RU2013136119A - Газоразрядный эксимерный лазер - Google Patents

Газоразрядный эксимерный лазер Download PDF

Info

Publication number
RU2013136119A
RU2013136119A RU2013136119/28A RU2013136119A RU2013136119A RU 2013136119 A RU2013136119 A RU 2013136119A RU 2013136119/28 A RU2013136119/28 A RU 2013136119/28A RU 2013136119 A RU2013136119 A RU 2013136119A RU 2013136119 A RU2013136119 A RU 2013136119A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
electrode
voltage
extended
discharge chamber
dielectric plate
Prior art date
Application number
RU2013136119/28A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2557327C2 (ru
Inventor
Олег Борисович Христофоров
Original Assignee
Олег Борисович Христофоров
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Олег Борисович Христофоров filed Critical Олег Борисович Христофоров
Priority to RU2013136119/28A priority Critical patent/RU2557327C2/ru
Priority to PCT/RU2014/000088 priority patent/WO2015016740A1/ru
Publication of RU2013136119A publication Critical patent/RU2013136119A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2557327C2 publication Critical patent/RU2557327C2/ru

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
    • H01S3/097—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
    • H01S3/0977—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser having auxiliary ionisation means
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/02—Constructional details
    • H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
    • H01S3/038—Electrodes, e.g. special shape, configuration or composition
    • H01S3/0388—Compositions, materials or coatings
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/02—Constructional details
    • H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
    • H01S3/036—Means for obtaining or maintaining the desired gas pressure within the tube, e.g. by gettering, replenishing; Means for circulating the gas, e.g. for equalising the pressure within the tube
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/02—Constructional details
    • H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
    • H01S3/038—Electrodes, e.g. special shape, configuration or composition
    • H01S3/0384—Auxiliary electrodes, e.g. for pre-ionisation or triggering, or particular adaptations therefor
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
    • H01S3/097—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
    • H01S3/09702—Details of the driver electronics and electric discharge circuits
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/14—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
    • H01S3/22—Gases
    • H01S3/223—Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms
    • H01S3/225—Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms comprising an excimer or exciplex

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Lasers (AREA)

Abstract

1. Газоразрядный эксимерный лазер, включающий в себя газонаполненный корпус (1), на котором установлена керамическая разрядная камера (2) с протяженным высоковольтным фланцем (3), расположенные в разрядной камере (2) протяженные высоковольтный электрод (4), заземленный электрод (5), зона объемного разряда (6) между высоковольтным и заземленным электродами (4), (5), по меньшей мере, один блок предыонизации (7), набор конденсаторов (8), расположенных по бокам разрядной камеры и соединенных с высоковольтным и заземленным электродами (4), (5), источник питания (9), подключенный к конденсаторам (8), и резонатор, при этом каждый блок предыонизации (7) содержит систему формирования скользящего разряда (CP), включающую в себя протяженную диэлектрическую пластину (11), имеющую в поперечном сечении изогнутую форму, поджигающий электрод (12), установленный на лицевой поверхности (13) диэлектрической пластины (11) вдоль нее, и протяженный инициирующий электрод (14), примыкающий к обратной поверхности (15) диэлектрической пластины (11), причем, по меньшей мере, примыкающая к инициирующему электроду (14) протяженная часть обратной поверхности (15) диэлектрической пластины (11) является цилиндрической.2. Устройство по п.1, в котором два идентичных блока предионизации (7) расположены по бокам высоковольтного электрода (4).3. Устройство по п.1, в котором конденсаторы (8) подсоединены к высоковольтному электроду (4) через установленные в высоковольтном фланце (3) вдоль него герметичные токовводы (23), каждый из которых снабжен керамическим изолятором (24), при этом источник питания (9) электрически связан с каждым блоком предыонизации (7) через высоковольтный фланец (3).4. Устр�

Claims (26)

