MX2011003864A - Recubrimiento absorbente selectivo solar y medoto de fabricacion. - Google Patents
Recubrimiento absorbente selectivo solar y medoto de fabricacion.Info
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- 230000002745 absorbent Effects 0.000 title claims abstract description 84
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 title claims abstract description 84
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 78
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 70
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title abstract description 8
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 57
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 41
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 28
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 claims abstract description 16
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 153
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 33
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 32
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 claims description 23
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 21
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 19
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 16
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 16
- -1 silicon nitrides Chemical class 0.000 claims description 15
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 13
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims description 13
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 13
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 12
- 239000010955 niobium Substances 0.000 claims description 12
- 239000007769 metal material Substances 0.000 claims description 11
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 11
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 claims description 10
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 10
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims description 7
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N Alumina Chemical class [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 6
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 6
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 6
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims description 6
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- SOQBVABWOPYFQZ-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);titanium(4+) Chemical class [O-2].[O-2].[Ti+4] SOQBVABWOPYFQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 6
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical class [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 6
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 claims description 6
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 claims description 6
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 claims description 6
- QHGNHLZPVBIIPX-UHFFFAOYSA-N tin(ii) oxide Chemical class [Sn]=O QHGNHLZPVBIIPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims description 6
- 235000014692 zinc oxide Nutrition 0.000 claims description 6
- RNWHGQJWIACOKP-UHFFFAOYSA-N zinc;oxygen(2-) Chemical class [O-2].[Zn+2] RNWHGQJWIACOKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910000480 nickel oxide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N oxonickel Chemical class [Ni]=O GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 238000011282 treatment Methods 0.000 claims description 5
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 4
- 239000010959 steel Substances 0.000 claims description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 3
- 229910000484 niobium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical class [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 3
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical class [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims description 3
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 claims description 3
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 2
- UOUJSJZBMCDAEU-UHFFFAOYSA-N chromium(3+);oxygen(2-) Chemical class [O-2].[O-2].[O-2].[Cr+3].[Cr+3] UOUJSJZBMCDAEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 2
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 claims 7
- 238000007669 thermal treatment Methods 0.000 claims 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 abstract description 11
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 abstract description 6
- 238000001816 cooling Methods 0.000 abstract description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 15
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 8
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 6
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 6
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 5
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 4
- YAIQCYZCSGLAAN-UHFFFAOYSA-N [Si+4].[O-2].[Al+3] Chemical compound [Si+4].[O-2].[Al+3] YAIQCYZCSGLAAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 3
- 238000000295 emission spectrum Methods 0.000 description 3
- 238000005546 reactive sputtering Methods 0.000 description 3
- 239000010963 304 stainless steel Substances 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000589 SAE 304 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- CXOWYMLTGOFURZ-UHFFFAOYSA-N azanylidynechromium Chemical compound [Cr]#N CXOWYMLTGOFURZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 2
- 238000003380 quartz crystal microbalance Methods 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JILHBJAODMDLFF-UHFFFAOYSA-N [O-2].[Cr+3].[In+3].[O-2].[O-2] Chemical compound [O-2].[Cr+3].[In+3].[O-2].[O-2] JILHBJAODMDLFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000001143 conditioned effect Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 230000008713 feedback mechanism Effects 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005289 physical deposition Methods 0.000 description 1
- 239000006100 radiation absorber Substances 0.000 description 1
- 238000002207 thermal evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
- C23C28/30—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
- C23C28/32—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one pure metallic layer
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
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- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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Abstract
Recubrimiento absorbente selectivo solar y método de fabricación, con propiedades de absorbente solar y baja emisividad. El recubrimiento comprende un sustrato (1) de material metálico, dieléctrico o cerámico, al menos una capa metálica altamente reflectora (2) en el infrarrojo medio- lejano aplicada sobre el propio sustrato que proporciona propiedades de baja emisividad, una estructura de multicapas dieléctricas y metálicas alternadas (3) de espesor subnanométrico aplicada sobre la capa metálica reflectora y al menos una capa dieléctrica (4) que actúa como capa antirreflejante para el espectro solar. El recubrimiento es aplicable como recubrimiento absorbente selectivo en tubos absorbentes para colectores solares cilíndrico-parabólicos, en paneles solares para agua caliente, calefacción o refrigeración doméstica, tanto en forma de tubos absorbentes como en láminas absorbentes, en sistemas de captación en centrales termoeléctricas solares tipo torre, y en sistemas de captación de los sistemas de disco Stirling.
