RU2007117804A - Легированный вольфрам, полученный химическим осаждением из газовой фазы - Google Patents

Легированный вольфрам, полученный химическим осаждением из газовой фазы Download PDF

Info

Publication number
RU2007117804A
RU2007117804A RU2007117804/02A RU2007117804A RU2007117804A RU 2007117804 A RU2007117804 A RU 2007117804A RU 2007117804/02 A RU2007117804/02 A RU 2007117804/02A RU 2007117804 A RU2007117804 A RU 2007117804A RU 2007117804 A RU2007117804 A RU 2007117804A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
substrate
tungsten
coating
carbon
hydrogen
Prior art date
Application number
RU2007117804/02A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2402625C2 (ru
Inventor
Юрий Жук (GB)
Юрий ЖУК
Сергей Александров (GB)
Сергей АЛЕКСАНДРОВ
Юрий Лахоткин (GB)
Юрий ЛАХОТКИН
Original Assignee
Хардид Коатингз Лимитед (Gb)
Хардид Коатингз Лимитед
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Хардид Коатингз Лимитед (Gb), Хардид Коатингз Лимитед filed Critical Хардид Коатингз Лимитед (Gb)
Publication of RU2007117804A publication Critical patent/RU2007117804A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2402625C2 publication Critical patent/RU2402625C2/ru

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22CALLOYS
    • C22C27/00Alloys based on rhenium or a refractory metal not mentioned in groups C22C14/00 or C22C16/00
    • C22C27/04Alloys based on tungsten or molybdenum
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/22Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
    • C23C16/30Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
    • C23C16/32Carbides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/06Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of metallic material
    • C23C16/08Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of metallic material from metal halides
    • C23C16/14Deposition of only one other metal element
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B15/00Layered products comprising a layer of metal
    • B32B15/01Layered products comprising a layer of metal all layers being exclusively metallic
    • B32B15/013Layered products comprising a layer of metal all layers being exclusively metallic one layer being formed of an iron alloy or steel, another layer being formed of a metal other than iron or aluminium
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B15/00Layered products comprising a layer of metal
    • B32B15/01Layered products comprising a layer of metal all layers being exclusively metallic
    • B32B15/013Layered products comprising a layer of metal all layers being exclusively metallic one layer being formed of an iron alloy or steel, another layer being formed of a metal other than iron or aluminium
    • B32B15/015Layered products comprising a layer of metal all layers being exclusively metallic one layer being formed of an iron alloy or steel, another layer being formed of a metal other than iron or aluminium the said other metal being copper or nickel or an alloy thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22CALLOYS
    • C22C32/00Non-ferrous alloys containing at least 5% by weight but less than 50% by weight of oxides, carbides, borides, nitrides, silicides or other metal compounds, e.g. oxynitrides, sulfides, whether added as such or formed in situ
    • C22C32/0047Non-ferrous alloys containing at least 5% by weight but less than 50% by weight of oxides, carbides, borides, nitrides, silicides or other metal compounds, e.g. oxynitrides, sulfides, whether added as such or formed in situ with carbides, nitrides, borides or silicides as the main non-metallic constituents
    • C22C32/0052Non-ferrous alloys containing at least 5% by weight but less than 50% by weight of oxides, carbides, borides, nitrides, silicides or other metal compounds, e.g. oxynitrides, sulfides, whether added as such or formed in situ with carbides, nitrides, borides or silicides as the main non-metallic constituents only carbides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/06Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of metallic material
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/06Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of metallic material
    • C23C16/08Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of metallic material from metal halides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/22Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
    • C23C16/30Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/02Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings only including layers of metallic material
    • C23C28/023Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings only including layers of metallic material only coatings of metal elements only
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/02Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings only including layers of metallic material
    • C23C28/027Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings only including layers of metallic material including at least one metal matrix material comprising a mixture of at least two metals or metal phases or metal matrix composites, e.g. metal matrix with embedded inorganic hard particles, CERMET, MMC.
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/40Coatings including alternating layers following a pattern, a periodic or defined repetition
    • C23C28/42Coatings including alternating layers following a pattern, a periodic or defined repetition characterized by the composition of the alternating layers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y30/00Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y40/00Manufacture or treatment of nanostructures
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24942Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including components having same physical characteristic in differing degree
    • Y10T428/2495Thickness [relative or absolute]
    • Y10T428/24967Absolute thicknesses specified
    • Y10T428/24975No layer or component greater than 5 mils thick
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/26Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/26Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
    • Y10T428/263Coating layer not in excess of 5 mils thick or equivalent
    • Y10T428/264Up to 3 mils
    • Y10T428/2651 mil or less
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31678Of metal

