NL1022018C2

NL1022018C2 - Belichtingswerkwijze.

Info

Publication number: NL1022018C2
Application number: NL1022018A
Authority: NL
Inventors: Tatsuhiko Higashiki; Manabu Takakuwa; Keita Asanuma
Original assignee: Toshiba Kk
Priority date: 2001-11-28
Filing date: 2002-11-28
Publication date: 2003-10-28
Also published as: TW200305292A; JP2003163156A; US20030117599A1; JP3626448B2; KR20030043733A; US6842230B2; TW569478B; CN1216403C; KR100536545B1; NL1022018A1; CN1421746A

Description

Λ

Korte aanduiding: Belichtingswerkwijze.

ACHTERGROND VAN DE UITVINDING

De onderhavige uitvinding heeft betrekking op een 5 belichtingswerkwijze en meer in het bijzonder op een product!e- ondersteuningssysteem en een verwerkings- en beheertechniek van een belichtingseenheid in halfgelei derfabri cage.

In de afgelopen jaren is als een belichtingseenheid voor gebruik in fotolithografie van halfgeleiders, een optische belichtings-10 eenheid van het aftastbelichtingstype ontwikkeld, die belichtingen uitvoert door verplaatsing van een reticule en een wafel in tegengestelde richting van elkaar voor het reduceren van de diameter van een projectielens (hierna een aftastbelichtingseenheid genoemd).

Belichting met een aftastbelichtingseenheid veroorzaakt 15 fouten welke een lensdistorsiefout, een trapaanpassingsfout, enzovoorts worden genoemd.

Een lens heeft een specifieke distorsie, lensdistorsie genoemd. Met een lensdistorsie verschuift de positie van een over te dragen patroon ten opzichte van de ontworpen overdrachtspositie. Wanneer 20 de verschuiving groot is, zal het product foutief zijn.

Twee verschillende belichtingseenheden hebben hun eigen distorsies. Bij het op elkaar leggen van patronen met verschillende belichtingseenheden, is het voor het exact op elkaar leggen nodig om de relatieve distorsies van de combinatie van twee bel ichtingseenheden te 25 kennen.

Bij het op elkaar leggen van patronen met één en dezelfde belichtingseenheid, is de distorsie in een bovenliggend en onderliggend patroon hetzelfde en treedt in het algemeen geen relatieve verschuiving op. Wanneer echter een interval tussen het belichtings-proces van het 30 bovenliggende patroon en het belichtingsproces van het onderliggende patroon toeneemt, veroorzaakt dit een verandering in de fout met de tijd 1022018 2 en zal een verschuiving tussen de twee patronen optreden. Wanneer deze verschuiving te groot is, zal het product foutief zijn.

Wanneer twee belichtingseenheden voor op elkaar liggende patronen worden gecombineerd, treedt een verschuiving tussen de twee 5 patronen op. Zelfs wanneer één belichtingseenheid wordt gebruikt, zal tussen de twee patronen als gevolg van distorsieveranderingen in de tijd een verschuiving optreden. Wanneer deze verschuiving groot is, zal het product foutief zijn.

KORTE SAMENVATTING VAN DE UITVINDING

10 (1) Volgens een eerste aspect van de onderhavige uitvinding is een belichtingswerkwijze verschaft voor het belichten van een bovenliggende laag door uitlijning met het patroon van een onderliggende laag door toepassing van een belichtingseenheid van het aftast-belichtingstype die belichtingen uitvoert in een opnamegebied door het 15 synchroon verplaatsen van een reticule en een wafel in de aftastrichting, gekenmerkt door het: prepareren van een reticule met een matrix van vier of meer markeringen in de aftastrichting en vier of meer in de richting orthogonaal ten opzichte van de aftastrichting; 20 overdragen van de op de reticule gevormde markeringen op elk opnamegebied van een eerste pilootwafel, door het toepassen van een eerste belichtingseenheid welke wordt gebruikt voor het belichten van de onderliggende laag; detecteren van de positiecoördinaten van de op elk 25 opnamegebied van de eerste pilootwafel overgedragen markeringen in een voorafbepaald coördi natenstelsel; overdragen van de, op de reticule gevormde markeringen op elk opnamegebied van een tweede pilootwafel, door toepassing van een tweede belichtingseenheid welke wordt gebruikt voor het belichten van de 30 bovenliggende laag; detecteren van de positiecoördinaten van de op elk J02291 3 3 opnamegebied van de tweede pilootwafel overgedragen markeringen in het voorafbepaal de coördi natenstel sel; refereren aan de positiecoördinaten van de overgedragen markeringen door het toepassen van de eerste en tweede belichtings- 5 eenheden; berekenen van het verschil tussen de respectieve coördinaatelementen van de twee gerefereerde positiecoördinaten; berekenen van een correctieparameter uit het berekende verschil voor het corrigeren van een lensaberratie; en 10 belichten van de bovenliggende laag in de toestand waarin de optica van de tweede belichtingseenheid is gecorrigeerd, gebaseerd op de berekende correctieparameter.

(2) Overeenkomstig een tweede aspect van de onderhavige uitvinding is een belichtingswerkwijze verschaft voor het belichten van 15 een bovenliggende laag door uitlijning met het patroon van een onderliggende laag door toepassing van een belichtingseenheid van het aftastbelichtingstype die belichtingen uitvoert in een opnamegebied door het synchroon verplaatsen van een reticule en een wafel in de aftastrichting, gekenmerkt door het: 20 prepareren van een eerste reticule welke wordt gebruikt voor het belichten van de onderliggende laag en die drie of meer in de aftastrichting gevormde markeringen heeft; prepareren van een tweede reticule welke wordt gebruikt voor het belichten van de bovenliggende laag en die drie of meer in de 25 aftastrichting gevormde markeringen heeft; detecteren van de positiecoördinaten van de, op de tweede reticule gevormde markeringen in een voorafbepaald coördinatenstelsel; overdragen van de op de eerste reticule gevormde markeringen op een eerste wafel; 30 detecteren van de positiecoördinaten van de op elk opnamegebied van de eerste wafel overgedragen markeringen in het 1022018 4 coördinatenstelsel; berekenen van het verschil tussen de respectieve coördinaatelementen van de positiecoördinaten van de op de eerste wafel overgedragen markeringen en de positiecoördinaten van de op de tweede 5 reticule gevormde markeringen; berekenen van een correctieparameter uit het berekende verschil voor het corrigeren van de nulde- tot en met derde-ordefouten welke optreden terwijl de reticule en de wafel in de aftastrichting worden verplaatst; en 10 belichten van de bovenliggende laag door het toepassen van de tweede reticule, in de toestand waarin de fouten worden gecorrigeerd gebaseerd op de correctieparameter.

(3) Volgens een derde aspect van de onderhavige uitvinding is een belichtingswerkwijze verschaft voor het belichten van een 15 bovenliggende laag door oplijning met het patroon van een onderliggende laag door gebruik van een belichtingseenheid van het aftastbelichtings-type die belichtingen uitvoert in een opnamegebied door het synchroon verplaatsen van een reticule en een wafel in de aftastrichting, gekenmerkt door het: 20 prepareren van een eerste reticule welke wordt gebruikt voor het belichten van de onderliggende laag en die drie of meer in de aftastrichting gevormde markeringen heeft; prepareren van een tweede reticule welke wordt gebruikt voor het belichten van de bovenliggende laag en die drie of meer in de 25 aftastrichting gevormde markeringen heeft; detecteren van de positiecoördinaten van de op de tweede reticule gevormde markeringen in het voorafbepaalde coördinatenstelsel; overdragen van de op de eerste reticule gevormde markeringen op de onderliggende laag van de eerste wafel; 30 detecteren van de positiecoördinaten van de op elk opnamegebied van de onderliggende laag overgedragen markeringen in het 10220i n 5 coördinatenstelsel; berekenen van de barycentrische coördinaten van elk opnamegebied uit de positie-informatie van de op elk opnamegebied van de onderliggende laag overgedragen markeringen; 5 berekenen van de barycentrische coördinaten van de markeringen gebaseerd op de positiecoördinaten van elke op de tweede reticule gevormde markering; berekenen van het verschil tussen de twee barycentrische coördinaten; 10 berekenen van een correctieparameter uit het berekende verschil voor het corrigeren van de nulde- tot derde-ordefouten welke optreden terwijl de wafel in de staprichting wordt verplaatst; en belichten van de bovenliggende laag, in de toestand waarin de fouten worden gecorrigeerd gebaseerd op de correctieparameter.

