PL200431B1 - Podłoże mające hydrofobową powłokę powierzchniową - Google Patents
Podłoże mające hydrofobową powłokę powierzchniowąInfo
- Publication number
- PL200431B1 PL200431B1 PL361891A PL36189101A PL200431B1 PL 200431 B1 PL200431 B1 PL 200431B1 PL 361891 A PL361891 A PL 361891A PL 36189101 A PL36189101 A PL 36189101A PL 200431 B1 PL200431 B1 PL 200431B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- layer
- substrate
- dimethyldichlorosilane
- trimethylchlorosilane
- methyltrichlorosilane
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/006—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character
- C03C17/008—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character comprising a mixture of materials covered by two or more of the groups C03C17/02, C03C17/06, C03C17/22 and C03C17/28
- C03C17/009—Mixtures of organic and inorganic materials, e.g. ormosils and ormocers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/42—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating of an organic material and at least one non-metal coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D4/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; Coating compositions, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09D183/00 - C09D183/16
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
- C09D5/002—Priming paints
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
- B05D1/18—Processes for applying liquids or other fluent materials performed by dipping
- B05D1/185—Processes for applying liquids or other fluent materials performed by dipping applying monomolecular layers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
- B05D1/60—Deposition of organic layers from vapour phase
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/213—SiO2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
- C03C2217/76—Hydrophobic and oleophobic coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
- C03C2218/152—Deposition methods from the vapour phase by cvd
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31551—Of polyamidoester [polyurethane, polyisocyanate, polycarbamate, etc.]
- Y10T428/31609—Particulate metal or metal compound-containing
- Y10T428/31612—As silicone, silane or siloxane
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31652—Of asbestos
- Y10T428/31663—As siloxane, silicone or silane
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Composite Materials (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
Przedmiotem wynalazku jest pod lo ze maj ace hydrofobow a pow lok e powierzchniow a, zawiera- j ace pod lo ze, warstw e wiaz ac a, warstw e hydrofobow a, charakteryzuj ace si e tym, ze zawiera warstw e wiaz ac a tlenku krzemu na pod lo zu i hydrofobow a warstw e pow loki pokrywaj ac a powierzchni e warstwy wiaz acej, przy czym powierzchnia warstwy wiaz acej tlenku krzemu wykazuje sredni a kwadratow a chropowato sc powierzchni mniejsz a ni z 6,0 nm i wykazuje wartosc zamglenia mniejsz a ni z 2,0%. PL PL PL PL PL
Description
Opis wynalazku
Dziedzina wynalazku
Ogólnie przedmiotem niniejszego wynalazku są powleczone podłoża mające hydrofobową powłokę powierzchniową. W wynalazku przedstawiono sposoby powlekania tych podłoży. W korzystnych wykonaniach niniejszy wynalazek dotyczy przezroczystych podłoży mających na sobie hydrofobową (niezwilżalną przez wodę) powłokę.
Tło i streszczenie wynalazku
Szkło otrzymuje się zwykle z krzemianów, które topi się z utworzeniem klarownego, przezroczystego ciała stałego. Podstawową jednostką struktury molekularnej konwencjonalnego szkła jest czworościan SiO4. Zwykłe szkło płynące (nazywane tak od procesu produkcyjnego w którym stopiona taśma szkła płynie po stopionym metalu z utworzeniem gładkiej powierzchni) zawiera dodatkowe ilości sody (Na2O), w procesie produkcyjnym zazwyczaj w postaci węglanu lub azotanu sodu, wapna (CaO) i innych tlenków (zwykle tlenków glinu i magnezu), tworzące strukturę soda-wapno-krzemionka znaną potocznie jako szkło sodowo-wapniowe. Przez wprowadzenie innych dodatków i składników można otrzymać inne szkło specjalne.
Niekiedy jest wysoce pożądane, żeby konwencjonalne szkło przeznaczone do konkretnych zastosowań docelowych, takie jak szkło do szyb samochodowych (szyb pojazdów), miało powierzchnię o właściwościach hydrofobowych (niezwilżalną przez wodę). Proponowano różne sposoby nadawania podłożom szklanym właściwości hydrofobowych (niezwilżalności przez wodę). Na przykład, w opisach patentowych nr 4263350, 4274856, 5665424 i 5723172 (których cała zawartość jest ściśle włączona do niniejszego zgłoszenia jako odnośnik) ogólnie ujawniono, że powierzchnie szkła można, w celu poprawienia ich hydrofobowości i/lub właściwości antyadhezyjnych, powlekać naparowywaną warstwą chloroalkilosilanu, takiego jak dimetylodichlorosilan (DMDCS). Istnieją inne propozycje, według których do „przykrycia warstwy spodniej na podłożu szklanym w celu poprawienia trwałości powłoki można stosować powłokę fluorowanego alkilochlorosilanu (FAS). W tym zakresie zobacz opisy patentowe Stanów Zjednoczonych Ameryki nr 5328768, 5372851, 5380585 i 5580605 (których cała zawartość jest specjalnie włączona do niniejszego zgłoszenia jako odnośnik). Ponadto, zgłoszenie międzynarodowe WO 00/25938 (którego cała zawartość jest specjalnie włączona do niniejszego zgłoszenia jako odnośnik) ujawnia, że warstwa silikonowa złożona z łańcuchów cząsteczek o siloksanowych grupach końcowych, które reagują z wodą z utworzeniem grupy OH, może zostać przykryta poprzez kolejną reakcję tej grupy OH z trimetylochlorosilanem z utworzeniem trimetylosiloksanowych końców łańcucha.
Podczas gdy znane są różne powłoki hydrofobowe, wciąż istnieje zapotrzebowanie na uzyskanie takich powłok o polepszonej trwałości. Niniejszy wynalazek ukierunkowany jest właśnie na zaspokojenie takiego zapotrzebowania.
Przedmiotem wynalazku jest podłoże mające hydrofobową powłokę powierzchniową, zawierające podłoże, warstwę wiążącą, warstwę hydrofobową, charakteryzujące się tym, że zawiera warstwę wiążącą tlenku krzemu na podłożu i hydrofobową warstwę powłoki pokrywającą powierzchnię warstwy wiążącej, przy czym powierzchnia warstwy wiążącej tlenku krzemu wykazuje średnią kwadratową chropowatość powierzchni mniejszą niż 6,0 nm i wykazuje wartość zamglenia mniejszą niż 2,0%.
W podłożu korzystnie warstwa wiążąca wykazuje średnią kwadratową chropowatość powierzchni większą niż 4,0 nm.
W podłożu korzystnie hydrofobowa powłoka zawiera dodatkowo naniesiony na warstwę wiążącą zwilżony naparowany produkt reakcji co najmniej jednego alkilochlorosilanu, a zwłaszcza alkilochlorosilan stanowi dimetylodichlorosilan lub trimetylochlorosilan.
Podłoże korzystnie charakteryzuje się tym, że hydrofobowa powłoka zawiera warstwę zwilżonego naparowanego produktu reakcji dimetylodichlorosilanu na warstwie wiążącej tlenku krzemu i warstwę zwilżonego naparowanego produktu reakcji trimetylochlorosilanu naniesioną na warstwę dimetylodichlorosilanu.
Korzystnie w podłożu hydrofobowa powłoka zawiera warstwę polidimetylosiloksanu związaną chemicznie ze wspomnianą warstwą wiążącą.
Korzystnie w podłożu hydrofobowa powłoka zawiera warstwę usieciowanego polisiloksanu związaną chemicznie ze wspomnianą warstwą wiążącą, a zwłaszcza hydrofobowa powłoka zawiera co najmniej jedną warstwę, którą jest zwilżony naparowany produkt reakcji dimetylodichlorosilanu lub trimetylochlorosilanu naniesiony na warstwę usieciowanego polisiloksanu.
PL 200 431 B1
Podłoże korzystnie charakteryzuje się tym, że warstwa wiążąca wykazuje wartość zamglenia mniejszą niż 1,5%.
Podłoże korzystnie charakteryzuje się tym, że warstwa wiążąca jest złożona ze zwilżonego produktu reakcji tetrachlorku krzemu naparowanego przy wilgotności względnej mniejszej niż 50%, korzystniej tetrachlorek krzemu jest naparowany przy wilgotności względnej mniejszej niż 45%.
Korzystnie w podłożu tetrachlorek krzemu jest naparowany przy wilgotności względnej mniejszej niż 40%.
Korzystnie w podłożu omawiana powłoka hydrofobowa jest złożona ze zwilżonego produktu reakcji wspomnianych tetrachlorku krzemu i alkilochlorosilanu, korzystniej alkilochlorosilan obejmuje trimetylochlorosilan.
Korzystnie w podłożu wspomniane tetrachlorek krzemu i trimetylochlorosilan są naparowane jako mieszanina, a zwłaszcza stosunek tetrachlorku krzemu do trimetylochlorosilanu jest zawarty w mieszaninie między 4,0:0,5 do 4,0:1,5.
Podłoże korzystnie charakteryzuje się tym, że we wspomnianej mieszaninie stosunek tetrachlorku krzemu do trimetylochlorosilanu wynosi 4,0:1,0.
W podłożu korzystnie alkilochlorosilany obejmują dimetylodichlorosilan i metylotrichlorosilan.
W podłożu korzystnie alkilochlorosilanami są dimetylodichlorosilan i metylotrichlorosilan i są one dodane w ilościach równomolowych.
W podłożu korzystnie stosunki dimetylodichlorosilanu i metylotrichlorosilanu są w zakresie odpowiednio od 5 części na 1 część do 1 części na 3 części wagowe.
W podłożu korzystnie warstwa alkilochlorosilanowa jest przykryta metylotrichlorosilanem.
W podłożu korzystnie warstwa alkilochlorosilanowa jest przykryta CF2FCO(CH2)3SiCl2CH3.
W podłożu korzystnie hydrofobowa powłoka zawiera warstwę zwilżonego naparowanego produktu reakcji dimetylodichlorosilanu i metylotrichlorosilanu na warstwie wiążącej tlenku krzemu i przykrywającą warstwę zwilżonego naparowanego produktu reakcji trimetylochlorosilanu naniesioną na warstwę dimetylodichlorosilanu (DMDCS) i trimetylosilanu (TMCS).
W podłożu korzystnie tetrachlorek krzemu dodany jest w reakcji w ilości równomolowej z przynajmniej jednym alkilochlorosilanem wybranym z grupy składającej się z dimetylodichlorosilanu, metylotrichlorosilanu, trimetylochlorosilanu i chlorofluoroalkilosilanu.
Podłoże korzystnie jako warstwę przykrywającą obejmuje CF2FCO(CH2)3SiC^CH3.
W podłożu korzystnie warstwa wiążąca wykazuje średnią kwadratową chropowatość powierzchni mniejszą niż 5,0 nm.
W podłożu korzystnie warstwa wiążąca wykazuje średnią kwadratową chropowatość powierzchni pomiędzy 4,0 nm do 6,0 nm.
Podłoże korzystnie charakteryzuje się tym, że powierzchnia warstwy wiążącej wykazuje średnią kwadratową chropowatość powierzchni większą niż 4,0 nm i mniejszą niż 6,0 nm i w którym hydrofobową warstwą powłoki jest zwilżony naparowany produkt reakcji przynajmniej jednego alkilochlorosilanu, który jest wybrany z grupy składającej się z dimetylodichlorosilanu, metylochlorosilanu i trimetylochlorosilanu, korzystniej hydrofobowa powłoka zawiera warstwę zwilżonego naparowanego produktu reakcji dimetylodichlorosilanu na warstwie wiążącej tlenku krzemu i warstwę zwilżonego naparowanego produktu reakcji trimetylochlorosilanu naniesioną na warstwę dimetylodichlorosilanu.
Podłoże korzystnie charakteryzuje się tym, że hydrofobowa powłoka zawiera warstwę polidimetylosiloksanu związaną chemicznie ze wspomnianą warstwą wiążącą.
W podłożu korzystnie hydrofobowa powłoka zawiera warstwę usieciowanego polisiloksanu związaną chemicznie ze wspomnianą warstwą wiążącą, korzystniej hydrofobowa powłoka zawiera co najmniej jedną warstwę, którą jest zwilżony naparowany produkt reakcji dimetylodichlorosilanu lub trimetylochlorosilanu naniesiony na warstwę usieciowanego polisiloksanu.
Korzystnie w podłożu alkilochlorosilan obejmuje dimetylodichlorosilan i metylotrichlorosilan w równomolowych ilościach.
Korzystnie w podłożu alkilochlorosilan obejmuje dimetylodichlorosilan i metylotrichlorosilan, w stosunku dimetylodichlorosilanu i metylotrichlorosilanu, w zakresie odpowiednio od 5 części na 1 część do 1 części na 3 części wagowe.
Niniejszy wynalazek zasadniczo dotyczy podłoży, które wykazują zwiększoną hydrofobowość i trwałość. Najkorzystniej, podłożem jest szkło. W wynalazku przedstawiono szczególnie korzystne wykonania niniejszego wynalazku, przedstawiono sposoby pokrywania i pokryte podłoża obejmujące zawierającą SiOx warstwę wiążącą składającą się z poddawanego w sposób kontrolowany działaniu
PL 200 431 B1 wilgoci, naparowanego związku zawierającego grupę chlorosililową (najkorzystniej tetrachlorek krzemu), oraz hydrofobową warstwę pokrywającą chemicznie związaną z zawierającą SiOx warstwą wiążącą.
