RU2005116674A - Способ напыления на ленточные подложки прозрачного барьерного покрытия из оксида алюминия - Google Patents
Способ напыления на ленточные подложки прозрачного барьерного покрытия из оксида алюминия Download PDFInfo
- Publication number
- RU2005116674A RU2005116674A RU2005116674/02A RU2005116674A RU2005116674A RU 2005116674 A RU2005116674 A RU 2005116674A RU 2005116674/02 A RU2005116674/02 A RU 2005116674/02A RU 2005116674 A RU2005116674 A RU 2005116674A RU 2005116674 A RU2005116674 A RU 2005116674A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- aluminum
- reactive gas
- barrier coating
- spraying
- zone
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/0021—Reactive sputtering or evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/02—Pretreatment of the material to be coated
- C23C14/027—Graded interfaces
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/08—Oxides
- C23C14/081—Oxides of aluminium, magnesium or beryllium
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Inorganic Insulating Materials (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Claims (18)
1. Способ напыления на ленточные подложки прозрачного барьерного покрытия из оксида алюминия путем реактивного испарения алюминия и подачи реакционноспособного газа в установке для напыления покрытий на ленты, отличающийся тем, что перед нанесением покрытия из оксида алюминия на подложку путем магнетронного распыления наносят не полностью сомкнутый слой металла или оксида металла.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что толщина поверхностной пленки, образованной не полностью сомкнутым слоем, соответствует толщине слоя менее одного нанометра.
3. Способ по п.1 или 2, отличающийся тем, что для образования не полностью сомкнутого слоя распыляют титан или магний.
4. Способ по п.3, отличающийся тем, что осуществляют реактивное распыление с подачей кислорода.
5. Способ по п.1, отличающийся тем, что реакционноспособный газ подают таким образом, что в зоне напыления в направлении движения ленточной подложки устанавливается градиент парциального давления реакционноспособного газа, создается градиент соотношения в смеси между алюминием, оксидом алюминия и кислородом в барьерном покрытии и это соотношение в смеси между указанными компонентами в барьерном покрытии характеризуется максимумом относительного содержания металлического алюминия, положение и выраженность какового максимума в определенной глубинной зоне барьерного покрытия регулируют варьированием градиента парциального давления реакционноспособного газа и положения зоны напыления таким образом, что при неизменном светопропускании барьерного покрытия его проницаемость для кислорода и/или водяного пара достигает минимума.
6. Способ по п.5, отличающийся тем, что положение и выраженность максимума относительного содержания металлического алюминия в определенной глубинной зоне барьерного покрытия регулируют путем регулирования диафрагм в зоне испарения и/или путем изменения положения испарительной лодочки и/или путем изменения положения газового сопла и/или угла установки газовых сопел для подачи реакционноспособного газа и/или путем изменения расхода реакционноспособного газа.
7. Способ по п.5 или 6, отличающийся тем, что алюминий испаряют из лодочкового испарителя, имеющего по меньшей мере одну лодочку с непрерывной подачей в нее проволоки.
8. Способ по п.5 или 6, отличающийся тем, что алюминий испаряют из индукционного испарителя.
9. Способ по п.5 или 6, отличающийся тем, что алюминий испаряют из электронно-лучевого испарителя.
10. Способ по п.6, отличающийся тем, что градиент парциального давления реакционноспособного газа регулируют варьированием соотношения между величинами расхода реакционноспособного газа через индивидуально регулируемые газовые сопла, расположенные в зоне входа и в зоне выхода ленточной подложки.
11. Способ по п.1, отличающийся тем, что регулируют параметры технологического процесса.
12. Способ по п.11, отличающийся тем, что параметры технологического процесса регулируют индивидуально для отдельных секторов покрываемого напылением участка.
13. Способ по п.11 или 12, отличающийся тем, что регулируемыми параметрами технологического процесса являются испаряемое в единицу времени количество алюминия и/или расход реакционноспособного газа.
14. Способ по п.11 или 12, отличающийся тем, что регулируют расход подаваемого кислорода в зависимости от непрерывно или периодически измеряемого в ходе технологического процесса светопропускания, поддерживая его на уровне заданного значения.
15. Способ по п.1, отличающийся тем, что процесс напыления осуществляют с активированием плазмой.
16. Способ по п.15, отличающийся тем, что в качестве плазмы для активирования используют плазму дугового разряда, создаваемую с помощью полого катода.