1. Газоразрядный эксимерный лазер, включающий в себя газонаполненный корпус (1), на котором установлена керамическая разрядная камера (2) с протяженным высоковольтным фланцем (3), расположенные в разрядной камере (2) протяженные высоковольтный электрод (4), заземленный электрод (5), зона объемного разряда (6) между высоковольтным и заземленным электродами (4), (5), по меньшей мере, один блок предыонизации (7), набор конденсаторов (8), расположенных по бокам разрядной камеры и соединенных с высоковольтным и заземленным электродами (4), (5), источник питания (9), подключенный к конденсаторам (8), и резонатор, при этом каждый блок предыонизации (7) содержит систему формирования скользящего разряда (CP), включающую в себя протяженную диэлектрическую пластину (11), имеющую в поперечном сечении изогнутую форму, поджигающий электрод (12), установленный на лицевой поверхности (13) диэлектрической пластины (11) вдоль нее, и протяженный инициирующий электрод (14), примыкающий к обратной поверхности (15) диэлектрической пластины (11), причем, по меньшей мере, примыкающая к инициирующему электроду (14) протяженная часть обратной поверхности (15) диэлектрической пластины (11) является цилиндрической.
2. Устройство по п.1, в котором два идентичных блока предионизации (7) расположены по бокам высоковольтного электрода (4).
3. Устройство по п.1, в котором конденсаторы (8) подсоединены к высоковольтному электроду (4) через установленные в высоковольтном фланце (3) вдоль него герметичные токовводы (23), каждый из которых снабжен керамическим изолятором (24), при этом источник питания (9) электрически связан с каждым блоком предыонизации (7) через высоковольтный фланец (3).
4. Устройство по п.1, в котором изогнутая диэлектрическая пластина (11) выполнена в виде протяженной части цилиндрической тонкостенной диэлектрической трубки, заключенной между двумя продольными сечениями трубки, параллельными ее продольной оси.
5. Устройство по п.1, в котором система формирования CP содержит, по меньшей мере, один протяженный дополнительный электрод (25).
6. Устройство по п.5, в котором дополнительный электрод (25) соединен с инициирующим электродом (14).
7. Устройство по п.1, в котором лицевая поверхность (13) изогнутой диэлектрической пластины (11) либо выпуклая, либо вогнутая.
8. Устройство по п.1, в котором в качестве материала изогнутой диэлектрической пластины (11) используется либо сапфир, либо керамика, в частности, Al2O3.
9. Устройство по п.1, в котором каждая точка зоны разряда (6) между высоковольтным и заземленным электродами (4), (5) находится в зоне прямой видимости, по меньшей мере, части поверхностности изогнутой диэлектрической пластины (11), используемой для формирования СР.
10. Устройство по п.1, в котором изогнутая диэлектрическая пластина (11) выполнена в виде цилиндрической тонкостенной диэлектрической трубки с продольным разрезом (28), инициирующий электрод (14) размещен внутри диэлектрической трубки, и дополнительный электрод (25) соединен с инициирующим электродом (14) через продольный разрез (28) диэлектрической трубки.
11. Устройство по п.1, в котором система формирования CP содержит в качестве изогнутой диэлектрической пластины (11) цельную диэлектрическую трубку (29), внутри которой размещен инициирующий электрод (14), при этом на наружной поверхности цельной диэлектрической трубки (29) размещен дополнительный электрод (25).
12. Устройство по п.1, в котором система формирования CP содержит в качестве изогнутой диэлектрической пластины (11) цельную диэлектрическую трубку (29), внутри которой, размещен инициирующий электрод (14), при этом на наружной поверхности цельной диэлектрической трубки (29) размещен дополнительный электрод (25), подсоединенный к инициирующему электроду (14) через торец диэлектрической трубки.
13. Устройство по п.1, в котором поджигающий электрод (12) либо соединен, либо совмещен с высоковольтным электродом (4).
14. Устройство по п.1, в котором дополнительный электрод (25) либо соединен, либо совмещен с высоковольтным электродом (4).
15. Устройство по п.1, в котором высоковольтный электрод (4) установлен на высоковольтном фланце (3) и электрически соединен с ним, при этом источник питания (9) электрически связан с каждым блоком предыонизации (7) через установленные в высоковольтном фланце (3) вдоль него герметичными дополнительные токовводы (26), каждый из которых снабжен керамическим изолятором (27).