W innych szczególnie korzystnych wykonaniach wynalazku, wyjątkowo trwałe powłoki hydrofobowe można utworzyć przez jednoczesne wodne naparowanie próżniowe związków zawierających grupę chlorosililową i chloroalkilosilanu z utworzeniem warstwy wiążącej, którą następnie można pokryć powłokę hydrofobową. Na przykład, jednoczesne naparowanie próżniowe na szklane podłoże tetrachlorku krzemu i dimetylodichlorosilanu prowadzi do uzyskania powłoki hydrofobowej składającej się z łańcuchów polisiloksanowych usieciowanych w punktach rozgałęzienia tlenkiem krzemu, pochodzącym z tetrachlorku krzemu (tzn. nierozpuszczalnego produktu reakcji), którą można następnie przykryć fluoro- lub chloroalkilosilanem. Ewentualnie, warstwa tlenku krzemu (SiOx) może być naparowana próżniowo przed, a co za tym idzie umiejscowiona pod usieciowanym polisiloksanem w sposób opisany powyżej.
W innych wykonaniach powleczone podłoże może zostać wytworzone na szkle i takie podłoże zawiera pierwszą warstwę wiążącą złożoną z kontrolowanie zwilżonego naparowanego próżniowo związku hybrydowego zawierającego grupę organochlorosilanową, najkorzystniej metylotrichlorosilan (MTCS). W innych wykonaniach ze zhybrydyzowaną warstwą mogą być chemicznie związane różne inne kombinacje pokrywających warstw hydrofobowych i oleofilowych.
Te oraz inne aspekty i korzyści staną się bardziej oczywiste po starannym zapoznaniu się z poniższym szczegółowym opisem korzystnych wykonań wynalazku.
Krótki opis załączonych rysunków
Odtąd, będą czynione odwołania do załączonych rysunków, gdzie takie same numery odnośników na różnych rysunkach oznaczają takie same elementy struktury, i gdzie:
Figura 1 jest schematyczną ilustracją techniki tworzenia hydrofobowej powłoki na podłożu według jednego z wykonań niniejszego wynalazku;
Figura 2 jest schematyczną ilustracją techniki tworzenia hydrofobowej powłoki na podłożu według innego wykonania niniejszego wynalazku;
Figura 3 jest wykresem zależności % zamglenia w funkcji % wilgotności podłoża powleczonego warstwą tlenku krzemu (SiOx); i
Figury 4A-4F przedstawiają w sposób schematyczny niektóre przykłady powleczonych podłoży szklanych, które można otrzymać zgodnie z niniejszym wynalazkiem.
Szczegółowy opis wynalazku
Zgodnie z wynalazkiem może zostać powleczone praktycznie każde podłoże które jest samonośne i posiada, lub mogą być na nim indukowane, aktywne powierzchniowe atomy wodoru. Tak więc, zgodnie z niniejszym wynalazkiem mogą zostać powleczone sztywne lub elastyczne podłoża utworzone ze szkła, tworzyw sztucznych, materiałów ceramicznych i tym podobnych. Najkorzystniej, podłożem jest szkło, przy czym szczególnie korzystne jest zwykłe sodowo-wapniowe szkło płaskie.
W jednej szczególnie korzystnej powłoce zgodnie z niniejszym wynalazkiem, warstwa wiążąca składająca się z tlenku krzemu (SiOx) jest tworzona poprzez naparowanie na podłoże związku tworzącego tlenek krzemu w kontrolowanie zwilżanym środowisku. W szczególnie korzystnej postaci wynalazku, warstwę tlenku krzemu można otrzymać na drodze reakcji związku posiadającego grupę chlorosililową, takiego jak tetrachlorek krzemu (SiCty). W innych postaciach wynalazku, warstwę wiążącą można otrzymać przez reakcję zwilżania grupy organochlorosililowej prowadzące do utworzenia shybrydyzowanej warstwy tlenku krzemo-organicznego. Grupą organochlorosililową może być trichloroalkilo- lub trichloroarylosilan taki jak metylotrichlorosilan (MTCS) lub trichlorofenylosilan (TCPS). Związki ulegają reakcji z powierzchnią szkła tak, by utworzyć warstwę spodnią zawierającą grupy SiOx lub grupy hybrydowe SiOxRy, gdzie R jest grupą organiczną o sześciu lub mniej atomach węgla. Opcjonalnie lub dodatkowo można stosować inne silany tworzące tlenek krzemu lub materiały tlenkopodobne. Na przykład, można stosować takie związki jak heksachlorodisiloksan, trichloroalkilosilan, w którym grupa alkilowa zawiera jeden do sześciu atomów węgla i może być liniowa, cykliczna lub rozgałęziona lub może być grupą aromatyczną zawierająca do sześciu atomów węgla. Wówczas, gdy stosowano tetrachlorek krzemu stwierdzono, że szczególnie skuteczne przy otrzymywaniu użytecznych powłok jest rozcieńczenie 1 części tetrachlorku krzemu 10 częściami pentanu.
Załączona figura 1 ilustruje w sposób schematyczny szczególnie korzystny sposób tworzenia powłoki hydrofobowej według niniejszego wynalazku. W tym przypadku, w jednostkowym procesie tworzenia powłoki hydrofobowej fazę gazową tetrachlorku krzemu wprowadza się do zamkniętej koPL 200 431 B1 mory w której panują warunki kontrolowanej wilgotności, co prowadzi do wiązania jednostek tlenku krzemu bezpośrednio z powierzchnią szklanego podłoża. Uwodnienie zakończonych chlorem jednostek tlenku krzemu (np. przez regulację wilgotności w komorze reakcyjnej) prowadzi do zastąpienia terminalnych atomów chloru grupami hydroksylowymi tak, że po dodatkowym kolejnym wprowadzeniu par chloroalkilosilanów takich jak dimetylodichlorosilan (DMDCS), trimetylochlorosilan (TMCS) i metylotrichlorosilan (MTCS) oraz im podobnych, i nawilżaniu w międzyczasie komory reakcyjnej, otrzymuje się trwałe hydrofobowe powłoki polidimetylosiloksanu (PDMSO) lub innego polisiloksanu. Zalecane silany, które można stosować zgodnie z niniejszym wynalazkiem są opisane wzorem ClxSiRy, gdzie x wynosi co najmniej 14, a y wynosi co najmniej 1, a R jest grupą alkilową lub arylową, która może również być grupą oleofilową, np. fluorowanym alkilem.
Dla uzyskania pożądanego końcowego rezultatu w postaci trwałej powłoki hydrofobowej na podłożu ważna jest wilgotność podczas naparowywania warstwy wiążącej tlenku krzemu. Kontrolowana wilgotność podczas naparowywania warstwy tlenku krzemu jest ponadto ważna dla uzyskania powłoki o niskim zamgleniu. Tak więc, jak to przedstawiono ogólnie na załączonej figurze 2, wilgotność podczas naparowywania warstwy wiążącej tlenku krzemu z tetrachlorku krzemu powinna być mniejsza od około 50% wilgotności względnej, a korzystnie mniejsza od około 45%. Korzystnie, wilgotność względna w komorze jest regulowana tak, by wynosiła około 40% lub mniej. Tak więc warstwa tlenku krzemu lub shybrydyzowana warstwa tlenku krzemo-organicznego będzie najkorzystniej wykazywać zamglenie (niezwierciadlane rozproszenie światła) mniejsze od około 3,0%, a zazwyczaj mniejsze od około 2,0%. Korzystnie zamglenie warstwy tlenku krzemu będzie mniejsze od około 1,5%, w szczególności mniejsze od około 0,8%.
Uważa się, że dolna granica wilgotności względnej i stąd wartości zamglenia warstwy wiążącej tlenku krzemu jest wyznaczona przez pożądaną chropowatość powierzchni. W tym aspekcie stwierdzono, że im większa jest wilgotność, tym większa jest chropowatość powierzchni powstałej warstwy wiążącej tlenku krzemu i odwrotnie. Pragnąc nie wiązać się z jakąkolwiek szczególną teorią, uważa się, że chropowatość powierzchni warstwy tlenku krzemu ma swój udział w trwałości powłok hydrofobowych otrzymanych jak przedstawiono w wynalazku, ponieważ szczyty i doliny „chropowatej warstwy wiążącej stwarzają fizyczne kieszenie o różnych rozmiarach i kształtach w których może odkładać się stosowany później chloroalkilosilan. Ponadto, „chropowata warstwa wiążąca tlenku krzemu lub hybrydowego tlenku krzemo-organicznego może dawać większe pole powierzchni, czego wynikiem jest większa gęstość chloroalkilosilanu na jednostkę powierzchni podłoża, a dzięki temu możliwa poprawa trwałości otrzymanej powłoki.
Zgodnie z niniejszym wynalazkiem stwierdzono więc, że warstwa wiążąca tlenku krzemu lub hybrydowego tlenku krzemo-organicznego korzystnie charakteryzuje się średnią kwadratową wartością (RMS) chropowatości powierzchni mniejszą niż około 6,0 nm, a korzystnie mniejszą niż około 5,0 nm. RMS chropowatości powierzchni warstwy tlenku krzemu jest jednak korzystnie większa niż około 4,0 nm. Stąd RMS chropowatości powierzchni warstwy tlenku krzemu korzystnie wynosi między około 4,0 nm i około 6,0 nm, a korzystniej między około 4,0 nm i około 5,0 nm. Zbyt duża RMS pola powierzchni jest niekorzystna, ponieważ stosunkowo duże maksima powierzchniowe, szeroko rozprzestrzenione, zaczynają ograniczać pożądany wzrost pola powierzchni. Z drugiej strony, za mała RMS powierzchni powoduje, że powierzchnia jest zbyt gładka, co oznacza niedostateczne zwiększenie pola powierzchni i/lub niedostateczną różnicę wysokości między szczytami i dolinami na powierzchni.
Użyte tu i w załączonych zastrzeżeniach terminy „średnie pole powierzchni i „RMS pola powierzchni oraz tym podobne określenia odnoszą się do miary odchylenia powierzchni od płaskiej, gładkiej powierzchni wyznaczonego za pomocą mikroskopii sił atomowych (AFM).
Warstwa PDMSO może ewentualnie być dodatkowo powleczona (lub przykryta) alkilosilanową warstwą przykrywającą. W tym sensie do utworzenia warstwy przykrywającej zgodnie z niniejszym wynalazkiem można zastosować praktycznie każdy odpowiedni alkilosilan, taki jak opisane w cytowanych wyżej opisach patentowych Stanów Zjednoczonych Ameryki nr 5328768, 5372851, 5380585 i 5580605. Warstwę przykrywającą można na przykład utworzyć poprzez naparowanie co najmniej jednego fluoroalkilochlorosilanu wybranego z grupy obejmującej CF3(CF2)5(CH2)2SiCl(CH3)2 i (CF3)2FC-O(CH2)3SiCl2CH3.
Inne szczególnie korzystne wykonanie niniejszego wynalazku polega na jednoczesnym naparowaniu związku zawierającego grupę chlorosililową i związku alkilochlorosilanowego w celu uzyskania zasadniczo usieciowanego PMDSO. Ta warstwa usieciowanego PMDSO może zostać utworzona bezpośrednio na powierzchni podłoża lub na uprzednio nałożonej, w sposób opisany poprzednio,
PL 200 431 B1 warstwie wiążącej tlenku krzemu lub shybrydyzowanej warstwie wiążącej tlenku krzemo-organicznego. Warstwę usieciowanego PMDSO najkorzystniej przykrywa się jedną lub większą liczbą warstw utworzonych przez pojedyncze naparowanie alkilochlorosilanów i/lub związków alkilochlorofluorosilanowych (tzn. „alkilofluorosilanowych). Na przykład, szczególnie pożądane właściwości pod względem hydrofobowości i trwałości osiągnięto przez jednoczesne naparowanie tetrachlorku krzemu i DMDCS z uzyskaniem na podłożu warstwy spodniej, przykrytej następnie warstwą związku alkiiofluorosilanowego.
Najkorzystniej stosunek objętości jednocześnie naparowywanych związku chlorosililowego i związku alkilochlorosilanowego wynosi między około 1:1 do około 1:30, jeszcze korzystniej między około 1:5 do około 1:15. Szczególnie korzystny stosunek (zwłaszcza przy jednoczesnym naparowywaniu tetrachlorku krzemu i DMDCS) wynosi około 1:10.
Według innego szczególnego wykonania niniejszego wynalazku, w celu uzyskania użytecznej powłoki hydrofobowej na powierzchnię szkła naparowuje się jednocześnie tetrachlorek krzemu (SiCl4) i trimetylochlorosilan (TMCS) lub metylotrichlorosilan (MTCS). Najkorzystniej SiCl4 i TMCS naparowuje się jako mieszaninę o stosunku SiCL do TMCS w zakresie między około 4,0:0,5 do około 4,0:1,5, a korzystniej około 4,0:1,0 (na przykład między około 4,0:0,9 do około 4,0:1,1). Jak pokrótce wspomniano wyżej, w mieszaninie z SiCR można zastosować alkilochlorosilany inne niż TMCS, na przykład dimetylodichlorosilan i metylotrichlorosilan.
Ponadto, warstwy utworzone przez jednoczesne naparowanie SiCR i alkilochlorosilanu można, jeśli to pożądane, przykryć w opisany wyżej sposób alkilochlorosilanem. W tym przypadku, gdy SiCR i TMCS są naparowane jednocześnie, odpowiednią warstwą przykrywającą może być naparowana warstwa trietylochlorosilanu (TECS) (tzn. taka, by tworzyła warstwę przykrywającą zawierającą trietylosilan).
Załączona figura 2 przedstawia schematycznie zalecany sposób tworzenia usieciowanej warstwy PMDSO zgodnie z niniejszym wynalazkiem. W tym przypadku tetrachlorek krzemu i DMDCS naparowuje się jednocześnie w zamkniętej komorze o regulowanej wilgotności z utworzeniem na szklanym podłożu warstwy sieciowanego PMDSO. Następnie w komorze można przywrócić wilgotność i wprowadzić do niej pary TMCS, który służy do przykrycia warstwy usieciowanego PMDSO.
