JP2002507146A

JP2002507146A - 表面をコーティングする方法

Info

Publication number: JP2002507146A
Application number: JP50005599A
Authority: JP
Inventors: カー．エヌ．ヒラヤマ，マルティナ; エル．カゼリ，バルター; ベー．ズーター，ウルリッヒ
Original assignee: グローバルサーフィスアクチェンゲゼルシャフト
Priority date: 1997-05-28
Filing date: 1998-05-26
Publication date: 2002-03-05
Also published as: EP0986438B1; ES2170492T3; WO1998053921A1; AU7329598A; EP0986438A1; DE59802546D1; ATE211028T1; US6316057B1

Abstract

(57)【要約】金属表面、金属酸化物表面、金属塩表面、ケイ素含有表面および／または高分子量のアコ酸化物含有有機表面がコーティングされる。コーティングは、Si-H，Sn-HおよびGe-Hから選ばれる反応性基を有する試薬を用いて実施される。試薬は、液状、ペースト状もしくは固体状で、コーティングされる表面に使用される。さらに、コーティング反応は、活性化剤の存在を必要とする。化合物もしくは金属形態の白金族金属が活性化剤として使用される。

Description

【発明の詳細な説明】表面をコーティングする方法本発明は、請求項１の前提部にしたがって、金属表面、金属酸化物表面、金属塩表面、ケイ素含有表面及び高分子量のアコ酸化物(aquoxid)含有有機表面をコーティングする方法に関する。表面のコーティングには数多くの方法がよく知られており、たとえばCVD(化学蒸着)、PVD(物理蒸着)、プラズマコーティング、ラングミュア−ブロジェット法 (Langmuir-Blodgett-Technik)ならびに溶液からの吸着もしくは反応が挙げられる。これらの方法は、薄膜もしくは極薄膜（単分子膜を含む）を形成させる。薄膜および極薄膜の平均厚さは、数μｍにまで及ぶ。たとえば、自己集合膜（ selbst-assemblierende Film）がよく研究されており、この膜は均一溶液から表面で自然に集合する。二リン酸塩は、自己集合多分子層を生成する(Ulman，A.； Chem.Rev．1996，96，1533およびUlman，A.；MRS Bulletin 1995，６，46)。自己集合単分子層は、とりわけ、典型的にはチオール、ジスルフィドもしくはチオエーテル基を含む有機イオウ化合物とともに生成する（同上）。このような有機イオウ化合物は、遷移金属表面に強い親和性を示す。金、銀、銅、白金、水銀、鉄、ヒ化ガリウムおよびコロイダル金の表面との該化合物の関係はすでに研究されている（同上）。金表面における有機セレン化合物、たとえば有機セレノール（Samant，M.G.； Brown，C.A.；Gordon II，J.G.；Langmuir 1992，８，1615）、ならびにAl₂O₃， AgO，CuOおよびガラス表面における脂肪酸、たとえばｎ−アルカン酸(Ulman，A. ；Chem.Rev．1996，96，1533およびUlman，A.；MRS Bulletin 1995，６，46)も、自己集合単分子層を生成する。アルカンニトリル類(Steiner，U.B.；Caseri，W.R.；Sute r，U.W.；Langmuir 1992，８，2771)、ホスフィン類、トリフェニルアミン、トリフェニルアルシン、トリフェニルスチビン、トリフェニルビスムチン(Steiner ，U.B.；Neuenschwander，P.；Caseri，W.R.；Suter，U.W.；Stucki，F.；Langm uir 1992，８，90)、イミド類（Steiner，U.B.；Caseri，W.R.；Suter，U.W.；R ehahn，M.；Schmitz，L.；Langmuir 1993，９，3245）ならびにトリコシルイソシアニド(Bain，C.D.；Eval，J.；Whitesides，G.M.；J.Am.Chem.Soc．1989，11 1 ，7155)の吸着も記述されている。共有C-Si結合を有する単分子層は、過酸化物の助力を得てH-Si(111)もしくはH-Si(100)であるケイ素表面で得られる(Ulman， A.；Chem.Rev．1996，96，1533)。典型的にはクロロシラン、アルコキシシランもしくはアミノシランのグループを含む有機ケイ素化合物も、また、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、石英、ガラス、雲母、セレン化亜鉛、酸化ゲルマニウムおよび金、のような基質に自己集合単分子層を形成する(Ulman，A.；Chem.Rev．19 96，96，1533およびUlman，A.；MRS Bulletin 1995，６，46)。そのうえ、これらの有機ケイ素化合物の多分子層が知られている(Ulman，A.；Chem.Rev．1996，96 ，1533およびUlman，A.；MRS Bulletin 1995，６，46)。本発明の目的は、表面をコーティングする方法を提案することにあり、本発明は、金属、金属酸化物、金属塩、ケイ素含有材料および高分子量のアコ酸化物含有有機材料のような、異なった種類の材料に、付着性の向上した薄膜および／または極薄膜層（単分子層を含む）を製造することを可能にする。この目的は、請求項１の特徴部に記載された特徴により達成される。本発明の好ましい態様は、請求項２〜30に示される。本発明は、以下の発見に基づく。すなわち、Si-H，Sn-Hもしくは Ge-H基を有する試薬は、活性化剤として、化合物もしくは金属の形態の白金族金属の存在下に、金属表面、金属酸化物表面、金属塩表面、ケイ素含有表面および高分子量のアコ酸化物含有有機表面に層を形成すること。この試薬は、固体または液体であり、液状、ペースト状もしくは固体状で、そのままもしくは媒体中で用いられる。この試薬は、たとえば溶液として、エマルジョンとして、懸濁液として、泡としてまたは噴霧して、用いうる。技術の専門用語に従えば、元素Ru，Rh，Pd，Os，IrおよびPtは、白金族金属として知られている。好ましいのは白金化合物であり、シラン類で還元されて白金（０）となったもの、またはすでに白金（０）を含むもの、を包含する。金属の形態で、白金族金属は、好ましくは極小の（atomar）、コロイド状の、もしくはより大きな大きさの、粒子として存在する。シラン類で白金（０）に還元されうるか、またはすでに酸化の段階が０にある白金化合物が、すでにたとえばCaseri，W.R.