RU1545860C - Способ получени электроизол ционных покрытий - Google Patents

Abstract

Изобретение относитс  к электронной технике и может быть нспольэовано в технологии тонких пленок. Цель изобретени  - повышение качества покрыти  за счет увеличени  электрического сопротивлени  и уменьшени  неравномерности по толщине. На подложку воздействуют потоком высокочастотной плазмы аргонового разр да, при этом в центральную часть разр да ввод т испар емый электроизол ционный материал. Нанесение покрытий провод т при давлении в вакуумной камере 200-250 На. На подложку воздействуют потоком плазмы со скорость 8-10 м. , при этом на поверхности подложки создаетс  концентраци  электронов 10W -104 м . В центральную часть разр да дополнительно ввод т 3,5-5 мас.Л кислорода. Электрическое сопротивление повышаетс  в 2-2,5 рача, неравномерность по толщине уменьшилась в 3-4 раза. 1 ил., 1 табл. в (Л С о

Description

Изобретение относитс  к электронной технике и может быть испольэова- но в технологии тонких пленок.

Целью изобретени   вл етс  повышение качества покрыти  за счет увеличени  электрического .сопротивлени  и уменьшени  неравномерности по толщине .

На чертеже представлена установка ВЧ плазменного напылени . R разр дной камере 1 ВЧ без электродного плазмотрона 2 создаетс  аргоновый 3 с добавкой кислорода 4 газовый поток давлением 200-250 Па. В области индуктора 5 электромагнитное поле, возбуждаемое ВЧ-током индуктора 5. наТревает плаэмообразующие газы до состо ни  плазмы. В разр дную камеру вводитс  испар емое вещество 6, кото- рое под воздействием плазмы переходит в паровую фазу. Образуетс  плазменный поток, содержащий пары испар емого вещества, который вертикально снизу вверх истекает в вакуумную камеру 7 с расположенным в ней изделием 8. При взаимодействии плазменного потока с изделием происходит ослжденме паров испар емого материала на поверхности издели .

Способ реализуют при следующем режиме работы установки: мощность, вкладываема  в разр д 3,0-3,1 кВт, обсл

Ј СП

оо &

йппЧ расход плазмопбраэукщнх газов 0,02 рассто ние от торца испар емого материала до издели  180 мм, частота генератора 2,76 МГц.

Получают электроизол ционные покрыти  нэ и SiOt с электрическим сопротивлением до 20-10 J Ом-см и неравномерностью н  плоскоиараллель- ных поверхност х не более 5Х в преде- JQ пах разр дной камеры.

В таблице приведены параметры потока плазмы и характеристики покрытий из Л120з и SiOz на плосхопарадлсльных поверхност х из ситалла, кремни  и J5 стали марки 20X13 и профнлпровэнной поверхности (вогнута  с радиусом кривизны 150 мм) из стали марки 20X13, полученных предлагаемым и известным способами. -Необходимые- режимы дл  по 20 лучени  положительного эффекта выбраны экспериментально.

Покрыти  с помощью известного спо- . соба получены бел добавки в аргоновую плазму кислорода при давлении п каме- 25 ре 90-100 Па. Нанесение покрытий предлагаемым способом осуществл ют при вводе и центральную часть аргонопого разр да 3,5-5 мае,2 кислорода, дагше- кии в камере 200-250 Па, скорости плазменного потока 8-10 M C°fи концентрации электронов у поверхности издели  10n-104W

Положительный эффект достигаетс  .

3

4

за счет исключени  металлических включении в составе покрыти  и выравншза- шгн концентрации паров испар емого материала по сечению потока на поверхности издели 

Бпод кислорода и центральную часть разр да предотвращает процесс восстановлени  металлов Экспериментально установлено, что нижним пределом по влени  эффоктй  вл етс  3,5 мас.Х кислорода. Впод и аргоновую плазму. более 5 мас.% кислорода приводит к резкому ухудшени параметров пленок.

Скорость потока больше 10 мт увеличивает неравномерность получаемого покрыти . Это происходит вследствие изменени  кривой распределени  концентрации паров испар емого материала и приближени  ее к крилей распределени  прототипа. При меньших скорост х потока (менее 8 ) осаждаетс  пористое и, как следствие, с низким электрическим сопротивлением покрытие. Концентраци  электронов меньше 10 приводит к резкому уменьшению адгезионной прочности покрыти , а больше 10а м - к необратимым изменени м структуры и к разрушению нанесенного покрыти .

Характеристики пленок приведены в таблице.

. Из сравнений данных таблицы видно , что предлагаемый способ позвол ет в 2-2,5 раза повысить электрическое сопротивление и уменьшить неравномерность покрытий в 3-4 раза.

Claims (1)

1. Формула изобретени 

   Способ получени  электроизол ционных покрытий, включающий нанесение покрытий в вакуумной камере путем гоздсйствн  на подложку потока высокочастотной пла.чмм рал р да в атмосфере аргона, в центральную часть которого ввод т испар емый электроизол ционный материал, отличающийс  тем, что, с ц ел ьп noi i-tme- нил качества покрытий .за смет увеличени  электрического сопротивлени  и повышени  равномерности по толщине, нанесение покрытий провод т при да - леннн в вакуумной камер о 200-250 Па, , скорости потока пл.тзмы 8-10 м«с и концентрации элс тронов у поверхности подложки 10 -10г1 , при этом п центральную часть разр да дополнительно ввод т 3,5-5 маеЛ кнслопода.

   i+И

   fJ JSffJ

   /fe«w/4J rҐ № энергии.

   1 -Л----.1

   jrrrrrsTj.

   525 I

   i zUJ rzh-bd

   -5 .

   1 , t| КВокуумнону

   I | 51

   Кси$мъме tofo- охлаждени