NL7908296A - Werkwijze voor de chemische vorming van een goudlaag door een autokatalytische reduktie. - Google Patents
Werkwijze voor de chemische vorming van een goudlaag door een autokatalytische reduktie. Download PDFInfo
- Publication number
- NL7908296A NL7908296A NL7908296A NL7908296A NL7908296A NL 7908296 A NL7908296 A NL 7908296A NL 7908296 A NL7908296 A NL 7908296A NL 7908296 A NL7908296 A NL 7908296A NL 7908296 A NL7908296 A NL 7908296A
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- gold
- bath
- process according
- acid
- metals
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/31—Coating with metals
- C23C18/42—Coating with noble metals
- C23C18/44—Coating with noble metals using reducing agents
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Colloid Chemistry (AREA)
- Manufacture Of Metal Powder And Suspensions Thereof (AREA)
Description
A
Br/O/Se/1 Engelhard.
Tfërkwijze voor de chemische vorming van een goudlaag door een autokatalytische reduktie.
De uitvinding heeft betrekking op een werkwijze voor de chemische vorming van een goudlaag door middel van een autokatalytische reduktie van oplosbare zouten.
De werkwijzen voor het afzetten van goud langs 5 niet-elektrolytische weg zijn reeds bekend. Daarbij geschiedt over het algemeen de autokatalytische reduktie van oplosbare Au-zouten in een alkalisch milieu in aanwezigheid van een stabilisator ter voorkoming van het spontaan vrijkomen van goud bij kamertemperatuur.
10 Zo is een werkwijze bekend, waarbij baden worden gebruikt, die behalve een oplosbaar Au-zout (over het algemeen kaliumcyanoauraat) een alkalimetaalboorhydride of dimethylaminoboraan als reduktiemiddel (de autokatalytische reduktie)geschiedt in een milieu, dat met NaOH of 15 KOH sterk alkalisch is gemaakt }: en kaliumcyanide als stabilisator tegen de ontleding van het oplosbare zout bevatten.
Gebleken is nu, dat de toevoeging aan zulke baden van zeer geringe hoeveelheden van een van de metalen van de groepen III, IV en V van het Periodiek Systeem de 20 hoeveelheid afgezet goud aanzienlijk kan vergroten.
De uitvinding verschaft dan ook een bad voor de chemische vorming van een goudlaag door een autokatalytische reduktie van een oplosbaar zout van goud in een sterk alkalisch milieu, waarbij het bad een geringe hoeveelheid 25 van een metaal van de groepen III, IV en V van het Periodiek systeem , bij voorkeur aluminium, gallium, indium, thallium, germanium, tin, lood, arseen, antimoon of bismuth, bevat.
De hoeveelheid metaal in het bad in de vorm van een oplosbaar zout ligt bij voorkeur tussen 0,05 mg/1 30 en 1 g/1.
Voornoemde hoeveelheden metaal wordt in het goudbad gevoerd, dat per liter 0,1-20 g , bij voorkeur 1-10 g oplosbaar Au-zout bevat, gestabiliseerd met 0,1-50 g alkali-cyanide/liter.
7908296 f· ί -2-
Ook is gezocht naar de meest geschikte omstandigheden van de werkwijze van de uitvinding, vooral de handhaving van de benodigde alkaliniteit voor een goede reduktie van het Au-zout.
5 Daarbij is gebleken, dat het van het grootste belang is de werkwijze van de uitvinding uit te voeren in aanwezigheid van een bufferzout ter handhaving van de pH op een waarde gelijk aan of meer dan 10, al naar de aard van het gebruikte reduktiemiddel.
10 Het is bekend, dat een waterige oplossing van bijvoorbeeld boorhydride bij kamertemperatuur niet stabiel is vanwege een hydrolyse in 2 trappen volgens de reaktiever-gelijkingen 1 en 2 van het formuleblad en dat ter vermindering van de BH^ -verliezen aan het bad voldoende alkali toe-15 gevoegd dient te worden. Echter is ook bekend, dat een te grote alkali-concentratie de hoeveelheid afgezet goud nadelig beinvloedt, die omgekeerd evenredig is met de hydroxide-con-centraties.