16. Устройство по п.1, в котором протяженные стенки (40) керамической разрядной камеры (2) выполнены наклонными к высоковольтному электроду (4), и конденсаторы (8) установлены наклонно к высоковольтному электроду (4).
17. Газоразрядный эксимерный лазер, включающий в себя газонаполненный корпус (1), на котором установлена керамическая разрядная камера (2) с протяженным высоковольтным фланцем (3), расположенные в разрядной камере (2) протяженные высоковольтный электрод (4) и заземленный электрод (5), зона объемного разряда (6) между высоковольтным и заземленным электродами (4), (5), продольные оси которых (30), (31) параллельны друг другу, источник питания (9), подключенный к конденсаторам (8), установленных по бокам разрядной камеры (2) и подсоединенных к высоковольтному и заземленному электродам (4, 5), при этом высоковольтный электрод (4) размещен на внутренней стороне высоковольтного фланца (3) и выполнен частично прозрачным, на наружной стороне высоковольтного фланца (3) установлена дополнительная разрядная камера (33), выполненная, по меньшей мере, частично из керамики, и блок предыонизации (7), установленный с обратной стороны частично прозрачного высоковольтного электрода (4), по меньшей мере, частично размещен в дополнительной разрядной камере (33).
18. Устройство по п.17, в котором протяженные стенки (40) керамической разрядной камеры (2) выполнены наклонными к высоковольтному электроду (4), и конденсаторы (8) установлены наклонно к высоковольтному электроду (4).
19. Устройство по п.17, в котором блок предыонизации (7) содержит систему формирования скользящего разряда (CP) между протяженными поджигающим и дополнительным электродами (12), (25), расположенными на поверхности диэлектрической пластины (11), к обратной поверхности (15) которой примыкает инициирующий электрод (14), соединенный с дополнительным электродом (25), причем система формирования CP выполнена симметричной относительно плоскости (34), включающей в себя продольные оси (30), (31) высоковольтного и заземленного электродов (4), (5).
20. Устройство по п.17, в котором протяженная диэлектрическая пластина (11) системы формирования CP имеет в поперечном сечении изогнутую форму.
21. Устройство по п.17, в котором высоковольтный электрод (4) имеет с обратной стороны протяженную нишу (35), в которой, по меньшей мере, частично размещена керамическая часть (36) дополнительной разрядной камеры (33).
22. Устройство по п.17, в котором протяженные стенки (40) керамической разрядной камеры (2) выполнены наклонными к высоковольтному электроду (4), и конденсаторы (8) установлены наклонно к высоковольтному электроду (4).
23. Устройство по п.17, в котором либо поджигающий электрод (12), либо дополнительный электрод (25) соединен с высоковольтным частично прозрачным электродом (4).
24. Устройство по п.17, в котором система формирования CP содержит в качестве изогнутой диэлектрической пластины (11) цельную диэлектрическую трубку (29), внутри которой размещен инициирующий электрод (14), при этом на наружной поверхности цельной диэлектрической трубки (29) диаметрально противоположно размещены поджигающий и дополнительный электроды (12), (25).
25. Устройство по п.24, в котором либо поджигающий электрод (12), либо дополнительный электрод (25) подсоединен к инициирующему электроду (14) через торец цельной диэлектрической трубки (29).
26. Газоразрядный эксимерный лазер, включающий в себя газонаполненный корпус (1), на котором установлена керамическая разрядная камера (2) с протяженным высоковольтным фланцем (3), расположенные в разрядной камере (2) протяженные высоковольтный электрод (4), заземленный электрод (5), зона объемного разряда (6) между высоковольтным и заземленным электродами (4), (5), по меньшей мере, один блок предыонизации (7), набор конденсаторов (8), расположенных по бокам разрядной камеры (2) и соединенных с высоковольтным и заземленным электродами (4), (5), источник питания (9), подключенный к конденсаторам (8), и резонатор, при этом протяженные стенки (40) керамической разрядной камеры (2) выполнены наклонными к высоковольтному электроду (4), и конденсаторы (8) установлены наклонно к высоковольтному электроду (4).
RU2013136119/28A 2013-08-01 2013-08-01 Газоразрядный эксимерный лазер (варианты) RU2557327C2 (ru)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2013136119/28A RU2557327C2 (ru) 2013-08-01 2013-08-01 Газоразрядный эксимерный лазер (варианты)
PCT/RU2014/000088 WO2015016740A1 (ru) 2013-08-01 2014-02-11 Газоразрядный эксимерный лазер