15 KORTE OMSCHRIJVING VAN DE VERSCHILLENDE AANZICHTEN VAN DE

TEKENING

Figuur 1 is een blokschema dat schematisch de configuratie toont van een belichtingssysteem volgens een eerste uitvoeringsvorm van de uitvinding; 20 figuur 2 is een bovenaanzicht dat schematisch de op een reticule gevormde markeringen toont die worden gebruikt voor het verwerven van gegevens over de lensdistorsie QC; figuur 3 is een stroomschema dat een belichtingswerkwijze toont overeenkomstig de eerste uitvoeringsvorm van de uitvinding; 25 figuur 4 is een aanzicht dat de vectoren toont van het verschil tussen distorsiebelichtingen in een opnamegebied in een KrF-aftastbelichtingseenheid, waarin belichting wordt uitgevoerd middels een gebruikeiijke correct!ewerkwijze; figuur 5 is een aanzicht dat de vectoren toont van het 30 verschil tussen distorsiebelichtingen in een opnamegebied, wanneer de belichting wordt uitgevoerd door de bel ichtingswerkwijze volgens de 1022018 6 eerste uitvoeringsvorm van de uitvinding; figuur 6 is een blokschema dat schematisch de configuratie toont van een belichtingssysteem volgens een tweede uitvoeringsvorm van de uitvinding; 5 figuur 7 is een bovenaanzicht dat drie punten toont van overliggingsmarkeringen gevormd in een opnamegebied op de reticule van een productiepartij; figuur 8 is een stroomschema dat een belichtingswerkwijze toont overeenkomstig de tweede uitvoeringsvorm van de uitvinding; 10 figuur 9 is een aanzicht dat de vectoren van de residuele fouten toont in een opnamegebied gevormd tussen belichtingseenheden middels een gebruikelijke belichtingswerkwijze; figuur 10 is een aanzicht dat de vectoren van de residuele fouten toont in een opnamegebied gevormd tussen belichtingseenheden door 15 de correctiewerkwijze overeenkomstig de tweede uitvoeringsvorm van de uitvinding; figuur 11 is een stroomschema dat een belichtingswerkwijze toont overeenkomstig een derde uitvoeringsvorm van de uitvinding; figuur 12 is een aanzicht dat de vector van de 20 wafel componenten toont, belicht tussen belichtingseenheden door een gebruikelijke belichtingswerkwijze; en figuur 13 is een aanzicht dat de vectoren van de wafel componenten toont belicht tussen belichtingseenheden door de belichtingswerkwijze overeenkomstig de derde uitvoeringsvorm.

25 GEDETAILLEERDE BESCHRIJVING VAN DE UITVINDING

In het navolgende worden uitvoeringsvormen van de onderhavige uitvinding uiteengezet onder verwijzing naar de bijgesloten tekeningen.

(Eerste Uitvoeringsvorm) 30 Getoond wordt een voorbeeld van een lensdistorsie- correctiesysteem met het doel de overliggensnauwkeurigheid in een 1022016 7 opnamegebied te verbeteren. Lensdistorsiecorrectie volgens deze uitvoeringsvorm wordt gekenmerkt door het verwerven van een correctie-parameter door het toepassen van het verschil tussen de laatste QC-gegevens toegepast bij het belichten van een m-laag en de laatste QC-5 gegevens toegepast bij het belichten van een m-l-laag.

Figuur 1 is een blokschema dat schematisch de configuratie toont van het belichtingssysteem overeenkomstig de eerste uitvoeringsvorm van de uitvinding. Dit systeem beoogt een gecentraliseerde sturing van de lensdistorsiecorrectie. In figuur 1 geeft de getrokken pijl de gegevens-10 stroom aan en geeft de gestreepte pijl de loop van een partij aan.

Een dataserver 110 omvat vier databestanden: een reticule-foutdatabestand 111, een distorsie-QC-databestand 112, een QC-historie-databestand 113 en een productiepart!jdatabestand 114. Het reticule-foutdatabestand 111 slaat een overliggingsmarkeringsgroeperingsfout van 15 een reticule op, toegepast voor het meten van de lensdistorsie. Het distorsie-QC-databestand 112 slaat de lensdistorsie-QC-data op als een overli ggi ngsverschui vi ngsi nspecti eresul taat. Het QC-hi stori edatabestand 113 stuurt de lensdistorsie-QC-historie. Het productpartijdatabestand 114 stuurt de productpartijprocesstroom en -historie.

20 In QC, wanneer wordt beoogd de eerste- tot en met derde- orde lensdistorsie te corrigeren, is het nodig om een reticule te prepareren die een matrix heeft van tenminste vier punten van overliggingsmarkeringen gevormd in de aftastrichting binnen een opnamegebied (de y-as richting) en een niet-aftastrichting (de x-as 25 richting) voor het meten van de markeringsoverdraagpositie.

Er zal nu een beschrijving worden gegeven van de wijze voor het in deze uitvoeringsvorm verwerven van de lensdistorsie-QC-data. Figuur 2 toont schematisch de op de reticule gevormde markeringen die worden gebruikt voor het verwerven van de lensdistorsie-QC-data. Zoals 30 getoond in figuur 2, is in een opnamegebied 21 een groepering gevormd van in totaal 64 overliggingsmarkeringen 22, telkens 8 in de reticule- 1022018 δ aftastrichtirig en in de niet-aftastrichting.

De reticule met de overliggingsmarkeringen 22 wordt gebruikt in combinatie met elke belichtingseenheid, waarbij een op de wafel gevormde fotogevoelige laag wordt blootgesteld aan licht. Op de 5 fotogevoelige laag wordt bijgevolg een latent beeld gevormd. De positie-coördinaten (X1t Y,) (i = 1 - 64) van het latente beeld dat correspondeert met elke markering worden bepaald. De verschuiving (Δχ,, AyJ = (x, - X4, y, - Yj (i = 1-64) tussen de positiecoördinaten (X^ YJ (i = 1 ~ 64) en de positiecoördinaten (het meetpunt) (x1t y,) (i = 1 - 64) wordt 10 gemeten. Merk op dat in het meetpunt een latent beeld wordt gevormd dat correspondeert met elke markering wanneer geen lensdistorsie optreedt en geen maskervervaardigingsfout optreedt. Op elk van drie wafels worden twaalf belichtingen uitgevoerd. Voor elke wafel wordt de verschuiving berekend. Het gemiddelde van de drie verschuivingen wordt gebruikt als 15 lensdistorsie-QC-data.

Het productpartijdatabestand 104 stuurt de belichtings-datum, de verlichtingsomstandigheden, de belichtingseenheid en het reticule-ID-getal voor elke belichte laag.

Een systeemstuurorgaan 100 omvat een berekeningseenheid 20 101, een programma 102 dat bewerkstelligt dat de berekeni ngseenheid 101 een voorafbepaalde functie uitvoert, eerste, tweede en derde aftast-belichtingseenheden 123a, 123b, 123c, eerste en tweede overliggingsinspectie-eenheden 124a, 124b, een dataserver 110, en een data-overdrachtseenheid 103 die data tussen de berekeningseenheid 101, 25 vervat in het systeemstuurorgaan, en een programma 102 overdraagt. De berekeningseenheid 101 berekent met het programma 103 een lensdistorsie-correctieparameter, trekt een reticulevervaardigingsfout af, en geeft een opdracht af voor de aftastbelichtingseenheden 123 (123a tot en met 123c), de overliggingsinspectie-eenheid 124 (124a, 124b), de dataserver 110 en 30 de data-overdrachtseenheid 103 in het systeemstuurorgaan 100.

Elke belichtingseenheid 123 bezit een mechanisme dat een 1 02 PO 1 ί·: 9 drukstuurkamer stuurt voor het sturen van de druk van de projectielens of tussen de projectielenzen welke worden gestuurd voor het corrigeren van de lensdistorsie, of verandert de golflengte van een excimerlaserbundel. Dat wil zeggen, elke aftastbelichtingseenheid 123 bezit een mechanisme 5 dat de drukstuurkamer verder stuurt voor druksturing van de projectielens of tussen de projectielenzen welke worden gestuurd, zodat de excimerlaserbundel door de drukstuurkamer gaat die de druk stuurt van de projectielens en tussen de projectielenzen welke worden gestuurd voor het verder corrigeren van de lensdistorsie, of het aftastbeeldoppervlak door 10 de excimerlaserbundel schoenengolflengte wordt veranderd, een aftastbeeldoppervlak wordt waarvoor de lensdistorsie niet is gecorrigeerd, of verandert de golflengte van de excimerlaserbundel. Met het bovenstaande mechanisme verschuift elke aftastbelichtingseenheid 123 de tweede- tot en met derde-orde lensdistorsiefoutcorrectie door de aftastbeeldoppervlak-15 correctie.

De berekening van de lensdistorsiecorrectieparameter en het aftrekken van de reticulevervaardigingsfout hoeven niet noodzakelijkerwijs door het systeemstuurorgaan 100 te worden uitgevoerd. De berekening van de lensdistorsiecorrectieparameter en het aftrekken van de reticule-20 vervaardigingsfout kan worden uitgevoerd door de aftastbelichtingseenheid 123 of bijvoorbeeld de overliggingsinspectie-eenheid 124. De door de overliggingsinspectie-eenheid 124 uitgevoerde meting kan gebruik maken van de bovenliggende meetfunctie van de aftastbelichtingseenheid 123.