；Disser 金化合物の例は、次のとおりである。シス−ジクロロビス（スチレン）白金（II）、トランス−ジクロロビス（スチレン）白金（II）、塩化白金（II）、臭化白金（II）、テトラクロロ白金（II）酸カリウム、白金（０）ジビニルテトラメチルジシロキサン、ツァイゼ塩（Zeis e-Salz）、トリフェニルホスフィンアセチルアセトナトクロロ白金（II）、ジクロロ−μ₂−ジクロロビス（スチレン）二白金（II）またはビス（シクロオクタジエン）白金（０）。たとえばSi-H，Sn-HもしくはGe-H結合と酸化的付加反応により反応する遷移金属化合物が、有機金属化学において知られている。この反応は、たとえば、ヒドロシリル化、ヒドロスタニル化およびヒドロゲルミル化反応に用いられる。ヒドロシリル化反応は、たとえばオレフィン、アセチレン、ケトン、イミンおよびニトリル類における多重結合への、有機もしくは無機ケイ素の水素化物の付加を示す（Bogdan，M.；“Comprehensive Hand book on Hydrosilylation”，Pergamon Press，Oxford 1992）。スパイア（Spei er）の成果(Speir，J.L.；Webster，J.A.；Barnes，G.H.；J.Am.Chem.Soc．1957 ，79，974およびSpeier，J.L.；Adv.Organomet.Chem．1979，17，407)、ならびに遷移金属へのシラン類の酸化的付加反応の最初の例を自ら観察したことに基づいて、チョーク(Chalk)とハロッド（Harrod）は、ヒドロシリル化反応に関する均一系触媒作用を提案した（Chalk，A.J.；Harrod，J.F.；J.Am.Chem.Soc．1965 ，87，16）。不均一系触媒によるヒドロシリル化反応もあり、そこでは遷移金属化合物はコロイドに還元され、生成するコロイドは触媒活性を有する。たとえば、ヘキサクロロ白金酸は、還元されて、触媒活性を有するコロイダル白金となる (Lewis，L.N.；Lewis，N.；J.Am.Chem.Soc．1986，108，7228)。ヒドロスタニル化およびヒドロゲルミル化反応は、多重結合への有機もしくは無機水素化物の付加反応を示すことで類似する。上述の文献は、多重結合との反応を記述する。本発明によれば、意外にも以下のことが見出された。すなわち、コーティングされる表面材料の固相と試薬との間で反応が起り、そこでは望ましい強付着力のコーティングが活性化剤の存在下で得られる。米国特許第5,215,801号明細書において、ビニル基および水素化物で官能基化されたシリコーンの架橋反応が記述されている。これは、白金触媒を用いた古典的なヒドロシリル化反応である。加硫されるシリコーンはSiO₂を充てんされるが、これはとりわけ付着力を向上させるためである。 Si-H基とコーティングされる表面材料との間の、活性化剤の存在下での反応は、企図されていない。ドイツ特許出願第1914411号公開明細書において、気相反応もしくは気相からの成長が、それぞれ記述されている。たとえば、Si-Hを含む化合物が、蒸発、すなわち気相中に移動されている。反応性のガス状物質は触媒（たとえばPt）で活性化される。つづいて、活性化された物質は、試薬（たとえばアンモニア）と反応するか、または分解される必要がある。反応するかもしくは分解された物質のみが、望ましい層を形成する。さらに、米国特許第4,873,119号明細書において、気相反応が記述されている。ここでは、Si-HもしくはGe-H基を有する化合物からアモルファス半導体が製造されている。そのSi-HもしくはGe-H化合物は、気相に移動し、たとえば白金で活性化され、たとえばグロー放電、熱（熱分解を含む）または光（IR，UVを含む）によって分解されてアモルファス半導体となり、表面に堆積される。 CVDやPVDのようなコーティング法に比べて、本発明の利点は、試薬を気相に移動させることなく、液状、ペースト状もしくは固体状で使用しうるという点にある。本発明方法の特別の利点は、コーティングされる様々の基質の多様性である。コーティングされる好ましい表面、すなわち基質は、次のとおりである。金属、金属酸化物、金属塩、合金（たとえば鋼）、ケイ素化合物（たとえばシリコンウエハーもしくはケイ酸塩ガラス）、酸化物セラミックス、れんが、粘土、ガラスセラミックス、サーメット）、岩石（たとえばケイ酸塩、石英、炭酸塩、硝酸塩、ホウ酸塩、リン酸塩、硫酸塩）および／または人工石、たとえばコンクリートである。金属、金属酸化物および金属塩の例は、Li，Na，Mg，Al，K，Ca，Ti，V，Cr， Mn，Fe，Co，Ni，Cu，Zn，Ge，Rb，Y，Zr，Nb，Mo，Ru，Rh，Pd，Ag，Cd，In，S n，Cs，Ba，Hf，Ta，W，Re，Os，Ir，Pt，Au，Pb，La，Ce，NdおよびUである。コーティングされる好ましい表面は、さらに、高分子量のアコ酸化物含有有機化合物であり、たとえば木材、ボール紙、紙、多糖類（たとえばセルロースもしくはコラーゲン）、および／または多価アルコールである。高分子量のアコ酸化物含有有機化合物を有する基質は、たとえば表面処理によっても得られる。その例は、コロナ、プラズマ、炎もしくはクロム酸処理で改質されたポリエチレンもしくはポリプロピレン、または加水分解により前処理されたポリエチレンテレフタレートもしくはポリアミドである。好ましい基質は、混合形態でも生じ得、たとえば、種々の酸化ケイ素、金属酸化物および金属塩が、岩石の表面で同時に存在しうる。本発明のさらなる利点は、自然に形成された酸化物層への有用なコーティングに使用しうることが多い点にある。平滑な表面も非平滑な表面と同様にコーティングされうる。コーティングされる表面の大きさおよび／または性状は、本発明方法を限定するものではない。したがって、箔、多孔質材もしくは層（たとえば気孔壁も）の外・内表面、内、外表面、粒子、コロイド、ならびにたとえばプラスチックス、ガラス等の好ましい予備コーティングされた表面は、本発明によりコーティングされうる。 ie Lexikon”(Georg Thieme Verlag，Stuttgart 1991）に基づく。酸化物は、酸素が電気性陰性成分であれば、酸素を有する元素からなる化合物である。分子中に存在する酸素原子の数は、該元素中の原子に対応して変化しうる。酸化物は、また、いくつかの異なる元素（たとえばオキソ金属塩、スピネル）とともに、および／または異なる酸化数（たとえば、最小）の元素とともに、生成しうる。酸化物の特殊な形態は、イソポリ酸およびヘテロポリ酸（Iso-und He Peroxide）、亜酸化物（Suboxide）および酸無水物(Anbydride)である。