Door de aanwezigheid van een buffer kan het 20 reaktie-evenwicht tussen de BH^- en de BH^OH~-ionen gehandhaafd worden, welke laatstgenoemde ionen het werkelijke reduktiemiddel voor de Au- ionen vormen volgens c reaktie 3 van het formuleblad.
Bij gebruik van dimethylaminoboraan (D M A B) 25 als reduktiemiddel zijn de reducerende ionen ook de BO^OK-ionen, die volgens reaktie 4 van het formuleblad worden gevormd .
Het verhogen van de OH~-concentratie in een bad met D M A B leidt dan ook tot de afzetting van meer 30 goud.
Ook in dat geval kan door de.aanwezigheid van bufferzouten de alkaliniteit van het bad met een goed rendement op de benodigde hogere waarden gehandhaafd worden.
De te gebruiken bufferzouten zijn bekend en 35 kunnen bestaan uit fosfaten of pyrofosfaten, carbonaten, bo-raten, acetaten, citraten, sulfaten of thiosulfaten, thiocya-naten of tartraten, al of niet vermengd met zuren of basen, die de pH van het bad op ca. 12 kan handhaven bij gebruik van 7908296 i -3- £ boorhydrxde of op 13 bij gebruik van dinefchylaminoboraan als reduktiemiddel.
Bij het verder nagaan van de optimale omstandigheden voor de werkwijze van de uitvinding is verder ge-5 bleken, dat door de toevoeging aan het goudbad van bepaalde produkten, die complexen met de metalen van de groepen III, IV en V kunnen vormen of voornoemde metalen kunnen stabiliseren, een grotere hoeveelheid van voornoemd metaal gebruikt kan worden zonder tot neerslag in het bad te leiden, zodat 10 met een zelfde hoeveelheid oplosbaar Au-zout meer goud kan worden afgezet, terwijl het goudbad nagenoeg geheel kan worden uitgeput.
Volgens een aspekt van de uitvinding bestaan de complex-vormende middelen uit natriumzouten van tri— , 15 tetra- of penta-azijnzuren, met name natriumzouten van ni-trilotriazijnzuur (N T A ),2-hydroxyethylethyleendiamino-triazijnzuur (H E D T A) , 1,2-diaminocyclohexaantetraazijn-zuur (D C T A ), ethyleendiaminotetraazijnzuur (E D T A ) ethyleenglycol bis (2-amino-ethylether) tetraazijnzuur (E G T A) 20 of diethyleentetraminepentaazijnzuur (D T P Ai 7.
Volgens een ander aspekt van de uitvinding bestaan de stabilisatoren uit polyaminen, met name ethyleen-diamine, triethyleentetramine, hexamethyleentetramine of tetraethyleenpentamine.
25 Een stabilisator kan ook uit een glycol be staan, bij voorkeur ethyleenglycol.
Volgens nog een ander aspekt van de uitvinding bestaat een stabilisator uit een koolhydraat of een derivaat daarvan, bij voorkeur een polyol met een aldehyde- of keton-30 karakter (aldosen of ketosen), gluconaat of saccharaat.
Ook kan een stabilisator bestaan uit een di-keton, met voorkeur voor acetylaceton.
Bij gebruik van een complexvormend middel of stabilisator bedraagt het gehalte aan de metalen van de 35 groepen III, IV en V in het bad tussen 0,1 mg/1 en 5 g/1.
De hoeveelheid aan het bad van de uitvinding toe te voegen complex vormend middel of stabilisator wordt bepaald door de concentratie van het metaal van de groep III, IV of V en bedraagt over het algemeen 0,1-100 g/1, 7908295 t -4- met voorkeur voor 0,1-10 g/1.
De uitvinding zal verder worden verduidelijkt aan de hand van de volgende niet beperkende voorbeelden.
In alle voorbeelden geschieden de proeven 5 op vooraf vergrote messing-films in een bekerglas van 250 ml op een waterbad , waarvan de temperatuur op + 1°C is te regelen.
Eventueel wordt het goudbad met een magnetische roerder geroerd.