Onder verwijzing naar figuur 3 zal de belichtingswerkwijze 25 welke het in figuur 1 getoonde systeem gebruikt worden uiteengezet. Figuur 3 is een stroomschema dat de belichtingswerkwijze volgens de eerste uitvoeringsvorm van de uitvinding toont. Het stroomschema toont de stappen van het aanpassen van de lensdistorsie op de m-l-laag.

(Stap S101) 30 De markeringen gevormd in de, in figuur 2 getoonde reticule worden op elk opnamegebied van de pilootwafel overgedragen door het 1022018 10 toepassen van de aftastbelichtingseenheden 123a tot en met 124c. De positiecoördinaten van elke markering worden gemeten door het toepassen van de overliggingsverschuivingsinspectie-eenheden 124a, 124b. Het is ook toegestaan om de overliggingsmeetfunctie van de aftastbelichtingseenheid 5 123 te gebruiken. De markeringspositiecoördinaten worden uitgedrukt in rechthoekige coördinaten waarbij de aftastrichting langs de y-as en de richting orthogonaal op de aftastrichting langs de x-as worden genomen. Dezelfde rechthoekige coördinaten worden gebruikt voor het meten van de navolgende positiecoördinaten.

10 Vervolgens wordt de mate van verschuiving (Δχ,, Ay,) (i = 1 tot en met 64) gemeten zoals boven beschreven. De gemiddelde waarde van de berekende verschuivingshoeveelheden van elk van de positiecoördinaten wordt gebruikt als lensdistorsie-QC-data. De lensdistorsie-QC-data berekent voor elke aftastbelichtingseenheid 123 worden in het QC-15 databestand opgeslagen.

(Stap S102)

De m-l-laag wordt door een van de aftastbelichtingseenheden 123a tot en met 123c blootgesteld aan licht. De productpartijhistorie-data, omvattende de gebruikte aftastbelichtingseenheid, de verlichtings-20 conditie en belichtingsdatum, worden in het productpartijdatabestand 114 opgeslagen.

(Stap S103)

De aan de partijbehuizing 121 vastgemaakte streepjescode wordt door middel van een streepjescodelezer 122 gelezen. Het 25 productpartij-ID-nummer wordt geïdentificeerd wanneer de streepjescode wordt gelezen.

(Stap S104)

De productpartijhistoriedata corresponderend met het productpartij-ID-nummer geïdentificeerd in stap S101 worden 30 geïdentificeerd, onder verwijzing naar het productpartijdatabestand 114.

1022018 11 (Stap S105)

Het QC-historiedatabestand 103 wordt onderzocht op het laatste QC-bestand-ID in overeenstemming met de drie onderdelen van de productpartijhistoriedata, door terug te gaan tot de tijd voor het 5 belichten van de m-l-laag.

(Stap S106)

Het distorsie-QC-databestand 112 wordt onderzocht, gebaseerd op het QC-bestand-ID, naar de lensdistorsie-QC-data voor gebruik door de aftastbelichtingseenheid voor het belichten van de m-1- 10 laag. De lensdistorsie-QC-data zijn gecorrigeerd bij opslag in het distorsie-QC-databestand 112, waardoor tijdens de vervaardiging van de inrichting gemaakte fouten worden geëlimineerd. Merk op dat deze data zijn gecorrigeerd ten opzichte van het reticulefoutbestand gelezen uit het reticulefoutdatabestand 111.

15 Nadat de streepjescodelezer 122 het product-ID-nummer- heeft geïdentificeerd, wordt gezocht naar de laatste QC-data voor het belichten van de m-laag (S105 tot en met S107), waarbij tegelijkertijd wordt gezocht naar de QC-distorsiedata voor het belichten van de m-l-laag (S102 tot en met S104).

20 (Stap S107)

Het productpartijdatabestand 114 wordt onderzocht op de processtroomdata, in overeenstemming met het productpartij-ID-nummer. De processtroomdata omvatten twee gegevens, de aftastbelichtingseenheid en de verlichtingsconditie voor het belichten van de m-laag.

25 (Stap $108)

Het QC-historiedatabestand 113 wordt onderzocht op het laatste QC-bestand-ID, gebaseerd op de twee onderdelen van de processtroomdata, door in de tijd terug te gaan tot aan de tijd voor het belichten van de m-laag.

30 (Stap S109)

Het distorsie-QC-databestand 112 wordt onderzocht op de 102201 8 12 Ίensdistorsie-QC-data toegepast voor het belichten van de m-laag, in overeenstemming met het geïdentificeerd QC-bestand-ID. De lensdistorsie-QC-data worden gecorrigeerd tijdens het opslaan daarvan, in overeenstemming met het reticule foutbestand gelezen uit het 5 reticulefoutdatabestand. Tijdens de vervaardiging van de inrichting gemaakte fouten worden derhalve geëlimineerd.

(Stap S110)

Het verschil (dx, dy) tussen de voor het belichten van de m-laag en de m-l-laag gebruikte QC-distorsiedata zoals verworven in stap 10 S109 wordt bepaald.

(Stap $111)

Het bepaalde verschil en de coördinaten van het meetpunt worden in de navolgende correctievergelijking (1) of (2) gesubstitueerd: 15 dx = kj + k3x + kjy + k7x2 + k13x31 ... (1) dy = k2 + k^ + k6x + k12xz \ dx = kj + k3x + kjy + k13x3 ... (2)

dy = k2 + k4y + k6x + k10xy J

20

Waarin dx de mate van verschuiving in de richting van de x-as in een opnamegebied is, dy de mate van verschuiving van de richting van de y-as in een opnamegebied is, x een coördinaatwaarde van de x-as in een opnamegebied is, y een coördinaatwaarde van de y-as in een 25 opnamegebied is.

Aanpassing onder toepassing van kleinste-kwadraten-benadering wordt nu uitgevoerd, waarbij de parameters ka, k2, k3, k4, k5, k6, k7, k12, k10 en k13 voor het corrigeren van de lensaberratie worden verkregen.

30 De correctievergelij king (1) bestaat uit de nulde-orde correctietermijn van k3 voor het corrigeren van de verschuivingscomponent 1 Q H u' i $ 13 in de x-richting en k2 voor het corrigeren van de verschuivingscomponent in de y-richting, en eerste-orde correctietermen omvattende k3 voor het corrigeren van de versterkingscomponent in de x-richting, k4 voor het corrigeren van de versterkingscomponent in de y-richting, en k5, k6 voor 5 het corrigeren van de rotatiecomponent en rechthoekigheidscomponent. Een gebruikelijke correctievergelijking maakt voor correctie gebruik van kt tot en met k6.

In deze uitvoeringsvorm omvat de correctievergelijking, in aanvulling op de coëfficiënten kj tot en met k6, de tweede- tot en met 10 derde-orde termen van een correctieterm k7 voor het corrigeren van de helling van het aberratie-correctiemechanisme, dat Seidel- of Zernike-aberratie corrigeert, ten opzichte van de x-richting, en een correctieterm k12 voor het corrigeren van de helling van het aberratie-correctiemechanisme ten opzichte van de y-richting, en een correctieterm 15 k13 voor het corrigeren van het op/neer sturen van het aberratie- correctiemechanisme.

De correctievergelijking (2) wordt toegepast afhankelijk van het correctieformaat van het correctiemechanisme van een aftast-belichtingseenheid. De correctietermen kj tot en met k6 zijn identiek aan 20 die in de vergelijking (1). De correctieterm k10 maakt een correctie door het sturen van een wafel trap, en de correctieterm k13 maakt een correctie door het veranderen van de golflengte van de excimerlaserbundel.

In het bovenstaande voorbeeld wordt de reticule-vervaardigingsfout gecorrigeerd wanneer de lensdistorsie-QC-data worden 25 opgeslagen. Desalniettemin kan deze fout op een ander tijdstip worden gecorrigeerd, bijvoorbeeld wanneer een distorsieverschil wordt berekend.

(Stap S112)

De vereiste correctieparameter wordt toegevoerd aan de aftastbelichtingseenheid 123 die wordt gebruikt voor het belichten van de 30 m-laag. De m-laag wordt vervolgens belicht in de toestand waarin de optica van de belichtingseenheid is gecorrigeerd, gebaseerd op de 1022018 14 berekende correctieparameter.

In het navolgende worden de resultaten uiteengezet van het verifiëren van het tweede- tot en met derde-orde lensdistorsiefout-correctie-effect. Figuur 4 toont de vector van het verschil tussen 5 distorsieverlichtingen in een opnamegebied in een KrF-aftastbelichtings-eenheid. De vector is de residuele foutcomponent verworven door kleinste-kwadratenaanpassing in de lensdistorsiecorrectievergelijking, door middel van een gebruikelijke aftastbelichtingseenheid. De residuele foutcomponent wordt gegeven door de navolgende vergelijking (3): 10 dx = kj + k3x + k5y ... (3) dy = k2 + k4y + k6x }

Waarin dx de mate van verschuiving van de richting van de 15 x-as in een opnamegebied is, dy de mate van verschuiving van de richting van de y-as in een opnamegebied is, x een coördinatenwaarde van de x-as in een opnamegebied is, y een coördinatenwaarde van de y-as in een opnamegebied is.

