RU2005116674A - Способ напыления на ленточные подложки прозрачного барьерного покрытия из оксида алюминия - Google Patents

Способ напыления на ленточные подложки прозрачного барьерного покрытия из оксида алюминия Download PDF

Info

Publication number
RU2005116674A
RU2005116674A RU2005116674/02A RU2005116674A RU2005116674A RU 2005116674 A RU2005116674 A RU 2005116674A RU 2005116674/02 A RU2005116674/02 A RU 2005116674/02A RU 2005116674 A RU2005116674 A RU 2005116674A RU 2005116674 A RU2005116674 A RU 2005116674A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
aluminum
reactive gas
barrier coating
spraying
zone
Prior art date
Application number
RU2005116674/02A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2352683C2 (ru
Inventor
Николас ШИЛЛЕР (DE)
Николас ШИЛЛЕР
Штеффен ШТРАХ (DE)
Штеффен ШТРАХ
Матиас РЭБИШ (DE)
Матиас РЭБИШ
Маттиас ФАЛАНД (DE)
Маттиас ФАЛАНД
Кристоф ХАРТОН (DE)
Кристоф ХАРТОН
Original Assignee
Фраунхофер-Гезельшафт Цур Фердерунг Дер Ангевандтен Форшунг Е.Ф. (De)
Фраунхофер-Гезельшафт Цур Фердерунг дер Ангевандтен Форшунг Е.Ф.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Фраунхофер-Гезельшафт Цур Фердерунг Дер Ангевандтен Форшунг Е.Ф. (De), Фраунхофер-Гезельшафт Цур Фердерунг дер Ангевандтен Форшунг Е.Ф. filed Critical Фраунхофер-Гезельшафт Цур Фердерунг Дер Ангевандтен Форшунг Е.Ф. (De)
Publication of RU2005116674A publication Critical patent/RU2005116674A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2352683C2 publication Critical patent/RU2352683C2/ru

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/0021Reactive sputtering or evaporation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/02Pretreatment of the material to be coated
    • C23C14/027Graded interfaces
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/08Oxides
    • C23C14/081Oxides of aluminium, magnesium or beryllium

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Inorganic Insulating Materials (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Claims (18)

