RU2012148385A - Твердое углеродное покрытие и способ его формирования - Google Patents

Твердое углеродное покрытие и способ его формирования Download PDF

Info

Publication number
RU2012148385A
RU2012148385A RU2012148385/02A RU2012148385A RU2012148385A RU 2012148385 A RU2012148385 A RU 2012148385A RU 2012148385/02 A RU2012148385/02 A RU 2012148385/02A RU 2012148385 A RU2012148385 A RU 2012148385A RU 2012148385 A RU2012148385 A RU 2012148385A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
layers
layer
solid carbon
coating
coated product
Prior art date
Application number
RU2012148385/02A
Other languages
English (en)
Inventor
Альбир А. ЛАЙЙОУС
Original Assignee
Искар Лтд.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Искар Лтд. filed Critical Искар Лтд.
Publication of RU2012148385A publication Critical patent/RU2012148385A/ru

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C30/00Coating with metallic material characterised only by the composition of the metallic material, i.e. not characterised by the coating process
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • C23C14/35Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/04Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material
    • C23C28/044Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material coatings specially adapted for cutting tools or wear applications
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/30Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
    • C23C28/32Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one pure metallic layer
    • C23C28/321Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one pure metallic layer with at least one metal alloy layer
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/30Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
    • C23C28/32Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one pure metallic layer
    • C23C28/322Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one pure metallic layer only coatings of metal elements only
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/30Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
    • C23C28/34Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/30Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
    • C23C28/34Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates
    • C23C28/341Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates with at least one carbide layer
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/30Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
    • C23C28/34Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates
    • C23C28/347Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates with layers adapted for cutting tools or wear applications
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/40Coatings including alternating layers following a pattern, a periodic or defined repetition
    • C23C28/42Coatings including alternating layers following a pattern, a periodic or defined repetition characterized by the composition of the alternating layers
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24942Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including components having same physical characteristic in differing degree
    • Y10T428/2495Thickness [relative or absolute]
    • Y10T428/24967Absolute thicknesses specified
    • Y10T428/24975No layer or component greater than 5 mils thick
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/26Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
    • Y10T428/263Coating layer not in excess of 5 mils thick or equivalent
    • Y10T428/264Up to 3 mils
    • Y10T428/2651 mil or less

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Cutting Tools, Boring Holders, And Turrets (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Drilling Tools (AREA)

Abstract

1. Покрытое изделие, содержащее покрытие и подложку, причем покрытие содержит по меньшей мере один промежуточный слой и по меньшей мере один твердый углеродный слой; при этом:твердый углеродный слой содержит алмаз или DLC и образует наиболее внешний слой покрытия;промежуточный слой содержит сформированный методом PVD слой, имеющий состав SiCNM(где 0,4≤x≤0,6, 0≤y≤0,1, и 0≤z≤0,2), причем Si и C представляют собой существенные компоненты, а M представляет собой один или более элементов, выбранных из группы, состоящей из: Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, Y, B, Al и Ru; иширина на полувысоте пика SiC, наблюдаемого при угле дифракции от 34° до 36°, когда рентгенофазовый анализ (РФА) осуществляют, используя излучение CuKα, составляет 3° или менее.2. Покрытое изделие по п. 1, при этом покрытие содержит наслоенную последовательность, содержащую чередующиеся слои промежуточного слоя и твердого углеродного слоя, причем наслоенная последовательность включает множество промежуточных слоев и множество твердых углеродных слоев.3. Покрытое изделие по п. 2, при этом:все слои из множества промежуточных слоев составляют от 10 нм до 10 мкм; ивсе слои из множества твердых углеродных слоев составляют от 0,1 мкм до 50 мкм.4. Покрытое изделие по п. 2, при этом:по меньшей мере два слоя из множества промежуточных слоев имеют различные составы; и/илипо меньшей мере два слоя из множества твердых углеродных слоев имеют различные составы.5. Покрытое изделие по п. 1, при этом покрытие дополнительно содержит по меньшей мере один первый слой, содержащий один или более металлов, выбранных из группы, состоящей из: Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W; при этом наиболее внутренний слой покрытия представляет собой пе�

Claims (21)