Figuur 5 toont de residuele foutcomponent verkregen door 20 het passend maken van de parameters in de correctievergelijking (1) door middel van de kleinste-kwadratenwerkwijze. Figuur 5 is een grafiek welke de verschil vectoren toont tussen distorsieverlichtingen in een opnamegebied, wanneer de belichting wordt uitgevoerd door de belichtingswerkwijze volgens de eerste uitvoeringsvorm van de uitvinding. 25 Dit toont de residuele foutcomponent als resultaat van het in kleinste-kwadraten passend maken van de lensdistorsiecorrectievergelij king (1) onder toepassing van de onderhavige uitvinding. Tabel 1 toont de reductie van de residuele lensdistorsiefout in een opnamegebied onder toepassing van een gebruikelijke werkwijze en de werkwijze volgens de 30 uitvoeringsvorm van de onderhavige uitvinding.

u έί -.j i φ 15

Tabel 1 (nm)

Residuele Residuele component 3σΧ component 3σΥ

Gebruikelijke 46 13 5 correctiewerkwijze Correctiewerkwijze volgens de eerste 15 13 uitvoeringsvorm 10 De waarde van 3σ neemt af in de correct!ewerkwijze volgens de onderhavige uitvinding, zoals getoond in tabel 1. Dit toont het nut aan van de correctiewerkwijze volgens de uitvoeringsvorm van de onderhavige uitvinding.

De uitvoeringsvorm van de uitvinding kan de overliggings-15 nauwkeurigheid vergroten door het reduceren van de lensdistorsiefout in het geval van het toepassen van de overliggingsfout, in het bijzonder in de meng-en-aanpaswerkwijze. Dat wil zeggen, het aantal pogingen als gevolg van misaanpassing kan worden gereduceerd voor het hierdoor verhogen van de doorloopsnelheid van de eenheid en de productiviteit.

20 Het is ook mogelijk om een correctie uit te voeren voor veranderingen in de tijd van de lensaberratie. De reticule kan gedeeld worden tussen een veelheid van eenheden door het aanpassen van de aberratie met andere machines. Dit kan de reticulevervaardigingskosten reduceren alsmede het aantal pogingen als gevolg van onjuiste dimensies, 25 en kan de doorloopsnelheid en de productiviteit van de eenheid verhogen. Misaanpassingen en de verwerkingstijd kunnen voorts worden gereduceerd wanneer continue productie wordt toegepast.

In de uitvoeringsvorm wordt de m-laag qua positie aangepast ten opzichte van de m-l-laag. Voor het leggen van de m-laag op de 30 belichte laag voorafgaand aan de a-laag, kan de m-l-laag worden vervangen 1022018 ‘ 16 door de m-a-laag. Er kan zich een geval voordoen waarin een hoge overliggingsnauwkeurigheid vereist is wanneer de m-laag de m+a-laag is. In dat geval wordt de lensdistorsiecorrectieparameter berekend uit het verschil tussen de laatste distorsiedata van de aftastbelichtingseenheid 5 en de verlichtingsconditie voor het belichten van de m+a-laag bij het belichten van de m-laag, en de laatste distorsiedata van de aftastbelichtingseenheid en de verlichtingsconditie voor het belichten van de m-laag. Correctie kan worden uitgevoerd door het substitueren van de correctieparameters in de vergelijking (1) of (2) voor elk opnamegebied 10 in dezelfde aftastrichting of dezelfde staprichting en het scheiden van de verkregen correctiewaarden in de aftastrichting en de staprichting.

(Tweede Uitvoeringsvorm)

In deze uitvoeringsvorm, wordt een reticule-trap-verplaatsingsspiegelkrommingscorrectiesysteem gebruikt voor het 15 verbeteren van de nauwkeurigheid van het overliggen in een opnamegebied. De reticule-trap-verplaatsingsspiegelkrommingscorrectie is speciaal voor de aftastbelichtingseenheid; deze wordt niet uitgevoerd in de stap-en-herhaalbelichtingswerkwijze.

Figuur 6 is een blokschema dat de configuratie toont van 20 een belichtingssysteem dat de tweede uitvoeringsvorm van de onderhavige uitvinding vormt. Dit systeem beoogt een gecentraliseerde sturing van een reticule-trap-verplaatsingsspiegelkrommingscorrectie. De componenten die identiek zijn aan die van de eerste uitvoeringsvorm (figuur 1) zijn aangegeven met dezelfde verwijzingscijfers en zullen niet in detail 25 worden beschreven.

Zoals figuur 6 toont, omvat een systeemstuurorgaan 200 een berekeningseenheid 201, een programma 202 dat bewerkstelligt dat de berekeningseenheid 201 een voorafbepaal de functie uitvoert, eerste, tweede en derde aftastbelichtingseenheden 123a, 123b en 123c, eerste en 30 tweede overliggingsinspectie-eenheden 124a en 124b, een dataserver 110 en een data-overdrachtseenheid 203. De eenheid 203 draagt data over tussen 1 0 *> 7 n 1 ς ' 17 de berekem'ngseenheid 201 vervat in het systeemstuurorgaan en een programma 202. De berekem'ngseenheid 201 berekent met het programma 203 een lensdistorsiecorrectieparameter, trekt een reticulevervaardigings-fout af en geeft een opdracht af aan de aftastbelichtingseenheden 123 5 (123a tot en met 123c), de overliggingsinspectie-eenheden 124 (124a, 124b), de dataserver 110 en de data-overdrachtseenheid 203 in het systeemstuurorgaan 200.

Het systeemstuurorgaan 200 hoeft niet de correct!eparameter te berekenen of de reticulevervaardigingsfout af te trekken. De 10 aftastbelichtingseenheid of de overliggingsinspectie-eenheid kunnen bijvoorbeeld de parameter berekenen en de fout aftrekken. De overliggingsmeetfunctie van de aftastbelichtingseenheid wordt gebruikt voor het meten van de meting in de overliggingsinspectie-eenheid.

Voor het corrigeren van de reticule-trap-verplaatsings-15 spiegel kromming zijn drie overliggingsmarkeringen 34 in de aftastrichting verschaft, in een opnamegebied 31 van een productpartijreticule, zoals geïllustreerd in figuur 7. Er zijn ten minste drie overliggingsmarkeringen 34 nodig. Een overliggingsmarkering wordt aangebracht op de reticule die wordt gebruikt voor het belichten van elke laag, in 20 hoofdzaak op dezelfde positiecoördinaten.

De overliggingsmarkeringen 34 zijn verschaft in een gebied 33 buiten een inrichtingsgebied 32. Een pilootwafel wordt belicht door toepassing van een product!ereticule van elke laag. Een overliggingsinspectie-eenheid 123 meet de coördinaten van de op een 25 fotogevoelige laag overgedragen overliggingsmarkering.

Figuur 8 is een stroomschema dat een belichtingswerkwijze volgens de tweede uitvoeringsvorm van de uitvinding uiteenzet. In deze werkwijze wordt de reticule-trap-verplaatsingsspiegel kromming afgestemd op de m-l-laag voordat de m-laag aan licht wordt blootgesteld.

30 (Stap S201)

Reticules die worden gebruikt voor het belichten van de m- 102201a 18 laag en de m-l-laag worden geprepareerd. Elke reticule heeft drie overliggingsmarkeringen in de aftastrichting, zoals getoond in figuur 7.

De positiecoördinaten van de op elke reticule gevormde overliggingsmarkeringen worden gemeten. De data welke de 5 over!iggingsmarkeringgroeperingsfout op een productiereticule representeren worden opgeslagen in het reticulefoutdatabestand 111.

(Stap S202)

De m-l-laag productreticule wordt opgenomen in een van de aftastbelichtingseenheden 123a t/m 123c. De m-l-laag wordt aan licht 10 blootgesteld. De op de productreticule gevormde overliggingsmarkeringen worden hierdoor op de m-l-laag overgedragen.

(Stap S203)

De overliggingsinspectie-eenheden 124a en 124b meten de positiecoördinaten van de op de m-l-laag overgedragen overliggings-15 markeringen. De overliggingsnauwkeurigheid wordt bepaald. Het productpartij-ID-nummer wordt gecombineerd met de overliggingsnauwkeurigheid, hetgeen nieuwe data genereert. De nieuwe data worden in een overliggingsnauwkeurigheidsdatabestand 115 opgeslagen.

(Stap 204) 20 Een streepjescode!ezer 120 leest de aan de partijbehuizing bevestigde streepjescode voordat de m-laag wordt belicht. Het productparti j-ID-nummer wordt geïdentificeerd uit de aldus gelezen streepjescode.

(Stap 205) 25 Verwijzend naar het aldus geïdentificeerde productpartij- ID-nummer en opgenomen in het productpartijdatabestand 114, wordt het reticule-ID-nummer van de voor het belichten van de m-laag gebruikte productreticule uit het databestand 114 gelezen. Verwijzend naar het reticulefoutdatabestand 111, wordt de overliggingsmarkerings- 30 groeperingsfout van de productreticule uit het databestand 114 gelezen ter voorbereiding van de belichting van de m-laag.

