RU2011137165A - Модифицируемая конфигурация магнитов для электродуговых испарителей - Google Patents
Модифицируемая конфигурация магнитов для электродуговых испарителей Download PDFInfo
- Publication number
- RU2011137165A RU2011137165A RU2011137165/07A RU2011137165A RU2011137165A RU 2011137165 A RU2011137165 A RU 2011137165A RU 2011137165/07 A RU2011137165/07 A RU 2011137165/07A RU 2011137165 A RU2011137165 A RU 2011137165A RU 2011137165 A RU2011137165 A RU 2011137165A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- target
- electric arc
- permanent magnets
- evaporator according
- arc evaporator
- Prior art date
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32431—Constructional details of the reactor
- H01J37/3266—Magnetic control means
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/32—Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
- C23C14/325—Electric arc evaporation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32055—Arc discharge
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32431—Constructional details of the reactor
- H01J37/3266—Magnetic control means
- H01J37/32669—Particular magnets or magnet arrangements for controlling the discharge
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
- H01J37/3411—Constructional aspects of the reactor
- H01J37/345—Magnet arrangements in particular for cathodic sputtering apparatus
- H01J37/3455—Movable magnets
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
- H01J37/3411—Constructional aspects of the reactor
- H01J37/345—Magnet arrangements in particular for cathodic sputtering apparatus
- H01J37/3458—Electromagnets in particular for cathodic sputtering apparatus
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/32—Processing objects by plasma generation
- H01J2237/33—Processing objects by plasma generation characterised by the type of processing
- H01J2237/338—Changing chemical properties of treated surfaces
- H01J2237/3387—Nitriding
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Magnetic Treatment Devices (AREA)
Abstract
1. Электродуговой испаритель c предусмотренной на мишени системой магнитных полей для создания магнитных полей на поверхности мишени и над ней, при этом система магнитных полей включает в себя краевые постоянные магниты и по меньшей мере одну расположенную позади мишени кольцевую катушку, задаваемый витками внутренний диаметр которой предпочтительно меньше или равен, во всяком случае несущественно больше, чем диаметр мишени, отличающийся тем, что краевые постоянные магниты являются сдвигаемыми от мишени по существу перпендикулярно поверхности мишени, и проекция краевых постоянных магнитов на поверхность мишени по сравнению с проекцией кольцевой катушки на поверхность мишени дальше удалена от центра поверхности мишени.2. Электродуговой испаритель по п.1, отличающийся тем, что сдвигаемость краевых постоянных магнитов осуществлена независимо от кольцевой катушки.3. Электродуговой испаритель по одному из пп.1 и 2, отличающийся тем, что полярность краевых постоянных магнитов преимущественно и предпочтительно для всех одна и та же.4. Электродуговой испаритель по одному из п.3, отличающийся тем, что внутри кольцевой катушки предусмотрен центральный постоянный магнит с полярностью, противоположной преобладающей полярности краевых постоянных магнитов.5. Электродуговой испаритель по п.4, отличающийся тем, что центральный постоянный магнит является сдвигаемым от мишени по существу перпендикулярно поверхности мишени.6. Электродуговой испаритель по п.5, отличающийся тем, что центральный постоянный магнит неподвижно соединен с краевыми постоянными магнитами проводящим магнитный поток соединением.7. Электродугов�
Claims (8)
1. Электродуговой испаритель c предусмотренной на мишени системой магнитных полей для создания магнитных полей на поверхности мишени и над ней, при этом система магнитных полей включает в себя краевые постоянные магниты и по меньшей мере одну расположенную позади мишени кольцевую катушку, задаваемый витками внутренний диаметр которой предпочтительно меньше или равен, во всяком случае несущественно больше, чем диаметр мишени, отличающийся тем, что краевые постоянные магниты являются сдвигаемыми от мишени по существу перпендикулярно поверхности мишени, и проекция краевых постоянных магнитов на поверхность мишени по сравнению с проекцией кольцевой катушки на поверхность мишени дальше удалена от центра поверхности мишени.
2. Электродуговой испаритель по п.1, отличающийся тем, что сдвигаемость краевых постоянных магнитов осуществлена независимо от кольцевой катушки.
3. Электродуговой испаритель по одному из пп.1 и 2, отличающийся тем, что полярность краевых постоянных магнитов преимущественно и предпочтительно для всех одна и та же.
4. Электродуговой испаритель по одному из п.3, отличающийся тем, что внутри кольцевой катушки предусмотрен центральный постоянный магнит с полярностью, противоположной преобладающей полярности краевых постоянных магнитов.
5. Электродуговой испаритель по п.4, отличающийся тем, что центральный постоянный магнит является сдвигаемым от мишени по существу перпендикулярно поверхности мишени.
