RU2013146022A - Однополостная двухэлектродная разрядная камера и эксимерный лазер - Google Patents

Однополостная двухэлектродная разрядная камера и эксимерный лазер Download PDF

Info

Publication number
RU2013146022A
RU2013146022A RU2013146022/07A RU2013146022A RU2013146022A RU 2013146022 A RU2013146022 A RU 2013146022A RU 2013146022/07 A RU2013146022/07 A RU 2013146022/07A RU 2013146022 A RU2013146022 A RU 2013146022A RU 2013146022 A RU2013146022 A RU 2013146022A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
discharge chamber
electrode
chamber according
discharge
sheeted
Prior art date
Application number
RU2013146022/07A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2592065C2 (ru
Inventor
Юй ВАН
Йи Чжоу
Цзиньбинь ДИН
Бинь Лю
Лицзя ЧЖАН
Цзяншань ЧЖАО
Пэнфэй ША
Original Assignee
Академи Оф Опто-Электроникс, Чайниз Академи Оф Сайенсиз
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Академи Оф Опто-Электроникс, Чайниз Академи Оф Сайенсиз filed Critical Академи Оф Опто-Электроникс, Чайниз Академи Оф Сайенсиз
Publication of RU2013146022A publication Critical patent/RU2013146022A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2592065C2 publication Critical patent/RU2592065C2/ru

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
    • H01S3/08—Construction or shape of optical resonators or components thereof
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
    • H01S3/097—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/02—Constructional details
    • H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
    • H01S3/038—Electrodes, e.g. special shape, configuration or composition
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/02—Constructional details
    • H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
    • H01S3/038—Electrodes, e.g. special shape, configuration or composition
    • H01S3/0385—Shape
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
    • H01S3/06—Construction or shape of active medium
    • H01S3/07—Construction or shape of active medium consisting of a plurality of parts, e.g. segments
    • H01S3/073—Gas lasers comprising separate discharge sections in one cavity, e.g. hybrid lasers
    • H01S3/076—Folded-path lasers
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/23—Arrangements of two or more lasers not provided for in groups H01S3/02 - H01S3/22, e.g. tandem arrangements of separate active media
    • H01S3/2308—Amplifier arrangements, e.g. MOPA
    • H01S3/2325—Multi-pass amplifiers, e.g. regenerative amplifiers
    • H01S3/2333—Double-pass amplifiers
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/005—Optical devices external to the laser cavity, specially adapted for lasers, e.g. for homogenisation of the beam or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/02—Constructional details
    • H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/02—Constructional details
    • H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
    • H01S3/036—Means for obtaining or maintaining the desired gas pressure within the tube, e.g. by gettering, replenishing; Means for circulating the gas, e.g. for equalising the pressure within the tube
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/02—Constructional details
    • H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
    • H01S3/038—Electrodes, e.g. special shape, configuration or composition
    • H01S3/0384—Auxiliary electrodes, e.g. for pre-ionisation or triggering, or particular adaptations therefor
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/02—Constructional details
    • H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
    • H01S3/038—Electrodes, e.g. special shape, configuration or composition
    • H01S3/0388—Compositions, materials or coatings
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
    • H01S3/08—Construction or shape of optical resonators or components thereof
    • H01S3/08059—Constructional details of the reflector, e.g. shape
    • H01S3/08068—Holes; Stepped surface; Special cross-section
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
    • H01S3/097—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
    • H01S3/0971—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser transversely excited
    • H01S3/09713—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser transversely excited with auxiliary ionisation, e.g. double discharge excitation
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
    • H01S3/10084—Frequency control by seeding
    • H01S3/10092—Coherent seed, e.g. injection locking
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/14—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
    • H01S3/22—Gases
    • H01S3/223—Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms
    • H01S3/225—Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms comprising an excimer or exciplex
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/23—Arrangements of two or more lasers not provided for in groups H01S3/02 - H01S3/22, e.g. tandem arrangements of separate active media
    • H01S3/2308—Amplifier arrangements, e.g. MOPA
    • H01S3/2325—Multi-pass amplifiers, e.g. regenerative amplifiers
    • H01S3/235—Regenerative amplifiers
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/23—Arrangements of two or more lasers not provided for in groups H01S3/02 - H01S3/22, e.g. tandem arrangements of separate active media
    • H01S3/2383—Parallel arrangements

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Lasers (AREA)