1022018 19 (Stap $206)

Het overliggingsnauwkeurigheidsdatabestand 115 wordt onderzocht op het resultaat van de overliggingsnauwkeun'gheidsmeting van de in de productpartij gevormde over!iggingsmarkeringen wanneer de m-1-5 laag wordt belicht.

(Stap S207)

Het verschil tussen het overl iggingsnauwkeurigheids-meetresultaat en de overliggingsmarkeringsgroepperingsfout van de productreticule voor belichting van de m-laag wordt berekend.

10 (Stap S208)

Het berekende verschil en de gemeten puntcoördinaten worden gesubstitueerd in de correctievergelijking (4): dx = kj + k3x + kjy + kny2 + k19y3 ? ... (4)

15 dy = k2 + k4y + k6x J

Waarin dx de mate van verschuiving in de richting van de x-as in een opnamegebied is, dy de mate van verschuiving in de richting van de y-as in een opnamegebied is, x een coördinaatwaarde van de x-as in een 20 opnamegebied is, y een coördinaatwaarde van de y-as in een opnamegebied is.

Het passend maken van de resultaten wordt uitgevoerd onder toepassing van kleinste-kwadratenbenadering, waarmee de reticule-trap-verplaatsingsspiegel correct! eparameters van de correctietermen kj t/m k6, 25 kn en k19 worden gevonden.

De correctievergelijking (4) bestaat uit de nulde-orde correctietermen van k3 voor het corrigeren van de verschuivingscomponent in de x-richting en k2 voor het corrigeren van de verschuivingscomponent in de y-richting, en de eerste-orde correctietermen omvattende k3 voor 30 het corrigeren van de versterkingscomponent in de x-richting, k4 voor het corrigeren van de versterkingscomponent in de y-richting en k5, k6 voor 1022018 20 het corrigeren van de rotatiecomponent en de rechthoek!gheidscomponent. Een gebruikelijke correctievergelijking maakt voor correctie gebruik van de bovengenoemde kj t/m k6. In deze uitvoeringsvorm maakt de correctievergelijking in aanvulling op de correctietermen kj t/m k6 5 gebruik van de tweede- tot en met derde-orde correctietermen van ku voor het corrigeren van de reticule-trap-verplaatsingsspiegelkrommingsfout, en k19 voor het corrigeren van de reticule-trap-verplaatsingsspiegel-krommingsfout benaderd door een kubus in de aftastrichting.

(Stap S209) 10 De aldus gevonden correctieparameters worden in de aftastbelichtingseenheid ingevoerd. Belichting wordt uitgevoerd in de toestand waarin de optica van de belichtingseenheid wordt gecorrigeerd gebaseerd op de berekende correct!eparameter.

Vervolgens worden de resultaten van het verifiëren van het 15 effect van de correctie voor het aanpassen van de reticule-verplaatsings-spiegel kromming op de m-l-laag uiteengezet. Figuur 9 is een grafiek welke de vector van de residuele fouten toont in een opnamegebied gevormd door een gebruikelijke belichtingswerkwijze tussen belichtingseenheden. De vector correspondeert met de residuele foutcomponent die wordt gevonden 20 door het middels kleinste-kwadraten passend maken in de correctievergeli jking, in een gebruikelijke belichtingswerkwijze, zoals getoond in de vergelijking (4). Figuur 10 is een schema dat de vector van de residuele fouten weergeeft in een opnamegebied tussen de aftastbelichtingseenheden gevormd door de correctiewerkwijze volgens de 25 tweede uitvoeringsvorm van de uitvinding. Deze vector correspondeert met de residuele foutcomponent gevonden door kleinste-kwadratenaanpassing in de vergelijking voor het corrigeren van de verplaats!ngsspiegelkromming van de reticule trap, in de werkwijze van de onderhavige uitvinding, zoals getoond in de vergelijking (4).

30 Tabel 2 toont de reductie van de residuele fout in een opnamegebied onder toepassing van een gebruikelijke werkwijze en de 1022ü13 21 reticule-trap-verplaatsi ngsspi egelkrommi ngscorrecti ewerkwi jze tussen de in deze uitvoeringsvorm van de onderhavige uitvinding getoonde aftastbeli chti ngseenheden.

5 Tabel 2 (nm)

Residuele component Niet-gecorrigeerd 32

Gecorrigeerd 22 10

De waarde van 3Q toegepast in de correctiewerkwijze van de onderhavige uitvinding neemt af. Dit betekent dat de correctiewerkwijze welke de reticule-trap-verplaatsingskromming in deze uitvoeringsvorm van de uitvinding corrigeert beter is dan een gebruikelijke werkwijze welke de 15 reticule-trap-verplaatsingsspiegel kromming niet corrigeert.

In de onderhavige uitvoeringsvorm wordt de m-laag aangepast qua positie ten opzichte van de m-l-laag. Niettemin is de bovenliggende laag niet beperkt tot de m-l-laag. Wanneer de m-laag de laag is die voor de a-laag wordt belicht, wordt de m-l-laag in de bovengenoemde 20 uitvoeringsvorm gebruikt als een m-a-laag. In dit geval wordt de verschuiving tussen de overliggingsmeetmarkering bij belichting van de m-a-laag en de overliggingsmeetmarkering bij belichting van de m-laag gemeten. Het resultaat wordt in de correctievergelijking (4) gesubstitueerd en de correctieparameter wordt berekend. Correctie kan 25 worden bewerkstelligd door de parameter in de vergelijking (4) te substitueren voor elk opnamegebied in dezelfde aftastrichting of dezelfde staprichting, en door de verkregen correctiewaarde te distribueren in de aftastrichting en de staprichting.

De uitvoeringsvorm van de uitvinding kan de overliggings-30 nauwkeurigheid verhogen door het reduceren van de fout bij verplaatsing in de aftastrichting wanneer de overliggingsfout wordt toegepast, in het 1 02201 a ' 22 bijzonder in de meng- en -aanpaswerkwijze. Dat wil zeggen, het aantal herhalingen als gevolg van misaanpassing kan afnemen en de gebruikssnelheid en de productiviteit van de eenheid kunnen stijgen.

(Derde Uitvoeringsvorm) 5 In deze uitvoeringsvorm wordt een wafeltrap- foutcorrectiesysteem toegepast voor het verbeteren van de nauwkeurigheid van wafeloverligging. De term "wafeltrapfout" betekent een fout in de staprichting, ook bekend als "krommingsfout van de wafeltrapverplaatsingsspiegel", "voorwaartse/achterwaartse aftastfout in 10 de stapfout" of "verschuiving van rij en kolom".

Een voor de aftastbelichtingseenheid specifieke trapfout bij het belichten van de m-l-laag wordt positief aangepast bij belichting van de m-laag door het toepassen van de productpartij- overliggingsinspectieresultaten. Wanneer het aantal productoverliggings-15 meetpunten klein is en de betrouwbaarheid gering is, onder verwijzing naar de laatste QC-data door terug te gaan tot aan de belichtingstijd, de foutcomponent veroorzaakt door de wafel trap van de aftastbelichtingseenheid gebruikt voor het belichten van de m-laag, naar de foutcomponent veroorzaakt door de wafel trap van de 20 aftastbelichtingseenheid gebruikt voor het belichten van de m-l-laag.

Een productie-ondersteuningssysteem dat gecentraliseerde sturing van wafeltrapfoutcorrectie uitvoert is gelijk aan het in de tweede uitvoeringsvorm toegepaste productie-ondersteuningssysteem, en zal in detail worden beschreven. Foutcorrectie wordt bewerkstelligd door het 25 toepassen van de parameters kj en k2 verkregen in de tweede uitvoeringsvorm, of de gemiddelde waarde van de overliggingsverschuivingen voor opnamegebieden.

Figuur 11 is een stroomschema dat een belichtingswerkwijze volgens een derde uitvoeringsvorm van de uitvinding uiteenzet. In deze 30 werkwijze wordt een wafeltrapfout aangepast op de m-l-laag voordat de inlaag wordt blootgesteld aan licht.

1 022Gi 8 23 (Stap S301)

De correct!etermen kt en k2 worden op dezelfde wijze geprepareerd als in de eerste uitvoeringsvorm.

(Stap S302) 5 De barycentrische coördinaten van elke overliggings- markering vervat in elk opnamegebied worden voor elk opnamegebied bij belichting van de m-l-laag berekend.

(Stap 303)

De barycentrische coördinaten van de overliggingsmarkering 10 belicht op de reticule en gebruikt voor het belichten van de m-laag worden berekend.

(Stap 304)

Het verschil (DX, DY) tussen de twee barycentrische coördinaten verkregen in de stappen S302 en S303 wordt voor elk 15 opnamegebied verworven.

(Stap S305)

De correct!etermen en k2, de barycentrische coördinaten (X, Y) van de overliggingsmarkering gevormd in het opnamegebied wanneer er geen verschuivingen zijn, en het verschil (DX, DY) worden in de 20 correctievergelijking (5) gesubstitueerd.