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Composite Materials (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)
  • Carbon And Carbon Compounds (AREA)
  • Manufacture Of Alloys Or Alloy Compounds (AREA)

Claims (37)

1. Износо-, эрозионно- и химически стойкий материал, содержащий вольфрам, легированный углеродом, причем углерод присутствует в количестве от 0,01 вес.% до 0,97 вес.%, в пересчете на полный вес материала.
2. Материал по п.1, содержащий матрицу металлического вольфрама с диспергированными наночастицами карбида вольфрама, имеющими размер не более 50 нм, преимущественно не более 10 нм.
3. Материал по п.2, в котором наночастипы карбида вольфрама содержат моно карбид вольфрама WC, полукарбид вольфрама W2C или их смесь.
4. Материал по п.1, дополнительно легированный фтором, причем фтор присутствует в количестве от 0,001 до 0,4 вес.%, в пересчете на полный вес материала.
5. Материал по любому из пп.1-4, имеющий микротвердость от 700 до 2000 Hv.
6. Покрытие, содержащее внутренний слой, содержащий вольфрам, осажденный на подложке; и внешний слой, осажденный на указанном внутреннем слое и содержащий материал по любому из пп.1-5.
7. Покрытие по п.6, отличающееся тем, что внутренний слой имеет толщину 0,5-300 мкм, а внешний слой имеет толщину 0,5-300 мкм, при отношении толщины внутреннего слоя к толщине внешнего слоя в диапазоне от 1:1 до 1:600.
8. Способ получения материала по любому из пп.1-5 химическим осаждением из газовой фазы на нагретой подложке, включающий использование смеси газов, содержащей гексафторид вольфрама, водород, содержащий углерод газ и, необязательно, инертный газ, причем содержащий углерод газ заранее термически активирован за счет нагревания до температуры 500-850°С.
9. Способ по п.8, отличающийся тем, что содержащий углерод газ представляет собой пропан.
10. Способ по п.8 или 9, отличающийся тем, что его осуществляют под давлением 0.1-150 кПа, при температуре подложки 350-700°С, при объемном отношении содержащего углерод газа к водороду, составляющем 0,001-0,7, и при объемном отношении гексафторида вольфрама к водороду, составляющем 0,02-0,5.
11. Способ осаждения на подложке покрытия, которое содержит внутренний слой вольфрама и внешний слой, содержащий материал по любому из пп.1-5, включающий в себя следующие операции:
a) установку подложки в реактор химического осаждения из газовой фазы,
b) откачивание реактора;
c) нагревание подложки;
d) подачу в реактор газовой среды, содержащей гексафторид вольфрама и водород;
e) удержание подложки в газовой среде до тех пор, пока на подложке не образуется слой вольфрама;
f) подачу в реактор газовой среды, содержащей гексафторид вольфрама, водород и заранее термически активированный содержащий углерод газ;
g) удержание подложки в газовой среде, образованной в операции (f), до тех пор, пока не образуется слой вольфрама, легированного углеродом и фтором, на слое вольфрама, образованном в операции е).
12. Способ по п.11, отличающийся тем, что на материал или изделие, на которые следует нанести покрытие, предварительно наносят грунтовочное покрытие, которое является химически стойким к фтористому водороду.
13. Способ по п.11, отличающийся тем, что материал или изделие, на которые следует нанести покрытие, изготовлены из железа, углеродистой стали, нержавеющей стали, литейного чугуна, титанового сплава или из цементированного карбида, содержащего титан.
14. Способ по п.12, отличающийся тем, что грунтовочное покрытие содержит никель, кобальт, медь, серебро, золото, платину, иридий, тантал, молибден, а также их сплавы, соединения и смеси.
15. Способ по п.12, отличающийся тем, что грунтовочное покрытие наносят при помощи электрохимического или химического осаждения из водных растворов, электролиза расплавов или при помощи конденсации из газовой фазы или химического осаждения из газовой фазы.
16. Способ по п.11, отличающийся тем, что покрытие осаждают на фрикционные узлы.
17. Способ по п.11, отличающийся тем, что покрытие осаждают на формующий инструмент, который используют для обработки материалов при помощи прессования.
18. Способ по п.11, отличающийся тем, что покрытие осаждают на узлы машин и механизмов, работающие со сжатыми газами и жидкостями под давлением, или на узлы других пневматических или гидравлических систем.
19. Материал, содержащий конструкционный материал, имеющий слой подложки, покрытый материалом или покрытием по любому из пп.1-7.
20. Материал по п.19, отличающийся тем, что по меньшей мере слой подложки конструкционного материала изготовлен из сплава, имеющего содержание никеля, составляющее по меньшей мере 25 вес.%.
21. Многослойное покрытие, содержащее слои вольфрама, чередующиеся со слоями материала покрытия по любому из пп.1-5.
22. Многослойное покрытие по п.21, отличающееся тем, что каждый из индивидуальных слоев имеет толщину от 0,5 до 10 мкм и в котором отношение толщин чередующихся слоев лежит в диапазоне от 1:1 до 1:5.