10 De kwaliteit van de gebruikte produkten is P.A.
Voorbeeld I
2
Een film van 100 cm wordt 20 min. in een goudbad van 73 °C gehouden, dat per liter 2 g goud (in de 15 vorm van K Au(CN)2), 10 g K C N, 3 g NaBH4 en 2 g KOH bevat, ter verschaffing van een goudlaag van 0,2^um.
Aan het bad wordt dan per liter 2 mg lood (in de vorm van acetaat) toegevoegd. In het bad ontstaat in 7 min. een neerslag.
20 De proef wordt herhaald, doch aan het oor spronkelijke bad wordt per liter 0,05 mg lood (in de vorm van acetaat) toegevoegd. Het bad behoudt een goede stabili— .text, terwijl in 2 0 min. een goudlaag van Ö,65^unv Wordt gevormd .
25 Voorbeeld II
Een film van 50 cm wordt 30 min. in een goudbad van de uitvinding gehouden, dat op 7Q°C en pH '12 'is gebracht, goed wordt geroerd en per liter 3 g goud (in'de vorm van K AU (CN)2), 2 g K C N, 3 g NaBH^ , 5 g Ka3P04(buffer),' 30 8 g NaOH, 0,5 g azijnzuur en kt» antimoon (in dubbel-tartraat- vorm) bevat ter verschaffing van een goudlaag van l,2^um.
Voorbeeld III
2
Een film van 20 cm wordt 1 uur in een niet-geroerd bad van 70°C en pH 13 gehouden, dat per liter 1 g 35 goud (in de vorm van K Au(CN)2), 0,2gKCN, 0,5· g dimethyl-aminoboraan (D M A B ), 5,0 g H2B03(buffer), 24 g NaOH, 0,1 g aluminium (in de vorm van Al203) en 0,2 g Η Μ T A bevat, ter verschaffing van eert goudlaag van l,lyUiru 79 0 8 2 96 “ -5- 2 r
Voorbeeld IV
Een film van 20 cm wordt in een zwak geroerd bad van 90^C en pH 13 gehouden, dat per liter 1 g goud (in de vorm van K Au (CN) , 0,5 g K C N , 2 g D M A B, 5 g 5 Na3P04 (buffer) , 7 g KOH, 8 mg indium (in nitraat-vorm) en 0,5 g E D T A (het dinatriumzout) bevat, ter verschaffing van een goudlaag van 2,lyum.
Voorbeeld V
2
Een film van 50 cm wordt in een niet geroerd 10 bad van 80°C en pH 13 gehouden, dat per liter 2 g goud (in de vorm van K Au (CN)^, 0,2 g K C N, 0,5 g DMA B, 5 g Η-,ΒΟ (buffer) , 24 g NaOH, 2 mg thallium (in sulfaat-vorm) j 3 en 0,5 g ethyleendiamine bevat. Elke negentig minuten wordt de film uit het bad gehaald en gewogen.
15 Het bad wordt dan tot 50 °C gekoeld, waarna -4 daaraan per mg goud 1,13 mg AuCN, 0,5 mg D M A B en 5.10 mg thallium (in sulfaatvorm X worden toegevoegd.
De vormings snelheid van de goudlaag voor het uitgangsbad bedraagt 2,1yum/uür.
20 Na 18 uren bedraagt voornoemde snelheid slechts l,6^um/uur, terwijl zij in toenemende mate lager wordt.
Voorbeeld VI
..... “ n
Een film van 50 cm* wordt 20 min. in een goed geroerd bad van 70°C en pH 12 gehouden, dat per liter 2 g 25 goud (in de vorm van K Au(C$}.^,2 gKCN , 2 g K B H 4 , 10 g K2H P04 (buffer) , 6 g K O Η , 1 mg lood (in acetaat- · vorm)' en 1 ml triethanolamine bevat# ter verschaffing van een goudlaag van l^um.