17. Способ по п.16, отличающийся тем, что источники плазмы работают в режиме, в котором на подложку воздействует ионный ток со средней плотностью по меньшей мере 20 мА/см2.
18. Способ по п.16, отличающийся тем, что источники плазмы работают в режиме, в котором на подложку воздействует ионный ток со средней плотностью по меньшей мере 50 мА/см2.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE10255822A DE10255822B4 (de) | 2002-11-29 | 2002-11-29 | Verfahren zum Bedampfen bandförmiger Substrate mit einer transparenten Barriereschicht aus Aluminiumoxid |
DE10255822.1 | 2002-11-29 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2005116674A true RU2005116674A (ru) | 2007-01-10 |
RU2352683C2 RU2352683C2 (ru) | 2009-04-20 |
Family
ID=32318811
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2005116674/02A RU2352683C2 (ru) | 2002-11-29 | 2003-10-16 | Способ напыления на ленточные подложки прозрачного барьерного покрытия из оксида алюминия |
Country Status (14)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7541070B2 (ru) |
EP (1) | EP1565591B1 (ru) |
AT (1) | ATE375409T1 (ru) |
AU (1) | AU2003274021A1 (ru) |
BR (1) | BR0315699B1 (ru) |
CA (1) | CA2505027C (ru) |
CO (1) | CO5690658A2 (ru) |
CR (1) | CR7821A (ru) |
DE (2) | DE10255822B4 (ru) |
EC (1) | ECSP055797A (ru) |
ES (1) | ES2290496T3 (ru) |
MX (1) | MXPA05005113A (ru) |
RU (1) | RU2352683C2 (ru) |
WO (1) | WO2004050945A2 (ru) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2704949C2 (ru) * | 2014-12-19 | 2019-10-31 | Сандвик Интеллекчуал Проперти Аб | Режущий инструмент с хогф-покрытием |
Families Citing this family (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8025985B2 (en) * | 2005-08-11 | 2011-09-27 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Porous metallized sheets coated with an inorganic layer having low emissivity and high moisture vapor permeability |
DE102007003766B4 (de) * | 2006-12-23 | 2008-09-11 | Hvb Hoch-Vakuum-Beschichtungs Gmbh High Vacuum Coating | Transparente Barrierefolien für die Verpackungsindustrie |
EP2222459A4 (en) * | 2007-12-10 | 2012-12-05 | Toray Plastics America Inc | HIGH-LOCKING BIAXIALLY ORIENTED POLYMILIC ACID FILM |
MX2011001623A (es) | 2008-08-15 | 2011-05-24 | Toray Plastics America Inc | Pelicula de acido polilactico biaxialmente orientada con alta barrera. |
US9150004B2 (en) | 2009-06-19 | 2015-10-06 | Toray Plastics (America), Inc. | Biaxially oriented polylactic acid film with improved heat seal properties |
US9023443B2 (en) | 2009-09-25 | 2015-05-05 | Toray Plastics (America), Inc. | Multi-layer high moisture barrier polylactic acid film |
WO2011103452A1 (en) | 2010-02-19 | 2011-08-25 | Toray Plastics (America) , Inc. | Multi-layer high moisture barrier polylactic acid film |
US9492962B2 (en) | 2010-03-31 | 2016-11-15 | Toray Plastics (America), Inc. | Biaxially oriented polylactic acid film with reduced noise level and improved moisture barrier |
EP2552689B1 (en) | 2010-03-31 | 2017-10-25 | Toray Plastics (America) , Inc. | Biaxially oriented polyactic acid film with reduced noise level |
EP2431995A1 (en) | 2010-09-17 | 2012-03-21 | Asociacion de la Industria Navarra (AIN) | Ionisation device |
JP5649431B2 (ja) * | 2010-12-16 | 2015-01-07 | 株式会社神戸製鋼所 | プラズマcvd装置 |
EP2474647A1 (en) | 2011-01-05 | 2012-07-11 | Asociacion de la Industria Navarra (AIN) | Coating barrier layer and manufacturing process |
EP2497636A1 (de) | 2011-03-11 | 2012-09-12 | Deutsche SiSi-Werke Betriebs GmbH | Verbessertes Verbundsystem für Verpackungen |