Abstract

1. Однополостная двухэлектродная разрядная камера, содержащая:корпус (1) камеры, включающий в себя левый отсек и правый отсек, которые расположены так, что образуют симметричную камеру с двумя отсеками, причем каждый из отсеков имеет поперечное сечение, являющееся относительно малым на верхней стороне, но относительно большим на нижней стороне, а левый и правый отсеки имеют границу раздела и сообщаются друг с другом в плоскости симметрии всей разрядной камеры; идва набора главных разрядных электродов, каждый из которых расположен соответственно в левом и в правом отсеках и имеет область (2) разряда, расположенную соответственно в левом и в правом отсеках на верхней стороне.2. Однополостная двухэлектродная разрядная камера по п. 1, в которой каждый набор главных разрядных электродов содержит анод (6) и катод (3) с областью (2) разряда, сформированной между разрядной поверхностью анода (6) и разрядной поверхностью катода (3).3. Однополостная двухэлектродная разрядная камера по п. 2, в которой катод (3) установлен на изолирующей пластине (5), подвешенной на верхнем краю каждого из левого и правого отсеков, и в которой анод (6) закреплен на держателе (14) анода, закрепленном на корпусе (1) камеры в таком положении, что анод (6) и катод (3) являются параллельными друг другу и обращенными друг к другу.4. Однополостная двухэлектродная разрядная камера по п. 3, дополнительно содержащая прижимную планку (9) и обостряющий конденсатор (10) для разряда и хранения, в которой изолирующая пластина (5) прикреплена к камере прижимной планкой (9), и в которой прижимная планка (9), расположенная вне изолирующей пластины (5), соединена с концом обостряющего кон�

Claims (18)

1. Однополостная двухэлектродная разрядная камера, содержащая:
корпус (1) камеры, включающий в себя левый отсек и правый отсек, которые расположены так, что образуют симметричную камеру с двумя отсеками, причем каждый из отсеков имеет поперечное сечение, являющееся относительно малым на верхней стороне, но относительно большим на нижней стороне, а левый и правый отсеки имеют границу раздела и сообщаются друг с другом в плоскости симметрии всей разрядной камеры; и
два набора главных разрядных электродов, каждый из которых расположен соответственно в левом и в правом отсеках и имеет область (2) разряда, расположенную соответственно в левом и в правом отсеках на верхней стороне.
2. Однополостная двухэлектродная разрядная камера по п. 1, в которой каждый набор главных разрядных электродов содержит анод (6) и катод (3) с областью (2) разряда, сформированной между разрядной поверхностью анода (6) и разрядной поверхностью катода (3).
3. Однополостная двухэлектродная разрядная камера по п. 2, в которой катод (3) установлен на изолирующей пластине (5), подвешенной на верхнем краю каждого из левого и правого отсеков, и в которой анод (6) закреплен на держателе (14) анода, закрепленном на корпусе (1) камеры в таком положении, что анод (6) и катод (3) являются параллельными друг другу и обращенными друг к другу.
4. Однополостная двухэлектродная разрядная камера по п. 3, дополнительно содержащая прижимную планку (9) и обостряющий конденсатор (10) для разряда и хранения, в которой изолирующая пластина (5) прикреплена к камере прижимной планкой (9), и в которой прижимная планка (9), расположенная вне изолирующей пластины (5), соединена с концом обостряющего конденсатора (10) и образует заземленное соединение с корпусом (1) камеры.
5. Однополостная двухэлектродная разрядная камера по п. 4, в которой другой конец обостряющего конденсатора (10) соединен с высоковольтным импульсным источником (4) питания через проводящую металлическую пластину (21).
6. Однополостная двухэлектродная разрядная камера по п. 1, дополнительно содержащая устройство предварительной ионизации, расположенное на сторонах главных разрядных электродов.
7. Однополостная двухэлектродная разрядная камера по п. 6, в которой имеется два набора устройств предварительной ионизации для каждого из отсеков, каждый из которых расположен на противоположных сторонах соответственно каждого набора главных разрядных электродов.
8. Однополостная двухэлектродная разрядная камера по п. 6, в которой имеется один набор устройств предварительной ионизации для каждого из отсеков, который расположен на сторонах главных разрядных электродов позади по ходу относительно области (2) разряда.
9. Однополостная двухэлектродная разрядная камера по п. 6, в которой устройство предварительной ионизации содержит верхний участок и нижний участок, каждый из которых содержит керамическую трубку (7) и электрод (8) предварительной ионизации, причем электрод (8) предварительной ионизации расположен внутри керамической трубки (7).
10. Однополостная двухэлектродная разрядная камера по п. 6, в которой керамическая трубка (7) верхнего участка устройства предварительной ионизации закреплена на катоде (3) через изолятор (17), и керамическая трубка (7) из нижнего участка устройства предварительной ионизации закреплена на аноде (6) через изолятор (20).
11. Однополостная двухэлектродная разрядная камера по п. 2, в которой каждый из анодов (6) соединен с корпусом (1) разрядной камеры посредством набора медных листов.
12. Однополостная двухэлектродная разрядная камера по п. 1, дополнительно содержащая систему вентиляторов, сконфигурированную для приведения в движение газов внутри разрядной камеры.
13. Однополостная двухэлектродная разрядная камера по п. 1, дополнительно содержащая систему отвода тепла, сконфигурированную для отвода тепла из разрядной камеры.
14. Однополостная двухэлектродная разрядная камера по п. 1, дополнительно содержащая систему улавливания пыли, сконфигурированную для улавливания пыли в разрядной камере.
15. Однополостная двухэлектродная разрядная камера по п. 1, дополнительно содержащая систему подавления шумов, сконфигурированную для подавления шумов в разрядной системе.
16. Двухэлектродный лазер типа MOPA с одной камерой, содержащий однополостную двухэлектродную разрядную камеру по любому из пп. 1-15.
17. Двухэлектродный лазер типа MOPO с одной камерой, содержащий однополостную двухэлектродную разрядную камеру по любому из пп. 1-15.
18. Двухэлектродный лазер типа MOPRA с одной камерой, содержащий однополостную двухэлектродную разрядную камеру по любому из пп. 1-15.
RU2013146022/07A 2012-03-02 2012-03-26 Однополостная двухэлектродная разрядная камера и эксимерный лазер RU2592065C2 (ru)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN2012100530579A CN102810810A (zh) 2012-03-02 2012-03-02 单腔双电极放电腔及准分子激光器
CN201210053057.9 2012-03-02
PCT/CN2012/073018 WO2013127111A1 (zh) 2012-03-02 2012-03-26 单腔双电极放电腔及准分子激光器