Figury 4A-4F przedstawiają kilka przykładowo powleczonych podłoży szklanych, które można wykonać według niniejszego wynalazku. W tym przypadku, dla łatwego zrozumienia, każda z warstw przedstawionych na figurach 4A-4F dotyczy par prekursora, a nie produktów reakcji tych par. Jest również zrozumiałe, że przed naparowaniem innego związku w razie potrzeby w komorze przywraca się wilgotność. Tak więc na przykład, patrząc na zewnątrz od powierzchni szklanego podłoża, załączona figura 4A przedstawia naparowana warstwę tetrachlorku krzemu jako warstwę wiążącą, po której następują kolejno naparowane warstwy DMDCS i TMCS. Figura 4B przedstawia warstwę dolną złożoną z jednocześnie naparowanych tetrachlorku krzemu i DMDCS, po której występuje naparowana oddzielnie warstwa TMCS. Figura 4C jest podobna do powłoki z figury 4B, lecz obejmuje warstwę przykrywającą fluoroalkilochlorosilanu (FAS). Figura 4D jest podobna do figury 4A, lecz obejmuje warstwę jednocześnie naparowanych tetrachlorku krzemu i DMDCS wprowadzoną między warstwę wiążącą naparowanego tetrachlorku krzemu i warstwę naparowanego TMCS. Figura 4E jest podobna do figury 4D, lecz obejmuje warstwy DMDCS i TMCS kolejno naparowane na jednocześnie naparowaną warstwę tetrachlorku krzemu i DMDCS. Figura 4F jest podobna do figury 4D, lecz obejmuje warstwę hydrofobową utworzoną przez jednoczesne naparowanie tetrachlorku krzemu i TMCS. Na figurze 4F jest przedstawiona również ewentualna warstwa przykrywająca, będąca naparowaną warstwą trietylochlorosilanu (TECS), lecz taka warstwa przykrywająca może być, jeśli to pożądane, pominięta.
W innych korzystnych wykonaniach podłoże może mieć na powierzchni pierwszą powłokę hydrofobową z naparowanego materiału krzemoorganicznego, który wytworzy hydrofobową powierzchnię shybrydyzowanej warstwy tlenku krzemoorganicznego taką jak ta pochodząca z tetrachlorku krzemu. W jeszcze innych korzystnych wykonaniach posiadających na powierzchni pierwszą powłoką hydrofobową, mogą być zastosowane dodatkowe naparowane warstwy tetrachlorku krzemu, dimetylodichlorosilanu i chlorotrimetylosilanu lub ich mieszanin. Gdy do wytworzenia naparowanych na powierzchni powłok stosuje się mieszaniny tych materiałów, stosunki różnych składników mogą być różne. Na przykład, stosunki dwuskładnikowych i trójskładnikowych mieszanin silanów mogą wynosić, zależnie od żądanych właściwości, w zakresie od równomolowych ilości, które wprowadza się do reaktora, do ułamków każdego z nich.
PL 200 431 B1
Grubości różnych warstw otrzymanych zgodnie z niniejszym wynalazkiem nie są szczególnie istotne, zakładając, że uzyskano żądaną hydrofobowość i trwałość. Tak więc można uzyskać grubość warstwy w zakresie między około1 nm do około 1000 nm (10 do około 10000 Angstremów), a zwykle między około 2 nm do około 500 nm (20 do około 5000 Angstremów).
Pokryte podłoża według niniejszego wynalazku będą wykazywać kąt pochylenia (wielkość kropli 30 μΙ) 35° lub mniej, a zwykle 30° lub mniej. Dla niektórych rozwiązań niniejszego wynalazku możliwe do otrzymania są skrajnie małe kąty pochylenia około 20° lub mniej, lub nawet 10° lub mniej. Powłoki zgodnie z niniejszym wynalazkiem są również bardzo trwałe. Tak więc, pokryte podłoża według niniejszego wynalazku po 300 cyklach ścierania Tabera będą wykazywać kąt zwilżania większy od 65°, a zwykle większy od około 70°. Nawet po 1000 cyklach Tabera, pokryte powierzchnie według niniejszego wynalazku będą wykazywać kąt zwilżania większy od około 60°, zwykle między (lub od) około 65° do około 75°.
Pokryte podłoża według niniejszego wynalazku można dogodnie wytwarzać stosując zamkniętą komorę reakcyjną tak zbudowaną, by miała otwór wlotowy dla par chemicznych i otwór opróżniający umożliwiający opróżnianie komory. Przed wprowadzeniem do komory reakcyjnej substraty starannie się czyści i przemywa. Wilgotność w komorze reguluje się poprzez wprowadzenie pary wodnej w zależności od nanoszonych par chemikaliów. Tak więc, w komorze reakcyjnej stosuje się zazwyczaj wilgotność większą od około 10% i mniejszą od około 80%. W komorze reakcyjnej podczas naparowywania warstwy dolnej i warstwy (warstw) przykrywającej(ych) utrzymuje się najkorzystniej warunki temperatury otoczenia (20°C-25°C) i ciśnienia atmosferycznego (około 1013,25 hPa - ciśnienie 1,0 atmosfery).
Niniejszy wynalazek będzie lepiej zrozumiany przez odwołanie się do poniższych, nieograniczających go przykładów.
P r z y k ł a d y
Podłożami stosowanymi do oceny w poniższych przykładach były czyste wyżarzone 3 mm szkła płaskie. Ocenie poddawano tylko powłoki nakładane na odkrytą stronę podłoża. Podłoża powlekano w polipropylenowej komorze reakcyjnej o wymiarach w przybliżeniu S 406,4 mm x W 355,6 mm x G 203,2 mm (S 16 cali x W 14 cali x G 8 cali). Komora miała szklaną pokrywę umożliwiającą obserwację wzrokową procesu. Suche powietrze, wilgotne powietrze lub suche powietrze nasycone parami prekursora powłoki wprowadzano przy jednym końcu komory i usuwano przy drugim.
Szklane podłoża czyszczono, a następnie umieszczano w komorze reakcyjnej równolegle do przepływu gazu. Wilgotne powietrze wytwarzano barbotując powietrze wodą w zasadniczo stałej temperaturze 40°C. Wilgotność w komorze utrzymywano na zasadniczo stałym poziomie poprzez dodawanie suchego powietrza. Prekursory reakcji wprowadzano w podobny sposób, to znaczy przed wprowadzeniem do komory poprzez przepuszczenie suchego powietrza nad ciekłym prekursorem. Po zakończeniu każdego z etapów procesu nieprzereagowane opary wyprowadzano z komory reakcyjnej na co najmniej 5 minut przed usunięciem powleczonych podłoży.
Niektóre z ocenianych podłoży poddawano dodatkowej obróbce powierzchniowej przez nałożenie na powierzchnię ciekłego chlorofluoroalkilosilanu (FAS). Związki FAS oznaczono jako FAS(A) związek o wzorze CF3(CF2)5 (CH2)2SiCl (CH3)2 i FAS (B) związek o wzorze (CF3)2FC-O(CH2)3SiCl2CH3.
Nieprzereagowany materiał usuwano przez przemycie powierzchni n-butanolem, a następnie przez ręczne polerowanie czystą tkaniną lub ręcznikiem papierowym.
Podłoża oceniano stosując poniższe metody i techniki badawcze:
Kąt zwilżania: Postępujący kąt zwilżania mierzono w różnych miejscach pokrytego podłoża. Zarejestrowana wartość przedstawia wartość średnią wszystkich odczytów. Odporność na ścieranie: Odporność na ścieranie oceniano na podstawie zmiany kąta zwilżania w miejscu ścierania. Powłokę ścierano metodą Tabera stosując tarczę, ścierną CS-10F i obciążenie 500 g. Przed każdą próbą ścierania w tarczach CS-10F odświeżano powierzchnię (25 cykli kamieniem odświeżającym). Po 300 cyklach podłoże wyjmowano z urządzenia ścierającego i czyszczono. Ślad Tabera czyszczono przez zanurzenie podłoża na 5-10 sekund w ciepłej wodzie destylowanej (40-45°C). Ślad Tabera wycierano czystymi ręcznikami papierowymi marki Preference. Następnie podłoże przemywano wodą destylowaną o temperaturze pokojowej. Badaną powierzchnię suszono sprężonym powietrzem. Po pomiarze kąta zwilżania, podłoże poddawano ścieraniu przez dodatkowych 700 cykli. Podłoża czyszczono jak poprzednio i ponownie mierzono kąt zwilżania.
Kąt pochylenia: Pokryte podłoże umieszczano na przyrządzie który mógł pochylać podłoże i rejestrować kąt tego pochylenia. Na badanej powierzchni umieszczano delikatnie 30 mikrolitrową kroplę wody destylowanej przy początkowym kącie pochylenia 0°. Kąt pod którym powierzchnia była pochy8
PL 200 431 B1 lona zwiększano periodycznie o inkrement 1° do momentu spłynięcia kropli wody z powierzchni. Kąt powierzchni w tym momencie rejestrowano jako kąt pochylenia.
P r z y k ł a d I (porównawczy)
Szklane podłoże oczyszczono stosując następującą procedurę: Podłoże płukano najpierw wodą wodociągową. Na wilgotną gąbkę naniesiono środek czyszczący BON AMI™ i powierzchnię czyszczono gąbką przy nacisku około 1,36 do 2,27 kg (3 do 5 funtów), po czym podłoże ponownie płukano wodą wodociągową. Do zwilżenia powierzchni użyto mydło LIQUINOX™, które rozcieńczono w stosunku 1 część mydła na 100 części wody destylowanej. Powierzchnię oczyszczono mydłem i miękką szczotką również przy nacisku 1,36 do 2,27 kg (3 do 5 funtów). Po wystarczającym oczyszczeniu powierzchnie płukano najpierw wodą wodociągową, a następnie wodą destylowaną. Do oceny czystości powierzchni szklanej wykorzystano jej zwilżenie po czyszczeniu. Podłoże umieszczono w uchwycie i przedmuchano do sucha stosując osuszone sprężone powietrze.
Oczyszczone podłoże umieszczono następnie w komorze reakcyjnej równolegle do przepływu gazu. Wilgotność komory reakcyjnej doprowadzono do 78%, po czym taką wilgotność utrzymywano przez 5 minut. Po 30 sekundowym okresie stabilizacji przez dodatkowe 5 minut do komory reakcyjnej wprowadzano dimetylodichlorosilan (DMDCS). Po dodatkowym 30 sekundowym okresie stabilizacji z komory reakcyjnej odprowadzano gazy przez 10 minut, po czym wyjmowano podłoże z komory. Nadmiar materiału usuwano n-butanolem, a powierzchnię polerowano czystym ręcznikiem papierowym.
P r z y k ł a d II (porównawczy)
Szklane podłoże oczyszczono według przykładu I. Podłoże umieszczono w uchwycie i wysuszono przy użyciu sprężonego osuszonego powietrza. Oczyszczone podłoże umieszczono w komorze reakcyjnej równolegle do przepływu gazu. Wilgotność w komorze doprowadzono do 78%, po czym w komorze utrzymywano tą podwyższoną wilgotność przez 5 minut. Po 30 sekundowym okresie stabilizacji do komory reakcyjnej wprowadzano przez 5 minut dimetylodichlorosilan (DMDCS). Następnie komorę przedmuchano i po drugim okresie stabilizacji komorę reakcyjną doprowadzono do wilgotności 81%. Wilgotność utrzymywano przez 5 minut, po czym podłoże usunięto z komory. Na podłoże bezpośrednio po wyjęciu z komory i po usunięciu nadmiaru silanu przy użyciu papierowego ręcznika naniesiono ręcznie cienką warstwę FAS (A). Podłoże pozostawiono na 30 do 90 sekund. Następnie nadmiar materiału usunięto n-butanolem, a powierzchnię wypolerowano czystym ręcznikiem papierowym.
P r z y k ł a d III (porównawczy)
Szklane podłoże oczyszczono według przykładu I. Podłoże umieszczono w uchwycie i wysuszono przy użyciu suszonego sprężonego powietrza. Oczyszczone podłoże umieszczono w komorze reakcyjnej równolegle do przepływu gazu. Wilgotność w komorze doprowadzono do 14%, po czym utrzymywano tę podwyższoną wilgotność przez 5 minut. Po 30 sekundowym okresie stabilizacji do komory reakcyjnej dodawano w ciągu 5 minut tetrachlorek krzemu. Następnie komorę przedmuchano i po drugim okresie stabilizacji komorę reakcyjną doprowadzono do 80% wilgotności. Wilgotność utrzymywano przez 5 minut, po czym podłoże usunięto z komory. Na podłoże bezpośrednio po wyjęciu z komory i po usunięciu nadmiaru silanu przy użyciu papierowego ręcznika naniesiono ręcznie cienką warstwę FAS (A). Podłoże pozostawiono na 30 do 90 sekund. Następnie nadmiar materiału usunięto n-butanolem; a powierzchnię wypolerowano czystym ręcznikiem papierowym.