1. Покрытое изделие, содержащее покрытие и подложку, причем покрытие содержит по меньшей мере один промежуточный слой и по меньшей мере один твердый углеродный слой; при этом:
твердый углеродный слой содержит алмаз или DLC и образует наиболее внешний слой покрытия;
промежуточный слой содержит сформированный методом PVD слой, имеющий состав SixC1-x-y-zNyMz (где 0,4≤x≤0,6, 0≤y≤0,1, и 0≤z≤0,2), причем Si и C представляют собой существенные компоненты, а M представляет собой один или более элементов, выбранных из группы, состоящей из: Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, Y, B, Al и Ru; и
ширина на полувысоте пика SiC, наблюдаемого при угле дифракции от 34° до 36°, когда рентгенофазовый анализ (РФА) осуществляют, используя излучение CuKα, составляет 3° или менее.
2. Покрытое изделие по п. 1, при этом покрытие содержит наслоенную последовательность, содержащую чередующиеся слои промежуточного слоя и твердого углеродного слоя, причем наслоенная последовательность включает множество промежуточных слоев и множество твердых углеродных слоев.
3. Покрытое изделие по п. 2, при этом:
все слои из множества промежуточных слоев составляют от 10 нм до 10 мкм; и
все слои из множества твердых углеродных слоев составляют от 0,1 мкм до 50 мкм.
4. Покрытое изделие по п. 2, при этом:
по меньшей мере два слоя из множества промежуточных слоев имеют различные составы; и/или
по меньшей мере два слоя из множества твердых углеродных слоев имеют различные составы.
5. Покрытое изделие по п. 1, при этом покрытие дополнительно содержит по меньшей мере один первый слой, содержащий один или более металлов, выбранных из группы, состоящей из: Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W; при этом наиболее внутренний слой покрытия представляет собой первый слой, и при этом толщина первого слоя составляет от 5 нм до 10 мкм.
6. Покрытое изделие по п. 5, при этом упомянутый по меньшей мере один первый слой дополнительно содержит один или более элементов, выбранных из группы, состоящей из: Si, Al, Y, B, N и C.
7. Покрытое изделие по п. 5, при этом:
покрытие содержит многослойную структуру, содержащую чередующиеся слои первого слоя и промежуточного слоя, причем многослойная структура включает множество первых слоев и множество промежуточных слоев; и
наиболее внешний слой многослойной структуры представляет собой один из упомянутых промежуточных слоев.
8. Покрытое изделие по п. 7, при этом:
по меньшей мере два слоя из множества первых слоев имеют различные составы; и/или
по меньшей мере два слоя из множества промежуточных слоев имеют различные составы.
9. Покрытое изделие по п. 7, при этом все слои из множества первых слоев составляют от 5 нм до 10 мкм.
10. Покрытое изделие по п. 7, при этом:
покрытие содержит наслоенную последовательность, содержащую чередующиеся слои промежуточного слоя и твердого углеродного слоя, причем наслоенная последовательность включает множество промежуточных слоев и множество твердых углеродных слоев;
наслоенную последовательность находится над многослойной структурой; и
наиболее внешний слой наслоенной последовательности представляет собой один из упомянутых твердых углеродных слоев и также является наиболее внешним слоем покрытия.
11. Покрытое изделие по п. 7, при этом:
наиболее внутренний слой наслоенной последовательности представляет собой один из упомянутых твердых углеродных слоев.
12. Покрытое изделие по п. 5, при этом один или более слоев из упомянутого по меньшей мере одного первого слоя содержит два или более подслоев.
13. Покрытое изделие по п. 1, при этом изделие выбрано из группы, состоящей из зажимов, изнашивающихся деталей и фрикционных элементов.
14. Покрытое изделие по п. 1, при этом изделие представляет собой режущий инструмент.
15. Покрытое изделие, содержащее покрытие и подложку, причем покрытие содержит:
многослойную структуру поверх подложки, причем многослойная структура содержит чередующиеся слои первого слоя и промежуточного слоя и включает множество первых слоев и множество промежуточных слоев; и
наслоенную структуру поверх многослойной структуры, причем наслоенная структура содержит чередующиеся слои промежуточного слоя и твердого углеродного слоя и включает множество промежуточных слоев и множество твердых углеродных слоев; при этом:
каждый из первых слоев содержит один или более металлов, выбранных из группы, состоящей из: Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, причем толщина каждого из первых слоев составляет от 5 нм до 10 мкм;
каждый из промежуточных слоев содержит сформированный методом PVD слой, имеющий состав SixC1-x-y-zNyMz (где 0,4≤x≤0,6, 0≤y≤0,1, и 0≤z≤0,2), причем Si и C представляют собой существенные компоненты, а M представляет собой один или более элементов, выбранных из группы, состоящей из: Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, Y, B, Al и Ru; и при этом ширина на полувысоте пика SiC, наблюдаемого при угле дифракции от 34° до 36°, когда рентгенофазовый анализ (РФА) осуществляют, используя излучение CuKα, составляет 3° или менее;
каждый из твердых углеродных слоев содержит алмаз или DLC;
наиболее внутренний слой покрытия представляет собой один из упомянутых первых слоев; и
наиболее внешний слой покрытия представляет собой один из упомянутых твердых углеродных слоев.
16. Способ изготовления покрытого изделия, содержащего подложку и покрытие, включающий следующие стадии:
(a) осаждение методом PVD промежуточного слоя поверх подложки, причем промежуточный слой имеет состав SixC1-x-y-zNyMz (где 0,4≤x≤0,6, 0≤y≤0,1, и 0≤z≤0,2), где M представляет собой один или более элементов, выбранных из группы, состоящей из: Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, Y, B, Al и Ru, таким образом, что ширина на полувысоте пика SiC, наблюдаемого при угле дифракции от 34° до 36°, когда рентгенофазовый анализ (РФА) осуществляют, используя излучение CuKα, составляет 3° или менее;
при этом во время PVD-осаждения подложку поддерживают при заданной температуре между 400°C и 800°C и прикладывают к подложке заданное напряжение смещения от -30 В до -300 В; и
(b) осаждение твердого углеродного слоя на промежуточный слой, причем твердый углеродный слой содержит алмаз или DLC.
17. Способ по п. 16, включающий осаждение промежуточного слоя PVD-методом магнетронного распыления.
18. Способ по п. 16, дополнительно включающий:
перед осуществлением стадии (a) осаждение первого слоя поверх подложки, при этом первый слой содержит один или более металлов, выбранных из группы, состоящей из Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W; и при этом толщина первого слоя составляет от 5 нм до 10 мкм.
19. Способ по п. 18, при этом упомянутый по меньшей мере один первый слой дополнительно содержит один или более элементов, выбранных из группы, состоящей из Si, Al, Y, B, N и C.
20. Способ по п. 18, дополнительно включающий:
после стадии (a) и перед стадией (b) поочередное осаждение дополнительных первых слоев и промежуточных слоев.
21. Способ по п. 20, дополнительно включающий:
после стадии (b) поочередное осаждение дополнительных промежуточных слоев и твердых углеродных слоев, при этом последний осажденный слой представляет собой твердый углеродный слой.
RU2012148385/02A 2010-04-14 2011-03-20 Твердое углеродное покрытие и способ его формирования RU2012148385A (ru)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
IL205090A IL205090A0 (en) 2010-04-14 2010-04-14 Hard carbon coating and method of forming the same
IL205090 2010-04-14
PCT/IL2011/000264 WO2011128889A1 (en) 2010-04-14 2011-03-20 Hard carbon coating and method of forming the same