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2013146022A true RU2013146022A (ru) 2015-04-20
RU2592065C2 RU2592065C2 (ru) 2016-07-20

Family

ID=47234446

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2013146022/07A RU2592065C2 (ru) 2012-03-02 2012-03-26 Однополостная двухэлектродная разрядная камера и эксимерный лазер

Country Status (8)

Country Link
US (1) US9252557B2 (ru)
EP (1) EP2690723B1 (ru)
JP (1) JP2014511036A (ru)
KR (1) KR101493807B1 (ru)
CN (2) CN102810810A (ru)
DK (1) DK2690723T3 (ru)
RU (1) RU2592065C2 (ru)
WO (1) WO2013127111A1 (ru)

Families Citing this family (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102810810A (zh) * 2012-03-02 2012-12-05 中国科学院光电研究院 单腔双电极放电腔及准分子激光器
CN102969645B (zh) 2012-11-21 2015-07-15 中国科学院光电研究院 双电极放电腔的导流装置及应用其的放电腔、准分子激光器
KR101804551B1 (ko) * 2012-12-20 2017-12-04 레인보우 소스 레이저 (RSLaser) 엑시머 레이저의 복합 캐비티
CN103199422A (zh) * 2013-02-20 2013-07-10 中国科学院光电研究院 气体激光器的种子光注入锁定放大系统和功率放大腔
CN104064944B (zh) * 2013-03-22 2017-02-08 中国科学院大连化学物理研究所 一种种子注入放大环形腔化学激光装置
CN103199412A (zh) * 2013-03-26 2013-07-10 中国科学院光电研究院 具有微流道结构的单腔双电极放电腔
CN103296572B (zh) * 2013-06-05 2015-07-15 中国科学院光电研究院 一种采用环形腔结构的气体激光器放大系统
CN104242030B (zh) * 2013-06-08 2018-02-27 中国科学院光电研究院 一种采用mopa结构的气体激光器放大系统
JP6411120B2 (ja) * 2014-08-04 2018-10-24 株式会社アマダミヤチ レーザ装置
WO2016143105A1 (ja) * 2015-03-11 2016-09-15 ギガフォトン株式会社 エキシマレーザチャンバ装置
KR102070141B1 (ko) * 2015-07-22 2020-01-28 아카데미 오브 옵토-일렉트로닉스, 차이니즈 아카데미 오브 사이언시스 환형 챔버 구조를 가지는 엑시머 레이저 시스템
WO2017022105A1 (ja) * 2015-08-05 2017-02-09 ギガフォトン株式会社 レーザチャンバ
CN105098580B (zh) * 2015-09-01 2018-10-19 西北核技术研究所 一种气体放电预电离装置
CN105375327B (zh) * 2015-11-03 2020-09-22 北京热刺激光技术有限责任公司 四腔室结构射频激光器
CN105375242A (zh) * 2015-11-24 2016-03-02 大族激光科技产业集团股份有限公司 二氧化碳激光器电极板的表面处理方法及激光器
CN111279562A (zh) 2017-10-24 2020-06-12 西默有限公司 用于延长激光室中电极寿命的方法和装置
KR102500134B1 (ko) * 2017-11-01 2023-02-15 삼성전자주식회사 무선 통신 시스템에서 패킷 데이터 정보를 송수신하기 위한 장치 및 방법
CN108183383B (zh) * 2018-01-22 2020-03-17 中国科学院合肥物质科学研究院 一种应用于白癜风治疗的准分子激光器
RU2693542C1 (ru) * 2018-08-08 2019-07-03 Общество с ограниченной ответственностью "Троицкий инженерный центр" Лазерная система и способ генерации ик излучения
CN112397987B (zh) * 2019-08-15 2022-01-18 中国科学院大连化学物理研究所 一种多气室气体池
CN112397986B (zh) * 2019-08-15 2021-09-21 中国科学院大连化学物理研究所 一种轮转式拉曼池的拉曼激光器
CN114688205B (zh) * 2020-12-31 2023-08-29 北京科益虹源光电技术有限公司 一种隔振结构及用于激光器的叶轮转子系统
CN115912022B (zh) * 2021-08-31 2024-03-29 北京科益虹源光电技术有限公司 一种双腔准分子激光器及其能量调节方法
WO2024100743A1 (ja) * 2022-11-07 2024-05-16 ギガフォトン株式会社 ガスレーザ装置のチャンバ、ガスレーザ装置、及び電子デバイスの製造方法

Family Cites Families (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4288756A (en) * 1977-06-17 1981-09-08 United Kingdom Atomic Energy Authority CO2 Laser
JPS594247A (ja) 1982-06-29 1984-01-11 Fujitsu Ltd 遠隔監視方式