P r z y k ł a d IV (wynalazek)
Szklane podłoże czyszczono postępując według poniższej procedury. Na powierzchnię po obu stronach nałożono środek czyszczący WINDEK™ z amoniakiem. Mokrą powierzchnię przetarto ręcznikiem papierowym. Następnie podłoże polerowano czystym ręcznikiem papierowym, usuwając cały nadmiar środka czyszczącego. Oczyszczone podłoże umieszczono następnie w komorze reakcyjnej, równolegle do przepływu gazu. Wilgotność w/w komorze doprowadzono do 14%, po czy utrzymywano ją przez 5 minut. Po 30-sekundowym okresie stabilizacji, do komory reakcyjnej wprowadzono na dodatkowych 5 minut tetrachlorek krzemu. Następnie komorę przedmuchano i po drugim okresie stabilizacji komorę reakcyjną ponownie nawilżono do 38%. Po jeszcze jednym 30-sekundowym okresie stabilizacji, do komory na łącznie 5 minut wprowadzono dimetylodichlorosilan (DMDCS). Po końcowym 30-sekundowym okresie stabilizacji, gazy usuwano z komory przez 10 minut, po czym wyjęto z niej podłoże. Nadmiar materiału usunięto n-butanolem i powierzchnię polerowano czystym ręcznikiem papierowym.
P r z y k ł a d V (wynalazek)
Szklane podłoże czyszczono postępując według poniższej procedury. Podłoże przemyto wodą wodociągową. Mokrą powierzchnię potraktowano mydłem LIQUINOX™, które rozcieńczono w stosunPL 200 431 B1 ku jedna część mydła na 100 części wody destylowanej i podłoże umyto mydłem i miękką szczotką stosując nacisk 1,36 do 2,27 kg (3 do 5 funtów). Po stosownym okresie mycia, podłoże przemyto najpierw wodą wodociągową, a następnie wodą destylowaną. Do określenia czystości powierzchni szkła wykorzystano zwilżenie powierzchni podłoża po myciu. Podłoże umieszczono w uchwycie i przedmuchano do sucha za pomocą suszonego sprężonego powietrza. Oczyszczone podłoże umieszczono w komorze reakcyjnej równolegle do przepływu gazu. Wilgotność w komorze doprowadzono do 14%, a następnie w komorze utrzymywano tę wilgotności przez 5 minut. Po 30-sekundowym okresie stabilizacji, do komory reakcyjnej przez 5 minut wprowadzano mieszaninę 5 części dimetylodichlorosilanu (DMDCS) i jednej części tetrachlorku krzemu. Po dodatkowym 30-sekundowym okresie stabilizacji, gazy odprowadzono z komory w ciągu 10 minut, po czym podłoże wyjęto z komory. Dodano FAS(B) i po 60-90 sekundach szklane podłoże umyto n-butanolem.
P r z y k ł a d VI (wynalazek)
Szklane podłoże oczyszczono według przykładu I. Oczyszczone podłoże umieszczono w komorze reakcyjnej równolegle do przepływu gazu. Wilgotność w komorze doprowadzono do 14%, a następnie w komorze utrzymywano tą wilgotność przez 5 minut. Po 30-sekundowym okresie stabilizacji, do komory reakcyjnej przez dodatkowych 5 minut wprowadzano tetrachlorek krzemu. Następnie komorę przedmuchano i po drugim okresie stabilizacji w komorze reakcyjnej ponownie wytworzono wilgotność 14% i utrzymywano ją przez 5 minut. Po 30-sekundowym okresie stabilizacji, do komory reakcyjnej przez 5 minut wprowadzano mieszaninę 5 części dimetylodichlorosilanu i jednej części tetrachlorku krzemu. Komorę ponownie przedmuchano i pozostawiono do stabilizacji na 30 dodatkowych sekund i wilgotność w komorze doprowadzono do 77%. Po 5 minutach przy wilgotności 77%, podłoże wyjęto z komory. Bezpośrednio po wyjęciu z komory, przy użyciu ręcznika papierowego naniesiono ręcznie na nadmiar silanu na podłożu cienką warstwę FAS(A). Podłoże pozostawiono na 30 do 90 sekund. Następnie nadmiar materiału usunięto za pomocą n-butanolu i powierzchnię polerowano czystym ręcznikiem papierowym.
P r z y k ł a d VII (wynalazek)
Szklane podłoże oczyszczono według przykładu I. Oczyszczone podłoże umieszczono w komorze reakcyjnej równolegle do przepływu gazu. Wilgotność w komorze doprowadzono do 14%, a następnie w komorze utrzymywano tą wilgotność przez 5 minut. Po 30-sekundowym okresie stabilizacji, do komory reakcyjnej przez dodatkowych 5 minut wprowadzano tetrachlorek krzemu. Następnie komorę przedmuchano i po około 30-sekundowym okresie stabilizacji w komorze reakcyjnej ponownie wytworzono wilgotność 14% i utrzymywano ją przez 5 minut. Po kolejnym 30-sekundowym okresie stabilizacji do komory reakcyjnej przez 5 minut wprowadzano mieszaninę 5 części dimetylodichlorosilanu i jednej części tetrachlorku krzemu. Komorę przewietrzono i ponownie wilgotność w niej doprowadzono do 59% i utrzymywano przez 5 minut, po czym przez 5 minut wprowadzano pary DMDCS. Następnie, komorę przewietrzono i ponownie pozostawiono do ustabilizowania na 30 sekund i wilgotność w komorze ustalono na 77%. Po 5 minutach przy wilgotności 77% podłoże wyjęto z komory. Bezpośrednio po wyjęciu z komory przy użyciu ręcznika papierowego na nadmiar silanu na podłożu naniesiono ręcznie cienką warstwę FAS(B). Podłoże pozostawiono na 30 do 90 sekund. Następnie nadmiar materiału usunięto za pomocą n-butanolu i powierzchnię polerowano czystym ręcznikiem papierowym.
Pokryte podłoża z płaskiego szkła z przykładów I do VII badano na odporność na ścieranie i kąt pochylenia. Dane znajdują się w tabeli A poniżej.
T a b e l a A
Przykład nr | Kąt zwilżania po cyklach Tabera | Kąt pochylenia (kropla 30 μΙ) | ||
0 | 300 | 1000 | ||
1 | 2 | 3 | 4 | 5 |
I | 101° | 56° | 43° | 26° |
II | 117° | 52° | 43° | 33° |
III | 106° | 50° | 45° | 24° |
IV | 100° | 70° | 67° | 27° |
V | 107° | 74° | 66° | 33° |
PL 200 431 B1 cd. tabeli
1 | 2 | 3 | 4 | 5 |
VI | 108° | 74° | 67° | 19° |
VII | 98° | 84° | 67° | 10° |
Jak widać z powyższych danych, porównanie przykładów I i IV wskazuje, że wstępne naparowanie warstwy krzemionki po którym zostaje naparowana warstwa wierzchnia DMDCS prowadzi do zwiększenia trwałości w porównaniu do samej warstwy DMDCS. Ponadto, jednoczesne naparowanie DMDCS i SiCl4 (prowadzące do utworzenia warstwy spodniej usieciowanego polidimetylosiloksanu (PDMSO)), które jest pokryte warstwą naniesionego w postaci cieczy FAS, skutkuje zwiększoną trwałością w porównaniu z warstwą naparowanego samego DMDCS. (Porównaj przykłady V i I). Dane z przykładów VI i VII wskazują, że jednoczesne naparowanie DMDCS i SiCL przykrytego naniesionym w postaci cieczy FAS, daje w wyniku nieoczekiwanie mniejsze kąty pochylenia.
P r z y k ł a d VIII i IX (porównawcze)
Powtórzono odpowiednio przykłady I i II, z tym wyjątkiem, że w przykładzie IX jako warstwę przykrywającą zamiast FAS(A) zastosowano TMCS. Wyniki badań ścieralności metodą Tabera i pomiaru kąta pochylenia znajdują się w tabeli B zamieszczonej poniżej.
P r z y k ł a d X (wynalazek)
Podłoże szklane pokryto w zamkniętej komorze, do której wprowadzono będące prekursorami związki w fazie gazowej. Konkretnie, w celu otrzymania pokrytego podłoża szklanego o strukturze przedstawionej na figurze 4A stosowano poniższą preparatykę w podanej niżej kolejności. Po wprowadzeniu par każdego związku komorę pozostawiano do ustabilizowania na około 5 minut. Dodatkowo przed wprowadzeniem nowych oparów komorę każdorazowo przedmuchiwano pod próżnią tak, że można było ustalać w komorze podaną wilgotność.
(1) 20% WW, SiCl4 w pentanie (2) 60% WW, DMDCS (3) 60% WW, TMCS.
Wyniki badań ścieralności metodą Tabera i kąta pochylenia znajdują się w tabeli B zamieszczonej poniżej.
P r z y k ł a d XI (wynalazek)
W celu uzyskania pokrytego podłoża szklanego przedstawionego ogólnie na figurze 4B powtórzono przykład X stosując poniższą kolejność preparatyki:
(1) 40% WW, jednocześnie DMDCS i SiCL (2) 60% WW, TMCS
Wyniki badań ścieralności metodą Tabera i kąta pochylenia znajdują się w tabeli B zamieszczonej poniżej.
P r z y k ł a d XII (wynalazek)
Powtórzono przykład XI z tym wyjątkiem, że dla otrzymania pokrytego podłoża przedstawionego ogólnie na figurze 4C zamiast zastosowania naparowanego TMCS naniesiono ręcznie FAS(A). Wyniki badań ścieralności metodą Tabera i kąta pochylenia znajdują się w tabeli B zamieszczonej poniżej.
P r z y k ł a d XIII (wynalazek)
W celu uzyskania pokrytego podłoża szklanego przedstawionego ogólnie na figurze 4D powtórzono przykład X stosując poniższą kolejność preparatyki:
(1) 20% WW, SiCl4 w pentanie (2) 40% WW, jednocześnie DMDCS i SiCL (3) 60% WW, TMCS.
Wyniki badań ścieralności metodą Tabera i kąta pochylenia znajdują się w tabeli B zamieszczonej poniżej.
P r z y k ł a d XIV (wynalazek)
W celu uzyskania pokrytego podłoża szklanego przedstawionego ogólnie na figurze 4E powtórzono przykład X stosując poniższą kolejność preparatyki:
(1) 20% WW, SiCl4 w pentanie (2) 40% WW, jednocześnie DMDCS i SiCL (3) 60% WW, DMDCS (4) 60% WW, TMCS
PL 200 431 B1
Wyniki badań ścieralności metodą Tabera i kąta pochylenia znajdują się w tabeli B poniżej. T a b e l a B
Przykład nr | Kąt zwilżania po cyklach Tabera | Kąt pochylenia (kropla 30 μΙ) | ||
0 | 300 | 1000 | ||
VIII | 115° | 54° | 46° | 38° |
IX | 118° | 61° | 55° | 28° |
X | 106° | 91° | 74° | 10° |
XI | 117° | 71° | 68° | 29° |
XII | 118° | 70° | 69° | 10° |
XIII | 120° | 71° | 74° | 40° |
XIV | 107° | 86° | 75° | 12° |
Dane zamieszczone w tabeli B wskazują również, że powłoki zgodnie z niniejszym wynalazkiem zapewniają lepszą hydrofobowość i trwałość.
P r z y k ł a d XV (wynalazek)
Zielone samochodowe szkło okienne składające się z laminowanej warstwy PVB o grubości 0,76 mm między parą warstw szkła o grubości 2,1 mm pokrywano w taki sam sposób jak w przykładzie X, stosując w komorze 20% WW i mieszaninę SiCl4 z TMCS w stosunku odpowiednio 4:1, z użyciem pentanu jako nośnika. Konkretnie, do naparowania na górną warstwę samochodowego laminatu szklanego użyto mieszaninę 100 ml pentanu, 5 ml SiCL i 1,25 ml TMCS. Stwierdzono, że otrzymane pokryte podłoże szklane ma następujące właściwości optyczne: przepuszczalność około 79,9% i zamglenie około 0,24% oraz właściwości barwne: L*=90,8, a*=-6,8 i b*=l,6. Pokryte podłoże szklane poddano badaniom Tabera na zużycie i zmierzono kąt pochylenia a wyniki przedstawiono poniżej w tabeli C.
T a b e l a C
Kąt zwilżania po cyklach Tabera | Kąt nachylenia | ||||||
0 | 300 | 1000 | 2000 | 3000 | 4000 | (Kropla 10 μΙ) | (Kropla 30 μΙ) |
88,8° | 78,1° | 70,1° | 68,5° | 67,0° | 64,5° | 40° | 38° |
Jak wykazują dane zamieszczone w tabeli C, powłoka jest zadowalająca pod względem optycznym i wykazuje wyjątkowo trwałą hydrofobowość (czego dowodem są wartości kąta zwilżania po wielu tysiącach cykli Tabera).
P r z y k ł a d XVI (wynalazek)
Zielone szkło samochodowe przygotowano jak w przykładzie XV (wynalazek) z dodatkową warstwą naparowanej mieszaniny DMDCS i SiCL i kolejno dodanymi warstwami odpowiednio DMDCS i TMCS. Kąty zwilżania po cyklach Tabera i kąty pochylenia zestawiono w tabeli D poniżej.