DX = Kj + K3X + KSY + KUYZ ± S±( ± S„tepJ( ± Syitepx ? ...(5) DV - k, + K,r + K,X + k12xz ± s„ ± s„Wï ± s,,,,,, 25 Waarbij x een coördinatenwaarde van de x-as in een opnamegebied is, y een coördinatenwaarde van de y-as in een opnamegebied is, Stx een voorwaartse/achterwaartse aftastfoutcorrectiewaarde X is (+teken voor de voorwaartse aftasting, -teken voor de achterwaartse aftasting), Sty een voorwaartse/achterwaartse aftastfoutcorrectiewaarde Y 30 is (+teken voor de voorwaartse aftasting, -teken voor achterwaartse aftasting), Stxstepx een correctiewaarde X is bij stappen in de richting van 1022018 24 de x-as (+teken voor stappen naar rechts, -teken voor stappen naar links), S±ystapx een correctiewaarde X bij stappen in de richting van de y-as is (+teken voor stappen omhoog, -teken voor stappen omlaag), S,xstapy een correctiewaarde Y bij stappen in de richting van de x-as is (+teken voor 5 stappen naar rechts, -teken voor stappen naar links), Stystapy een correctiewaarde Y bij stappen in de richting van de x-as is (Heken voor stappen omhoog, -teken voor stappen omlaag).

In deze uitvoeringsvorm omvat de correctievergelijking, in aanvulling op de gebruikelijke correctietermen Kj t/m K6, Kn voor het 10 corrigeren van de wafel-trapverplaatsingsspiegelkrommingsfout benaderd door een kwadratische aanpassing in de X-richting, de tweede-ordetermen van K12 voor het corrigeren van de wafel-trapverplaatsingsspiegel - krommingsfout benaderd door een kwadratische vergelijking in de Y-richting, de voorwaartse/achterwaartse aftastfout-correctieterm S±x (de 15 voorwaartse/achterwaartse aftastfoutcorrectieterm in de X-richting), Sty (de voorwaartse/achterwaartse aftastfoutcorrectieterm in de Y-richting), de staprichtingsverschilcorrectieterm S±xstapx (de correctieterm in de X-richting bij stappen in de X-richting), S±ystapx (de correctieterm in de X-richting bij stappen in de Y-richting), Slxstapy (de correctieterm in de X-20 richting bij stappen in de Y-richting), en S±ystapy (de correctieterm in de Y-richting bij stappen in de Y-richting). De aftast- en staprichtingen toegepast als referentie voor correctie zijn niet gespecificeerd.

(Stap 306)

Elke correctieterm wordt berekend door middel van 25 aanpassing middels kleinste-kwadratenbenadering. Hiermee worden de correctieparameters verkregen.

(Stap 307)

De verkregen correct!eparameters worden toegevoerd aan de voor het belichten van de m-laag en het belichten van de m-laag gebruikte 30 aftastbelichtingseenheid.

Vervolgens worden de resultaten van het verifiëren van het 4 Π ·'; - «, '•Λ t / . i' I ij 25 effect van de correctie voor het aanpassen van de wafelverplaatsings-spiegel kromming ten opzichte van de m-l-laag tijdens de wafeltrapfoutcorrectie uiteengezet. Figuur 12 is een grafiek welke de vector van de wafel componenten toont belicht door een gebruikelijke 5 belichtingswerkwijze tussen belichtingseenheden. De wafel component geeft de residuele foutcomponent aan verkregen door kleinste-kwadratenaanpassing ten opzichte van de wafelcomponentcorrectie-vergelijking onder toepassing van een gebruikelijke aftastbelichtingseenheid, zoals getoond in de vergelijking (3).

10 Figuur 13 is een grafiek welke de verctor toont van de wafel componenten respectievelijk belicht door belichtingseenheden in de werkwijze volgens de derde uitvoeringsvorm. De vector geeft de residuele foutcomponent aan verkregen door kleinste-kwadratenaanpassing in de werkwijze getoond in de vergelijking (5). Tabel 3 toont hoe de residuele 15 fout in een wafel wordt gereduceerd middels een gebruikelijke werkwijze en door de wafeltrapverplaatsingsspiegelkrommingscorrectiewerkwijze volgens deze uitvinding.

Tabel 3 (nm) 20 Residuele component Residuele component 3σΧ 3σΥ

Niet gecorrigeerd 34 26

Gecorrigeerd 16 26

Zoals uit tabel 3 kan worden gezien, is de 25 correctiewerkwijze die gebruik maakt van de wafeltrap-verplaatsingskrommingscorrectie zoals getoond in deze uitvoeringsvorm beter dan een gebruikelijke werkwijze waarin de wafeltrap- verplaatsingsspiegel kromming niet wordt gecorrigeerd. Dit komt doordat de waarde van 3Q van de correctiewerkwijze volgens de onderhavige uitvinding 30 afneemt.

1022018 26

Het aantal productpartij-overliggingsmeetpunten kan klein zijn en de betrouwbaarheid gering zijn. In dat geval worden de laatste QC-data in de aftastbelichtingseenheid ingevoerd teneinde de m-l-laag te belichten. Het verschil tussen de wafel trapfoutcomponent van de belichte 5 m-l-laag en de wafeltrapfoutcomponenten van de laatste QC-data wordt verder ingevoerd in de inrichting voor het belichten van de m-laag. De aftastbelichtingseenheid kan de correctie uitvoeren.

Een stapfout welke een verschil is tussen de voorwaartse aftastfout en de achterwaartse aftastfout en een fout in de staprichting, 10 bekend als "verschuiving van rij en kolom" kunnen in de navolgende werkwijze worden verkregen. Het verschil tussen de laatste QC-data ten tijde van de belichting en de laatste QC-data in de aftasteenheid toegepast voor het belichten van de m-laag wordt berekend. De gemiddelde waarde in elke opnamegebied wordt dan verkregen. Verder wordt de 15 gemiddelde waarde voor positieve en negatieve aftasting bepaald. Het verschil tussen de gemiddelde waarden voor het maken van de correctie wordt ingevoerd. Voor de verschuiving van rij en kolom wordt de gemiddelde waarde van elke verschuiving berekend en wordt het verschil in de belichtingseenheid ingevoerd voor het maken van de correctie.

20 Als alternatief werden een gemiddelde waarde voor de positieve aftasting, een gemiddelde waarde voor de negatieve aftasting en een gemiddelde waarde voor rijen en kolommen berekend voor gebruik in de correctievergelijking, uiteengezet in de eerste en tweede uitvoeringsvormen. Het verschil tussen deze gemiddelde waarden werd aan 25 de belichtingseenheid toegevoerd voor het maken van de correctie.

De overliggingsnauwkeurigheid kan worden vergroot door het reduceren van de fout bij verplaatsing in de staprichting wanneer de overliggingsfout wordt toegepast, in het bijzonder in de meng-en-aanpaswerkwijze. Dat wil zeggen het aantal herhalingen als gevolg van 30 misaanpassing kan afnemen en de gebruikssnelheid kan toenemen.

(Vierde Uitvoeringsvorm) .1 0Zóu i 3 27

Er kan correctie tot stand worden gebracht welke voldoet aan de doeleinden van de uitvoeringsvormen 1 tot en met 3. In dat geval wordt de correctievergelijking (6) of (7) gebruikt voor correctie in een opnamegebied.

5 dx = k3 + k3x + kjy + k7x2 + kuy2 + kJ3x3 + k19y3 / ... (6)

dy = k2 + k4y + k6x + klzx2 J

dx = ki + k3x + kjy + kny2 + k13x3 + k19y3 ? ... (7)

10 dy kz + k4y + k6x + k10xy J

Waarin dx de mate van verschuiving van de richting van een x-as in een opnamegebied is, dy de mate van verschuiving van de richting van een y-as in een opnamegebied is, x een coördinatenwaarde van de x-as 15 in een opnamegebied is, y een coördinatenwaarde van de y-as in een opnamegebied is.

(Vijfde Uitvoeringsvorm)

Een eenheid-QC kan de door de trap veroorzaakte fout voor het uitvoeren van een snelle belichting (belichting zonder overligging) 20 minimaliseren door toepassing van het correctiesysteem volgens de uitvoeringsvormen 1 tot en met 4. In dat geval wordt het resultaat van de overliggingsverschuivingsinspectie beschreven in de uitvoeringsvormen 1 tot en met 4 gesubstitueerd in de correctievergelijking en gebruikt als eenheidaanpassingsparameters. Dit immuniseert de residuele fout door 25 klei nste-kwadratenaanpassi ng.

De onderhavige uitvinding is niet beperkt tot de bovenbeschreven uitvoeringsvormen. Er kunnen verschillende veranderingen en wijzigingen worden uitgevoerd, zonder af te wijken van de omvang en geest van de uitvinding. Aanvullende voordelen en wijzigingen zullen voor 30 deskundigen voor de hand liggend zijn. De uitvinding in zijn breedste aspecten is bijgevolg niet beperkt tot de specifieke details en de 1022018 28 representatieve uitvoeringsvormen zoals hierin getoond en beschreven. Bijgevolg kunnen verschillende wijzigingen worden aangebracht zonder af te wijken van de geest of omvang van het algehele inventieve concept zoals gedefinieerd door de bijgesloten conclusies en hun equivalenten.