アコ酸化物(Aquoxides)〔水酸化物、酸化物水和物(Oxidhydrate)、オキソニウム塩および酸化物アコ化物（Oxidaquate）〕も、また酸化物化合物（Oxidische Verbindu ngen）に属する。化学量論的に構成される酸化物に加えて、酸素との非化学量論的な化合物もあり、そこではクラスター結合(Cluster-Bindungen)が存在しうる。高分子量のアコ酸化物含有有機化合物（約1000ｇ／molを超える分子量）は、水酸化物グループ、脱プロトン水酸化物グループおよび／または水（水酸化物、酸化物水和物、オキソニウム塩および酸化物アコ化物）を含む。さらに、H₂O分子の形および／またはH₃O⁺基の形、の水は、化学量論的にもしくは非化学量論的に有機化合物に結合され、および／または自由に動いて有機化合物に吸着される。本発明方法は、製造されるコーティングの多様性を大きくする。本発明によれば、高分子量化合物、すなわち約1000ｇ／molを超える分子量の化合物、と同様に、低分子量化合物、すなわち約1000ｇ／molまでの分子量の化合物を用いうる。付加的な官能基を含みうる低分子量化合物、重合体もしくは共重合体を用いることにより、種々の目的のためのコーティングを製造しうる。良好な結果を生じる試薬の例は、Si-H含有シラン、ポリシラザン、ポリヒドロシロキサンおよびポリシロキサンである。たとえば、 Si-H基含有ポリシラン、ポリカルボシランもしくはポリシルセスキオクサンも試薬として好ましい。付加反応基を有する試薬を用いると、表面改質のさらなる反応を本発明によるコーティングで行ないうる。本発明によるコーティングは、種々の目的に分解されうる。たとえば、酸化層は、本発明によるコーティングを熱分解して発生しうる。加えて、本発明方法は、他の表面処理方法と組み合わせて、種々の分解生成物を得ることができる。試薬の選択次第で、種々の性質を有するコーティングを本発明によって製造しうる。したがって、それらのコーティングは非常に多様な技術分野で使用されうる。そのコーティングは、たとえば次のように用いられる。すなわち、保護物（UV、腐食、拡散、微生物等）、含浸、仕上げ塗り、着色、ワニス、装飾、接着補助、生体適合性、接着、粘着、潤滑、グリース、アンチブロック(Antiblock)、付着防止（Antihaft）、落書防止（Antigraffiti）、くもり止め（Antibeschlag）、分離、および／または離型（Entformung）の層として。加えて、本発明方法は、他の表面処理と組み合わせて、上述の結果を得ることができる。本発明によるコーティングは、上述のとおり、たとえば表面の結合に適している。たとえば、本発明によるコーティングの助力を得て、表面は付加的官能基を含む試薬でコーティングされうる。このような付加的可能基と他の物質の反応によって、表面は、たとえば、結合されうる。本発明によるコーティングは、たとえばプラスチックスとの熱的結合に適している。たとえば、プラスチックスは、本発明によるコーティング上に直接射出されうる。加えて、本発明方法は、他の表面処理と組み合わせて上述の結果を得ることができる。本発明によるコーティングは、上述のとおり、たとえば潤滑に適している。本発明によるコーティングは、たとえば、直接に潤滑層として、および／または表面と潤滑剤との分離を減少させる層として、使用しうる。さらに、本発明方法は、他の処理と組み合わせて、上述の結果を得ることができる。上述のとおり、たとえば、時計仕掛け機構のような機械的システムは、本発明のコーティングの助力を得て円滑にされうる。本発明によるコーティングは、安定剤（Stabilisator）、結合剤厚化剤(Verdicker)および／または柔軟剤(Weichmacher)として用いうる。加えて、本発明方法は他の処理と組み合わせて上述の結果を得ることができる。本発明によるコーティングは、たとえば、上述のとおり、セラミックスの製造のために懸濁粒子の結合に用いられる。たとえば、極端に小さな粒子の凝集は、本発明によるコーティングの助力を得て達成されうる。そして、これらの粒子は、たとえば成型され、つづいて焼成される。本発明のコーティングは、種々の表面エネルギーを有する表面の製造にも用いうる。たとえば、適切な試薬を用いて、異なった水和性のある親水性もしくは疎水性で、異なった接触角を有する層を製造しうる。さらに、本発明方法は他の処理と組み合わせて、上述の結果を得ることができる。本発明のコーティングは、たとえば、上述のとおり、異なった水和性のある親水性もしくは疎水性で、異なった触媒角を有するコーティングを印刷板もしくは箔（Druckplatten oder-folien）上に製造しうる。コーティングは、つづいて部分的に除去もしくは変更されうる。この方法は、特に版本(Beschrichtung)の製造に適している。版本は、印刷所(Drucke rei)で直接にコーティングを用いることによっても製造しうる。アルミニウムもしくはポリエステルのような親水性の、インクをひきつける印刷板もしくは箔の上に、ポリシロキサンのような疎水性の、インクをはじくコーティング材料を用いると、たとえば水がない平板印刷（Flachdruck）が可能である。インクをひきつけ、水をはじくコーティング材料が、アルミニウム、ポリエステルのような水をひきつける印刷板もしくは箔の上に用いられると、たとえば湿式オフセット印刷が可能である。さらに、たとえば光および／または温度の影響で、親水性から疎水性に、および／または逆に（書き込み）、その性質を変化するような物質がコーティングに用いられうる。このように印刷板もしくは箔は、たとえば何度でも印刷されうる。加えて、本発明方法は、他の方法と組み合わせて、上述の結果を得ることができる。本発明のコーティングは、また、電気工学、電子工学、ミクロテクノロジー、ナノテクノロジー、バイオテクノロジーおよび／または医学の種々の領域に適しており、たとえば絶縁体（Isolator）、センサー（Sensor）、探知器（Detektor ）および／または「ミクロコンタクト印刷」（“Micro-Contact-Printing”）が挙げられる。本発明のコーティングは、また、環境工学の領域、たとえばフィルター類、に適している。本発明のコーティングは、建物、記念碑および／または美術品の保護および／または修復の領域で使用されうる。本発明のコーティングは、また、自動車産業の種々の領域に適しており、たとえば塗料の塗布での表面改質が挙げられる。さらに、本発明方法は、他の処理と組み合わせて上述の領域で用いられる。本発明方法の実施に際しては、活性化剤が、たとえばそのままで、溶液で、エマルジョンで、懸濁状で、泡状で、噴霧状で、あるいは液および／または固相を含む他の方式で、用いられうる。上述したとおり、試薬は、液状、ペースト状もしくは固体状で用いられる。