T a b e l a D
Kąt zwilżania po cyklach Tabera | Kąt nachylenia | ||||||
0 | 300 | 1000 | 2000 | 3000 | 4000 | (Kropla 10 μΙ) | (Kropla 30 μ) |
107° | 83,2° | 76,9° | 72,5° | 70,4° | 68,3° | 18° | 13° |
P r z y k ł a d XVI (wynalazek)
Szklane podłoże najpierw myje się wodą wodociągową i mydłem LIQUINOX™ rozcieńczonym w stosunku jedna część mydła na 100 części wody destylowanej. Roztwór nanosi się na wilgotną powierzchnię podłoża i myje miękką szczotką, stosując nacisk 1,36 do 2,27 kg (3 do 5 funtów). Powierzchnię spłukuje się najpierw wodą wodociągową, a następnie wodą destylowaną. Powierzchnię podłoża uważa się za czystą, gdy woda destylowana spływa swobodnie. Oczyszczone podłoże umieszcza się w uchwycie i przedmuchuje do sucha stosując suszone sprężone powietrze. Oczyszczone podłoże umieszcza się w komorze reakcyjnej równolegle do przepływu gazu. Po okresie za12
PL 200 431 B1 pewniającym ustalenie się wilgotności w komorze reakcyjnej, około 30 sekund, do komory reakcyjnej wprowadza się na około 5 minut tetrachlorek krzemu (SiCl4) w celu utworzenia pierwszej warstwy tlenku krzemu, warstwy SiOx o RMS chropowatości powierzchni co najmniej 4 ąm, a korzystnie mniejszym niż około 6 ąm. Następnie komorę przedmuchuje się i ponownie nawilża do co najmniej około 14%. Po 30-sekundowym okresie stabilizacji, do komory na łącznie 5 minut wprowadza się w równomolowych ilościach (jedna część na jedną część) dimetylodichlorosilan (DMDCS-SiCl2Me2) i metylotrichlorosilan (MTCS). Wilgotność w komorze reakcyjnej doprowadza się do około 14% i następnie utrzymuje się stosunkowo stałą wilgotność przez około 5 minut do utworzenia w tym czasie usieciowanej warstwy. Początkowy postępujący kąt zwilżania jest większy niż 60° i większy niż 45° po 300 cyklach Tabera.
P r z y k ł a d XVII (wynalazek)
Podłoże szklane czyści się stosując procedurę z przykładu XVI. Oczyszczone podłoże umieszcza się w uchwycie i przedmuchuje do sucha stosując suszone sprężone powietrze. Oczyszczone podłoże umieszcza się w komorze reakcyjnej równolegle do przepływu gazu. Po okresie około 30 sekund zapewniającym ustalenie się wilgotności w komorze reakcyjnej do komory reakcyjnej wprowadza się na około 5 minut tetrachlorek krzemu (SiCU) w celu utworzenia pierwszej warstwy tlenku krzemu, SiOx, o RMS chropowatości powierzchni co najmniej 4 ąm, a korzystnie mniejszym niż około 6 ąm. Następnie komorę przedmuchuje się i ponownie nawilża do co najmniej około 14%. Po 30-sekundowym okresie stabilizacji, do komory na łącznie 5 minut wprowadza się dimetylodichlorosilan (DMDCS - SiCl2Me2) i metylotrichlorosilan w stosunku DMDCS do MTCS około 9 części do 1 części. Wilgotność w komorze reakcyjnej doprowadza się do około 14% i następnie utrzymuje się stosunkowo stałą wilgotność przez około 5 minut do utworzenia w tym czasie usieciowanej warstwy. Następnie komorę reakcyjną opróżnia się i wyjmuje się z niej pokryte podłoże. Początkowy postępujący kąt zwilżania jest większy od 70° i większy od 55° po 300 cyklach Tabera.
P r z y k ł a d XVIII (wynalazek)
Podłoże szklane czyści się stosując procedurę z przykładu XVI. Oczyszczone podłoże umieszcza się w uchwycie i przedmuchuje do sucha stosując suszone sprężone powietrze. Oczyszczone podłoże umieszcza się w komorze reakcyjnej równolegle do przepływu gazu. Po okresie około 30 sekund zapewniającym ustalenie się wilgotności w komorze reakcyjnej do komory reakcyjnej wprowadza się na około 5 minut tetrachlorek krzemu (SiCU) w celu utworzenia pierwszej warstwy tlenku krzemu, SiOx, o RMS chropowatości powierzchni co najmniej 4 nm, a korzystnie mniejszym niż około 6 nm. Następnie komorę przedmuchuje się i ponownie nawilża do co najmniej około 14%. Po 30-sekundowym okresie stabilizacji, do komory na łącznie 5 minut wprowadza się dimetylodichlorosilan (DMDCS SiChMe2) i metylotrichlorosilan (MTCS - SiC^CH) w stosunku DMDCS do MTCS około 3 części do 1 części wagowo. Wilgotność w komorze reakcyjnej doprowadza się do około 14% i następnie utrzymuje się stosunkowo stałą wilgotność przez około 5 minut do utworzenia w tym czasie usieciowanej warstwy. Następnie komorę reakcyjną opróżnia się i wyjmuje z niej pokryte podłoże. Początkowy postępujący kąt zwilżania jest większy od 70° i większy od 55° po 300 cyklach Tabera.
P r z y k ł a d XIX (wynalazek)
Podłoże szklane czyści się stosując procedurę z przykładu XVI. Oczyszczone podłoże umieszcza się w uchwycie i przedmuchuje do sucha stosując suszone sprężone powietrze. Oczyszczone podłoże umieszcza się w komorze reakcyjnej równolegle do przepływu gazu. Po okresie około 30 sekund zapewniającym ustalenie się wilgotności w komorze reakcyjnej do komory reakcyjnej wprowadza się na około 5 minut tetrachlorek krzemu (SiCU) dla utworzenia pierwszej warstwy SiOx o RMS chropowatości powierzchni co najmniej 4 nm, a korzystnie mniejszym niż około 6 nm. Następnie komorę przedmuchuje się i ponownie nawilża do co najmniej około 14%. Po 30-sekundowym okresie stabilizacji, do komory na łącznie 5 minut wprowadza się dimetylodichlorosilan (DMDCS -SiC^Me2) i metylotrichlorosilan (MTCS - SiClaCHa) w stosunku DMDCS do MTCS około 1 do 3 części wagowo. Wilgotność w komorze reakcyjnej doprowadza się do około 14% i następnie utrzymuje się stosunkowo stałą wilgotność przez około 5 minut do utworzenia w tym czasie usieciowanej warstwy. Po dodatkowym co najmniej 30-sekundowym okresie stabilizacji do komory reakcyjnej wprowadza się na dodatkowych pięć minut dodatkowy metylotrichlorosilan (DMDCS) dla uzyskania ostatniej warstwy przykrywającej. Po nałożeniu ostatniej powłoki komorę reakcyjną opróżnia się i wyjmuje z niej pokryte podłoże. Początkowy postępujący kąt zwilżania jest większy od 105° i większy od 65° po 300 cyklach Tabera.
PL 200 431 B1
P r z y k ł a d XX (wynalazek)
Podłoże szklane czyści się stosując procedurę z przykładu XVI. Oczyszczone podłoże umieszcza się w komorze reakcyjnej równolegle do przepływu gazu. Po okresie około 30 sekund zapewniającym ustalenie się wilgotności w komorze reakcyjnej do komory reakcyjnej wprowadza się na około 5 minut tetrachlorek krzemu (SiCl4) w celu utworzenia pierwszej warstwy SiOx o RMS chropowatości powierzchni co najmniej 4 um, a korzystnie mniejszym niż około 6 μίΓ. Następnie komorę przedmuchuje się i ponownie nawilża do co najmniej około 14%. Po 30-sekundowym okresie stabilizacji, do komory na łącznie 5 minut wprowadza się w równomolowych ilościach dimetylodichlorosilan (DMDCS - SiC^Meg) i metylotrichlorosilan (MTCS - SiCkC—,) oraz tetrachlorek krzemu (SiCty). Wilgotność w komorze reakcyjnej doprowadza się do około 14% i następnie utrzymuje się stosunkowo stałą wilgotność przez około 5 minut. Po nałożeniu ostatniej powłoki komorę reakcyjną opróżnia się. po czym wyjmuje się podłoże z komory. Początkowy postępujący kąt zwilżania jest większy od 60° i większy od 45° po 300 cyklach Tabera.
P r z y k ł a d XXI (wynalazek)
Podłoże szklane czyści się stosując procedurę z przykładu XVI. Oczyszczone podłoże umieszcza się w komorze reakcyjnej równolegle do przepływu gazu. Po okresie około 30 sekund zapewniającym ustalenie się wilgotności w komorze reakcyjnej do komory reakcyjnej wprowadza się na około 5 minut tetrachlorek krzemu (SiCty) w celu utworzenia pierwszej warstwy o RMS chropowatości powierzchni co najmniej 4 um, a korzystnie mniejszym niż około 6 um. Następnie komorę przedmuchuje się i ponownie nawilża do co najmniej około 14%. Po 30-sekundowym okresie stabilizacji. do komory na łącznie 5 minut wprowadza się w równomolowych ilościach dimetylodichlorosilan (DMDCS - SiC^Meg) i metylotrichlorosilan (MTCS - SiCl3C-3) oraz tetrachlorek krzemu (SiCty). Wilgotność w komorze reakcyjnej doprowadza się do około 14% i następnie utrzymuje się stosunkowo stałą wilgotność przez około 5 minut. Po dodatkowym co najmniej 30-sekundowym okresie stabilizacji dla zapewnienia prawidłowej i stabilnej wilgotności, do komory reakcyjnej wprowadza się na dodatkowych pięć minut dodatkowy metylotrichlorosilan (DMDCS) w celu uzyskania warstwy przykrywającej. Po nałożeniu ostatniej powłoki komorę reakcyjną opróżnia się, po czym wyjmuje z niej pokryte podłoże. Początkowy postępujący kąt zwilżania jest większy od 60° i większy od 45° po 300 cyklach Tabera.
P r z y k ł a d XXII (wynalazek)
Podłoże szklane czyści się stosując procedurę z przykładu XVI. Podłoże umieszcza się w uchwycie i przedmuchuje do sucha stosując suszone sprężone powietrze. Oczyszczone podłoże umieszcza się w komorze reakcyjnej równolegle do przepływu gazu. Po okresie około 30 sekund zapewniającym ustalenie się wilgotności w komorze reakcyjnej do komory reakcyjnej wprowadza się na około 5 minut tetrachlorek krzemu (SiCty) w celu utworzenia pierwszej warstwy o RMS chropowatości powierzchni co najmniej 4 um, a korzystnie mniejszym niż około 6 um. Następnie komorę przedmuchuje się i ponownie nawilża do co najmniej około 14%. Po 30-sekundowym okresie stabilizacji, do komory na łącznie 5 minut wprowadza się dimetylodichlorosilan (DMDCS - SiC^Meg) i metylotrichlorosilan (MTCS - SiChC-3) oraz tetrachlorek krzemu (SiCty), przy czym ilości wszystkich reagentów są w stosunku wagowym 1 część DMDCS, 1 część MTCS i 2 części SiCty Wilgotność w komorze reakcyjnej doprowadza się do około 14% i następnie utrzymuje się stosunkowo stałą wilgotność przez około 5 minut. Po dodatkowym co najmniej 30-sekundowym okresie stabilizacji dla ustabilizowania wilgotności, do komory reakcyjnej wprowadza się na dodatkowych pięć minut metylotrichlorosilan w celu uzyskania warstwy przykrywającej. Po nałożeniu ostatniej powłoki komorę reakcyjną opróżnia się, po czym wyjmuje z niej pokryte podłoże. Początkowy postępujący kąt zwilżania jest większy od 60° i większy od 45° po 300 cyklach Tabera.
P r z y k ł a d XXIII (wynalazek)
Podłoże szklane czyści się stosując procedurę z przykładu XVI. Podłoże umieszcza się w uchwycie i przedmuchuje do sucha stosując suszone sprężone powietrze. Oczyszczone podłoże umieszcza się w komorze reakcyjnej równolegle do przepływu gazu. Wilgotność w komorze ustala się na 14% i utrzymuje na tym poziomie przez 5 minut. Po 30-sekundowym okresie stabilizacji, do komory reakcyjnej wprowadza się na 5 minut mieszaninę 5 części dimetylodichlorosilanu (DMDCS) i jednej części trichlorometylosilanu. Po dodatkowym 30-sekundowym okresie stabilizacji gazy usuwa się z komory przez 10 minut, po czym podłoże wyjmuje się z komory. Dodaje się FAS (B) i po 60-90 sekundach obróbki podłoże szklane myje się n-butanolem. Początkowy postępujący kąt zwilżania jest większy od 100° i większy od 65° po 300 cyklach Tabera.
PL 200 431 B1
P r z y k ł a d XXIV (wynalazek)
Podłoże szklane czyści się stosując procedurę z przykładu XVI. Podłoże umieszcza się w uchwycie i przedmuchuje do sucha stosując suszone sprężone powietrze. Oczyszczone podłoże umieszcza się w komorze reakcyjnej równolegle do przepływu gazu. Wilgotność w komorze ustala się na 14% i utrzymuje na tym poziomie przez 5 minut. Po 30-sekundowym okresie stabilizacji, do komory reakcyjnej wprowadza się na 5 minut trichlorometylosilan (TCMS) w celu utworzenia warstwy powierzchniowej o RMS chropowatości powierzchni od około 1 do 6 nm i większym niż w przypadku powierzchni pochodzącej z czystego SiCL stopniu hydrofobowości mierzonym poprzez kąt zwilżania. Po dodatkowym 30-sekundowym okresie stabilizacji gazy usuwa się z komory przez 10 minut, po czym podłoże wyjmuje się z komory. Dodaje się FAS (B) i po 60-90 sekundach szklane podłoże myje się n-butanolem. Początkowy postępujący kąt zwilżania jest większy od 100° i większy od 65° po 300 cyklach Tabera.