1. Способ напыления на ленточные подложки прозрачного барьерного покрытия из оксида алюминия путем реактивного испарения алюминия и подачи реакционноспособного газа в установке для напыления покрытий на ленты, отличающийся тем, что перед нанесением покрытия из оксида алюминия на подложку путем магнетронного распыления наносят не полностью сомкнутый слой металла или оксида металла.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что толщина поверхностной пленки, образованной не полностью сомкнутым слоем, соответствует толщине слоя менее одного нанометра.
3. Способ по п.1 или 2, отличающийся тем, что для образования не полностью сомкнутого слоя распыляют титан или магний.
4. Способ по п.3, отличающийся тем, что осуществляют реактивное распыление с подачей кислорода.
5. Способ по п.1, отличающийся тем, что реакционноспособный газ подают таким образом, что в зоне напыления в направлении движения ленточной подложки устанавливается градиент парциального давления реакционноспособного газа, создается градиент соотношения в смеси между алюминием, оксидом алюминия и кислородом в барьерном покрытии и это соотношение в смеси между указанными компонентами в барьерном покрытии характеризуется максимумом относительного содержания металлического алюминия, положение и выраженность какового максимума в определенной глубинной зоне барьерного покрытия регулируют варьированием градиента парциального давления реакционноспособного газа и положения зоны напыления таким образом, что при неизменном светопропускании барьерного покрытия его проницаемость для кислорода и/или водяного пара достигает минимума.
6. Способ по п.5, отличающийся тем, что положение и выраженность максимума относительного содержания металлического алюминия в определенной глубинной зоне барьерного покрытия регулируют путем регулирования диафрагм в зоне испарения и/или путем изменения положения испарительной лодочки и/или путем изменения положения газового сопла и/или угла установки газовых сопел для подачи реакционноспособного газа и/или путем изменения расхода реакционноспособного газа.
7. Способ по п.5 или 6, отличающийся тем, что алюминий испаряют из лодочкового испарителя, имеющего по меньшей мере одну лодочку с непрерывной подачей в нее проволоки.
8. Способ по п.5 или 6, отличающийся тем, что алюминий испаряют из индукционного испарителя.
9. Способ по п.5 или 6, отличающийся тем, что алюминий испаряют из электронно-лучевого испарителя.
10. Способ по п.6, отличающийся тем, что градиент парциального давления реакционноспособного газа регулируют варьированием соотношения между величинами расхода реакционноспособного газа через индивидуально регулируемые газовые сопла, расположенные в зоне входа и в зоне выхода ленточной подложки.
11. Способ по п.1, отличающийся тем, что регулируют параметры технологического процесса.
12. Способ по п.11, отличающийся тем, что параметры технологического процесса регулируют индивидуально для отдельных секторов покрываемого напылением участка.
13. Способ по п.11 или 12, отличающийся тем, что регулируемыми параметрами технологического процесса являются испаряемое в единицу времени количество алюминия и/или расход реакционноспособного газа.
14. Способ по п.11 или 12, отличающийся тем, что регулируют расход подаваемого кислорода в зависимости от непрерывно или периодически измеряемого в ходе технологического процесса светопропускания, поддерживая его на уровне заданного значения.
15. Способ по п.1, отличающийся тем, что процесс напыления осуществляют с активированием плазмой.
16. Способ по п.15, отличающийся тем, что в качестве плазмы для активирования используют плазму дугового разряда, создаваемую с помощью полого катода.
17. Способ по п.16, отличающийся тем, что источники плазмы работают в режиме, в котором на подложку воздействует ионный ток со средней плотностью по меньшей мере 20 мА/см2.
18. Способ по п.16, отличающийся тем, что источники плазмы работают в режиме, в котором на подложку воздействует ионный ток со средней плотностью по меньшей мере 50 мА/см2.
RU2005116674/02A 2002-11-29 2003-10-16 Способ напыления на ленточные подложки прозрачного барьерного покрытия из оксида алюминия RU2352683C2 (ru)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10255822A DE10255822B4 (de) 2002-11-29 2002-11-29 Verfahren zum Bedampfen bandförmiger Substrate mit einer transparenten Barriereschicht aus Aluminiumoxid
DE10255822.1 2002-11-29

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2005116674A true RU2005116674A (ru) 2007-01-10
RU2352683C2 RU2352683C2 (ru) 2009-04-20

Family

ID=32318811

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2005116674/02A RU2352683C2 (ru) 2002-11-29 2003-10-16 Способ напыления на ленточные подложки прозрачного барьерного покрытия из оксида алюминия

Country Status (14)

Country Link
US (1) US7541070B2 (ru)
EP (1) EP1565591B1 (ru)
AT (1) ATE375409T1 (ru)
AU (1) AU2003274021A1 (ru)
BR (1) BR0315699B1 (ru)
CA (1) CA2505027C (ru)
CO (1) CO5690658A2 (ru)
CR (1) CR7821A (ru)
DE (2) DE10255822B4 (ru)
EC (1) ECSP055797A (ru)
ES (1) ES2290496T3 (ru)
MX (1) MXPA05005113A (ru)
RU (1) RU2352683C2 (ru)
WO (1) WO2004050945A2 (ru)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2704949C2 (ru) * 2014-12-19 2019-10-31 Сандвик Интеллекчуал Проперти Аб Режущий инструмент с хогф-покрытием