JPS60118261A (ja) 1983-11-30 1985-06-25 Hitachi Zosen Corp 塗装装置
JPS60118261U (ja) * 1984-01-18 1985-08-09 株式会社日立製作所 ガスレ−ザ発生装置
JPS622678A (ja) * 1985-06-28 1987-01-08 Toshiba Corp ガスレ−ザ発振装置
JPS6295884A (ja) * 1985-10-23 1987-05-02 Hitachi Ltd ガスレ−ザ発振器
JPS63229876A (ja) * 1987-03-19 1988-09-26 Komatsu Ltd ガスレ−ザ装置
JPH02240980A (ja) * 1989-03-14 1990-09-25 Toshiba Corp ガスレーザ装置
JPH0582879A (ja) * 1991-09-24 1993-04-02 Toshiba Corp ガスレ−ザ装置
JPH06152004A (ja) * 1992-11-13 1994-05-31 Komatsu Ltd パルスレーザ装置
US5377215A (en) * 1992-11-13 1994-12-27 Cymer Laser Technologies Excimer laser
JP2718379B2 (ja) * 1994-10-20 1998-02-25 日本電気株式会社 エキシマレーザ装置
US6567450B2 (en) 1999-12-10 2003-05-20 Cymer, Inc. Very narrow band, two chamber, high rep rate gas discharge laser system
US6625191B2 (en) 1999-12-10 2003-09-23 Cymer, Inc. Very narrow band, two chamber, high rep rate gas discharge laser system
US6381257B1 (en) * 1999-09-27 2002-04-30 Cymer, Inc. Very narrow band injection seeded F2 lithography laser
US6865210B2 (en) * 2001-05-03 2005-03-08 Cymer, Inc. Timing control for two-chamber gas discharge laser system
JP3399517B2 (ja) * 1999-12-08 2003-04-21 ウシオ電機株式会社 紫外線を放出するガスレーザ装置
JP2001298229A (ja) * 2000-02-22 2001-10-26 Tuilaser Ag モジュール型ガスレーザ
JP2002026429A (ja) * 2000-07-03 2002-01-25 Nidek Co Ltd ガスレーザ装置
US6690704B2 (en) 2001-04-09 2004-02-10 Cymer, Inc. Control system for a two chamber gas discharge laser
JP2003298155A (ja) * 2002-04-03 2003-10-17 Gigaphoton Inc パルス発振型放電励起レーザ装置
US20050002427A1 (en) * 2003-05-28 2005-01-06 Igor Bragin Cooled electrodes for high repetition excimer or molecular fluorine lasers
US20050083984A1 (en) * 2003-10-17 2005-04-21 Igor Bragin Laser system sealing
JP2005183427A (ja) * 2003-12-16 2005-07-07 Sumitomo Heavy Ind Ltd 放電電極及びレーザ発振装置
JP4798687B2 (ja) 2004-07-09 2011-10-19 株式会社小松製作所 狭帯域化レーザ装置
US20060170361A1 (en) 2005-01-31 2006-08-03 Osram Sylvania Inc. Single-ended Arc Discharge Vessel with a Divider Wall
US7471708B2 (en) * 2005-03-31 2008-12-30 Cymer, Inc. Gas discharge laser output light beam parameter control
US20060222034A1 (en) * 2005-03-31 2006-10-05 Cymer, Inc. 6 Khz and above gas discharge laser system
DE102005025624B4 (de) * 2005-06-01 2010-03-18 Xtreme Technologies Gmbh Anordnung zur Erzeugung von intensiver kurzwelliger Strahlung auf Basis eines Gasentladungsplasmas
JP4899026B2 (ja) * 2006-02-20 2012-03-21 株式会社小松製作所 レーザ装置
US8284815B2 (en) 2008-10-21 2012-10-09 Cymer, Inc. Very high power laser chamber optical improvements
US8014432B2 (en) * 2009-03-27 2011-09-06 Cymer, Inc. Regenerative ring resonator
CN102777416B (zh) * 2011-10-20 2014-10-22 中国科学院光电研究院 一种准分子激光器用贯流风机叶轮
CN102810810A (zh) * 2012-03-02 2012-12-05 中国科学院光电研究院 单腔双电极放电腔及准分子激光器