Voorbeeld VII
--2 30 Een film van 100 cm wordt in een middelmatig geroerd bad van 70°C en pH 12,2 gehouden, dat per liter 2 g goud (in de vorm van K Au (CN)2 ), 3 g K C N, 2,5 g NaBH4, 4 g Na3P04 (buffer) , 0,2 mg arseen (in de vorm van As203) , 0,15 g fructose en 2 g NaOH bevat. Na 20 min. is 35 een goudlaag van l,l^um verkregen en na 40 min. een goudlaag van 2,15^um. Na 1 uur is het bad voor 95% uitgeput en is een goudlaat van 2,5^,um gevormd.
Voorbeeld VIII
7908296 ~ 2 -6-
Een film van 100 cm wordt in een goed geroerd bad van 70°C en pH 12 gehouden, dat per liter 3 g goud (in de vorm van K Au (CN)^)/ 2 g K C N, 3 g NaBH^, 1,5 g Na^PO^ (buffed. 1 g KOH, 0,2 mg thallium (in sulfaat-vorm) , 5 6 g natriumgluconaat en 0,2 g fructose bevat. Na 45 min. is een goudlaag van 2,8^um gevormd en na 60 min. een goudlaag van 3,7^um, terwijl het bad voor 97% is uitgeput.
?§ 0 8 2 9 S
Claims (14)
1. Werkwijze voor de chemische vorming van een goudlaag door een autokatalytische reduktie in een sterk alkalisch milieu van een oplosbaar zout van goud, 5 met het kenmerk, dat het goudbad een geringe hoeveelheid metaal van de groepen III, IV en V van het Periodiek Systeem bij voorkeur aluminium, gallium, indium, thallium, germanium, tin, arseen, antimoon of bismuth , bevat.
2. Werkwijze volgens conclusie 1, met het 10 kenmerk, dat het goudbad per liter 0,1-20 g , bij voorkeur 1-10 g , van een oplosbaar Au-zout bevat, gestabiliseerd met 0,1-50 g alkalicyanide/liter.
3. Werkwijze volgens conclusie 1 of 2, met het kenmerk, dat de concentraties van de metalen in het 15 bad in de vorm van oplosbare zouten tussen 0,05 mg en 1 g/ liter bedraagt.
4. Werkwijze volgens conclusies 1-3, met het kenmerk, dat het goudbad wordt gebufferd ter handhaving van een pH 10.
5. Werkwijze volgens conclusies 1,2 en 4, met het kenmerk, dat het goudbad een produkt bevat, dat een complex met metalen van de groepen III, IV en V kan vormen of voornoemde metalen kan stabiliseren.
6. Werkwijze volgens conclusie 5, met het 25 kenmerk, dat het complex vormende middel bestaat uit een natriumzout van tri-tetra- of penta-azijnzuren, met name een natriumzout van nitrilotriazijnzuur (N T A } , 2-hydroxy-ethylethyleendiaminotriazijnzuur (H E D T A ), 1,2-diamino-cyclohexaantetraazijnzuur (D C T A } , ethyleendiaminotetra- 30 azijnzuur (E D T A ), ethyleenglycolbis(2-aminoethylether) , tetraazijnzuur (E G T A ) of diethyleentetraminopentaazijn-zuur (D T P A).
7. Werkwijze volgens conclusie 5, met het kenmerk, dat de stabilisator bestaat uit een polyamine, met 35 name ethyleendiamine, triethyleentetramine, hexamethyleen-tetramine of tetraethyleenpentamine. _
^ ^ ^ 8. Werkwijze volgens conclusie 5, met het 7908295 -8- kenmerk, dat de stabilisator bestaat uit een glycol, bij voorkeur ethyleenglycol.
9. Werkwijze volgens conclusie 5, met het kenmerk, dat de stabilisator bestaat uit een koolwaterstof 5 of een derivaat daarvan, met name een polyol met een alde-hyde-of keton-karakter (een aldose of cetose) of gluconaat of saccharaat.
10. ' Werkwijze volgens conclusie 5, met het kenmerk, dat de stabilisator bestaat uit een diketon, bij · 10 voorkeur acetylaceton.
11. Werkwijze volgens conclusies 5-10, met het kenmerk, dat de concentratie van de metalen in het bad in de vorm van oplosbare zouten tussen 0,1 mg en 5 g/1 bedraagt.