Families Citing this family (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8025985B2 (en) * 2005-08-11 2011-09-27 E. I. Du Pont De Nemours And Company Porous metallized sheets coated with an inorganic layer having low emissivity and high moisture vapor permeability
DE102007003766B4 (de) * 2006-12-23 2008-09-11 Hvb Hoch-Vakuum-Beschichtungs Gmbh High Vacuum Coating Transparente Barrierefolien für die Verpackungsindustrie
EP2222459A4 (en) * 2007-12-10 2012-12-05 Toray Plastics America Inc HIGH-LOCKING BIAXIALLY ORIENTED POLYMILIC ACID FILM
MX2011001623A (es) 2008-08-15 2011-05-24 Toray Plastics America Inc Pelicula de acido polilactico biaxialmente orientada con alta barrera.
US9150004B2 (en) 2009-06-19 2015-10-06 Toray Plastics (America), Inc. Biaxially oriented polylactic acid film with improved heat seal properties
US9023443B2 (en) 2009-09-25 2015-05-05 Toray Plastics (America), Inc. Multi-layer high moisture barrier polylactic acid film
WO2011103452A1 (en) 2010-02-19 2011-08-25 Toray Plastics (America) , Inc. Multi-layer high moisture barrier polylactic acid film
US9492962B2 (en) 2010-03-31 2016-11-15 Toray Plastics (America), Inc. Biaxially oriented polylactic acid film with reduced noise level and improved moisture barrier
EP2552689B1 (en) 2010-03-31 2017-10-25 Toray Plastics (America) , Inc. Biaxially oriented polyactic acid film with reduced noise level
EP2431995A1 (en) 2010-09-17 2012-03-21 Asociacion de la Industria Navarra (AIN) Ionisation device
JP5649431B2 (ja) * 2010-12-16 2015-01-07 株式会社神戸製鋼所 プラズマcvd装置
EP2474647A1 (en) 2011-01-05 2012-07-11 Asociacion de la Industria Navarra (AIN) Coating barrier layer and manufacturing process
EP2497636A1 (de) 2011-03-11 2012-09-12 Deutsche SiSi-Werke Betriebs GmbH Verbessertes Verbundsystem für Verpackungen
CN102691062A (zh) * 2011-03-23 2012-09-26 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 壳体及其制造方法
DE102011017404A1 (de) * 2011-04-18 2012-10-18 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren zum Abscheiden eines transparenten Barriereschichtsystems
DE102011017403A1 (de) * 2011-04-18 2012-10-18 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren zum Abscheiden eines transparenten Barriereschichtsystems
CN103451652B (zh) * 2012-05-29 2015-10-21 吉林师范大学 一种银纳米粒子包覆氧化锌纳米管衬底的制备方法
RU2564650C1 (ru) * 2014-07-22 2015-10-10 Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский научно-исследовательский институт авиационных материалов" (ФГУП "ВИАМ") Способ нанесения электропроводящего покрытия для электрообогреваемого элемента органического остекления
RU2676720C1 (ru) * 2018-03-28 2019-01-10 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт электрофизики Уральского отделения Российской академии наук Способ вакуумного ионно-плазменного низкотемпературного осаждения нанокристаллического покрытия из оксида алюминия
CN113874543A (zh) * 2019-05-31 2021-12-31 东洋纺株式会社 透明阻气薄膜和其制造方法

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0699798B2 (ja) * 1985-10-29 1994-12-07 東洋メタライジング株式会社 透明ガス遮断性フイルムの製造方法
US5178967A (en) * 1989-02-03 1993-01-12 Alcan International Limited Bilayer oxide film and process for producing same
GB8917888D0 (en) 1989-08-04 1989-09-20 Bowater Packaging Ltd Microwave interactive barrier packaging material
US5792550A (en) * 1989-10-24 1998-08-11 Flex Products, Inc. Barrier film having high colorless transparency and method
US6576294B1 (en) 1989-10-24 2003-06-10 Flex Products, Inc. Method for forming barrier film
GB8928706D0 (en) * 1989-12-20 1990-02-28 Bowater Packaging Ltd Transparent barrier packaging materials
CA2044053C (en) 1990-06-08 2001-11-27 Roger W. Phillips Barrier film having high colorless transparency and method
EP0550039B1 (en) * 1991-12-26 1998-03-18 Toyo Boseki Kabushiki Kaisha A gas barrier film
DE4203631C2 (de) * 1992-02-08 2000-06-08 Leybold Ag Vorrichtung für die Behandlung einer Oxidschicht
IT1261918B (it) * 1993-06-11 1996-06-04 Cetev Cent Tecnolog Vuoto Struttura per deposizione reattiva di metalli in impianti da vuoto continui e relativo processo.
DE4343040C1 (de) * 1993-12-16 1995-01-26 Fraunhofer Ges Forschung Barrierefolie
DE4412906C1 (de) 1994-04-14 1995-07-13 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren und Einrichtung für die ionengestützte Vakuumbeschichtung
DE4427581A1 (de) * 1994-08-04 1996-02-08 Leybold Ag Verfahren zum Aufbringen einer transparenten Metalloxidschicht auf eine Folie
DE19543781A1 (de) 1995-11-24 1997-05-28 Leybold Ag Vakuumbeschichtungsanlage mit einem in der Vakuumkammer angeordneten Tiegel zur Aufnahme von zu verdampfendem Material
DE19845268C1 (de) * 1998-10-01 2000-01-05 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren zum Bedampfen bandförmiger Substrate mit einer transparenten Barriereschicht aus Aluminiumoxid
US6492026B1 (en) * 2000-04-20 2002-12-10 Battelle Memorial Institute Smoothing and barrier layers on high Tg substrates
TWI293091B (en) 2001-09-26 2008-02-01 Tohcello Co Ltd Deposited film and process for producing the same