23. Способ осаждения многослойного покрытия на подложку, причем многослойное покрытие содержит чередующиеся слои вольфрама и слои, содержащие легированный углеродом вольфрам, включающий следующие операции:
a) установку подложки в реактор химического осаждения из газовой фазы,
b) откачивание реактора;
c) нагревание подложки;
d) подачу в реактор газовой среды, содержащей гексафторид вольфрама и водород;
e) удержание подложки в газовой среде до тех пор, пока на подложке не образуется слой вольфрама;
f) подачу в реактор газовой среды, содержащей гексафторид вольфрама, водород и заранее термически активированный содержащий углерод газ;
g) удержание подложки в газовой среде, образованной в операции (f), до тех пор, пока не образуется слой вольфрама, легированного углеродом, на слое вольфрама, образованном в операции е).
h) повтор операций (d)-(g) один или несколько раз, чтобы образовать многослойное покрытие.
24. Способ по п.23, отличающийся тем, что его осуществляют под давлением 0-1-150 кПа, при температуре подложки 350-700°С, при отношении содержащего углерод газа к водороду в операции f), составляющем от 0,001 до 0,7, и при отношении гексафторид вольфрама к водороду, составляющем 0,02-0,5.
25. Многослойное покрытие, содержащее слои материала по п.4, чередующиеся со слоями, содержащими карбид вольфрама, легированный фтором, в количествах от 0,005 до 0,5 вес.%, в пересчете на вес соответствующего слоя.
26. Многослойное покрытие по п.25, отличающееся тем, что каждый из индивидуальных слоев имеет толщину в диапазоне от 0,5 до 10 мкм и в котором отношение толщин чередующихся слоев составляет от 1:1 до 1:5.
27. Способ осаждения многослойного покрытия на подложку, причем многослойное покрытие содержит чередующиеся слои легированного углеродом и фтором вольфрама и слои, содержащие карбид вольфрама, легированный фтором, включающий следующие операции:
a) установку подложки в реактор химического осаждения из газовой фазы,
b) откачивание реактора;
c) нагревание подложки;
d) подачу в реактор газовой среды, содержащей гексафторид вольфрама, водород и заранее термически активированный содержащий углерод газ;
e) удержание подложки в газовой среде до тех пор, пока на подложке не образуется слой вольфрама, легированного углеродом и фтором;
f) подачу в реактор дополнительного количества заранее термически активированного содержащего углерод газа;
g) удержание подложки в газовой среде, образованной в операции (f), до тех пор, пока не образуется слой, содержащий карбид вольфрама, легированный фтором, на слое, образованном в операции е);
h) повтор операций (d)-(g) один или несколько раз, чтобы образовать многослойное покрытие.
28. Способ по п.27, отличающийся тем, что его осуществляют в реакторе под давлением 0,1-150 кПа, при температуре подложки 350-700°С, при отношении содержащего углерод газа к водороду в операциях d) и f), составляющем 0,001-1,7, и при отношении гексафторид вольфрама к водороду, составляющем 0,02-0,5,
29. Способ по п.27, отличающийся тем, что на материал или изделие, на которые следует нанести покрытие, предварительно наносят грунтовочное покрытие, которое является химически стойким к фтористому водороду.
30. Способ по п.27, отличающийся тем, что материал или изделие, на которые следует нанести покрытие, изготовлены из железа, углеродистой стали, нержавеющей стали, литейного чугуна, титанового сплава или из цементированного карбида, содержащего титан.
31. Способ по п.29, отличающийся тем, что грунтовочное покрытие содержит никель, кобальт, медь, серебро, золото, платину, иридий, тантал, молибден, а также их сплавы, соединения и смеси.
32. Способ по п.29, отличающийся тем, что грунтовочное покрытие наносят при помощи электрохимического или химического осаждения из водных растворов, электролиза расплавов или при помощи конденсации из газовой фазы или химического осаждения из газовой фазы.
33. Способ по п.29, отличающийся тем, что покрытие осаждают на фрикционные узлы.
34. Способ по п.29, отличающийся тем, что покрытие осаждают на формующий инструмент, который используют для обработки материалов при помощи прессования.
35. Способ по п.29, отличающийся тем, что покрытие осаждают на узлы машин и механизмов, работающие со сжатыми газами и жидкостями под давлением, или на узлы других пневматических или гидравлических систем.
36. Конструкционный материал, содержащий подложку, и многослойное покрытие, нанесенное на подложку, которое содержит слои вольфрама, легированного фтором, чередующиеся со слоями материала по любому из пп.1-5.
37. Конструкционный материал, который содержит подложку и многослойное покрытие по п.25 или 26, осажденное на подложке.
RU2007117804A 2004-10-12 2005-10-11 Легированный вольфрам, полученный химическим осаждением из газовой фазы RU2402625C2 (ru)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB0422608A GB0422608D0 (en) 2004-10-12 2004-10-12 Alloyed tungsten produced by chemical vapour deposition
GB0422608.0 2004-10-12