好ましくは、まず活性化剤、ついで試薬が、コーティングされる表面に使用されるか、または、まず活性化剤と試薬が混合され、生成する混合物を基質表面に使用される。さらに、活性化剤および／または試薬は、他の均質と混合され、ついでコーティングされる基質表面に使用されうる。以下の実施例は本発明のいくつかの態様を示す。実施例の一部は、アルゴン雰囲気下で実施された。それによって、本発明によるコーティング反応への、空気中に存在する不純物の影響を排除することが企図されている。しかしながら、本発明方法は、また、貴ガスの不存在下で、すなわち、大気中で、何ら問題なく実施しうる。実施例コーティングで被覆する表面の製造：片面を研磨した単結晶Si(100)ウエハーを、アルミニウム、チタン、クロム、鉄、ニッケル、銅もしくは金の膜でコーティングした。トルエンUVに浸潰することにより、有機夾雑物がウエハーから除去された。ウエハーは、バルザース(Bal zers)MED010装置(Balzers AG，Balzers，リヒテンシュタイン)を用いて10^-3Paの圧力で熱蒸発されて、膜で被覆される。まず、約６nmのクロム（99.9％、Balzer s AG，Balzers，リヒテンシュタイン）層が、接着補助剤としてウエハー上に蒸発される。ついで約200nmのアルミニウム(99.89％、Balzers AG，Balzers，リヒテンシュタイン)、鉄（99.9％、Al drich，Buchs，スイス）、銅（99.9％、Balzers AG，Balzers，リヒテンシュタイン）、金(99.99％、Balzers AG，Balzers，リヒテンシュタイン)または約40nm のニッケル（99.9％、Aldrich，Buchs，スイス）を、約２nm／ｓのコーティング速度で蒸発させて、該クロム層をコーティングした。加えて、単結晶Si(100)ウエハーが、コーティング速度約２nm／ｓで、約200nmのチタン(99.99％、Aldrich ，Buchs，スイス)もしくはクロム（99.9％、Balzers AG，Balzers，リヒテンシュタイン）で直接コーティングされた。蒸発工程が終了した後に、真空チャンバーをアルゴンで充たした。ウエハーは、チャンバーから取り出され、ただちに次の処理を施された。蒸発によって形成されたアルミニウム、チタン、クロム、鉄、ニッケルおよび銅膜は、ここで適用される条件下での自然酸化層とともに用いられた。金膜には、酸化は、ここで用いられる条件下では検出されなかった。鋼表面として熱間圧延された、建設用非合金鋼板（USt 37-2、未処理(roh)、P estalozzi，Dietikon，スイス）が使用された。有機夾雑物はトルエンUV中に浸漬してシートから除去された。イス)(18×40×１mm)が使用された。この板を、トルエンp.a.でふいた。つづいて、この板は超音波浴（Bandelin，Sonorex，Super RK106）中で１時間、酢酸に浸漬された。その後、この板は、水（蒸留）、アセトンおよびトルエンp.a.で洗浄された。 V2A鋼表面として、W 4301 BTの板(Notz Metall，Biel，スイス)(18×40×１mm )が使用された。この板をトルエンp.a.でふいた。つづいて、この板は、王水中に１分間浸漬された。その後、この板は、水（蒸留）、アセトンおよびトルエン p.a.で洗浄された。銅表面として、銅板Cu-ETP／CuOF(DIN1787)(Metall Service Men て、アルミニウム板AlSilMgMn（Alusuisse Allega，Niederglatt，スイス）が使用された。その板（18×40×１mm）をトルエンp.a.でふいた。つづいて、その板は酢酸中で10分間浸漬した。その後、その板は、水（蒸留）、アセトンおよびトルエンp.a.で洗浄された。ケイ素表面として、片面を研摩された単結晶Si(100)ウエハー（使用された。有機夾雑物が、トルエンUV中に浸漬してウエハーから除去された。ガラス表面として、顕微鏡スライド（Menzel，Braunschweig，ドイツ)(18×40 ×１mm)が使用された。スライドはNaOH（10ｗ％水（蒸留）溶液）中に一昼夜浸漬し、水（蒸留）、アセトンおよびトルエンp.a.で洗浄した。セラミックス表面として、酸化アルミニウムセラミックス板(96％、A476，Fir ag，Ebmatingen，スイス)(18×40×１mm)が使用された。有機夾雑物が、トルエンUVに浸漬して板から除去された。岩石表面の例として、Pietra di Lecce産の岩板(Ditta DECOR S.a.S．di MART INA & Co.，Arnesano，イタリー）、Berne産砂岩（Molasse，Steinbruch Osterm undingen，スイス）および多色砂岩(Buntsandstein)(Steinbruch Kirschfurt，M iltenberger Industrie でその板（約５×５×１cm）を洗浄して除去された。コンクリート表面の例として、マイン（Main）砂利を含む砂利コンクリート、ドナウ(Donau)砂利を含む砂利コンクリート、および石灰砂利（Kalkschotter）とマイン（Main）砂（Miltenberger Ind された。夾雑物は、それらのコンクリート片（約４×４×４cm）を水（蒸留）で洗浄して除去される。木材表面の例として、ポプラ、カエデおよびオーク(Pastorini，ボール紙(約２×２×0.1cm)、標準的な包装材が使用された。これらの基材は、水（蒸留）とアセトンで洗浄された。ドイツ)は、トルエンp.a.で洗浄された。綿（織物、約３×３cm）。ス）は、水（蒸留）、アセトンおよびトルエンp.a.で洗浄された。絹として、ツイル(Twill)絹(19001、煮沸)とハボタイ(Habotai れた。これらの絹（織物、約３×３cm）は、トルエンp.a.で洗浄された。化学薬品および器具化学薬品：トルエンUV（99.5％、UV級品）、トルエン(purum)、ヘキサンUV（UV級品）、クロロホルムUV（UV級品）、四塩化炭素UV（UV級品）、塩酸(37％、puriss p.a. )、硝酸(65％、puriss p.a.)、ジメチルジクロロシラン（99.5％）、トリブチル錫水素化物（98％）およびヘキサクロロ白金酸・水和物（38％Pt）は、Fluka（B uchs，スイス）より購入した。クロロジメチルシラン（98％）、オクタデシルシラン（98％）およびトリブチルゲルマニウム・水素化物（99％）は、Aldrich（Buchs，スイス）より購入した。精製のために、オクタデシルシラン（98％）１ｇが、ジオキサン20mlに溶解され、水１mlとシリカゲル２ｇで処理した。混合物を、室温で48時間撹拌した。その後、混合物は、ろ紙でろ過され、液体は真空下、45℃で回転蒸発器で取り出された。