Description
RECUBRIMIENTO ABSORBENTE SELECTIVO SOLAR Y METODO DE
FABRICACION
Campo de la Invención
La presente invención se refiere a un recubrimiento absorbente selectivo solar que comprende: (i) un sustrato, una o varias capas metálicas que le confiere propiedades de baja emisividad, (ii) una estructura de multicapas dieléctricas y metálicas alternadas de espesor subnanométrico en la que se produce la absorción de la energía solar; y (iii) una capa o estructura de multicapas que le proporciona propiedades de antirreflexión .
La invención también comprende el método y proceso de fabricación y de uso del recubrimiento absorbente selectivo solar.
Antecedentes de la Invención
La captación de la energía solar en su vertiente de captación térmica cada vez está tomando más importancia tecnológica y económica tanto desde el punto de vista de producción de agua caliente, calefacción o refrigeración a nivel doméstico como para producción de energía eléctrica en centrales termoeléctricas solares.
Estos sistemas requieren por una parte un máximo de absorción de la energía solar y las menores pérdidas energéticas posibles. Con este fin, estos sistemas están
ef.: 219299
configurados en tubos de vacío o estructuras similares que disminuyen las pérdidas por conducción y convección y poseen recubrimientos con gran poder absorbente de la energía solar y características de baja emisividad para disminuir las pérdidas energéticas por radiación térmica en el infrarrojo lejano .
En consecuencia, tanto en la vertiente doméstica como en la de producción de energía eléctrica, los recubrimientos absorbentes selectivos juegan un papel esencial. Existen numerosos antecedentes de recubrimientos absorbentes como los descritos en las patentes WO2005/121389 , US4582764, US4628905, US5523132, US2004/012659 , US2005/0189525 , US2007/0209658 , WO97/00335, y varias más. En todas ellas el recubrimiento absorbente se compone de una capa metálica que proporciona las características de baja emisividad, una o varias capas de materiales dieléctricos dopados con elementos metálicos cerametal, que actúan como capas absorbentes de la radiación solar y una capa dieléctrica que actúa como estructura antirreflejante . En alguna de ellas se incorpora alguna capa adicional dieléctrica que actúa como capa bloqueante frente a la difusión de los diferentes materiales. Las capas de cerametal son capas absorbentes, índice de refracción complejo, donde la capacidad de absorción la proporciona el elemento metálico codopante cuya concentración pueden ser constante o gradual dentro de cada
una de las capas .
Los ceraraetal son ha itualmente óxidos o nitruros metálicos dopados con elementos metálicos como Mo, Ni, Ti, Ta, Al, etc., que suelen depositarse mediante técnicas de codeposición por pulverización catódica reactiva. La codeposición mediante pulverización catódica reactiva consiste en la evaporación simultánea de dos materiales mediante pulverización catódica en la presencia, además del gas inerte, de un gas reactivo, oxígeno, nitrógeno etc., residual en la cámara de deposición. El gas residual reacciona con uno de los materiales evaporados formando el compuesto dieléctrico correspondiente, mientras que parte del otro compuesto se deposita en forma metálica. El gas reactivo reacciona tanto con el material que forma el compuesto dieléctrico como con el metal dopante, por lo que para obtener el cerametal con la absorción adecuada se requiere un control muy estricto de la estequiometría del proceso. La estequiometría del proceso está condicionada por la composición y presiones parciales de los gases de la cámara de vacío en relación al consumo de gas reactivo, y por tanto depende de la velocidad de evaporación, es decir potencia de cátodos, de su estado, por lo que el control tan preciso de la estequiometría del proceso es una tarea difícil, que requiere ciertos mecanismos de realimentación y que puede condicionar negativamente las propiedades de los
recubrimientos .
Asimismo, parte del metal codopante también reacciona con el gas reactivo y forma compuestos dieléctricos, por lo que este metal no contribuye a la absorción de la capa y se requieren grandes concentraciones de metal codopante. Por otra parte, esta técnica presenta también limitaciones a la hora de elección de materiales metálicos codopantes ya que deben poseer afinidad por el gas reactivo mucho menor que el metal principal que forma el compuesto dieléctrico.