12. Werkwijze volgens conclusies 5-11, met het kenmerk, dat de concentratie van het complex vormende middel of de stabilisator, afhankelijk van het gehalte aan het metaal van de groepen III, IV en V in het bad, 0,1-100 g/1, bij voorkeur 0,1-10 g /1 bedraagt.
13. Goudlaag, verkregen met de werkwijze van conclusies 1-12.
14. Voorwerpen, voorzien van de goudlaag van conclusie 13. 730829B Jt BH^ + H20 -* BH3OH~ + H2 (1) BH3OH“ + H20 -> B0“ + H2 (2) BH30H” + 3 Au (CN)2 + 3 OH" -* BO~ + 3/2 H2 + 2 H20 + 2 Au + 6 CN~ (3) (CH3)2 ISTH BH3 + oh" -^ (ch3) 2 NH + BHjOH" (4) 7908295
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR7832875 | 1978-11-16 | ||
FR7832875A FR2441666A1 (fr) | 1978-11-16 | 1978-11-16 | Procede de depot chimique d'or par reduction autocatalytique |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NL7908296A true NL7908296A (nl) | 1980-05-20 |
NL190902B NL190902B (nl) | 1994-05-16 |
NL190902C NL190902C (nl) | 1994-10-17 |
Family
ID=9215161
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NL7908296A NL190902C (nl) | 1978-11-16 | 1979-11-13 | Chemisch verguldbad. |
Country Status (15)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4307136A (nl) |
JP (1) | JPS5585641A (nl) |
AT (1) | AT368193B (nl) |
AU (1) | AU537003B2 (nl) |
BE (1) | BE880030A (nl) |
CA (1) | CA1126592A (nl) |
CH (1) | CH643596A5 (nl) |
DE (1) | DE2946165A1 (nl) |
DK (1) | DK156670C (nl) |
ES (1) | ES485980A1 (nl) |
FR (1) | FR2441666A1 (nl) |
GB (1) | GB2035380B (nl) |
IT (1) | IT1165369B (nl) |
NL (1) | NL190902C (nl) |
SE (1) | SE447735B (nl) |
Families Citing this family (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3029785A1 (de) * | 1980-08-04 | 1982-03-25 | Schering Ag, 1000 Berlin Und 4619 Bergkamen | Saures goldbad zur stromlosen abscheidung von gold |
US4337091A (en) * | 1981-03-23 | 1982-06-29 | Hooker Chemicals & Plastics Corp. | Electroless gold plating |
US4474838A (en) * | 1982-12-01 | 1984-10-02 | Omi International Corporation | Electroless direct deposition of gold on metallized ceramics |
JPS6299477A (ja) * | 1985-10-25 | 1987-05-08 | C Uyemura & Co Ltd | 無電解金めつき液 |
US4863766A (en) * | 1986-09-02 | 1989-09-05 | General Electric Company | Electroless gold plating composition and method for plating |
US4832743A (en) * | 1986-12-19 | 1989-05-23 | Lamerie, N.V. | Gold plating solutions, creams and baths |
DE3707817A1 (de) * | 1987-03-09 | 1988-09-22 | Schering Ag | Stabilisiertes alkalisches goldbad zur stromlosen abscheidung von gold |
DE3930199A1 (de) * | 1989-09-09 | 1991-03-14 | Ptr Praezisionstech Gmbh | Elektronenstrahlerzeuger, insbesondere fuer eine elektronenstrahlkanone |
JP2866676B2 (ja) * | 1989-09-18 | 1999-03-08 | 株式会社日立製作所 | 無電解金めっき液及びそれを用いた金めっき方法 |
JP2538461B2 (ja) * | 1991-02-22 | 1996-09-25 | 奥野製薬工業株式会社 | 無電解金めっき方法 |
JP2927142B2 (ja) * | 1993-03-26 | 1999-07-28 | 上村工業株式会社 | 無電解金めっき浴及び無電解金めっき方法 |
US5803957A (en) * | 1993-03-26 | 1998-09-08 | C. Uyemura & Co.,Ltd. | Electroless gold plating bath |
JP3331261B2 (ja) * | 1994-08-19 | 2002-10-07 | 日本エレクトロプレイテイング・エンジニヤース株式会社 | 無電解金めっき液 |
JP3302512B2 (ja) * | 1994-08-19 | 2002-07-15 | 日本エレクトロプレイテイング・エンジニヤース株式会社 | 無電解金めっき液 |