ついで、この物質を240℃で減圧蒸留した。ジエチルメチルシラン、水素化物末端ポリジメチルシロキサン(M.W．28000ｇ／mol)、トリメチルシロキシ末端ポリジメチルシロキサン(M.W．28000ｇ／mol) 、水素化物末端ポリジメチルシロキサン(M.W．62000ｇ／mol)、ポリメチルヒドロシロキサン(M.W．2270ｇ／mol)、ジメチルシロキシ−末端（45−50％）メチルヒドロ−（50−55％）フェニルメチルシロキサン−共重合体、（１，２−ジメチルシラザン−（１−メチルシラザン）共重合体および白金（０）−ジビニルテトラメチルジシロキサン（キシレン中で錯体、2.1−2.4％白金、わずかに着色）は、ABCR(Karlsruhe，ドイツ)より購入した。「RTV601」、「RTV604」および「RTV625」シリコンゴムは、Wacker(Basel，スイス)より購入した。「Sylgard184」はDow Corning（Wiesbaden，ドイツ）より購入した。ポリエステル（「Mylar A」）はDu Pont de Nemours(Bad Homburg，ドイツ)より購入した。酢酸(100％、reinst)およびトルエンp.a.(puriss p.a.) は、Riedel NaOH（板状小片、PH.Eur．II）は、Siegfried(Zofingen，スイス)より購入した。。シス−ジクロロビス（スチレン）白金（II）は、文献（Caseri，した。アルゴン(99.99％)は、Pan Gas(Luzern，スイス)より購入した。分析：赤外反射吸収スペクトル(入射角80°)(IR)、MgKα線を用いたＸ線光電子分光( XPS)、だ円偏光計(λ＝632.8nm)および／または水の前進接触角（θａ）が測定された。分析方法の詳細な説明は、次の刊行物で入手しうる。Steiner，U.B.；Caseri ，W.R.；Suter，U.W.；Rehahn，M.；Schmitz，L,；Langmuir 1993，９，3245。実施例１−２：トルエンUV 160mlを、氷浴中で約15分間、アルゴンで脱気した。つづいて、シス−ジクロロビス（スチレン）白金(II)3.8mgを添加して、アルゴン雰囲気下で約20分間、氷浴中で撹拌した。ついで、金膜を有する基板を、得られた溶液もしくは懸濁液に浸漬した。つづいて、Si-H基を有する化合物を添加した。その後、氷浴を取り除き、反応混合物をアルゴン雰囲気下で１時間、わずかに撹拌した。ついで、基板を取り除き、トルエンUV 30mlで洗浄し、アルゴン気流中で乾燥した。得られる試料を、分析に供するまで、アルゴン下で茶色のスナップ−キャップ（Snap-cap）容器(Merck，Dietikon，スイス)中に貯蔵した。実施例１： Si-H基を有する化合物はクロロジメチルシラン17.8μｌであった。実施例２： Si-H基を有する化合物は、ジエチルメチルシラン23.4μｌであった。実施例３−38：トルエンUV 160mlを室温で約15分間、アルゴンで脱気した。つづいてシス−ジクロロビス（スチレン）白金(II)3.8mgを添加して、アルゴン雰囲気下に室温で約10分間撹拌した。ついで基板を、得られた溶液もしくは懸濁液に浸漬した。つづいて、Si-H，Sn-HもしくはGe-H基を有する化合物を添加した。その後、反応混合物をアルゴン雰囲気下に室温で１時間、わずかに撹拌した。ついで、基板を取り除き、トルエンUV 30mlで洗浄し、アルゴン気流中で乾燥した。得られた試料を、分析に供するまで、アルゴン下で貯蔵した。実施例３−20： Si-H基を有する化合物は、水素化物末端ポリジメチルシロキサン（M.W．28000 ｇ／mol）4.6mlであった。実施例３：基板を、金膜で被覆した。実施例４：基板を銅膜で被覆した。実施例５：基板をアルミニウム膜で被覆した。実施例６：基板をクロム膜で被覆した。実施例７：基板をチタン膜で被覆した。実施例８：基板を鉄膜で被覆した。実施例９：基板は、銅板であった。実施例10：基板はアルミニウム板であった。実施例11：基板は鉄板であった。実施例12：基板はV2A鋼板であった。実施例13：基板はガラス板であった。実施例14：基板はセラミックス板であった。実施例15：基板はPietra di Lecce産石板であった。実施例16：基板は、Molasse石板であった。実施例17：基板は多色砂岩よりなる石板であった。実施例18：基板はマイン（Main）砂利を含む砂利コンクリート板であった。実施例19：基板はドナウ(Donau)砂利を含む砂利コンクリート板であった。実施例20：基板は石灰砂利とマイン（Main）砂を有する砕石コンクリート板であった。実施例21−26： Si-H基を有する化合物は、ポリメチルヒドロシロキサン0.37mlであった。実施例21：基板を金膜で被覆した。実施例22：基板を銅膜で被覆した。実施例23：基板をアルミニウム膜で被覆した。実施例24：基板を鉄膜で被覆した。実施例25：基板をニッケル膜で被覆した。実施例26：基板は、シリコンウエハーであった。実施例27：基板を銅膜で被覆した。Si-H基を有する化合物は、ジメチルシロキシ末端を有する（45−50％）メチルヒドロ−（50−55％）フェニルメチルシロキサン共重合体0.19mlであった。実施例28−29： Si-H基を有する化合物は（１，２−ジメチルシラザン）−（１−メチルシラザン）共重合体0.05mlであった。実施例28：基板を銅膜で被覆した。実施例29：基板はシリコンウエハーであった。実施例30−33： Si-H基を有する化合物は、水素化物末端ポリジメルシロキサン(M.W．62000ｇ／mol)1.02mlであった。実施例30：基板を金膜で被覆した。実施例31：基板を銅膜で被覆した。実施例32：基板をアルミニウム膜で被覆した。実施例33：基板を鉄膜で被覆した。実施例34： Si-H基を有する化合物はオクタデシルシラン45mgであった。基板を金膜で被覆した。実施例35−36： Sn-H基を有する化合物はトリブチル錫水素化物0.04mlであった。実施例37−38： Ge-H基を有する化合物はトリブチルゲルマニウム水素化物0.04mlであった。実施例37：基板を金膜で被覆した。実施例38：基板を銅膜で被覆した。実施例39−46：シス−ジクロロビス（スチレン）白金（II）を、室温で約10分間、トルエン中で撹拌した。ついで、基板を溶液もしくは懸濁液に浸漬した。つづいて、水素化物末端ポリジメチルシロキサン(M.W．28000ｇ／mol)を添加した。ついで反応混合物を室温で下記に示す時間、わずかに撹拌した。その後、基板を取り除き、トルエン30mlで洗浄し、大気中で乾燥した。得られる試料を、分析に供するまで茶色のスナップ−キャップ容器中で貯蔵した。