6. Электродуговой испаритель по п.5, отличающийся тем, что центральный постоянный магнит неподвижно соединен с краевыми постоянными магнитами проводящим магнитный поток соединением.
7. Электродуговой испаритель по п.5, отличающийся тем, что центральный постоянный магнит независимо от краевых постоянных магнитов является сдвигаемым перпендикулярно поверхности мишени.
8. Установка электродугового испарения с электродуговым испарителем по одному из пп.1-7.
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE102009008161.5 | 2009-02-09 | ||
| DE102009008161A DE102009008161A1 (de) | 2009-02-09 | 2009-02-09 | Modifizierbare Magnetkonfiguration für Arc-Verdampfungsquellen |
| PCT/EP2009/009319 WO2010088947A1 (de) | 2009-02-09 | 2009-12-30 | Modifizierbare magnetkonfiguration für arc-verdampungsquellen |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2011137165A true RU2011137165A (ru) | 2013-03-20 |
| RU2550502C2 RU2550502C2 (ru) | 2015-05-10 |
Family
ID=41647035
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2011137165/07A RU2550502C2 (ru) | 2009-02-09 | 2009-12-30 | Модифицируемая конфигурация магнитов для электродуговых испарителей |
Country Status (17)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US11264216B2 (ru) |
| EP (1) | EP2394288B1 (ru) |
| JP (1) | JP5608176B2 (ru) |
| KR (2) | KR101784648B1 (ru) |
| CN (1) | CN102308359B (ru) |
| AU (1) | AU2009339328B2 (ru) |
| BR (1) | BRPI0924299A2 (ru) |
| CA (1) | CA2751811C (ru) |
| DE (1) | DE102009008161A1 (ru) |
| ES (1) | ES2652141T3 (ru) |
| HU (1) | HUE034774T2 (ru) |
| MX (1) | MX2011008408A (ru) |
| PL (1) | PL2394288T3 (ru) |
| PT (1) | PT2394288T (ru) |
| RU (1) | RU2550502C2 (ru) |
| SG (2) | SG173512A1 (ru) |
| WO (1) | WO2010088947A1 (ru) |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102009008161A1 (de) * | 2009-02-09 | 2010-08-12 | Oerlikon Trading Ag, Trübbach | Modifizierbare Magnetkonfiguration für Arc-Verdampfungsquellen |
| JP5035479B2 (ja) | 2011-01-27 | 2012-09-26 | 三菱マテリアル株式会社 | 耐欠損性、耐摩耗性にすぐれた表面被覆切削工具 |
| US9200371B2 (en) * | 2011-06-30 | 2015-12-01 | Oerlikon Surface Solutions Ag, Trubbach | Nano-layer coating for high performance tools |
| CN105164305B (zh) * | 2013-04-30 | 2017-05-17 | 日本Itf株式会社 | 电弧蒸发源 |
| CN103556122B (zh) * | 2013-10-23 | 2017-01-18 | 苏州矩阵光电有限公司 | 一种自适应磁场调整型磁控溅射镀膜设备及其镀膜方法 |
| JP6403269B2 (ja) * | 2014-07-30 | 2018-10-10 | 株式会社神戸製鋼所 | アーク蒸発源 |
| CA3021704C (en) * | 2016-04-22 | 2023-11-14 | Oerlikon Surface Solutions Ag, Pfaffikon | Ticn having reduced growth defects by means of hipims |
| CH715878A1 (de) | 2019-02-26 | 2020-08-31 | Oerlikon Surface Solutions Ag Pfaeffikon | Magnetanordnung für eine Plasmaquelle zur Durchführung von Plasmabehandlungen. |
| KR102667048B1 (ko) | 2021-07-20 | 2024-05-22 | 한국생산기술연구원 | 중앙부 함몰형 자기장을 가지는 아크 증발원 및 이를 포함하는 아크 이온 플레이팅 장치, 그리고 이를 이용한 금속 및 금속화합물의 증착방법 |
| DE102022118927A1 (de) | 2022-07-28 | 2024-02-08 | Rainer Cremer | Verfahren zum Verdampfen einer Kathode in einem Vakuumlichtbogenverdampfer |
Family Cites Families (23)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3836451A (en) * | 1968-12-26 | 1974-09-17 | A Snaper | Arc deposition apparatus |
| US4309266A (en) * | 1980-07-18 | 1982-01-05 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Magnetron sputtering apparatus |
| ATE23666T1 (de) | 1980-08-11 | 1986-12-15 | Siemens Ag | Fingerabdrucksensor zum erzeugen eines dem topografischen relief eines zu untersuchenden fingers entsprechenden elektrischen signals. |