Also Published As

Publication number Publication date
JP2014511036A (ja) 2014-05-01
CN103151679B (zh) 2016-03-16
US20140023101A1 (en) 2014-01-23
KR20140019319A (ko) 2014-02-14
CN103151679A (zh) 2013-06-12
EP2690723A1 (en) 2014-01-29
KR101493807B1 (ko) 2015-02-16
EP2690723B1 (en) 2018-11-21
US9252557B2 (en) 2016-02-02
DK2690723T3 (en) 2019-03-11
CN102810810A (zh) 2012-12-05
WO2013127111A1 (zh) 2013-09-06
EP2690723A4 (en) 2014-12-31
RU2592065C2 (ru) 2016-07-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2013146022A (ru) Однополостная двухэлектродная разрядная камера и эксимерный лазер
RU2763742C2 (ru) Устройство для генерирования плазмы коронного разряда и плазменный реактор
EP2579293A4 (en) ION MOBILITY TUBE
RU2014130268A (ru) Дуговая сварочная головка и сварочное устройство
CN105536995A (zh) 一种静电式净化器除尘结构
RU2016124769A (ru) Батарея с извлекаемым воздушным электродом
WO2009059451A1 (fr) Précipitateur électrostatique
CN107684977A (zh) 一种电净化结构及包含其的空气净化装置
US3696269A (en) Air processor
CN113727509A (zh) 放电发生结构及基于其的平面式等离子放电发生装置
US3228590A (en) Triode ionic pump
CN203778199U (zh) 双区板线电场的安装结构
US10165662B2 (en) Ion generator
CN210994789U (zh) 一种油烟净化器用放电结构
CN203990907U (zh) 一种静电过滤器
RU2012143221A (ru) Устройство для формирования объемного самостоятельного разряда
KR20220113718A (ko) 전기 집진기
CN205236186U (zh) 蜂窝电场
CN216988093U (zh) 一种抗水型湿式高压静电净化器
CN210965525U (zh) 一种油烟净化器用放电结构
RU2014111202A (ru) Электрореактивная двигательная установка
CN210171688U (zh) 一种新型工业油烟净化设备
CN218554393U (zh) 静电除尘模块和装置、及应用其的激光器
RU2013136119A (ru) Газоразрядный эксимерный лазер
CN210171166U (zh) 双介质阻挡放电等离子体异味治理装置

Legal Events

Date Code Title Description
PC41 Official registration of the transfer of exclusive right

Effective date: 20161117