実施例39−41：活性化剤の濃度は50μＭであり、Si-H基を有する化合物のそれは１mMであった。反応混合物を１時間わずかに撹拌した。実施例39：基板を金膜で被覆した。実施例40：基板を銅膜で被覆した。実施例41：基板は銅板であった。実施例42−44：基板は銅板であった。反応混合物を１時間わずかに撹拌した。実施例42：活性化剤の濃度は50μＭ、Si-H基を有する化合物のそれは0.1mMであった。実施例43：活性化剤の濃度は50μＭ、Si-H基を有する化合物のそれは0.01mMであった。実施例44：活性化剤の濃度は５μＭ、Si-H基を有する化合物のそれは0.1mMであった。実施例45−46：基板は銅板であった。活性化剤の濃度は50μＭ、Si-H基を有する化合物のそれは0.1mMであった。実施例45：反応混合物を30分間わずかに撹拌した。実施例46：反応混合物を10分間わずかに撹拌した。実施例47−55：シス−ジクロロビス（スチレン）白金（II）を、室温で約10分間、トルエン中で撹拌した。つづいて、水素化物末端ポリジメチルシロキサン(M.W．28000ｇ／m ol)を添加した。ついで、反応混合物を室温で基板上に塗布した。その後、基板をトルエン30mlで洗浄し、大気中で乾燥した。得られた試料を、分析に供するまで、茶色のスナップ−キャップ容器中で貯蔵した。実施例47−49：活性化剤の濃度は50μＭ、Si-H基を有する化合物のそれは１mMであった。綿− 羊毛玉を用いて、反応混合物を基板に塗布した。実施例47：基板を金膜で被覆した。実施例48：基板を鋼板で被覆した。実施例49：基板を銅板で被覆した。実施例50−52：基板は銅板であった。反応混合物をピペットで基板上に１滴ずつ添加した。実施例50：活性化剤の濃度は50μＭ、Si-H基を有する化合物のそれは0.1mMであった。実施例51：活性化剤５mg、トルエン１mlおよびSi-H基を有する化合物１mlを用いた。実施例52：活性化剤５mgとSi-H基を有する化合物１mlとを用いた。反応は、そのまま、すなわち、トルエン不存在下で行なった。実施例53−55：活性化剤の濃度は50μＭ、Si-H基を有する化合物のそれは１mMであった。反応混合物を噴霧器で基板上にふきつけた。実施例53：基板を金膜で被覆した。実施例54：基板は鋼板であった。実施例55：基板は銅板であった。実施例56−59：シス−ジクロロビス（スチレン）白金(II)3.8mgを、室温で約10分間、トルエン160ml中で撹拌した。つづいて、水素化物末端ポリジメチルシロキサン(M.W．2 8000ｇ／mol)を添加した。下記の時間経過後に、銅板を溶液もしくは懸濁液に浸漬し、反応混合物を１時間、わずかに撹拌した。その後、銅板を取り除き、トルエンp.a.30mlで洗浄し、大気中で乾燥した。得られる試料は、分析に供するまで茶色のスナップ−キャップ容器中で貯蔵した。実施例56：１時間後に浸漬した。実施例57：６時間後に浸漬した。実施例58：１週間後に浸漬した。実施例59：２時間後に浸漬した。実施例60：トルエンUV 160mlを室温で約15分間、アルゴンで脱気した。つづいて、シス− ジクロロビス（スチレン）白金(II)3.8mgを添加し、室温で約10分間、アルゴン下に撹拌した。銅膜で被覆された基板を溶液もしくは懸濁液に浸漬した。つづいて、クロロジメチルシラン 17.8μｌを添加し、室温でアルゴン下に10分間、わずかに撹拌した。ついで、ジメチルジクロロシラン193μｌを添加し、室温でアルゴン下に50分間わずかに撹拌した。その後、基板を取り除き、トルエンUV 30mlで洗浄し、アルゴン気流中で乾燥した。得られた試料を、分析に供するまで、アルゴン下に茶色のスナップ −キャップ容器中に貯蔵した。実施例61−67：シス−ジクロロビス（スチレン）白金(II)3.8mgを室温で約10分間、トルエンp .a．160ml中で撹拌した。ついで得られる溶液もしくは懸濁液に基板を浸漬した。つづいて、ポリメチルヒドロシロキサン0.37mlを添加した。ついで反応混合物を室温で１時間わずかに撹拌した。その後、基板を取り除きトルエンp.a.30mlで洗浄し、アルゴン気流中で乾燥した。得られた試料を、分析に供するまで、茶色のスナップ−キャップ容器中で貯蔵した。実施例61−64：コーティングされる基板に、「RTV601」、「RTV604」および「RTV625」の層を使用した。実施例61：基板を銅膜で被覆した。実施例62：基板をアルミニウム膜で被覆した。実施例63：基板は銅板であった。実施例64：基板はアルミニウム板であった。実施例65：コーティングされるガラス板に、「Sylgard184」を使用した。実施例66−67：「RTV601」の層を２枚のコーティングされる基板間に使用した。実施例66：基板は２枚の銅板であった。実施例67：基板は２枚のアルミニウム板であった。実施例68：厚さ約10nmのアルミニウム膜をポリエステル箔上に蒸着させ、ついでシス−ジクロロビス（スチレン）白金(II)(50μＭ)と水素化物末端ポリジメチルシロキサン(M.W．28000ｇ／mol)(0.1mM)の混合物に、トルエンp.a.中で１時間、浸漬した。その後、基板を取り除き、トルエンp.a.で洗浄し、アルゴン気流中で乾燥した。得られた、コーティングされた表面をレーザービームを用いて製版した。ついで、この製版された表面をアルミニウム板にはりつけ、水分のない平板印刷用の印刷板として使用した。実施例69−72：トルエンUV 160mlを室温で約15分間、アルゴンで脱気した。つづいて活性化剤を添加し、室温で約10分間アルゴン下で撹拌した。ついで、基板を溶液もしくは懸濁液に浸漬した。つづいて、水素化物末端ポリジメチルシロキサン(M.W．2800 0ｇ／mol)0.46mlを添加した。ついで、反応混合物を室温で１時間、アルゴン下にわずかに撹拌した。その後、基板を取り除き、トルエンUV 30mlで洗浄し、アルゴン気流中で乾燥した。得られた試料を、分析に供するまで、茶色のスナップ −キャップ容器中で、アルゴン下に貯蔵した。実施例69−71：活性化剤は白金（０）−ジビニルテトラメチルジシロキサンであった。実施例69：基板を金膜で被覆した。実施例70：基板を銅膜で被覆した。実施例71：基板をアルミニウム膜で被覆した。実施例72：活性化剤は、ヘキサクロロ白金酸水和物６mgであった。基板を金膜で被覆した。実施例73−81：シス−ジクロロビス（スチレン）白金（II）を、室温で約10分間、トルエン中で撹拌した。ついで、基質を溶液もしくは懸濁液に浸漬した。つづいて、水素化物末端ポリジメチルシロキサン(M.W．28000ｇ／mol)を添加した。活性化剤の濃度は50μＭ、Si-H基を有する化合物のそれは0.1mMであった。ついで、反応混合物を、室温で１時間わずかに撹拌した。その後、基板を取り除き、トルエンp.a. で洗浄し、大気中で乾燥した。