| US4401539A (en) * | 1981-01-30 | 1983-08-30 | Hitachi, Ltd. | Sputtering cathode structure for sputtering apparatuses, method of controlling magnetic flux generated by said sputtering cathode structure, and method of forming films by use of said sputtering cathode structure |
| JPS5994357U (ja) * | 1982-12-14 | 1984-06-27 | 三島製紙株式会社 | 情報記録紙の複写性低下を防止するシ−ト |
| DE4017111C2 (de) * | 1990-05-28 | 1998-01-29 | Hauzer Holding | Lichtbogen-Magnetron-Vorrichtung |
| US5298136A (en) * | 1987-08-18 | 1994-03-29 | Regents Of The University Of Minnesota | Steered arc coating with thick targets |
| JP2912864B2 (ja) * | 1995-11-28 | 1999-06-28 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | スパッタリング装置のマグネトロンユニット |
| DE19702928C2 (de) * | 1997-01-28 | 2001-06-07 | Eitec Ges Fuer Metallisches Ha | Lichtbogenverdampfer |
| GB9722649D0 (en) * | 1997-10-24 | 1997-12-24 | Univ Nanyang | Cathode ARC source for metallic and dielectric coatings |
| DE10010448C1 (de) * | 2000-03-03 | 2002-04-25 | Multi Media Machinery Gmbh | Kathode |
| DE10127012A1 (de) | 2001-06-05 | 2002-12-12 | Gabriel Herbert M | Lichtbogen-Verdampfungsvorrichtung |
| DE10127013A1 (de) * | 2001-06-05 | 2002-12-12 | Gabriel Herbert M | Lichtbogen-Verdampfungsvorrichtung |
| KR101074554B1 (ko) * | 2002-12-19 | 2011-10-17 | 오를리콘 트레이딩 아크티엔게젤샤프트, 트뤼프바흐 | 자기장 발생 장치를 포함하는 진공 아크 공급 장치 |
| RU2256724C1 (ru) * | 2003-12-10 | 2005-07-20 | Самарский государственный аэрокосмический университет им. акад. С.П. Королева | Способ нанесения композиционных покрытий в вакууме |
| US8778144B2 (en) * | 2004-09-28 | 2014-07-15 | Oerlikon Advanced Technologies Ag | Method for manufacturing magnetron coated substrates and magnetron sputter source |
| JP4548666B2 (ja) * | 2005-08-26 | 2010-09-22 | 株式会社不二越 | アーク式イオンプレーティング装置用蒸発源 |
| US20090050059A1 (en) * | 2005-12-16 | 2009-02-26 | Josu Goikoetxea Larrinaga | Cathode evaporation machine |
| GB0608582D0 (en) * | 2006-05-02 | 2006-06-07 | Univ Sheffield Hallam | High power impulse magnetron sputtering vapour deposition |
| RU2448388C2 (ru) * | 2006-05-16 | 2012-04-20 | Эрликон Трейдинг Аг, Трюббах | Электродуговой источник и магнитное приспособление |
| US7857948B2 (en) | 2006-07-19 | 2010-12-28 | Oerlikon Trading Ag, Trubbach | Method for manufacturing poorly conductive layers |
| US10043642B2 (en) * | 2008-02-01 | 2018-08-07 | Oerlikon Surface Solutions Ag, Pfäffikon | Magnetron sputtering source and arrangement with adjustable secondary magnet arrangement |
| DE102009008161A1 (de) * | 2009-02-09 | 2010-08-12 | Oerlikon Trading Ag, Trübbach | Modifizierbare Magnetkonfiguration für Arc-Verdampfungsquellen |
-
2009
- 2009-02-09 DE DE102009008161A patent/DE102009008161A1/de not_active Ceased
- 2009-12-30 WO PCT/EP2009/009319 patent/WO2010088947A1/de active Application Filing
- 2009-12-30 JP JP2011548538A patent/JP5608176B2/ja active Active
- 2009-12-30 SG SG2011055761A patent/SG173512A1/en unknown
- 2009-12-30 HU HUE09799555A patent/HUE034774T2/en unknown
- 2009-12-30 PT PT97995559T patent/PT2394288T/pt unknown
- 2009-12-30 KR KR1020167035660A patent/KR101784648B1/ko active IP Right Grant
- 2009-12-30 AU AU2009339328A patent/AU2009339328B2/en not_active Ceased
- 2009-12-30 CN CN200980156427.8A patent/CN102308359B/zh active Active
- 2009-12-30 PL PL09799555T patent/PL2394288T3/pl unknown
- 2009-12-30 US US13/148,384 patent/US11264216B2/en active Active
- 2009-12-30 ES ES09799555.9T patent/ES2652141T3/es active Active
- 2009-12-30 RU RU2011137165/07A patent/RU2550502C2/ru active