5

LIJST VAN VERWIJZINGSCIJFERS

101 Berekeningseenheid 102 Programma 10 103 Dataoverdrachteenheid 104 Aftastrichting 105 Niet-aftastrichting 111 Reticulefoutdatabestand 112 Distorsie-QC-databestand 15 113 QC-historie-databestand 114 Productpartij-databestand 115 Overli ggi ngsnauwkeuri ghei dsmeetresultaatdatabestand 121 Streepjescode partijbehuizing 122 Streepjescodelezer 20 123a Eerste aftastbelichtingseenheid 123b Tweede aftastbelichtingseenheid 123c Derde aftastbelichtingseenheid 124a Eerste overliggingsverschuivingsinspectie-eenheid 124b Tweede overliggingsverschuivingsinspectie-eenheid 25 125 Streepjescode 201 Berekeningseenheid 202 Programma 203 Data-overdrachteenheid S101 Meet de lensdistorsie-QC-data van elke belichtingseenheid 30 S102 Belicht de m-l-laag $103 Identificeer het partijbehuizings-ID-nummer i 0 2 £ ,* 1 3 29 5104 Verwerf de verlichtingsconditie en belichtingsdata van de belichtingseenheid gebruikt voor het belichten van de m-1-laag 5105 Identificeer het QC-bestand-ID bij belichting van de m-1- 5 laag 5106 Verwerf de lensdistorsie-QC-data bij belichting van de m-1-laag 5107 Verwerf de belichtingseenheid gebruikt voor het belichten van de m-laag en de verlichtingsconditie 10 S108 Identificeer het laatste QC-bestand-ID bij een belichting van de m-laag 5109 Verwerf de laatste lensdistorsie-QC-data 5110 Bereken het verschil tussen deze twee lensdistorsie-QC-data 5111 Bereken de correctieparameter 15 S112 Voer de correctieparameter in in de aftast- belichtingseenheid en belicht de m-laag 5201 Meet de positiecoördinaten van de overliggingsmarkering 5202 Belicht de m-l-laag 5203 Meet de positie van de overliggingsmarkering op de m-l-laag 20 S204 Identificeer het partijbehuizings-ID-nummer 5205 Verwerf de overliggingsmarkeringsgroeperingsfout van de reticule gebruikt voor het belichten van de m-laag 5206 Verwerf het m-l-laag overliggingsnauwkeurigheids-meetresultaat 25 S207 Bereken het verschil tussen het overliggings- nauwkeurigheids-meetresultaat en de groeperingsfout 5208 Bereken de reticule-trap-verplaatsingsspiegel-krommi ngscorrecti eparameter 5209 Voer de correctieparameter in in de aftast- 30 belichtingseenheid en belicht de m-laag S301 Prepareer de correct!etermen en k2 1022018 30 5302 Verwerf de barycentrische coördinaten van de overliggingsmarkering in elk opnamegebied op de m-l-laag 5303 Verwerf de barycentrische coördinaten van de overliggingsmarkering gevormd op de reticule gebruikt voor 5 belichting van de m-laag 5304 Bereken het verschil tussen de twee barycentrische coördinaten 5305 Substitueer het verschil in vergelijking (5) 5306 Bereken de wafeltrapfoutcorrectieparameter 10 S307 Voer de correctieparameter in inde aftastbelichtingseenheid en voer de belichting uit.

102?r-> :

Claims

1. Belichtingswerkwijze voor het belichten van een bovenliggende laag door uitlijning met het patroon van een onderliggende 5 laag door toepassing van een belichtingseenheid van het aftast- belichtingstype die belichtingen uitvoert in een opnamegebied door het synchroon verplaatsen van een reticule en een wafel in de aftastrichting, gekenmerkt door het: prepareren van een reticule met een matrix van vier of meer 10 markeringen in de aftastrichting en vier of meer in de richting orthogonaal ten opzichte van de aftastrichting; overdragen van de op de reticule gevormde markeringen op elk opnamegebied van een eerste pilootwafel, door het toepassen van een eerste belichtingseenheid welke wordt gebruikt voor het belichten van de 15 onderliggende laag; detecteren van de positiecoördinaten van de op elk opnamegebied van de eerste pilootwafel overgedragen markeringen in een voorafbepaald coördi natenstelsel; overdragen van de, op de reticule gevormde markeringen op 20 elk opnamegebied van een tweede pilootwafel, door toepassing van een tweede belichtingseenheid welke wordt gebruikt voor het belichten van de bovenliggende laag; detecteren van de positiecoördinaten van de op elk opnamegebied van de tweede pilootwafel overgedragen markeringen in het 25 voorafbepaalde coördinatenstelsel; refereren aan de positiecoördinaten van de overgedragen markeringen door het toepassen van de eerste en tweede belichtings-eenheden; berekenen van het verschil tussen de respectieve 30 coördinaatelementen van de twee gerefereerde positiecoördinaten; berekenen van een correct!eparameter uit het berekende 1022018 verschil voor het corrigeren van een lensaberratie; en belichten van de bovenliggende laag in de toestand waarin de optica van de tweede belichtingseenheid is gecorrigeerd, gebaseerd op de berekende correctieparameter.

2. Belichtingswerkwijze volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat het vooraf bepaalde coördinatenstelsel een stelsel van rechthoekige coördinaten is waarbij de aftastrichting langs de y-as en de richting orthogonaal op de aftastrichting langs de x-as wordt genomen; en de aberratieparameter wordt berekend door het substitueren 10 van het verschil (dx, dy) tussen de coördi naatcomponenten en de positiecoördinaten (x, y) gevormd zonder verschuiving van de markeringen, in de vergelijkingen: dx = k3 + k3x + kjy + k7x2 + knx3 15 dy * k2 + k^ + k6x + k12x2 en het bepalen van de parameters klt k2, k3, k4, k5, k6, k7, k12 en k23 door klei nste-kwadratenbenaderi ng.

3. Belichtingswerkwijze volgens conclusie 1, met het kenmerk, 20 dat het vooraf bepaalde coördinatenstelsel een stelsel van rechthoekige coördinaten is waarbij de aftastrichting langs de y-as en de richting orthogonaal of de aftastrichting langs de x-as wordt genomen; en de aberratieparameter wordt berekend door het substitueren van het verschil (dx, dy) tussen de coördinaatcomponenten en de 25 positiecoördinaten (x, y) gevormd zonder verschuiving van de markeringen, in de vergelijkingen: dx = kj + k3x + kjy + k13x3 dy = k2 + kj + k6x + k10xy 30 en het bepalen van de parameters kx, k2, k3, k4, k5, k6, k10 en k13 door 1 02201 8 ’’ klei nste-kwadratenbenaderi ng.

4. Belichtingswerkwijze volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat de aberratieparameter afkomstig is uit de groep van distorsie-, veldkrommings-, astigmatische-, coma- en Seidel- of Zernike-aberraties.

5. Belichtingswerkwijze volgens conclusie 1, met het kenmerk dat de bovenliggende laag op de onderliggende laag wordt gevormd.

6. Belichtingswerkwijze volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat de onderliggende laag op de overliggende laag wordt gevormd.

7. Belichtingswerkwijze voor het belichten van een 10 bovenliggende laag door uitlijning met het patroon van een onderliggende laag door toepassing van een belichtingseenheid van het aftastbelichtingstype die belichtingen uitvoert in een opnamegebied door het synchroon verplaatsen van een reticule en een wafel in de aftastrichting, gekenmerkt door het: 15 prepareren van een eerste reticule welke wordt gebruikt voor het belichten van de onderliggende laag en die drie of meer in de aftastrichting gevormde markeringen heeft; prepareren van een tweede reticule welke wordt gebruikt voor het belichten van de bovenliggende laag en die drie of meer in de 20 aftastrichting gevormde markeringen heeft; detecteren van de positiecoördinaten van de, op de tweede reticule gevormde markeringen in een voorafbepaald coördinatenstelsel; overdragen van de op de eerste reticule gevormde markeringen op een eerste wafel; 25 detecteren van de positiecoördinaten van de op elk opnamegebied van de eerste wafel overgedragen markeringen in het coördinatenstelsel; berekenen van het verschil tussen de respectieve coördinaatelementen van de positiecoördinaten van de op de eerste wafel 30 overgedragen markeringen en de positiecoördinaten van de op de tweede reticule gevormde markeringen; 1022018 berekenen van een correctieparameter uit het berekende verschil voor het corrigeren van de nulde- tot en met derde-ordefouten welke optreden terwijl de reticule en de wafel in de aftastrichting worden verplaatst; en 5 belichten van de bovenliggende laag door het toepassen van de tweede reticule, in de toestand waarin de fouten worden gecorrigeerd gebaseerd op de correctieparameter.