得られた試料を分析に供するまで、茶色のスナップ−キャップ容器中で貯蔵した。実施例73：基質はポプラ木片であった。実施例74：基質はカエデ木片であった。実施例75：基質はオーク木片であった。実施例76：基質はボール紙であった。実施例77：基質はセルロース板であった。実施例78：基質は綿であった。実施例79：基質はビスコースであった。実施例80：基質はツイル絹であった。実施例81：基質はハボタイ・タフタ絹であった。実施例１−81で説明したすべての実験は、活性化剤の不存在下に行なわれた。活性化剤の不存在下では、Si-H，Sn-HもしくはGe-H結合を有する化合物は、表面と結合しないか、もしくはほんのわずかに結合するにすぎない、ことが、これらの実験全体からわかった。純溶媒を用いるか、もしくは活性化剤単独を含む溶液もしくは懸濁液を用いた、空試験(Blindversuche)も、またSi-H，Sn-HもしくはG e-H基を有するそれぞれの化合物の存在下で得られるようなコーティングを生成しない。実施例１−81で述べられたすべての実験において、Si，SnもしくはGeを含む層の生成が、活性化剤の存在下では観察された。実施例１−81にしたがって得られた、コーティングされた基質を、Si-H，Sn-HもしくはGe-H基を有する化合物に対する溶媒に半日間浸漬し、ついでよく洗浄した。トルエンUV、トルエンp. a.、ヘキサンUV、クロロホルムUVもしくは四塩化炭素のいずれかを溶媒として使用した。Si，SnもしくはGeを含有するコーティングが洗浄後も存在することがこの実験全体からわかった。 Si-H基のないSi含有化合物とともにシス−ジクロロビス（スチレン）白金（II ）の存在下での実験を、ジメチルジクロロシランとトリメチルシロキシ末端ポリジメチルシロキサンとともに、金膜に関して行なった。 Si-H基のないSi含有化合物は膜表面に結合しないか、もしくはほんのわずかしか結合しないことが結果全体からわかった。実施例の評価：実施例１は、厚さ約６nmで、水の前進接触角約108°の層を生成した。IRスペクトルおよびXPS測定は、OSi(CH₃)₂単位を有するオリゴマーおよび／またはポリマーのそれに合致した。蒸留されたクロロジメチルシランを用いた実験は、蒸留されていないクロロジメチルシランを用いた対応実験と比較できる結果をもたらした。実施例２は、厚さ約３nmで、水の前進接触角約90°の層を生成した。IRスペクトルおよびXPS測定は、OSi(CH₂CH₃)₂および／またはOSi(CH₂CH₃)(CH₃)単位を有するオリゴマーおよび／またはポリマーのそれに合致した。蒸留されたジエチルメチルシランを用いた実験は、蒸留されていないジエチルメチルシランを用いた対応実験と比較できる結果をもたらした。実施例３−８は、厚さ約２−５nmで、約108〜115°の水接触角の層を生成した。IRスペクトルおよびXPS測定は、ポリジメチルシロキサンのそれに合致した。実施例９−14は水接触角約105−115°を有する層を生成した。実施例15−20は、水接触角約105−130°を有する層を生成した。実施例21−26は、厚さ約５−８nmで、水の前進接触角約80−100°の層を生成した。IRスペクトルとXPS測定は、ポリメチルヒドロシロキサンのそれに合致した。 IRスペクトルは、必ずしもすべてのSi-H基が、ここで実施した条件下では反応しているわけではないことを示した。シリコン表面は、赤外反射スペクトルで日常的に測定されえなかったので、実施例 26はIRスペクトルで測定、比較できなかった。活性化剤を用いない実験に関して、膜の形成がポリメチルヒドロシロキサンに接触した金膜の場合に観察された。そのポリマー膜は、クロロホルムに半日浸漬すると完全に除去された。実施例27は、厚さ約３nmで、水の前進接触角約100°の層を生成した。IRスペクトルとXPS測定は、Si-H伸縮振動のないメチルヒドロ−フェニルメチルシロキサン共重合体のそれに合致した。実施例28−29は、厚さ約２−５nmで、水の前進接触角数85−95°の層を生成した。IRスペクトルとXPS測定は、（１，２−ジメチルシラザン）−（１−メチルシラザン）共重合体のそれに合致した。実施例28のIRスペクトルは、必ずしもすべてのSi-H基が実施条件下で反応しているわけではないことを示した。実施例29 は、実施例26と同様に、IRスペクトルでの測定、比較はできなかった。実施例30−33は、厚さ約２−５nmで、水の前進接触角約105−115°の層を生成した。IRスペクトルとXPS測定は、ポリジメチルシロキサンのそれに合致した。実施例34は、厚さ約２nmで、水の前進接触角約106°の層を生成した。IRスペクトルとXPS測定は、炭素原子18の鎖長の飽和炭化水素とSiO基を有する単分子層のそれに合致した。精製もしくは未精製のオクタデシルシランを用いた実験は、比較しうる結果を生じた。実施例35−36は、厚さ約４nmで、水の前進接触角約90°の層を生成した。3000 −2800cm^-1の領域でのIRスペクトルは、トリブチル錫水素化物のそれに合致した。1810cm^-1における伸縮振動は、観察できなかった。実施例37−38は、厚さ約１−２nmで、水の前進接触角70°−85°の層を生成した。3000−2800cm^-1の領域でのIRスペクトルは、トリブチルゲルマニウム水素化物のそれに合致した。2006cm^-1における伸縮振動は観察できなかった。実施例39−40，47−48および53−54についてのIRスペクトルとXPS測定は、ポリジメチルシロキサンのそれに合致した。実施例41−46は、水の前進接触角約105°−110°の層を生成した。実施例47−55は、水の前進接触角約100−110°の層を生成した。実施例56−59は、水の前進接触角100°−105°の層を生成した。その反応混合物は、コロイダル白金の存在を示す茶色を呈した。実施例60は厚さ約100nmで、水の前進接触角約138°の層を生成した。IRスペクトルとXPS測定は、ポリジメチルシロキサンのそれに合致した。実施例61−65は、基板に強く接着するシリコンゴムの層を生成した。実施例61 の試料に破断するまで垂直張力をかけた後に、シリコンウエハーから銅膜を取り除いたが、「RTV」はまだ銅膜に接着していた。本発明のコーティングなしには、比較しうる接着は観察されなかった。実施例66−67では、２枚の板を粘着させた。８Ｎ／mm²までの接着強度が、DIN 53283による引張りせん断試験(Zugscherversuch)で測定された。ここで、シリコンゴムもしくはもっと良好な機械的性質を有する他の物質を使用すると、もっと高い接着力が得られる。本発明のコーティングをしない基板は、お互いに粘着しえない。実施例68は、水の前進接触角約105°の層を生成した。ついで、このようにして得られた層を、レーザービームを用いて製版した。