P r z y k ł a d XXV (wynalazek)
Podłoże szklane czyści się stosując procedurę z przykładu XVI. Podłoże umieszcza się w uchwycie i przedmuchuje do sucha stosując suszone sprężone powietrze. Oczyszczone podłoże umieszcza się w komorze reakcyjnej równolegle do przepływu gazu. Po okresie zapewniającym ustalenie się wilgotności w komorze reakcyjnej, około 30 sekund, do komory reakcyjnej wprowadza się na około 5 minut trichlorometylosilan dla utworzenia pierwszej warstwy SiOxMey o RMS chropowatości powierzchni około 1 urn, a korzystnie mniejszym niż około 6 pm. Następnie komorę przedmuchuje się i ponownie nawilża do co najmniej około 14%. Po 30-sekundowym okresie stabilizacji, do komory na łącznie 5 minut wprowadza się w równomolowych ilościach dimetylodichlorosilan (DMDCS-SiCl2Me2) i metylotrichlorosilan (MTCS - SiCLC^). Wilgotność w komorze reakcyjnej doprowadza się do około 14% i następnie utrzymuje się stosunkowo stałą wilgotność przez około 5 minut do utworzenia w tym czasie usieciowanej warstwy. Po dodatkowym co najmniej 30-sekundowym okresie stabilizacji, do komory reakcyjnej wprowadza się ewentualnie na dodatkowych 5 minut metylotrichlorosilan dla utworzenia warstwy przykrywającej. Po nałożeniu ostatniej powłoki komorę reakcyjną opróżnia się i pokryte podłoże wyjmuje się z komory. Początkowy postępujący kąt zwilżania jest większy od 70° i większy od 50° po 300 cyklach Tabera.
P r z y k ł a d XXVI (wynalazek)
Podłoże szklane czyści się stosując procedurę z przykładu XVI. Podłoże umieszcza się w uchwycie i przedmuchuje do sucha stosując suszone sprężone powietrze. Oczyszczone podłoże umieszcza się w komorze reakcyjnej równolegle do przepływu gazu. Po okresie około 30 sekund zapewniającym ustalenie się wilgotności w komorze reakcyjnej do komory reakcyjnej wprowadza się na około 5 minut trichlorometylosilan w celu utworzenia pierwszej warstwy SiOxMey o RMS chropowatości powierzchni około 1 pm, a korzystnie mniejszym niż około 6 pm. Następnie komorę przedmuchuje się i ponownie nawilża do co najmniej około 14%. Po 30-sekundowym okresie stabilizacji, do komory na łącznie 5 minut wprowadza się dimetylodichlorosilan (DMDCS-SiCLMe2) i tetrachlorek krzemu (SiCU). Ilość każdego reagenta wynosi około 1 do około 3 (np. 1 DMDCS do 3 SiCR), zależnie od pożądanego stopnia trwałości lub hydrofobowości, bądź obu czynników. Wilgotność w komorze reakcyjnej doprowadza się do około 14% i następnie utrzymuje się stosunkowo stałą wilgotność przez około 5 minut do utworzenia w tym czasie usieciowanej warstwy. Po nałożeniu ostatniej powłoki komorę reakcyjną opróżnia się i pokryte podłoże wyjmuje się z komory. Początkowy postępujący kąt zwilżania jest większy od 60° i większy od 45° po 300 cyklach Tabera.
P r z y k ł a d XXVII (wynalazek)
Podłoże szklane czyści się stosując procedurę z przykładu XVI. Podłoże umieszcza się w uchwycie i przedmuchuje do sucha stosując suszone sprężone powietrze. Oczyszczone podłoże umieszcza się w komorze reakcyjnej równolegle do przepływu gazu. Po okresie około 30 sekund zapewniającym ustalenie się wilgotności w komorze reakcyjnej do komory reakcyjnej wprowadza się na około 5 minut trichlorometylosilan w celu utworzenia pierwszej warstwy SiOxMey o RMS chropowatości powierzchni około 1 nm, a korzystnie mniejszym niż około 6 nm. Następnie komorę przedmuchuje się i ponownie nawilża do co najmniej około 14%. Po 30-sekundowym okresie stabilizacji, do komory na łącznie 5 minut wprowadza się dimetylodichlorosilan (DMDCS - SiCLMe2) i tetrachlorek krzemu (SiCU). Ilość każdego reagenta wynosi odpowiednio około 5 części do 1 części (np. 5 DMDCS do 1 SiCU), zależnie od pożądanego stopnia trwałości lub hydrofobowości, bądź obu czynników. Wilgotność w komorze reakcyjnej doprowadza się do około 14% i następnie utrzymuje się stosunkowo stałą wilgotność przez około 5 minut do utworzenia w tym czasie usieciowanej warstwy. Po dodatkowym co najmniej 30-sePL 200 431 B1 kundowym okresie stabilizacji, do komory reakcyjnej wprowadza się na dodatkowych 5 minut metylotrichlorosilan (DMDCS) w celu utworzenia warstwy przykrywającej. Następnie komorę reakcyjną opróżnia się i pokryte podłoże wyjmuje się z komory. Początkowy postępujący kąt zwilżania jest większy od 100° i większy od 65° po 300 cyklach Tabera.
Pomimo, że wynalazek został opisany w związku z tym, co się obecnie uważa za najbardziej praktyczne i korzystne wykonanie, należy rozumieć, że wynalazek nie powinien być ograniczany do przedstawionych rozwiązań, lecz przeciwnie, może obejmować różne modyfikacje i równoważne rozwiązania zgodne z duchem i zakresem załączonych zastrzeżeń.
Claims (9)
1. Podłoóż mającc hydrofot>bwą ppwierzzhniową. zzwierające ppdłoóż, warstwę wiążącą, warstwę hydrofobową, znamienne tym, że zawiera warstwę wiążącą tlenku krzemu na podłożu i hydrofobową warstwę powłoki pokrywającą powierzchnię warstwy wiążącej, przy czym powierzchnia warstwy wiążącej tlenku krzemu wykazuje średnią kwadratową chropowatość powierzchni mniejszą niż 6,0 nm i wykazuje wartość zamglenia mniejszą niż 2,0%.
2. Poołoóż waeługzzstrs. h, z znmieenntyrn. żż warstwa wiąCąccwakaaująśreeniąkwaarar tową chropowatość powierzchni większą niż 4,0 nm.
3. Poołoóż waeług zasttz. 1 ,zznmieenn tym, żż hyyrofo0bwa hpwłoka zzwiera dd0dtkowa naniee siony na warstwę wiążącą zwilżony naparowany produkt reakcji co najmniej jednego alkilochlorosilanu.
4. Pco:lłooż wweług hzstrz. Z, zr^aa^i^r^r^nty^y^, żż alkilooelokokilanstanawi dimatylo0icelorokilan lub trimetylochlorosilan.
5. Poołooż waeług hzstro. h, zznmieenn tt/m, Zż hydrokoObwa zpwłoka hzwiera zwilżonego naparowanego produktu reakcji dimetylodichlorosilanu na warstwie wiążącej tlenku krzemu i warstwę zwilżonego naparowanego produktu reakcji trimetylochlorosilanu naniesioną na warstwę dimetylodichlorosilanu.
6. Poołooż wedłu zzstro. 1, zznmieenn tt/m, Zż l^yyroko0bwa zzwiera wi^wi pplidimetylosiloksanu związaną chemicznie ze wspomnianą warstwą wiążącą.
7. Poołooż wiełu zzstro. z, zznmieenntym. zż hyyrokoObwa zpwłoka zzwiera werstwe1ιgieciowanego polisiloksanu związaną chemicznie ze wspomnianą warstwą wiążącą.
8. Podłoże wedłu 7, znamiennn tym, że hydrokobowa powłoka zawiera co n^ar^r^ii^j jedną warstwę, którą jest zwilżony naparowany produkt reakcji dimetylodichlorosilanu lub trimetylochlorosilanu naniesiony na warstwę usieciowanego polisiloksanu.
9. Poołooż wiełu zzstto. z, zznmieenn tiyn, zż wi^wi wiąCąca wakaaają wartokś z^r^c^^^nia mniejszą niż ,,5%.
W. Poclłooż według zzstro. 1, w warsswa wiąCąca z j-s złoOżr^a ze zwilżcnn-o pcodugtu reakcji tetrachlorku krzemu naparowanego przy wilgotności względnej mniejszej niż 50%.
U. Poclłooż według zasta. 10, znamiennn tym, że 1errachlokek krezmu z e^ napprowar^a ppoz wilgotności względnej mniejszej niż 45%.
1. PodłoOż wedłu zaasrz. 10, znamiennn tym, że 1errachlokek krezmu Z e^ napprowar^a ppoz wilgotności względnej mniejszej niż 40%.
,3. Poołooż wiełu zzstro. W, zznmieenn tym, żż ppwłoka hydrokoObwa j zło0żka zz zwilżonego produktu reakcji wspomnianych tetrachlorku krzemu i alkilochlorosilanu.
M. Pc^dłt^^^ według zasło. Z3, znnmiennn tym, 0(5 wapomniana alżilooelżkokilan οό^^ Zrimetylochlorosilan.
1. Poołooż wiełu zzstro. Z4, zznmieenn tym, Zż wappmaiana 1e-raaelokod krozmu i Z πmarylochlorosilan są naparowane jako mieszanina.
W. PodłoOż wec;lłu zasło. H, zznmieenn tym, Zż wi wapomrιianaj miedzzninie ztokurιad Zetrachlorku krzemu do trimetylochlorosilanu jest zawarty między 4,0:0,5 do 4,0:,,5.
Π. Podło0ż wec:lłu zasło. H, zznmieenn tym, Zż we wappmr^iar^aj miedzzninie ztekurιad tetrachlorku krzemu do trimetylochlorosilanu wynosi 4,0:,,0.
W. Poołooż wiełu zzstro. Z, zznmieenn tt/m, Zż zlżilooelokOkilanaz0bjmują Zimatylodicelokosilan i metylotrichlorosilan.
W. Poołooż wiełu zzstro. 3, znamiennn tym, Zż zlżiiżoelżkokilanami zą Zima-elżdicelżkokilżn i metylotrichlorosiłan i są one dodane w ilościach równomolowych.
PL 200 431 B1
20. Podłoże według zastrz. 18, znamienne tym, że stosunki dimetylodichlorosilanu i metylotrichlorosilanu są w zakresie odpowiednio od 5 części na 1 część do 1 części na 3 części wagowe.
21. Podłoże według zastrz. 18, znamienne tym, że warstwa alkilochlorosilanowa jest przykryta metylotrichlorosilanem.
22. Podłoże według zastrz. 18, tym, że warstwa alł^iic^c^ł^lc^r^c^^ii^m^\^£3 jest przykryta
CF2FCO(CH2)3SiCl2CH3.
23. Podłoże według zas^z. 1, znamienne tym, że hydrofobowa powłoka zawiera zwil· żonego naparowanego produktu reakcji dimetylodichlorosilanu i metylotrichlorosilanu na warstwie wiążącej tlenku krzemu i przykrywającą warstwę zwilżonego naparowanego produktu reakcji trimetylochlorosilanu naniesioną na warstwę dimetylodichlorosilanu i trimetylotrichlorosilanu.
24. Podłoże według za^ł^r^^. 3, znamienne tym. że tetrachlorek krzemu dodany jest w reakcji w ilości równomolowej z przynajmniej jednym alkilochlorosilanem wybranym z grupy składającej się z dimetylodichlorosilanu, metylotrichlorosilanu, trimetylochlorosilanu i chlorofluoroalkilosilanu.
25. Podłoże według zastrz. 24, znamienne tym, że jako warstwę przykrywającą obejmuje CF2FCO(CH2)3SiCl2CH3.
26. Podłoże według zasto. 1, znamienne tym, że warsltwa wiążąca wykazuje średnią kwadratową chropowatość powierzchni mniejszą niż 5,0 nm.
27. Podłoże według zasto. 1, znamienne tym, że warsltwa wiążąca wykazie średnią kwadratową chropowatość powierzchni pomiędzy 4,0 nm do 6,0 nm.
28. Podłoże według zastrz. 1, znamienne tym, że powierzchnia warstwy wiążącej wykazuje średnią kwadratową chropowatość powierzchni większą niż 4,0 nm i mniejszą niż 6,0 nm i w którym hydrofobową warstwą powłoki jest zwilżony naparowany produkt reakcji przynajmniej jednego alkilochlorosilanu, który jest wybrany z grupy składającej się z dimetylodichlorosilanu, metylochlorosilanu i trimetylochlorosilanu.
29. Podłoże według zastrz. 28, znamienne tym, że hydrofobowa powłoka zawiera warstwę zwilżonego naparowanego produktu reakcji dimetylodichlorosilanu na warstwie wiążącej tlenku krzemu i warstwę zwilżonego naparowanego produktu reakcji trimetylochlorosilanu naniesioną na warstwę dimetylodichlorosilanu.
30. Podłoże według zas^z. 28, znamienne tym, że hydrofobowa powłoka zawiera warsswę polidimetylosiloksanu związaną chemicznie ze wspomnianą warstwą wiążącą.
31. Podłoże według zastrz. 28, znamienne tym, że hydrofobowa powłoka zawiera warstwę usieciowanego polisiloksanu związaną chemicznie ze wspomnianą warstwą wiążącą.
32. Podłoże według zastrz. 31, znamienne tym, że hydrofobowa powłoka zawiera co najmniej jedną warstwę, którą jest zwilżony naparowany produkt reakcji dimetylodichlorosilanu lub trimetylochlorosilanu naniesiony na warstwę usieciowanego polisiloksanu.
33. Podłożewedług z£^^tr^^. 28, znamienne tym, że alkiiochlofosiianobejmuje όίπε^ΙοόίοΜοΓΟsilan i metylotrichlorosilan w równomolowych ilościach.