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2007117804A true RU2007117804A (ru) 2008-11-20
RU2402625C2 RU2402625C2 (ru) 2010-10-27

Family

ID=33443766

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2007117804A RU2402625C2 (ru) 2004-10-12 2005-10-11 Легированный вольфрам, полученный химическим осаждением из газовой фазы

Country Status (13)

Country Link
US (1) US8043692B2 (ru)
EP (1) EP1838896B1 (ru)
JP (1) JP5179185B2 (ru)
KR (1) KR101315923B1 (ru)
CN (1) CN101061254B (ru)
AU (1) AU2005293361B2 (ru)
BR (1) BRPI0516273B1 (ru)
CA (1) CA2582573C (ru)
GB (2) GB0422608D0 (ru)
MX (1) MX2007004304A (ru)
NO (1) NO341099B1 (ru)
RU (1) RU2402625C2 (ru)
WO (1) WO2006040545A2 (ru)

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8196682B2 (en) * 2007-07-13 2012-06-12 Baker Hughes Incorporated Earth boring bit with wear resistant bearing and seal
US20120177453A1 (en) 2009-02-27 2012-07-12 Igor Yuri Konyashin Hard-metal body
US8505654B2 (en) * 2009-10-09 2013-08-13 Element Six Limited Polycrystalline diamond
US9062384B2 (en) 2012-02-23 2015-06-23 Treadstone Technologies, Inc. Corrosion resistant and electrically conductive surface of metal
KR101369285B1 (ko) * 2012-04-13 2014-03-06 한국과학기술연구원 2차원 나노구조의 텅스텐 카바이드 및 그 제조방법
BR102012024729B1 (pt) * 2012-09-27 2020-05-19 Mahle Int Gmbh anel de controle de óleo de três peças para motores de combustão interna, elemento expansor e elemento anelar
BR102012028060A2 (pt) 2012-10-31 2014-06-24 Mahle Metal Leve Sa Válvula para motores de combustão interna
GB2509790B (en) * 2013-03-27 2015-02-25 Hardide Plc Superabrasive material with protective adhesive coating and method for producing said coating
KR102301536B1 (ko) * 2015-03-10 2021-09-14 삼성전자주식회사 고해상도 전자 현미경 이미지로부터 결정을 분석하는 방법 및 그 시스템
RU2590568C1 (ru) * 2015-05-15 2016-07-10 Федеральное государственное унитарное предприятие "Научно-исследовательский институт Научно-производственное объединение "ЛУЧ" (ФГУП "НИИ НПО "ЛУЧ") Способ осаждения монокристаллических сплавов на основе вольфрама
EP3510179A4 (en) * 2016-09-12 2020-06-10 Oreltech Ltd. FORMATION OF AN ACTIVE METAL COMPONENT IN HYBRID MATERIALS
CN107130227B (zh) * 2017-07-06 2019-08-06 北京理工大学 一种超细纳米晶碳化钨涂层及其制备方法
US20190120291A1 (en) * 2017-10-24 2019-04-25 Hamilton Sundstrand Corporation Air bearing
GB2568063B (en) * 2017-11-02 2019-10-30 Hardide Plc Water droplet erosion resistant coatings for turbine blades and other components
CN109161869A (zh) * 2018-09-12 2019-01-08 云南科威液态金属谷研发有限公司 一种在金属部件表面形成防腐涂层的方法
CN109825814A (zh) * 2019-04-10 2019-05-31 北京工业大学 一种在钛合金表面制备强附着力钨层的方法
JP7475258B2 (ja) * 2020-10-26 2024-04-26 株式会社アライドマテリアル 複合材料
CN117026047B (zh) * 2023-07-24 2024-01-12 湖南金博高新科技产业集团有限公司 一种超细金刚线用钨丝基材及其制备方法