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2704949C2 (ru) * 2014-12-19 2019-10-31 Сандвик Интеллекчуал Проперти Аб Режущий инструмент с хогф-покрытием

Also Published As

Publication number Publication date
DE50308370D1 (de) 2007-11-22
WO2004050945A2 (de) 2004-06-17
RU2352683C2 (ru) 2009-04-20
ECSP055797A (es) 2005-08-11
EP1565591A2 (de) 2005-08-24
BR0315699A (pt) 2005-09-06
EP1565591B1 (de) 2007-10-10
DE10255822A1 (de) 2004-06-17
MXPA05005113A (es) 2008-03-11
AU2003274021A1 (en) 2004-06-23
DE10255822B4 (de) 2004-10-28
CO5690658A2 (es) 2006-10-31
AU2003274021A8 (en) 2004-06-23
ATE375409T1 (de) 2007-10-15
US20060257585A1 (en) 2006-11-16
ES2290496T3 (es) 2008-02-16
US7541070B2 (en) 2009-06-02
CA2505027C (en) 2011-02-22
BR0315699B1 (pt) 2012-11-27
WO2004050945A3 (de) 2004-08-12
CA2505027A1 (en) 2004-06-17
CR7821A (es) 2005-11-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2005116674A (ru) Способ напыления на ленточные подложки прозрачного барьерного покрытия из оксида алюминия
US20090200159A1 (en) Reactive sputtering method
US7444955B2 (en) Apparatus for directing plasma flow to coat internal passageways
JPH06128742A (ja) 物体上に膜を形成する成膜方法および装置
JPH0247256A (ja) 反応形スパッタリングによる酸化物膜の形成
KR102203825B1 (ko) 아크 이온 도금 장치
CN112030127A (zh) 一种采用增强辉光放电复合调制强流脉冲电弧制备的ta-C涂层及制备方法
WO2021057921A1 (zh) 一种真空镀膜装置
RU2058429C1 (ru) Способ напыления пленок
RU2205893C2 (ru) Способ и устройство нанесения покрытий методом плазмохимического осаждения
US5413820A (en) Reactive ionized cluster beam deposition method
KR20030065810A (ko) 광학박막 제조 장치 및 방법
RU2256724C1 (ru) Способ нанесения композиционных покрытий в вакууме
KR101020773B1 (ko) 아크 이온 플레이팅 장치
RU2634101C2 (ru) Низкотемпературное ионно-дуговое напыление
JPH0445254A (ja) 溶射複合膜形成方法
RU2100476C1 (ru) Способ получения защитно-декоративных покрытий
Schütte et al. How to run a reliable reactive HIPIMS process over a target lifetime
JPH0372073A (ja) 密着性の優れたセラミック被覆長尺物の製造方法
JPH07122131B2 (ja) ア−ク式蒸発源
JPS6044391B2 (ja) 活性化反応蒸着方法
JP3485960B2 (ja) 反応性スパッターによって基体上にコーティングを蒸着させる方法
JPH0339931A (ja) 液晶の配向膜の製造装置
RU1545860C (ru) Способ получени электроизол ционных покрытий
KR950004782B1 (ko) 금속화합물 피막의 제조방법