次に、この製版された表面を水分のない平板印刷用の印刷板として使用したところ、良好な解像力を有する印刷物が得られた。本発明のコーティングを用いないと、製版された表面が得られず、したがって印刷物も得られなかった。実施例69−71は、水の前進接触角110°−115°の層を生成した。IRスペクトルは、ポリジメチルシロキサンのそれに合致した。実施例72は、厚さ約４nmで、水の前進接触角約112°の層を生成した。IRスペクトルとXPS測定は、ポリジメチルシロキサンのそれに合致した。実施例73−76は、水の前進接触角約113°−133°の層を生成した。実施例77は水の前進接触角約110°の層を生成した。実施例78−79は、水の前進接触角約125°−135°の層を生成した。実施例80−81は、水の前進接触角約110°−125°の層を生成した。得られた結果のすべてから、活性化剤の存在と同様に、Si-H，Sn-HもしくはGe -Hを含む試薬の存在もコーティングに必要であることがわかった。さらに、コーティングの正確な組成は、付加的な物質の存在によって影響されうることがわかった。実施例は、トルエン中で、室温で行なった。それによって比較しうる条件が確保された。しかしながら、本発明方法は、他の溶媒中で、溶媒なしでそのまま、および／または他の温度でも行ないうる。溶媒中の不純物によるコーティングの特徴に伴う問題を避けるために、実施例の一部を、UV級の溶媒中で行なった。しかしながら、本発明方法は、比較的低純度の工業溶媒中でも行ないうる。コーティングの明白な特徴を確保するために、本発明の一部を熱的蒸発により円盤上に製造された表面で行なった。しかしながら、本発明は他の表面でも行ないうる。選択した濃度と時間は比較しうる条件を可能にした。しかしながら、本発明方法は、他の濃度および／または他の時間でも、行ないうる。実験の一部から、コーティングは浸漬によって製造されることがわかった。しかしながら、コーティングは、塗布もしくは噴霧のような、他の方法によっても得ることができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，ＫＥ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＺ，ＵＧ，ＺＷ)，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＥ，ＧＨ，ＧＭ，ＧＷ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ，ＺＷ (72)発明者ズーター，ウルリッヒベー. スイス国，ツェーハー―8044 チューリッヒ，ホーホシュトラーセ 56

Claims

【特許請求の範囲】１．金属表面、金属酸化物表面、金属塩表面、ケイ素含有表面および高分子量のアコ酸化物含有有機表面をコーティングする方法であって、活性化剤としての、化合物もしくは金属形態の白金族金属の存在下に、Si-H，Sn-HおよびGe-Hから選ばれる反応性基を含む試薬を、コーティングされる表面に液状、ペースト状もしくは固体状で、コーティングすることを特徴とする表面のコーティング方法。２．酸化ケイ素含有表面をコーティングすることを特徴とする請求項１記載の方法。３．シリコンウエハーの表面をコーティングすることを特徴とする請求項１記載の方法。４．無機ガラスの表面をコーティングすることを特徴とする請求項１記載の方法。５．セラミックス表面をコーティングすることを特徴とする請求項１記載の方法。６．岩石表面をコーティングすることを特徴とする請求項１記載の方法。７．人工石の表面をコーティングすることを特徴とする請求項１記載の方法。８．多糖類の表面をコーティングすることを特徴とする請求項１記載の方法。９．セルロースもしくはセルロース誘導体の表面をコーティングすることを特徴とする請求項１記載の方法。 10．木材表面をコーティングすることを特徴とする請求項１記載の方法。 11．たんぱくの表面をコーティングすることを特徴とする請求項１記載の方法。 12．自然酸化物層を含有する表面をコーティングすることを特徴とする請求項１記載の方法。 13．活性化剤として白金化合物を使用することを特徴とする請求項１〜12のいずれかに記載の方法。 14．活性化剤として、極小の、コロイド状のもしくはより大きな大きさの粒子のような金属形態の白金族金属を使用することを特徴とする請求項１〜12のいずれかに記載の方法。 15．シラン類で白金（０）に還元されるか、またはすでに白金（０）を含む、白金化合物を活性化剤として使用することを特徴とする請求項１〜13のいずれかに記載の方法。 16．活性化剤として、シス−ジクロロビス（スチレン）白金（II）を使用することを特徴とする請求項１〜13および15のいずれかに記載の方法。 17．活性化剤として、白金（０）ジビニルテトラメチルジシロキサンを使用することを特徴とする請求項１〜13，15および16のいずれかに記載の方法。 18．試薬として低分子量化合物を使用することを特徴とする請求項１〜17のいずれかに記載の方法。 19．反応性基であるSi-H基を含む試薬としてシランを使用することを特徴とする請求項１〜18のいずれかに記載の方法。 20．試薬として高分子量化合物を使用する請求項１〜17のいずれかに記載の方法。 21．反応性基であるSi-H基を含む試薬として、ポリシラザン、ポリヒドロシロキサンもしくはポリシロキサンを使用することを特徴とする請求項１〜17および 20のいずれかに記載の方法。 22．試薬として共重合体を使用することを特徴とする請求項１〜 17，20および21のいずれかに記載の方法。 23．表面のコーティング後の反応を目的とした付加的反応性基を有する試薬を使用することを特徴とする請求項１〜22のいずれかに記載の方法。 24．表面のコーティングを分解することを特徴とする請求項１〜23のいずれかに記載の方法。 25．接着、粘着および／または接着補助層を製造することを特徴とする請求項１〜24のいずれかに記載の方法。 26．潤滑および／またはグリース層を製造することを特徴とする請求項１〜25 のいずれかに記載の方法。 27．保護層を製造することを特徴とする請求項１〜26のいずれかに記載の方法。 28．生体適合性層を製造することを特徴とする請求項１〜27のいずれかに記載の方法。 29．付着防止および／または落書防止層を製造することを特徴とする請求項１〜28のいずれかに記載の方法。 30．印刷板もしくは箔をコーティングすることを特徴とする請求項１〜29のいずれかに記載の方法。 31．請求項１〜30のいずれかに記載の方法にしたがってコーティングされた、金属表面、金属酸化物表面、ケイ素含有表面および／または高分子量のアコ酸化物含有有機表面を有する物品。