JP5526458B2 (ja) * | 2006-12-06 | 2014-06-18 | 上村工業株式会社 | 無電解金めっき浴及び無電解金めっき方法 |
JP5526459B2 (ja) * | 2006-12-06 | 2014-06-18 | 上村工業株式会社 | 無電解金めっき浴及び無電解金めっき方法 |
CN113151814B (zh) * | 2021-02-05 | 2022-02-01 | 深圳市联合蓝海黄金材料科技股份有限公司 | 无氰化学镀金液用组合物及其应用和无氰化学镀金液及其应用 |
JP7169020B1 (ja) * | 2021-12-27 | 2022-11-10 | 石原ケミカル株式会社 | 還元型無電解インジウムメッキ浴 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3468676A (en) * | 1963-09-09 | 1969-09-23 | Photocircuits Corp | Electroless gold plating |
FR1369175A (fr) * | 1963-09-12 | 1964-08-07 | Western Electric Co | Placage par de l'or de la surface d'un corps |
US3589916A (en) * | 1964-06-24 | 1971-06-29 | Photocircuits Corp | Autocatalytic gold plating solutions |
DE1771258A1 (de) * | 1968-04-26 | 1971-12-23 | Ibm Deutschland | Verfahren zum Aufbringen von Gold auf poroese nichtleitende Koerper oder Glas |
DE1925648C3 (de) * | 1969-05-20 | 1978-11-30 | Electro Chemical Engineering Gmbh, Zug (Schweiz) | Verfahren zum stromlosen Erzeugen von Metallüberzügen |
US3700469A (en) * | 1971-03-08 | 1972-10-24 | Bell Telephone Labor Inc | Electroless gold plating baths |
JPS503743A (nl) * | 1973-05-16 | 1975-01-16 | ||
US3917885A (en) * | 1974-04-26 | 1975-11-04 | Engelhard Min & Chem | Electroless gold plating process |
US4019128A (en) * | 1975-05-08 | 1977-04-19 | Rees, Inc. | Indicator light and testing circuit |
US4005229A (en) * | 1975-06-23 | 1977-01-25 | Ppg Industries, Inc. | Novel method for the rapid deposition of gold films onto non-metallic substrates at ambient temperatures |
JPS5948951B2 (ja) * | 1978-08-05 | 1984-11-29 | 日本特殊陶業株式会社 | 無電解金メッキ液 |
-
1978
- 1978-11-16 FR FR7832875A patent/FR2441666A1/fr active Granted
-
1979
- 1979-11-05 CH CH989379A patent/CH643596A5/fr not_active IP Right Cessation
- 1979-11-08 SE SE7909259A patent/SE447735B/sv not_active IP Right Cessation
- 1979-11-09 AT AT0720879A patent/AT368193B/de not_active IP Right Cessation
- 1979-11-12 GB GB7939126A patent/GB2035380B/en not_active Expired
- 1979-11-13 NL NL7908296A patent/NL190902C/nl not_active IP Right Cessation
- 1979-11-13 IT IT27258/79A patent/IT1165369B/it active
- 1979-11-14 US US06/094,067 patent/US4307136A/en not_active Expired - Lifetime
- 1979-11-14 BE BE0/198104A patent/BE880030A/fr not_active IP Right Cessation
- 1979-11-15 CA CA339,907A patent/CA1126592A/fr not_active Expired
- 1979-11-15 DE DE19792946165 patent/DE2946165A1/de active Granted
- 1979-11-15 ES ES485980A patent/ES485980A1/es not_active Expired
- 1979-11-15 DK DK485579A patent/DK156670C/da not_active IP Right Cessation
- 1979-11-16 AU AU52913/79A patent/AU537003B2/en not_active Ceased
- 1979-11-16 JP JP14788379A patent/JPS5585641A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
SE7909259L (sv) | 1980-05-17 |
ATA720879A (de) | 1982-01-15 |
JPS5585641A (en) | 1980-06-27 |
ES485980A1 (es) | 1980-05-16 |
SE447735B (sv) | 1986-12-08 |
NL190902B (nl) | 1994-05-16 |
NL190902C (nl) | 1994-10-17 |
DK156670C (da) | 1990-02-12 |
DE2946165C2 (nl) | 1989-09-07 |
BE880030A (fr) | 1980-03-03 |
DE2946165A1 (de) | 1980-06-12 |
IT1165369B (it) | 1987-04-22 |