Family Cites Families (36)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB133168A (ru)
GB221786A (en) * 1923-09-10 1925-02-12 Heraeus Gmbh W C Improved alloys for tipping metallic surfaces
GB387699A (en) * 1931-08-07 1933-02-07 Yoshiatsu Kamishima An alloy containing zirconium and tungsten for the principal constituent
GB918620A (en) 1959-09-25 1963-02-13 Straumann Inst Ag Improvements in clockwork and like mechanisms
DE1160638B (de) * 1960-04-11 1964-01-02 Sierra Metals Corp Nickel-Gusslegierung hoher Warmfestigkeit und Oxydationsbestaendigkeit
US3026198A (en) 1960-04-11 1962-03-20 Sierra Metals Corp Nickel base casting alloy
US3194697A (en) * 1962-09-28 1965-07-13 Gen Electric Heat treatment of refractory metals
US3361599A (en) * 1964-05-27 1968-01-02 Sylvania Electric Prod Method of producing high temperature alloys
US3565676A (en) * 1968-04-01 1971-02-23 Fansteel Metallurgical Corp Chemical vapor deposition method
GB1540718A (en) * 1975-03-21 1979-02-14 Fulmer Res Inst Ltd Hard coating and its method of formation
US4053306A (en) * 1976-02-27 1977-10-11 Reed Tool Company Tungsten carbide-steel alloy
JPS54152281A (en) 1978-05-22 1979-11-30 Mitsubishi Metal Corp Surface-coated tool component and manufacturing method
JPS5939242B2 (ja) 1978-07-31 1984-09-21 三菱マテリアル株式会社 表面被覆工具部品
JPS5939243B2 (ja) * 1978-08-07 1984-09-21 三菱マテリアル株式会社 表面被覆工具部品
US4427445A (en) * 1981-08-03 1984-01-24 Dart Industries, Inc. Tungsten alloys containing A15 structure and method for making same
US5041041A (en) * 1986-12-22 1991-08-20 Gte Products Corporation Method of fabricating a composite lamp filament
US5064728A (en) * 1987-09-03 1991-11-12 Air Products And Chemicals, Inc. Article with internal wear resistant surfaces
US4910091A (en) * 1987-09-03 1990-03-20 Air Products And Chemicals, Inc. High hardness fine grained tungsten-carbon alloys
US4927713A (en) 1988-02-08 1990-05-22 Air Products And Chemicals, Inc. High erosion/wear resistant multi-layered coating system
JPH0643243B2 (ja) * 1988-03-10 1994-06-08 セントラル硝子株式会社 タングステンカーバイトの製造方法
US5028756A (en) * 1988-10-18 1991-07-02 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Electrode wire for electric spark cutting
JP2789354B2 (ja) * 1989-09-07 1998-08-20 日新製鋼株式会社 Cvd法による高温用タングステン部材の製造法
FR2661401B1 (fr) 1990-04-27 1992-07-24 Transphyto Sa Procede de conditionnement pour conserver et distribuer par portions du liquide sterile.
WO1993016206A1 (en) * 1992-02-14 1993-08-19 E.I. Du Pont De Nemours And Company Alloys of molybdenum, rhenium and tungsten
JPH0691391A (ja) * 1992-07-31 1994-04-05 Toho Kinzoku Kk タングステン電極材料
JPH06173009A (ja) * 1992-12-04 1994-06-21 Sumitomo Electric Ind Ltd 耐摩耗性に優れた被覆超硬合金及びその製造方法
JPH07300648A (ja) * 1994-04-28 1995-11-14 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 高強度焼結w基合金及びその製造方法
US5604321A (en) * 1995-07-26 1997-02-18 Osram Sylvania Inc. Tungsten-lanthana alloy wire for a vibration resistant lamp filament
JPH09189321A (ja) * 1996-01-09 1997-07-22 Hitachi Powdered Metals Co Ltd 焼結コネクチングロッドの製造方法および粉末成形金型
SI1158070T1 (sl) * 1999-02-11 2009-02-28 Hardide Ltd Prevleke volframovega karbida in postopek za njihovo pripravo
KR100403703B1 (ko) * 2000-01-28 2003-11-01 삼성에스디아이 주식회사 모아레가 개선된 음극선관
DE60045745D1 (de) * 2000-03-15 2011-04-28 Hardide Ltd Klebende verbundbeschichtung für diamant und diamant enthaltende werkstoffe und verfahren zur herstellung dieser beschichtung
CN1163626C (zh) * 2000-08-29 2004-08-25 宝山钢铁股份有限公司 一种滑动轴承喷涂材料
RU2206629C2 (ru) 2001-06-04 2003-06-20 Государственное унитарное предприятие "Всероссийский научно-исследовательский и проектный институт тугоплавких металлов и твердых сплавов" Сплав на основе вольфрама
JP3644499B2 (ja) 2001-10-25 2005-04-27 三菱マテリアルシ−エムアイ株式会社 高比重高強度タングステン基焼結合金製ウェート
US6597107B1 (en) * 2002-01-11 2003-07-22 General Electric Company Tungsten-rhenium filament and method for producing same