- 2009-12-30 EP EP09799555.9A patent/EP2394288B1/de active Active
- 2009-12-30 MX MX2011008408A patent/MX2011008408A/es active IP Right Grant
- 2009-12-30 BR BRPI0924299A patent/BRPI0924299A2/pt not_active Application Discontinuation
- 2009-12-30 CA CA2751811A patent/CA2751811C/en active Active
- 2009-12-30 KR KR1020117017524A patent/KR20110135919A/ko active Application Filing
- 2009-12-30 SG SG2014008999A patent/SG2014008999A/en unknown
-
2020
- 2020-02-05 US US16/782,499 patent/US11535928B2/en active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2012517522A (ja) | 2012-08-02 |
| MX2011008408A (es) | 2011-09-22 |
| ES2652141T3 (es) | 2018-01-31 |
| DE102009008161A1 (de) | 2010-08-12 |
| WO2010088947A1 (de) | 2010-08-12 |
| EP2394288B1 (de) | 2017-10-11 |
| PT2394288T (pt) | 2018-01-03 |
| US11535928B2 (en) | 2022-12-27 |
| BRPI0924299A2 (pt) | 2016-01-26 |
| US20110308941A1 (en) | 2011-12-22 |
| EP2394288A1 (de) | 2011-12-14 |
| KR20160150641A (ko) | 2016-12-30 |
| JP5608176B2 (ja) | 2014-10-15 |
| KR20110135919A (ko) | 2011-12-20 |
| CN102308359B (zh) | 2016-06-01 |
| US11264216B2 (en) | 2022-03-01 |
| CN102308359A (zh) | 2012-01-04 |
| AU2009339328A1 (en) | 2011-08-25 |
| CA2751811C (en) | 2017-08-22 |
| SG2014008999A (en) | 2014-04-28 |
| US20200176220A1 (en) | 2020-06-04 |
| RU2550502C2 (ru) | 2015-05-10 |
| KR101784648B1 (ko) | 2017-11-06 |
| AU2009339328B2 (en) | 2014-05-08 |
| CA2751811A1 (en) | 2010-08-12 |
| HUE034774T2 (en) | 2018-02-28 |
| PL2394288T3 (pl) | 2018-03-30 |
| SG173512A1 (en) | 2011-09-29 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU2011137165A (ru) | Модифицируемая конфигурация магнитов для электродуговых испарителей | |
| WO2007130164A3 (en) | High-field superconducting synchrocyclotron | |
| TW200717174A (en) | Driving device and light amount adjusting device | |
| WO2010107330A3 (en) | Electric spherical generator | |
| EP2424272A3 (en) | Split magnet loudspeaker | |
| MX2013002507A (es) | Montaje de motor impulsor magnetico y métodos asociados. | |
| GB201305412D0 (en) | Loudspeaker | |
| WO2012040620A3 (en) | Low cost multi-coil linear actuator | |
| EP2945173A3 (en) | Symmetrical electromagnetic actuator | |
| WO2009024308A8 (de) | Linearantrieb und pumpsystem, insbesondere kunstherz | |
| WO2016106425A3 (en) | Combined multipole magnet and dipole scanning magnet | |
| MX363412B (es) | Fuente de evaporacion por arco. | |
| TWI456082B (zh) | 磁控式電漿濺鍍機 | |
| WO2012018770A3 (en) | Control of plasma profile using magnetic null arrangement by auxiliary magnets | |
| RU2010131089A (ru) | Магнетронная распылительная система | |
| RU2013112086A (ru) | Устройство для защиты смотрового окна вакуумной камеры | |
| WO2014080037A3 (en) | The brush, the brush attaching system and a vacuum cleaner | |
| WO2009066633A1 (ja) | アークイオンプレーティング装置用の蒸発源及びアークイオンプレーティング装置 | |
| RU2021136140A (ru) | Способ применения безполюсного равномерно-распределенного магнитно-энергетического потенциального поля для восстановления иммунитета, лечения сердечно-сосудистой системы, желудочно-кишечного тракта и других болезней | |
| RU2011113520A (ru) | Способ производства постоянных магнитов | |
| AU2022903109A0 (en) | Magnetic Pole Shifting Permanent Magnet | |
| TH12521C3 (th) | หัวเพนนิงแมกนีตรอนสปัตเตอริงสำหรับการเคลือบฟิล์มบางสารแม่เหล็ก | |
| RU2015156866A (ru) | Ионный источник | |
| RU2008131202A (ru) | Кольцевой постоянный магнит | |
| TH12521A3 (th) | หัวเพนนิงแมกนีตรอนสปัตเตอริงสำหรับการเคลือบฟิล์มบางสารแม่เหล็ก |