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2012148385A true RU2012148385A (ru) 2014-05-20

Family

ID=43570496

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2012148385/02A RU2012148385A (ru) 2010-04-14 2011-03-20 Твердое углеродное покрытие и способ его формирования

Country Status (10)

Country Link
US (1) US20110256371A1 (ru)
EP (1) EP2558610B1 (ru)
JP (1) JP2013527316A (ru)
KR (1) KR20130079336A (ru)
CN (1) CN102918176A (ru)
BR (1) BR112012023279A2 (ru)
CA (1) CA2795879A1 (ru)
IL (1) IL205090A0 (ru)
RU (1) RU2012148385A (ru)
WO (1) WO2011128889A1 (ru)

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AT511605B1 (de) * 2011-12-12 2013-01-15 High Tech Coatings Gmbh Kohlenstoffbasierende beschichtung
CN103071819B (zh) * 2012-12-31 2015-06-17 四川大学 一种刀具表面Ti/TiN/MaN复合涂层及其制备方法
CN103129023B (zh) * 2013-02-27 2015-08-19 武汉大学 一种管道内壁防腐蚀耐磨Si/Si/Si-DLC/DLC自润滑涂层及其制备方法
CN103739311B (zh) * 2013-09-11 2015-05-06 太仓派欧技术咨询服务有限公司 一种(Nb/C/SiC)n多层抗氧化涂层及其制备方法
JP5918326B2 (ja) * 2014-09-16 2016-05-18 株式会社リケン 被覆摺動部材
DE102014016983A1 (de) * 2014-11-18 2016-05-19 Athanassios Alexiou Klingenmaterial
JP6533286B2 (ja) * 2015-04-27 2019-06-19 京セラ株式会社 被覆部材
US11311850B2 (en) * 2015-08-26 2022-04-26 Sandvik Intellectual Property Ab Diamond composites by lithography-based manufacturing
RU2620521C2 (ru) * 2015-10-06 2017-05-26 Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Белгородский государственный национальный исследовательский университет" (НИУ "БелГУ") Износостойкое покрытие для режущего инструмента
WO2019079800A1 (en) * 2017-10-20 2019-04-25 Research Foundation Of The City University Of New York ULTRA-DURABLE CARBON FILM FROM EPITAXIAL BILOUTH GRAPHENE
CN109182997B (zh) * 2018-09-19 2020-06-16 西安交通大学 一种掺Si的类金刚石涂层的制备方法
RU2715472C1 (ru) * 2019-06-11 2020-02-28 Общество с ограниченной ответственностью "Научно-технический центр "Новые технологии" Изделие, содержащее основу из кремния и покрывающий слой в виде нанопленки углерода с кристаллической решеткой алмазного типа, и способ изготовления этого изделия
CN110588096A (zh) * 2019-09-25 2019-12-20 哈尔滨工程大学 一种连续金属Mo丝增强Ti/Al3Ti层状复合材料及制备方法
RU2727557C1 (ru) * 2019-12-17 2020-07-22 Общество с ограниченной ответственностью "Научно-технический центр "Новые технологии" Способ изготовления функционального элемента полупроводникового прибора
RU2730402C1 (ru) * 2020-02-03 2020-08-21 Общество с ограниченной ответственностью "Научно технический центр "Новые технологии" Функциональный элемент полупроводникового прибора
KR20250067135A (ko) 2022-09-05 2025-05-14 카본콤피텐스 게엠베하 중간 층 및 다이아몬드 층으로 코팅된 기판을 제조하는 방법

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA2061944C (en) * 1991-03-08 1999-01-26 Naoya Omori A diamond and/or diamond-like carbon-coated hard material
ES2256110T3 (es) * 2000-05-09 2006-07-16 Kabushiki Kaisha Riken Pelicula de carbono amorfo que contiene oxido.
JP2005213613A (ja) * 2004-01-30 2005-08-11 Nachi Fujikoshi Corp 高機能カーボン被覆膜
CN1919568A (zh) * 2005-08-26 2007-02-28 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 成型模具及其制造方法
JP4388582B2 (ja) * 2008-06-09 2009-12-24 株式会社神戸製鋼所 硬質皮膜層及びその形成方法

Also Published As

Publication number Publication date
IL205090A0 (en) 2010-11-30
CN102918176A (zh) 2013-02-06
US20110256371A1 (en) 2011-10-20
EP2558610A1 (en) 2013-02-20
BR112012023279A2 (pt) 2016-05-17
JP2013527316A (ja) 2013-06-27
EP2558610B1 (en) 2014-12-10
KR20130079336A (ko) 2013-07-10
WO2011128889A1 (en) 2011-10-20
CA2795879A1 (en) 2011-10-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2012148385A (ru) Твердое углеродное покрытие и способ его формирования
JP7480098B2 (ja) 改善された熱安定性を示すチタン-アルミニウム-タンタルベースの被覆物
KR101979041B1 (ko) 고성능 공구용 나노층 코팅
RU2009139089A (ru) Износостойкое твердое покрытие для заготовки и способ его получения
CN108977808B (zh) 多层氮化物硬涂层
JP5714879B2 (ja) 多層被覆切削工具
RU2012134434A (ru) Режущий инструмент с покрытием
RU2016131091A (ru) Покрытый оксидом алюминия режущий инструмент
JP2013516331A5 (ru)
JP2012528732A (ja) ナノ積層コーティングされた切削工具
RU2014137156A (ru) Режущий инструмент с износостойким покрытием и способ его изготовления
JP6842233B2 (ja) コーティングされた切削工具、及びコーティングされた切削工具の製造方法
JP2006026891A5 (ru)
JP2010523351A5 (ru)
JP2006021316A5 (ru)
JP2008534297A5 (ru)
JP2009154287A5 (ru)
RU2013124399A (ru) Слои монооксида молибдена и их получение с помощью pvd
JP5138892B2 (ja) 硬質皮膜
JP2014530772A5 (ru)
JP2018517059A5 (ru)
CN112930417A (zh) 用钛和/或硅微合金化的钒铝氮化物(VAlN)
WO2013002385A1 (ja) 表面被覆部材
JP2017505856A (ja) コートされた基材への入熱を減少させるための硬質材料層
JP5416813B2 (ja) 硬質皮膜

Legal Events

Date Code Title Description
FA93 Acknowledgement of application withdrawn (no request for examination)

Effective date: 20140321