34. Podłożewedług z£^^tr^^. 28, znamienne tym, że alkiiochlofosiianobejmuje όίπε^ΙοόίοΜοΓΟsilan i metylotrichlorosilan, w stosunku dimetylodichlorosilanu i metylotrichlorosilanu, w zakresie odpowiednio od 5 części na 1 część do 1 części na 3 części wagowe.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US23633500P | 2000-09-29 | 2000-09-29 | |
US09/921,303 US6743516B2 (en) | 2000-09-29 | 2001-08-03 | Highly durable hydrophobic coatings and methods |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
PL361891A1 PL361891A1 (pl) | 2004-10-04 |
PL200431B1 true PL200431B1 (pl) | 2009-01-30 |
Family
ID=26929682
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
PL361891A PL200431B1 (pl) | 2000-09-29 | 2001-08-28 | Podłoże mające hydrofobową powłokę powierzchniową |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6743516B2 (pl) |
EP (1) | EP1328579B1 (pl) |
AT (1) | ATE549302T1 (pl) |
AU (1) | AU2001286812A1 (pl) |
CA (1) | CA2423657C (pl) |
ES (1) | ES2384374T3 (pl) |
PL (1) | PL200431B1 (pl) |
WO (1) | WO2002028956A1 (pl) |
Families Citing this family (66)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2378082B (en) * | 2001-07-26 | 2005-03-09 | Kh Technology Corp | Improvements in loudspeakers |
US20030161949A1 (en) * | 2002-02-28 | 2003-08-28 | The Regents Of The University Of California | Vapor deposition of dihalodialklysilanes |
KR20050111785A (ko) * | 2003-03-24 | 2005-11-28 | 소니 가부시끼 가이샤 | 마이크로칩, 핵산 추출용 키트 및 핵산의 추출 방법 |
US20080073512A1 (en) * | 2003-06-06 | 2008-03-27 | Waters Investments Limited | Methods, compositions and devices for performing ionization desorption on silicon derivatives |
EP1644450B1 (en) | 2003-06-23 | 2015-08-19 | University Of Zurich | Superhydrophobic coating |
US20050271893A1 (en) * | 2004-06-04 | 2005-12-08 | Applied Microstructures, Inc. | Controlled vapor deposition of multilayered coatings adhered by an oxide layer |
US7638167B2 (en) * | 2004-06-04 | 2009-12-29 | Applied Microstructures, Inc. | Controlled deposition of silicon-containing coatings adhered by an oxide layer |
US9725805B2 (en) * | 2003-06-27 | 2017-08-08 | Spts Technologies Limited | Apparatus and method for controlled application of reactive vapors to produce thin films and coatings |
US20040261703A1 (en) | 2003-06-27 | 2004-12-30 | Jeffrey D. Chinn | Apparatus and method for controlled application of reactive vapors to produce thin films and coatings |
US7138186B2 (en) * | 2004-02-05 | 2006-11-21 | Guardian Industries Corp. | Hydrophobic coatings and methods |
FR2866643B1 (fr) * | 2004-02-24 | 2006-05-26 | Saint Gobain | Substrat, notamment verrier, a surface hydrophobe, avec une durabilite amelioree des proprietes hydrophobes |
US7773404B2 (en) | 2005-01-07 | 2010-08-10 | Invisage Technologies, Inc. | Quantum dot optical devices with enhanced gain and sensitivity and methods of making same |
US7746681B2 (en) | 2005-01-07 | 2010-06-29 | Invisage Technologies, Inc. | Methods of making quantum dot films |
US7326908B2 (en) | 2004-04-19 | 2008-02-05 | Edward Sargent | Optically-regulated optical emission using colloidal quantum dot nanocrystals |
US7742322B2 (en) | 2005-01-07 | 2010-06-22 | Invisage Technologies, Inc. | Electronic and optoelectronic devices with quantum dot films |
US7879396B2 (en) * | 2004-06-04 | 2011-02-01 | Applied Microstructures, Inc. | High aspect ratio performance coatings for biological microfluidics |
WO2005121397A2 (en) * | 2004-06-04 | 2005-12-22 | Applied Microstructures, Inc. | Controlled vapor deposition of multilayered coatings adhered by an oxide layer |
US7695775B2 (en) * | 2004-06-04 | 2010-04-13 | Applied Microstructures, Inc. | Controlled vapor deposition of biocompatible coatings over surface-treated substrates |
US20060251795A1 (en) * | 2005-05-05 | 2006-11-09 | Boris Kobrin | Controlled vapor deposition of biocompatible coatings for medical devices |
US20060029732A1 (en) * | 2004-08-04 | 2006-02-09 | Boris Kobrin | Vapor deposited functional organic coatings |
US8088440B2 (en) * | 2004-11-24 | 2012-01-03 | Guardian Industries Corp. | Hydrophobic coating including underlayer(s) deposited via flame pyrolysis |
CA2519608A1 (en) | 2005-01-07 | 2006-07-07 | Edward Sargent | Quantum dot-polymer nanocomposite photodetectors and photovoltaics |
US20070079965A1 (en) * | 2005-10-06 | 2007-04-12 | Halliburton Energy Services, Inc. | Methods for enhancing aqueous fluid recovery form subterranean formations |
US8067258B2 (en) | 2006-06-05 | 2011-11-29 | Applied Microstructures, Inc. | Protective thin films for use during fabrication of semiconductors, MEMS, and microstructures |
US8435719B2 (en) * | 2006-08-08 | 2013-05-07 | International Business Machines Corporation | Tunable contact angle process for immersionlithography topcoats and photoresists |
US8202614B2 (en) | 2006-08-09 | 2012-06-19 | Luna Innovations Incorporated | Additive particles having superhydrophobic characteristics and coatings and methods of making and using the same |
US7632543B2 (en) * | 2006-12-05 | 2009-12-15 | Guardian Industries Corp. | Method of making IG window unit and forming silicon oxide based hydrophilic coating using chlorosilane vapor deposition |
KR101270164B1 (ko) * | 2006-12-27 | 2013-05-31 | 삼성디스플레이 주식회사 | 잉크젯 프린트헤드의 노즐 플레이트 |
US8900695B2 (en) * | 2007-02-23 | 2014-12-02 | Applied Microstructures, Inc. | Durable conformal wear-resistant carbon-doped metal oxide-comprising coating |
US8236379B2 (en) * | 2007-04-02 | 2012-08-07 | Applied Microstructures, Inc. | Articles with super-hydrophobic and-or super-hydrophilic surfaces and method of formation |
US20080248263A1 (en) * | 2007-04-02 | 2008-10-09 | Applied Microstructures, Inc. | Method of creating super-hydrophobic and-or super-hydrophilic surfaces on substrates, and articles created thereby |
US20090041986A1 (en) * | 2007-06-21 | 2009-02-12 | 3M Innovative Properties Company | Method of making hierarchical articles |
US20090114618A1 (en) * | 2007-06-21 | 2009-05-07 | 3M Innovative Properties Company | Method of making hierarchical articles |
US20080315459A1 (en) * | 2007-06-21 | 2008-12-25 | 3M Innovative Properties Company | Articles and methods for replication of microstructures and nanofeatures |
US8491529B2 (en) | 2007-07-20 | 2013-07-23 | Medingo, Ltd. | Vented dispensing device and method |
ITBO20070588A1 (it) * | 2007-08-13 | 2009-02-14 | Silicon Biosystems Spa | Metodo per legare uno strato di silicone ad un substrato di polimero metacrilico |
US7891636B2 (en) * | 2007-08-27 | 2011-02-22 | 3M Innovative Properties Company | Silicone mold and use thereof |
US20090143522A1 (en) * | 2007-12-04 | 2009-06-04 | Sea-Fue Wang | Thermally Conductive Silicone Composition |
ATE530209T1 (de) * | 2008-04-17 | 2011-11-15 | Astra Tech Ab | Verbessertes medizinisches gerät mit hydrophiler beschichtung |
US20090264316A1 (en) * | 2008-04-17 | 2009-10-22 | Marshall University Research Corporation | Ultraviolet/Ozone Patterned Organosilane Surfaces |
US20100028604A1 (en) * | 2008-08-01 | 2010-02-04 | The Ohio State University | Hierarchical structures for superhydrophobic surfaces and methods of making |
FR2940966B1 (fr) * | 2009-01-09 | 2011-03-04 | Saint Gobain | Substrat hydrophobe comprenant un primage du type oxycarbure de silicium active par plasma |
EP2463348B1 (en) * | 2009-08-03 | 2015-10-07 | Asahi Glass Company, Limited | Composition for formation of water-repellent film, base material having water-repellent film attached thereto and process for production thereof, and article for transport device |
US20150064376A1 (en) * | 2009-10-27 | 2015-03-05 | Silcotek Corp. | Coated automotive article |
EP2500009A1 (en) | 2011-03-17 | 2012-09-19 | 3M Innovative Properties Company | Dental ceramic article, process of production and use thereof |
CN104302589B (zh) | 2011-11-30 | 2017-11-28 | 康宁股份有限公司 | 光学涂覆方法、设备和产品 |
US10077207B2 (en) | 2011-11-30 | 2018-09-18 | Corning Incorporated | Optical coating method, apparatus and product |
US9957609B2 (en) | 2011-11-30 | 2018-05-01 | Corning Incorporated | Process for making of glass articles with optical and easy-to-clean coatings |
US8968831B2 (en) | 2011-12-06 | 2015-03-03 | Guardian Industries Corp. | Coated articles including anti-fingerprint and/or smudge-reducing coatings, and/or methods of making the same |
KR20140116540A (ko) * | 2012-02-28 | 2014-10-02 | 다이킨 고교 가부시키가이샤 | 불소-함유 실란계 막을 갖는 물품의 제조 방법 |
JP6346456B2 (ja) * | 2013-02-22 | 2018-06-20 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | 撥水/撥油皮膜及びその製造方法 |
KR102195254B1 (ko) | 2013-12-30 | 2020-12-28 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치 제조 방법 |
KR102553617B1 (ko) | 2014-10-31 | 2023-07-07 | 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 | 투명 피막 |
CN107109124B (zh) | 2014-10-31 | 2021-07-09 | 住友化学株式会社 | 透明被膜 |
JP6715530B2 (ja) | 2014-10-31 | 2020-07-01 | 住友化学株式会社 | 撥水撥油コーティング混合組成物 |
TWI723964B (zh) | 2014-11-12 | 2021-04-11 | 日商住友化學股份有限公司 | 撥水撥油塗覆組成物及透明皮膜 |
EP3064339A1 (de) | 2015-03-04 | 2016-09-07 | Matthias Schittmayer-Schantl | Verwendung einer modifizierten glasplatte als träger bei 3d-druck |
US10293372B2 (en) | 2015-09-18 | 2019-05-21 | International Business Machines Corporation | Pre-treating polymer tubing or hose with a hydrophobic coating to reduce depletion of corrosion inhibitor |
EP3472068B1 (en) | 2016-06-15 | 2021-04-14 | Bemis Company, Inc. | Heat-seal lidding film with non-heat sealing layer and hydrophobic coating, package |
KR102579362B1 (ko) | 2017-05-08 | 2023-09-18 | 코닝 인코포레이티드 | 광학 및 내-스크래치성 코팅 위에 내구성의 윤활성 지문-방지 코팅을 갖는 유리, 유리-세라믹 및 세라믹 제품 및 그 제조방법 |
US11709156B2 (en) | 2017-09-18 | 2023-07-25 | Waters Technologies Corporation | Use of vapor deposition coated flow paths for improved analytical analysis |
US11709155B2 (en) | 2017-09-18 | 2023-07-25 | Waters Technologies Corporation | Use of vapor deposition coated flow paths for improved chromatography of metal interacting analytes |
US11918936B2 (en) | 2020-01-17 | 2024-03-05 | Waters Technologies Corporation | Performance and dynamic range for oligonucleotide bioanalysis through reduction of non specific binding |
US20220009824A1 (en) | 2020-07-09 | 2022-01-13 | Corning Incorporated | Anti-glare substrate for a display article including a textured region with primary surface features and secondary surface features imparting a surface roughness that increases surface scattering |
KR20240101663A (ko) * | 2021-11-11 | 2024-07-02 | 솔리얀, 아이엔씨. | 발액성 재료를 생산하기 위한 시스템, 방법 및 조성물 |
DE102022108150B3 (de) | 2022-04-05 | 2023-04-27 | Technische Universität Ilmenau | Verfahren und Reaktorkonfiguration zur Herstellung von Oxid- oder Oxinitridschichten |
Family Cites Families (76)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3637416A (en) * | 1970-02-04 | 1972-01-25 | Mbt Corp | Method of treating synthetic plastic and elastomeric materials and articles produced thereby |
US3808027A (en) * | 1972-03-29 | 1974-04-30 | Du Pont | Silica surfaced films |
US4166891A (en) | 1972-04-19 | 1979-09-04 | Elliott Stanley B | Visual-type hygrometer |
DE2559259A1 (de) | 1975-12-31 | 1977-07-14 | Dynamit Nobel Ag | Silane mit verkappten funktionellen gruppen als haftvermittler |
US4263371A (en) | 1978-10-25 | 1981-04-21 | Ppg Industries, Inc. | Organotin treatment for reducing the reactivity of a glass surface |
US4301197A (en) | 1979-12-03 | 1981-11-17 | Ppg Industries, Inc. | Siloxane release surfaces on glass |
US4263350A (en) | 1979-12-31 | 1981-04-21 | Ppg Industries, Inc. | Silane release surfaces on glass |
US4274856A (en) | 1979-12-31 | 1981-06-23 | Ppg Industries, Inc. | Method for developing a release surface on a glass mold |
US4478909A (en) | 1980-10-24 | 1984-10-23 | Toray Industries, Inc. | Anti-fogging coating film |
US4420578A (en) | 1980-11-10 | 1983-12-13 | Diversey Corporation | Surface treatment of glass containers |
US4472021A (en) | 1982-12-10 | 1984-09-18 | Desoto, Inc. | Strippable radiation-cured coatings for optical fiber and method |
US4567221A (en) | 1983-03-31 | 1986-01-28 | Kuraray Co., Ltd. | Water resistant compositions |