IT7927258A0 (it) | 1979-11-13 |
DK156670B (da) | 1989-09-18 |
FR2441666B1 (nl) | 1981-05-08 |
AU537003B2 (en) | 1984-05-31 |
CA1126592A (fr) | 1982-06-29 |
JPH0219190B2 (nl) | 1990-04-27 |
FR2441666A1 (fr) | 1980-06-13 |
GB2035380A (en) | 1980-06-18 |
US4307136A (en) | 1981-12-22 |
AU5291379A (en) | 1980-05-22 |
DK485579A (da) | 1980-05-17 |
CH643596A5 (fr) | 1984-06-15 |
AT368193B (de) | 1982-09-27 |
GB2035380B (en) | 1983-02-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
NL7908296A (nl) | Werkwijze voor de chemische vorming van een goudlaag door een autokatalytische reduktie. | |
US3338726A (en) | Chemical reduction plating process and bath | |
US2938805A (en) | Process of stabilizing autocatalytic copper plating solutions | |
US4666528A (en) | Method of removing iron and copper-containing scale from a metal surface | |
US4337091A (en) | Electroless gold plating | |
US4885106A (en) | Storable semiconductor cleaning solution containing permonosulphuric acid | |
EP0132594A1 (en) | Electroless copper plating solution | |
CH671037A5 (nl) | ||
US4102702A (en) | Composition and method for applying metallic silver to a substrate | |
US20050031895A1 (en) | Electroless displacement gold plating solution and additive for use in preparing plating solution | |
CA1188458A (en) | Electroless gold plating | |
JPH02500673A (ja) | 無電解ニッケルめっき浴の製造および使用方法 | |
FR2531103A1 (fr) | Bain pour le depot chimique de nickel et/ou de cobalt utilisant un reducteur a base de bore ou de phosphore | |
US5035744A (en) | Electroless gold plating solution | |
KR20140134325A (ko) | 코발트 합금의 무전해 석출을 위한 알칼리성 도금조 | |
TW200303372A (en) | Method of depositing gold layer on metal, method of manufacturing electronic device, and article | |
GB2139646A (en) | Sealing anodised aluminium | |
US3373054A (en) | Chemical plating | |
US3594197A (en) | Process and composition for immersion plating of aluminum or aluminum alloys with tin | |
US5000916A (en) | Molybdate-gluconate corrosion inhibitor | |
JPS60125379A (ja) | 無電解金めっき液 | |
GB2109013A (en) | Metallic impurity control for electroless copper plating | |
US5322552A (en) | Stable, electroless, aqueous, acidic gold bath for depositing gold and the use thereof | |
JP3697181B2 (ja) | 無電解金メッキ液 | |
JP2001500514A (ja) | アルカリ金属ポリアミノ琥珀酸の第二鉄キレート溶液の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
CNR | Transfer of rights (patent application after its laying open for public inspection) |
Free format text: ENGELHARD MINERALS & CHEMICALS CORPORATION |
|
DNT | Communications of changes of names of applicants whose applications have been laid open to public inspection |
Free format text: PHIBRO CORPORATION |
|
CNR | Transfer of rights (patent application after its laying open for public inspection) |
Free format text: ENGELHARD CORPORATION |
|
A85 | Still pending on 85-01-01 | ||
BA | A request for search or an international-type search has been filed | ||
BB | A search report has been drawn up | ||
BC | A request for examination has been filed | ||
V4 | Discontinued because of reaching the maximum lifetime of a patent |
Free format text: 19991113 |