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2013136119/28A RU2557327C2 (ru) 2013-08-01 2013-08-01 Газоразрядный эксимерный лазер (варианты)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2013136119A true RU2013136119A (ru) 2015-04-10
RU2557327C2 RU2557327C2 (ru) 2015-07-20

Family

ID=52432147

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2013136119/28A RU2557327C2 (ru) 2013-08-01 2013-08-01 Газоразрядный эксимерный лазер (варианты)

Country Status (2)

Country Link
RU (1) RU2557327C2 (ru)
WO (1) WO2015016740A1 (ru)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11162079B2 (en) 2019-05-10 2021-11-02 The Regents Of The University Of California Blood type O Rh-hypo-immunogenic pluripotent cells

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08316550A (ja) * 1995-05-16 1996-11-29 N D C Kk パルスガスレーザーの励起方法及びパルスガスレーザー装置
US6466599B1 (en) * 1999-04-07 2002-10-15 Lambda Physik Ag Discharge unit for a high repetition rate excimer or molecular fluorine laser
JP2001177173A (ja) * 1999-12-16 2001-06-29 Meidensha Corp ガスレーザ発振器
US7756184B2 (en) * 2007-02-27 2010-07-13 Coherent, Inc. Electrodes for generating a stable discharge in gas laser system
RU2446530C1 (ru) * 2011-01-28 2012-03-27 Владимир Михайлович Борисов Импульсно-периодический газоразрядный лазер

Also Published As

Publication number Publication date
RU2557327C2 (ru) 2015-07-20
WO2015016740A1 (ru) 2015-02-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW200601385A (en) High-pressure sodium lamp
RU2446530C1 (ru) Импульсно-периодический газоразрядный лазер
RU2013146022A (ru) Однополостная двухэлектродная разрядная камера и эксимерный лазер
US4613971A (en) Transversely excited gas laser
RU2013136119A (ru) Газоразрядный эксимерный лазер
CN101164136A (zh) 准分子灯
RU2002120302A (ru) Эксимерный лазер
JP2009510783A5 (ru)
RU2517796C1 (ru) Устройство для формирования объемного самостоятельного разряда
RU2013136118A (ru) Разрядная система эксимерного лазера
RU2651579C1 (ru) Газоразрядный источник света
RU2017118094A (ru) Свеча зажигания
RU2548240C1 (ru) Разрядная система высокоэффективного газового лазера
RU2559029C2 (ru) Разрядная система газового лазера
RU2531069C2 (ru) Газоразрядная лазерная система и способ генерации излучения
RU2559172C2 (ru) Разрядная система лазера с частично прозрачным электродом
RU2300177C1 (ru) Газоразрядное устройство
RU2664780C1 (ru) Азотный лазер, возбуждаемый продольным электрическим разрядом
KR20230163552A (ko) 자외선 발생 장치
RU2067337C1 (ru) Лампа для получения мощного излучения в оптическом диапазоне спектра
RU2003136959A (ru) Источник излучения
RU2510109C1 (ru) Газоразрядный лазер и способ генерации излучения
RU2598142C2 (ru) Мощный импульсно-периодический эксимерный лазер для технологических применений
DK1811542T3 (en) EMITTER WITH EXTERNAL ELECTRODES AND TENSION
RU2503104C1 (ru) Газоразрядный лазер