8. Belichtingswerkwijze volgens conclusie 7, met het kenmerk, dat het vooraf bepaalde coördinatenstelsel een stelsel van rechthoekige 10 coördinaten is waarbij de aftastrichting langs de y-as en de richting orthogonaal op de aftastrichting langs de x-as wordt genomen; en de aberratieparameter wordt berekend door het substitueren van het verschil (dx, dy) tussen de coördinaatcomponenten en de positiecoördinaten (x, y) gevormd zonder verschuiving van de markeringen, 15 in de vergelijkingen: dx ki + k3x + kjy + kny2 +k19y3 dy = k2 + k<y + k6x 20 en het bepalen van de parameters kt tot k6, ku en k19 door kleinste- kwadratenbenaderi ng.

9. Belichtingswerkwijze volgens conclusie 7, met het kenmerk dat de correctieparameter wordt gebruikt voor correctie van voorwaartse/achterwaartse aftastfouten afhankelijk van de 25 voorwaartse/achterwaartse aftastrichting van de wafel trap en de reticuletoestand.

10. Belichtingswerkwijze voor het belichten van een bovenliggende laag door oplijning met het patroon van een onderliggende laag door gebruik van een belichtingseenheid van het aftastbelichtings- 30 type die belichtingen uitvoert in een opnamegebied door het synchroon verplaatsen van een reticule en een wafel in de aftastrichting, 1 022(3 1 e"“ gekenmerkt door het: prepareren van een eerste reticule welke wordt gebruikt voor het belichten van de onderliggende laag en die drie of meer in de aftastrichting gevormde markeringen heeft; 5 prepareren van een tweede reticule welke wordt gebruikt voor het belichten van de bovenliggende laag en die drie of meer in de aftastrichting gevormde markeringen heeft; detecteren van de positiecoördinaten van de op de tweede reticule gevormde markeringen in een voorafbepaald coördinatenstelsel; 10 overdragen van de op de eerste reticule gevormde markeringen op de onderliggende laag van de eerste wafel; detecteren van de positiecoördinaten van de op elk opnamegebied van de onderliggende laag overgedragen markeringen in het coördinatenstelsel; 15 berekenen van de barycentrische coördinaten van elk opnamegebied uit de positie-informatie van de op elk opnamegebied van de onderliggende laag overgedragen markeringen; berekenen van de barycentrische coördinaten van de markeringen gebaseerd op de positiecoördinaten van elke op de tweede 20 reticule gevormde markering; berekenen van het verschil tussen de twee barycentrische coördinaten; berekenen van een correct!eparameter uit het berekende verschil voor het corrigeren van de nulde- tot en met derde-ordefouten 25 welke optreden terwijl de wafel in de staprichting wordt verplaatst; en belichten van de bovenliggende laag, in de toestand waarin de fouten worden gecorrigeerd gebaseerd op de correct!eparameter.

11. Belichtingswerkwijze volgens conclusie 10, met het kenmerk, dat het vooraf bepaalde coördinatenstelsel een stelsel van rechthoekige 30 coördinaten is waarbij de aftastrichting lang de y-as en de richting orthogonaal op de aftastrichting langs de x-as wordt genomen; en 1022018 de correctieparameter wordt berekend door verwijzing naar de positiecoördinaten (X, Y) gevormd zonder verschuiving van de markeringen en het substitueren van het verschil (DX, DY) tussen de barycentrische coördinaten en de positiecoördinaten (X, Y) in de 5 vergelijkingen: DX = K, + KSX + KSY + KUY2 t s„ ± s„,w ± DY - K2 + K,Y + K«X + K12X* i $„ ± $„„„ 1 $„„„, 10 en het bepalen van de correctietermen Kp K2, K3, K4, K5, K6, Ku, K1Z en S±x, Sly, Stxstapx, Siystapy, Stystapx, Stxstapy door kleinste-kwadratenbenadering.

12. Belichtingswerkwijze volgens conclusie 10, met het kenmerk dat het vooraf bepaalde coördinatenstelsel een stelsel van rechthoekige coördinaten is waarbij de aftastrichting langs de y-as en de richting 15 orthogonaal op de aftastrichting langs de x-as wordt genomen; en de correctieparameter wordt berekend door het prepareren van een reticule met een matrix van vier of meer markeringen in de aftastrichting en vier of meer in de richting orthogonaal op de aftastrichting; 20 overdragen van de op de reticule gevormde markeringen in elk opnamegebied op een eerste pilootwafel door toepassing van een eerste belichtingseenheid welke wordt gebruikt voor het belichten van de onderliggende laag; detecteren van de positiecoördinaten van de op elk 25 opnamegebied van de eerste pilootwafel in het coördinatenstelsel overgedragen markeringen; overdragen van de op de reticule gevormde markeringen op elk opnamegebied van een tweede pilootwafel, door toepassing van een tweede belichtingseenheid welke wordt gebruikt voor het belichten van de 30 bovenliggende laag; detecteren van de positiecoördinaten van de op elk 103 opnamegebied van de tweede pilootwafel overgedragen markeringen in het coördinatenstelsel; refereren aan de positiecoördinaten van de markeringen overgedragen door toepassing van de eerste en tweede belichtingseenheden; 5 berekenen van het verschil (dx, dy) tussen de respectieve coördinaatelementen van de twee gerefereerde positiecoördinaten; substitueren van het verschil (dx, dy) en de positiecoördinaten (x, y) gevormd zonder verschuiving van de markeringen, in de vergelijkingen: 10 dx = Ki + K3x + Ksy + K7x2 + K13x3 dy = K2 + K*y + K6x + K12x2 en het bepalen van de correctietermen Kj en K2 door kleinste-kwadraten-15 benadering; en substitueren van het verschil (DX, DY) tussen de barycentrische coördinaten en de positiecoördinaten (X, Y) gevormd zonder verschuiving van de markeringen en de correctietermen Kj en K2 in de vergelijkingen: 20 DX = K3 + K3X + K5Y + KUY2 ± S±x ± Sxstapx ± Syxstapx DY = K2 + K4Y + K6X + K12X2 ± Sty ± Sxstapy ± Systipy en het bepalen van de correctietermen K3, K5, K6, Kn, K12 en Stx, S±y,

25 Slxstapx, Stystapy, Stystapx, Slxstapy door kleinste-kwadratenbenadering.

13. Belichtingswerkwijze volgens conclusie 10, met het kenmerk dat het vooraf bepaalde coördinatenstelsel een stelsel van rechthoekige coördinaten is waarbij de aftastrichting lang de y-as en de richting orthogonaal op de aftastrichting lang de x-as wordt genomen; en de 30 foutparameter wordt berekend door het prepareren van een reticule met een matrix van vier of meer 1 02201 o markeringen in de aftastrichting en vier of meer in de richting orthogonaal op de aftastrichting; overdragen van de op de reticule gevormde markeringen op elk opnamegebied van een eerste pilootwafel, door toepassing van een 5 eerste belichtingseenheid welke wordt gebruikt voor het belichten van de onderliggende laag; detecteren van de positiecoördinaten van de op elk opnamegebied van de eerste pilootwafel overgedragen markeringen in het coördinatenstelsel; 10 overdragen van de op de reticule gevormde markeringen op elk opnamegebied van een tweede pilootwafel door toepassing van een tweede belichtingseenheid welke wordt gebruikt voor het belichten van de bovenliggende laag; detecteren van de positiecoördinaten van de op elk 15 opnamegebied van de tweede pilootwafel overgedragen markeringen in het coördinatenstelsel; refereren aan de positiecoördinaten van de overgedragen markeringen door toepassing van de eerste en tweede belichtingseenheden; berekenen van het verschil (dx, dy) tussen de respectieve 20 coördinaatelementen van de twee gerefereerde positie-informaties; substitueren van het verschil (dx, dy) tussen de coördinaatelementen en de positiecoördinaten (x, y) gevormd zonder verschuiving van de markeringen, in de vergelijkingen: 25 dx = Kr + K3x + + KJ3x3 dy = K2 + Kj + K6x + K10xy en het bepalen van de correctietermen 1^ en K2 door kleinste-kwadratenbenadering; en 30 substitueren van het verschil (DX, DY) tussen de barycentrische coördinaten en de positiecoördinaten (X, Y) gevormd zonder verschuiving t 0?r.r i van de markeringen, en de correctietermen Kx en Kz in de vergelijkingen: DX 9 Kj + K3X + K5Y + KnY ± S±x ± Sxstapx ± Systapx DY * K2 + K4Y + K6X + K12XZ ± Sly ± Sxstapy ± SVstapy 5 en het bepalen van de correctietermen K3, K5, K6, Kn, K12 en Sw, Sty, Slxstapx, s±yStapy» s±yStapX en door kleinste-kwadraatbenadering.

14. Belichtingswerkwijze volgens conclusie 10, met het kenmerk, dat de correctieparameter wordt gebruikt voor het corrigeren van de fout 10 welke optreedt bij verplaatsing van de wafel trap in de staprichting. λ η o9Π 1 a