CN102691062A (zh) * | 2011-03-23 | 2012-09-26 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 壳体及其制造方法 |
DE102011017404A1 (de) * | 2011-04-18 | 2012-10-18 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren zum Abscheiden eines transparenten Barriereschichtsystems |
DE102011017403A1 (de) * | 2011-04-18 | 2012-10-18 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren zum Abscheiden eines transparenten Barriereschichtsystems |
CN103451652B (zh) * | 2012-05-29 | 2015-10-21 | 吉林师范大学 | 一种银纳米粒子包覆氧化锌纳米管衬底的制备方法 |
RU2564650C1 (ru) * | 2014-07-22 | 2015-10-10 | Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский научно-исследовательский институт авиационных материалов" (ФГУП "ВИАМ") | Способ нанесения электропроводящего покрытия для электрообогреваемого элемента органического остекления |
RU2676720C1 (ru) * | 2018-03-28 | 2019-01-10 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт электрофизики Уральского отделения Российской академии наук | Способ вакуумного ионно-плазменного низкотемпературного осаждения нанокристаллического покрытия из оксида алюминия |
CN113874543A (zh) * | 2019-05-31 | 2021-12-31 | 东洋纺株式会社 | 透明阻气薄膜和其制造方法 |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0699798B2 (ja) * | 1985-10-29 | 1994-12-07 | 東洋メタライジング株式会社 | 透明ガス遮断性フイルムの製造方法 |
US5178967A (en) * | 1989-02-03 | 1993-01-12 | Alcan International Limited | Bilayer oxide film and process for producing same |
GB8917888D0 (en) | 1989-08-04 | 1989-09-20 | Bowater Packaging Ltd | Microwave interactive barrier packaging material |
US5792550A (en) * | 1989-10-24 | 1998-08-11 | Flex Products, Inc. | Barrier film having high colorless transparency and method |
US6576294B1 (en) | 1989-10-24 | 2003-06-10 | Flex Products, Inc. | Method for forming barrier film |
GB8928706D0 (en) * | 1989-12-20 | 1990-02-28 | Bowater Packaging Ltd | Transparent barrier packaging materials |
CA2044053C (en) | 1990-06-08 | 2001-11-27 | Roger W. Phillips | Barrier film having high colorless transparency and method |
EP0550039B1 (en) * | 1991-12-26 | 1998-03-18 | Toyo Boseki Kabushiki Kaisha | A gas barrier film |
DE4203631C2 (de) * | 1992-02-08 | 2000-06-08 | Leybold Ag | Vorrichtung für die Behandlung einer Oxidschicht |
IT1261918B (it) * | 1993-06-11 | 1996-06-04 | Cetev Cent Tecnolog Vuoto | Struttura per deposizione reattiva di metalli in impianti da vuoto continui e relativo processo. |
DE4343040C1 (de) * | 1993-12-16 | 1995-01-26 | Fraunhofer Ges Forschung | Barrierefolie |
DE4412906C1 (de) | 1994-04-14 | 1995-07-13 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren und Einrichtung für die ionengestützte Vakuumbeschichtung |
DE4427581A1 (de) * | 1994-08-04 | 1996-02-08 | Leybold Ag | Verfahren zum Aufbringen einer transparenten Metalloxidschicht auf eine Folie |
DE19543781A1 (de) | 1995-11-24 | 1997-05-28 | Leybold Ag | Vakuumbeschichtungsanlage mit einem in der Vakuumkammer angeordneten Tiegel zur Aufnahme von zu verdampfendem Material |
DE19845268C1 (de) * | 1998-10-01 | 2000-01-05 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren zum Bedampfen bandförmiger Substrate mit einer transparenten Barriereschicht aus Aluminiumoxid |
US6492026B1 (en) * | 2000-04-20 | 2002-12-10 | Battelle Memorial Institute | Smoothing and barrier layers on high Tg substrates |
TWI293091B (en) | 2001-09-26 | 2008-02-01 | Tohcello Co Ltd | Deposited film and process for producing the same |
-
2002
- 2002-11-29 DE DE10255822A patent/DE10255822B4/de not_active Expired - Lifetime
