A (ja) | 2000-03-28 | 2001-10-02 | Nikon Corp | 合成石英ガラス部材及びこれを用いた光リソグラフィー装置 |
| JP4191935B2 (ja) * | 2001-02-15 | 2008-12-03 | 信越石英株式会社 | エキシマレーザー用合成石英ガラス部材の製造方法 |
| EP1233005B2 (en) * | 2001-02-15 | 2013-01-16 | Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG | Method for producing synthetic quartz glass members for excimer lasers and synthetic quartz glass members for excimer laser optics produced by the same |
| JP4549008B2 (ja) * | 2002-05-17 | 2010-09-22 | 信越石英株式会社 | 水素ドープシリカ粉及びそれを用いたシリコン単結晶引上げ用石英ガラスルツボ |
| DE10243953B4 (de) | 2002-09-21 | 2005-11-17 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Verfahren für die Herstellung eines Bauteils aus opakem Quarzglas |
| DE102004009577B3 (de) * | 2004-02-25 | 2005-03-03 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Verfahren zur Herstellung eines optischen Bauteils |
| DE102004017031B4 (de) * | 2004-04-02 | 2008-10-23 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Optisches Bauteil aus Quarzglas, Verfahren zur Herstellung des Bauteils und Verwendung desselben |
| DE102004018887B4 (de) | 2004-04-15 | 2009-04-16 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Verfahren für die Herstellung eines Bauteils aus Quarzglas zum Einsatz mit einer UV-Strahlenquelle und Verfahren für die Eignungsdiagnose eines derartigen Quarzglas-Bauteils |
| DE102006046619A1 (de) | 2006-09-29 | 2008-04-03 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Streichfähiger SiO2-Schlicker für die Herstellung von Quarzglas, Verfahren zur Herstellung von Quarzglas unter Einsatz des Schlickers |
| WO2008069194A1 (ja) * | 2006-12-05 | 2008-06-12 | Shin-Etsu Quartz Products Co., Ltd. | 合成不透明石英ガラス及びその製造方法 |
| DE102006062166B4 (de) * | 2006-12-22 | 2009-05-14 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Quarzglas-Bauteil mit Reflektorschicht sowie Verfahren zur Herstellung desselben |
| JP4969632B2 (ja) * | 2009-10-14 | 2012-07-04 | 信越石英株式会社 | シリカ粉及びシリカ容器並びにそれらの製造方法 |
| JPWO2011132786A1 (ja) * | 2010-04-23 | 2013-07-18 | 旭硝子株式会社 | 紫外線透過型近赤外線カットフィルタガラス |
| DE202010018292U1 (de) * | 2010-06-02 | 2015-07-14 | Thomas Kreuzberger | Quarzglaskörper und Gelbkörper zur Herstellung eines Quarzglaskörpers |
| DE102011012363A1 (de) * | 2011-02-24 | 2012-08-30 | Heraeus Noblelight Gmbh | Infrarot-Flächenstrahler mit hoher Strahlungsleistung und Verfahren für seine Herstellung |
| JP2014091634A (ja) * | 2012-10-31 | 2014-05-19 | Tosoh Corp | 不透明石英ガラスおよびその製造方法 |
| DE102013101687B3 (de) | 2013-02-20 | 2014-05-22 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Optisches Bauteil aus Quarzglas zur Verwendung in der ArF-Excimerlaser-Lithographie sowie Verfahren zur Herstellung des Bauteils |
| US8926143B2 (en) | 2013-03-13 | 2015-01-06 | Corning Incorporated | Light-diffusing elements |
| US9957431B2 (en) | 2013-11-11 | 2018-05-01 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Composite material, heat-absorbing component, and method for producing the composite material |