Also Published As

Publication number Publication date
US8043692B2 (en) 2011-10-25
KR101315923B1 (ko) 2013-10-10
JP2008516087A (ja) 2008-05-15
KR20070083807A (ko) 2007-08-24
WO2006040545A2 (en) 2006-04-20
GB0422608D0 (en) 2004-11-10
GB2419606B (en) 2007-02-07
GB2419606A (en) 2006-05-03
AU2005293361B2 (en) 2010-11-25
NO20071725L (no) 2007-06-18
GB0520589D0 (en) 2005-11-16
BRPI0516273A (pt) 2008-09-02
AU2005293361A1 (en) 2006-04-20
WO2006040545A3 (en) 2006-06-15
EP1838896A2 (en) 2007-10-03
RU2402625C2 (ru) 2010-10-27
MX2007004304A (es) 2008-03-11
US20090117372A1 (en) 2009-05-07
BRPI0516273B1 (pt) 2019-03-26
CN101061254B (zh) 2012-05-23
CA2582573C (en) 2013-12-03
JP5179185B2 (ja) 2013-04-10
CN101061254A (zh) 2007-10-24
NO341099B1 (no) 2017-08-28
CA2582573A1 (en) 2006-04-20
EP1838896B1 (en) 2020-01-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2007117804A (ru) Легированный вольфрам, полученный химическим осаждением из газовой фазы
JP2002536553A5 (ru)
US8414986B2 (en) Method of forming surface coatings on cutting elements
CZ20012921A3 (cs) Povlaky karbidu wolframu a způsob jejich výroby
AU2014355153B2 (en) Hydrophobic and oleophobic coatings
US4707384A (en) Method for making a composite body coated with one or more layers of inorganic materials including CVD diamond
US9840887B2 (en) Wear-resistant and self-lubricant bore receptacle packoff tool
EP3194335B1 (en) Carbon composites
EP3097252B1 (en) Dissolvable isolation devices with an altered surface that delays dissolution of the devices
EP2978872B1 (en) Superabrasive material with protective adhesive coating and method for producing said coating
CA2291804A1 (en) Boronized wear-resistant materials and methods thereof
JPH0576546B2 (ru)
JPS627267B2 (ru)
RU2478731C1 (ru) Режущий инструмент с многослойным покрытием
JPS6135271B2 (ru)
JP7486713B2 (ja) 被覆工具
JP2004058217A (ja) 高速重切削条件で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具
US9409784B2 (en) Method for producing a hard material layer on a substrate, hard material layer and cutting tool
JP2004106107A (ja) 高速重切削条件で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性および耐摩耗性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具
KR100534293B1 (ko) 경금속 절삭공구의 고정 산화물 코팅제
JP2004090182A (ja) 高速重切削条件で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具
JP2004174615A (ja) 高速重切削条件で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具
JP2004050382A (ja) 高速重切削条件で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具

Legal Events

Date Code Title Description
FA92 Acknowledgement of application withdrawn (lack of supplementary materials submitted)

Effective date: 20091228

FZ9A Application not withdrawn (correction of the notice of withdrawal)

Effective date: 20100126

PC41 Official registration of the transfer of exclusive right

Effective date: 20141125