-
2003
- 2003-10-16 BR BRPI0315699-0A patent/BR0315699B1/pt active IP Right Grant
- 2003-10-16 AU AU2003274021A patent/AU2003274021A1/en not_active Abandoned
- 2003-10-16 EP EP03757995A patent/EP1565591B1/de not_active Expired - Lifetime
- 2003-10-16 CA CA2505027A patent/CA2505027C/en not_active Expired - Lifetime
- 2003-10-16 WO PCT/EP2003/011477 patent/WO2004050945A2/de active IP Right Grant
- 2003-10-16 RU RU2005116674/02A patent/RU2352683C2/ru active
- 2003-10-16 ES ES03757995T patent/ES2290496T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2003-10-16 AT AT03757995T patent/ATE375409T1/de not_active IP Right Cessation
- 2003-10-16 DE DE50308370T patent/DE50308370D1/de not_active Expired - Lifetime
- 2003-10-16 MX MXPA05005113A patent/MXPA05005113A/es active IP Right Grant
- 2003-10-16 US US10/536,329 patent/US7541070B2/en not_active Expired - Lifetime
-
2005
- 2005-05-04 CR CR7821A patent/CR7821A/es unknown
- 2005-05-16 EC EC2005005797A patent/ECSP055797A/es unknown
- 2005-05-31 CO CO05052766A patent/CO5690658A2/es not_active Application Discontinuation
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2704949C2 (ru) * | 2014-12-19 | 2019-10-31 | Сандвик Интеллекчуал Проперти Аб | Режущий инструмент с хогф-покрытием |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE50308370D1 (de) | 2007-11-22 |
WO2004050945A2 (de) | 2004-06-17 |
RU2352683C2 (ru) | 2009-04-20 |
ECSP055797A (es) | 2005-08-11 |
EP1565591A2 (de) | 2005-08-24 |
BR0315699A (pt) | 2005-09-06 |
EP1565591B1 (de) | 2007-10-10 |
DE10255822A1 (de) | 2004-06-17 |
MXPA05005113A (es) | 2008-03-11 |
AU2003274021A1 (en) | 2004-06-23 |
DE10255822B4 (de) | 2004-10-28 |
CO5690658A2 (es) | 2006-10-31 |
AU2003274021A8 (en) | 2004-06-23 |
ATE375409T1 (de) | 2007-10-15 |
US20060257585A1 (en) | 2006-11-16 |
ES2290496T3 (es) | 2008-02-16 |
US7541070B2 (en) | 2009-06-02 |
CA2505027C (en) | 2011-02-22 |
BR0315699B1 (pt) | 2012-11-27 |
WO2004050945A3 (de) | 2004-08-12 |
CA2505027A1 (en) | 2004-06-17 |
CR7821A (es) | 2005-11-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
RU2005116674A (ru) | Способ напыления на ленточные подложки прозрачного барьерного покрытия из оксида алюминия | |
US20090200159A1 (en) | Reactive sputtering method | |
US7444955B2 (en) | Apparatus for directing plasma flow to coat internal passageways | |
JPH06128742A (ja) | 物体上に膜を形成する成膜方法および装置 | |
JPH0247256A (ja) | 反応形スパッタリングによる酸化物膜の形成 | |
KR102203825B1 (ko) | 아크 이온 도금 장치 | |
CN112030127A (zh) | 一种采用增强辉光放电复合调制强流脉冲电弧制备的ta-C涂层及制备方法 | |
WO2021057921A1 (zh) | 一种真空镀膜装置 | |
RU2058429C1 (ru) | Способ напыления пленок | |
RU2205893C2 (ru) | Способ и устройство нанесения покрытий методом плазмохимического осаждения | |
US5413820A (en) | Reactive ionized cluster beam deposition method | |
KR20030065810A (ko) | 광학박막 제조 장치 및 방법 | |
RU2256724C1 (ru) | Способ нанесения композиционных покрытий в вакууме | |
KR101020773B1 (ko) | 아크 이온 플레이팅 장치 | |
RU2634101C2 (ru) | Низкотемпературное ионно-дуговое напыление | |
JPH0445254A (ja) | 溶射複合膜形成方法 | |
RU2100476C1 (ru) | Способ получения защитно-декоративных покрытий | |
Schütte et al. | How to run a reliable reactive HIPIMS process over a target lifetime | |
JPH0372073A (ja) | 密着性の優れたセラミック被覆長尺物の製造方法 | |
JPH07122131B2 (ja) | ア−ク式蒸発源 | |
JPS6044391B2 (ja) | 活性化反応蒸着方法 | |
JP3485960B2 (ja) | 反応性スパッターによって基体上にコーティングを蒸着させる方法 | |
JPH0339931A (ja) | 液晶の配向膜の製造装置 | |
RU1545860C (ru) | Способ получени электроизол ционных покрытий | |
KR950004782B1 (ko) | 금속화합물 피막의 제조방법 |