| EP2982780B1 (de) * | 2014-08-04 | 2019-12-11 | Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG | Verfahren zur herstellung eines siliziumblocks, zur verfahrensdurchführung geeignete kokille aus quarzglas oder quarzgut sowie verfahren für deren herstellung |
-
2016
- 2016-02-26 EP EP16157577.4A patent/EP3205630B1/de active Active
-
2017
- 2017-02-13 JP JP2018541664A patent/JP6840765B2/ja active Active
- 2017-02-13 US US16/077,005 patent/US11390556B2/en active Active
- 2017-02-13 KR KR1020187026188A patent/KR102295377B1/ko active IP Right Grant
- 2017-02-13 WO PCT/EP2017/053126 patent/WO2017137618A1/en active Application Filing
- 2017-02-13 RU RU2018130600A patent/RU2720729C2/ru active
- 2017-02-13 CN CN201780010996.6A patent/CN108698908B/zh active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP3205630B1 (de) | 2020-01-01 |
| RU2018130600A3 (ru) | 2020-03-12 |
| JP6840765B2 (ja) | 2021-03-10 |
| KR20180110101A (ko) | 2018-10-08 |
| US11390556B2 (en) | 2022-07-19 |
| KR102295377B1 (ko) | 2021-09-01 |
| EP3205630A1 (de) | 2017-08-16 |
| JP2019511985A (ja) | 2019-05-09 |
| RU2720729C2 (ru) | 2020-05-13 |
| WO2017137618A1 (en) | 2017-08-17 |
| US20190031555A1 (en) | 2019-01-31 |
| CN108698908A (zh) | 2018-10-23 |
| CN108698908B (zh) | 2021-10-22 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU2018130600A (ru) | Рассеивающий материал из синтезированного кварцевого стекла и способ получения формованного изделия, полностью или частично состоящего из него | |
| TWI728018B (zh) | 自二氧化矽粉末製備石英玻璃體 | |
| US20130085056A1 (en) | Quartz glass body and a method and gel body for producing a quartz glass body | |
| JP6129263B2 (ja) | ＳｉＯ２造粒体の合成石英ガラスの製造方法及び該製造方法に適したＳｉＯ２造粒体 | |
| Krol et al. | The densification of monolithic gels | |
| TWI794149B (zh) | 石英玻璃粉粒、不透明成型體及彼等之製備方法 | |
| Li et al. | Spectroscopic studies of sol-gel-derived organically modified silicates | |
| TWI764879B (zh) | 降低二氧化矽顆粒之碳含量及石英玻璃體之製備 | |
| KR101313647B1 (ko) | 실리카 용기 및 그 제조방법 | |
| JP4922355B2 (ja) | シリカ容器及びその製造方法 | |
| CA2827899A1 (en) | High-purity silicon dioxide granules for quartz glass applications and method for producing said granules | |
| Manevich et al. | Diatomite—siliceous material for the glass industry | |
| TW201733929A (zh) | 不透明石英玻璃體的製備 | |
| TW201544480A (zh) | 不透明石英玻璃及其製造方法 | |
| TW583150B (en) | Quartz glass blank for an optical component, and manufacturing procedure and use thereof | |
| Brito et al. | Photoluminescence of silica monoliths prepared from cold sintering of nanometric aerosil precursors under high pressure | |
| JP2004035368A (ja) | メソポーラスシリケート及びその製造方法 | |
| Sakka et al. | Sol-gel synthesis of silica gel disc as applied to supports of organic molecules with optical functions | |
| Shen et al. | Photoluminescence sites on MCM-48 | |
| JP6869168B2 (ja) | 不透明な石英ガラスを製造する方法および該石英ガラスのブランク材 | |
| CN116724006A (zh) | 石英玻璃体 | |
| Bykov et al. | IR spectroscopy of bidistilled and deuterium water under conditions of geometric limitation in glass nanopores | |
| JP3394323B2 (ja) | 高純度シリカガラス質発泡体の製造方法 | |
| JP5262055B2 (ja) | 球状シリカ系多孔体及びその製造方法、並びに球状カーボン系多孔体 | |
| JP2016020487A (ja) | 多孔質シリカに内包された炭素粒子蛍光体、炭素粒子蛍光体、多孔質シリカに内包された炭素粒子蛍光体の製造方法および炭素粒子蛍光体の製造方法 |