US4539061A (en) | 1983-09-07 | 1985-09-03 | Yeda Research And Development Co., Ltd. | Process for the production of built-up films by the stepwise adsorption of individual monolayers |
US4547432A (en) | 1984-07-31 | 1985-10-15 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Method of bonding silver to glass and mirrors produced according to this method |
US4711820A (en) | 1986-06-17 | 1987-12-08 | Petrarch Systems Inc. | Method of siliconization of surfaces with lower alkyl silanes |
US4753827A (en) | 1986-10-03 | 1988-06-28 | Ppg Industries, Inc. | Abrasion-resistant organosiloxane/metal oxide coating |
DE3706782A1 (de) | 1987-03-03 | 1988-09-15 | Daimler Benz Ag | Verwendung von siliciumorganischen verbindungen auf windschutzscheiben aus glas zur erreichung eines anti-fogging-effekts gegenueber oeligen organischen substanzen |
US4838946A (en) | 1988-05-28 | 1989-06-13 | Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. | Absorbent of chlorosilane compound |
FR2635319B1 (fr) | 1988-07-20 | 1992-07-24 | Saint Gobain Vitrage | Vitrage muni d'une couche antigivre |
US4946903A (en) | 1989-03-27 | 1990-08-07 | The Research Foundation Of State University Of Ny | Oxyfluoropolymers having chemically reactive surface functionality and increased surface energies |
JP2710069B2 (ja) | 1989-06-06 | 1998-02-10 | 日本ユニカー株式会社 | ガラス容器の擦り傷遮蔽剤 |
US5328768A (en) | 1990-04-03 | 1994-07-12 | Ppg Industries, Inc. | Durable water repellant glass surface |
US4983459A (en) | 1990-04-03 | 1991-01-08 | Ppg Industries, Inc. | Chemically reacted glass surface |
US5308705A (en) | 1990-04-03 | 1994-05-03 | Ppg Industries, Inc. | Water repellent surface treatment |
US5688864A (en) | 1990-04-03 | 1997-11-18 | Ppg Industries, Inc. | Autophobic water repellent surface treatment |
US4997684A (en) | 1990-07-19 | 1991-03-05 | Ppg Industries, Inc. | Method of using perfluoroalkylsilanes to lower the surface energy of glass |
CA2022039A1 (en) | 1990-07-26 | 1992-01-27 | Julio O. Gun | Composition for producing a monomolecular film on the surfaces of various materials |
US5300239A (en) | 1990-08-24 | 1994-04-05 | Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd. | Water-repellent and oil-repellent treatment |
DE69122212T2 (de) | 1990-10-25 | 1997-01-30 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd., Kadoma, Osaka | Durch chemische Adsorption laminierter monomolekularer Film und Verfahren zu seiner Herstellung |
DE69130921T2 (de) * | 1990-11-21 | 1999-06-24 | Catalysts & Chemicals Industries Co., Ltd., Tokio/Tokyo | Überzugslösung zur bildung eines durchsichtigen, leitfähigen films, verfahren zu deren herstellung, leitfähiges substrat, verfahren zur dessen herstellung, und anzeigevorrichtung mit einem durchsichtigen, leitfähigen substrat |
EP0492545B1 (en) | 1990-12-25 | 1998-03-25 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Transparent substrate with monomolecular film thereon and method of manufacturing the same |
EP1224983A3 (en) * | 1991-01-23 | 2002-12-18 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Transparent substrate and method for preparing same |
DE69218811T2 (de) | 1991-01-23 | 1997-07-17 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd., Kadoma, Osaka | Wasser- und ölabweisender adsorbierter Film und Verfahren zu dessen Herstellung |
DE69206838T2 (de) | 1991-02-19 | 1996-05-23 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Verfahren zur Herstellung eines chemisch absorbierten Films |
US5266715A (en) | 1991-03-06 | 1993-11-30 | Ciba-Geigy Corporation | Glass coating with improved adhesion and weather resistance |
DE69220717T2 (de) | 1991-04-30 | 1997-11-06 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd., Kadoma, Osaka | Chemisch adsorbierte Schicht und Verfahren zu deren Herstellung |
FR2680583B1 (fr) | 1991-08-22 | 1993-10-08 | Commissariat A Energie Atomique | Materiau presentant des proprietes antireflet, hydrophobes et de resistance a l'abrasion et procede de depot d'une couche antireflet, hydrophobe et resistante a l'abrasion sur un substrat. |
JPH0597478A (ja) | 1991-10-04 | 1993-04-20 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 撥水性ガラス物品およびその製造方法 |
US5372851A (en) | 1991-12-16 | 1994-12-13 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method of manufacturing a chemically adsorbed film |
US5413865A (en) | 1992-01-31 | 1995-05-09 | Central Glass Company, Limited | Water-repellent metal oxide film and method of forming same on glass substrate |
US5368892A (en) | 1992-04-10 | 1994-11-29 | Saint-Gobain Vitrage International | Non-wettable glass sheet |
US5599625A (en) | 1992-06-17 | 1997-02-04 | Research Corporation Technologies, Inc. | Products having multiple-substituted polysiloxane monolayer |
US5873931A (en) | 1992-10-06 | 1999-02-23 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Coating composition having anti-reflective and anti-fogging properties |
US5543171A (en) | 1992-12-14 | 1996-08-06 | Shores; A. Andrew | Process of manufacturing a coated article |
US5298587A (en) | 1992-12-21 | 1994-03-29 | The Dow Chemical Company | Protective film for articles and method |
US5435839A (en) | 1992-12-24 | 1995-07-25 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Finishing agents and method of manufacturing the same |
JP2847605B2 (ja) | 1993-03-23 | 1999-01-20 | 住友重機械工業株式会社 | 低速陽電子ビーム発生装置 |
US5635291A (en) | 1993-04-28 | 1997-06-03 | Canon Kabushiki Kaisha | Ink-jet recording medium |
EP0640642B1 (en) | 1993-08-18 | 1998-03-11 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Method of producing dimethylpolysiloxanes |
US5463010A (en) | 1993-11-12 | 1995-10-31 | Surface Engineering Technologies, Division Of Innerdyne, Inc. | Hydrocyclosiloxane membrane prepared by plasma polymerization process |
TW275082B (pl) | 1993-12-07 | 1996-05-01 | Shinetsu Chem Ind Co | |
US5383354A (en) * | 1993-12-27 | 1995-01-24 | Motorola, Inc. | Process for measuring surface topography using atomic force microscopy |
US5596061A (en) | 1993-12-28 | 1997-01-21 | Mona Industries, Inc. | Organosilicone having a carboxyl functional group thereon |
US5665424A (en) | 1994-03-11 | 1997-09-09 | Sherman; Dan | Method for making glass articles having a permanent protective coating |
US5723172A (en) | 1994-03-11 | 1998-03-03 | Dan Sherman | Method for forming a protective coating on glass |
JPH07316546A (ja) | 1994-05-23 | 1995-12-05 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 撥水表面構造及びその形成方法 |
US5584917A (en) | 1994-07-04 | 1996-12-17 | Taiho Industries Co., Ltd. | Water repellent for window panes of automobiles and method of repelling water on the window panes |
EP0696627B1 (en) | 1994-08-12 | 1999-01-27 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Water repellent composition |
BE1008724A3 (nl) | 1994-09-27 | 1996-07-02 | Couttenier Andre | Samenstelling voor het beschermen en waterafstotend maken van een siliciumhoudend substraat. |
US5763091A (en) * | 1994-10-27 | 1998-06-09 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | Electroconductive substrate and method for forming the same |
CA2168529A1 (en) * | 1995-02-02 | 1996-08-03 | Tatsuichiro Kon | Transparent conductive sheet |
US5605934A (en) | 1995-03-23 | 1997-02-25 | Baxter International Inc. | Method of manufacturing and storing solutions |
JP2810979B2 (ja) | 1995-09-14 | 1998-10-15 | 工業技術院長 | 表面疎水性活性炭とその製造法 |
US5580606A (en) | 1995-10-06 | 1996-12-03 | Singapore Institute Of Standards Etc. | Method for forming interference anti-reflective coatings by plasma surface modification |
TW422822B (en) | 1996-04-04 | 2001-02-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Contamination-resistant float glass and process for producing the same as well as cooking device using said contamination-resistant float glass |
US5691011A (en) * | 1996-06-14 | 1997-11-25 | The Dow Chemical Company | Dispersion-preventing pattern for liquid crystal display device |
US6337133B1 (en) | 1996-08-19 | 2002-01-08 | Central Glass Company, Limited | Water-repellent glass pane and method for producing same |
US5841931A (en) * | 1996-11-26 | 1998-11-24 | Massachusetts Institute Of Technology | Methods of forming polycrystalline semiconductor waveguides for optoelectronic integrated circuits, and devices formed thereby |
EP0887179B1 (en) | 1996-12-09 | 2005-12-21 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Non-fogging article and process for the production thereof |
FR2757871B1 (fr) | 1996-12-27 | 1999-03-26 | Aerospatiale | Composition hydrofuge comprenant un agent hydrophobe et un solvant, application a l'elimination de l'eau de surface notamment de pare-brise de vehicules ou d'aeronefs |
JP4447660B2 (ja) | 1997-04-04 | 2010-04-07 | エボニック デグサ ゲーエムベーハー | 表面シール中空ガラス容器の製造方法 |
PT914302E (pt) | 1997-04-04 | 2001-12-28 | Degussa | Processo para o fabrico de recipientes ocos de vidro com superficie vedada |
US5851674A (en) | 1997-07-30 | 1998-12-22 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Antisoiling coatings for antireflective surfaces and methods of preparation |
US5919296A (en) | 1998-03-30 | 1999-07-06 | Dow Corning Corporation | Storage-stable water-repellent composition for masonry materials |
US20020001676A1 (en) | 1998-11-03 | 2002-01-03 | Don Hayden | Capped silicone film and method of manufacture thereof |
US6245387B1 (en) | 1998-11-03 | 2001-06-12 | Diamon-Fusion International, Inc. | Capped silicone film and method of manufacture thereof |
-
2001
- 2001-08-03 US US09/921,303 patent/US6743516B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-08-28 WO PCT/US2001/026691 patent/WO2002028956A1/en active Application Filing
- 2001-08-28 PL PL361891A patent/PL200431B1/pl unknown
- 2001-08-28 EP EP20010966284 patent/EP1328579B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-08-28 AT AT01966284T patent/ATE549302T1/de active
- 2001-08-28 AU AU2001286812A patent/AU2001286812A1/en not_active Abandoned
- 2001-08-28 ES ES01966284T patent/ES2384374T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2001-08-28 CA CA 2423657 patent/CA2423657C/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US6743516B2 (en) | 2004-06-01 |
US20020064663A1 (en) | 2002-05-30 |
ATE549302T1 (de) | 2012-03-15 |
ES2384374T3 (es) | 2012-07-04 |
CA2423657A1 (en) | 2002-04-11 |
EP1328579B1 (en) | 2012-03-14 |
WO2002028956A1 (en) | 2002-04-11 |
PL361891A1 (pl) | 2004-10-04 |
AU2001286812A1 (en) | 2002-04-15 |
CA2423657C (en) | 2008-11-18 |
EP1328579A1 (en) | 2003-07-23 |
EP1328579A4 (en) | 2008-07-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
PL200431B1 (pl) | Podłoże mające hydrofobową powłokę powierzchniową | |
CN1878888B (zh) | 由氧化物层粘附的多层涂层的受控气相沉积 | |
KR100762573B1 (ko) | 산화물층에 의해 부착된 다층 코팅의 제어되는 기상 증착 | |
US6025025A (en) | Water-repellent surface treatment | |
CA1108808A (en) | One-part hydrophilic treatment compositions | |
US4338377A (en) | Sulfonato-organosilanol compounds and aqueous solutions thereof | |
EP0748658A2 (en) | A method for manufacturing a chemically adsorbed film and a chemical adsorbent solution for the method | |
WO2003082760A1 (en) | Anti-reflective hydrophobic coatings and methods | |
JP2009527603A (ja) | 多官能性星形プレポリマー、その製造方法および使用 | |
US20100075034A1 (en) | Controlled deposition of silicon-containing coatings adhered by an oxide layer | |
WO1999028534A1 (fr) | Procede de production d'articles recouvertes d'enrobages a base de silice | |
WO2006020308A2 (en) | Vapor deposited functional organic coatings | |
JPH0597478A (ja) | 撥水性ガラス物品およびその製造方法 | |
JP2002507146A (ja) | 表面をコーティングする方法 | |
KR19980042237A (ko) | 분자막의 제조방법 및 제조장치 | |
CA1133500A (en) | Sulfonato-organosilanol compounds and aqueous solutions thereof | |
JP2001137769A (ja) | コーティング膜とその製造方法及びその製造装置 | |
EP0799806B1 (en) | Contamination-resistant float glass and process of producing the same | |
US20050175847A1 (en) | Hydrophobic coatings and methods | |
WO2005030664A1 (ja) | 機能性ガラス物品およびその製造方法 | |
JP2002256258A (ja) | 撥水膜被覆物品 | |
US20080318068A1 (en) | Method for the production of a mineral substrate with modified surface and substrate thus obtained | |
JPH0826774A (ja) | 撥水性物品の製造方法 | |
JP2002211957A (ja) | 機能性膜で被覆された物品の製造方法、およびその方法で製造された機能性膜被覆物品 | |
JPH04331785A (ja) | 撥水・防汚性石材 |