Breve Descripción de la Invención
La presente invención pretende resolver todas las dificultades indicadas anteriormente, ya que cada una de las diferentes capas de cerametal se sustituye por una estructura de multicapas dieléctricas y metálicas alternadas de espesor muy pequeño, inferior a lOnm y principalmente inferior a lnm. Las capas dieléctricas de depositan mediante pulverización catódica reactiva, incluyendo gas inerte y gas reactivo en la cámara o parte de la cámara donde se depositan las capas dieléctricas, mientras que las capas metálicas se depositan por pulverización catódica DC, introduciendo gas inerte exclusivamente en la cámara o parte de la cámara donde se depositan las capas metálicas. De esta forma no es necesario un control preciso de la estequiometria del proceso, ya que la deposición de las capas dieléctricas requiere una composición de los gases que
garantice la reacción total del metal evaporado, mientras que la naturaleza metálica de las capas alternadas queda determinada por el gas inerte introducido como gas de proceso. Como la deposición de ambos tipos de materiales se realiza en cámaras diferentes o en partes aisladas de una misma cámara de deposición, la mezcla de gases es mínima y no se produce la reacción química del material constituyente de las capas metálicas. De la misma forma, como la deposición de las capas dieléctricas y metálicas se realiza en lugares y composición de gases diferentes, no hay ninguna limitación en la composición de las capas dieléctricas y metálicas, pudiendo partir incluso del mismo material ' metálico de partida, formando capas dieléctricas de un elemento metálico, por ejemplo óxidos o nitruros de un metal, y capas metálicas de ese mismo elemento.
El recubrimiento selectivo solar objeto de la presente invención está diseñado para absorber la energía solar y transformarla en calor con propiedades de baja emisividad, facilitando y haciendo más robusto y fiable el proceso de fabricación y permitiendo mayores posibilidades para su diseño y optimización. El recubrimiento que se deposita sobre un sustrato que puede ser metálico o dieléctrico y garantiza la estabilidad mecánica y térmica del recubrimiento, se caracteriza esencialmente porque comprende .
- Al menos una capa metálica altamente reflejante en el infrarrojo lejano (intervalo espectral entre 5 y 50 m ' de longitud de onda) que proporcione las características de baja emisividad del recubrimiento depositada sobre el sustrato.
Una estructura de multicapas depositada sobre la capa reflectora, que proporciona las propiedades de absorbente de radiación solar, formada por capas metálicas y dieléctricas alternadas de espesor muy pequeño (inferior a lOnm y principalmente inferior a lnm) , que pueden ser homogéneos para las capas metálicas, por un lado, y dieléctricas, por otro, en toda la estructura, diferenciados en varias zonas o con espesores que varían gradualmente a lo largo de la estructura.
Al menos una capa dieléctrica depositada sobre la estructura multicapas absorbente que actúa como capa antirreflej ante .
En la presente invención como materiales del sustrato se incluyen elementos metálicos como acero, acero inoxidable, cobre o aluminio, y no metálicos, vidrio, cuarzo o materiales cerámicos o poliméricos. El sustrato puede admitir tratamientos, como la oxidación de la capa superficial o tratamientos térmicos y de limpieza que
optimicen la adhesión del recubrimiento y por tanto su estabilidad mecánica y medioambiental.
Asimismo, la presente invención contempla un recubrimiento absorbente de la energía solar y reflejante en el infrarrojo medio-lejano que contiene una o varias capas metálicas sobre el sustrato altamente reflejantes en el infrarrojo medio-lejano, una estructura de multicapas metálicas-dieléctricas alternadas de pequeño espesor y una o varias capas dieléctricas que hacen de estructura antirreflej nte para la energía solar. El recubrimiento según la invención se caracteriza porque la capa o capas metálicas altamente reflectantes depositadas sobre el sustrato¦ comprenden un material metálico seleccionado del grupo formado por plata (Ag) , oro (Au) , aluminio (Al) , cromo (Cr) , Molibdeno (Mo) , cobre (Cu) , níquel (Ni) , titanio (Ti) , niobio (Nb) , Tántalo (Ta) , tungsteno (W) , paladio (Pd) o una aleación de los mismo o mezclas de ellos.
Según otra característica de la invención, las capas de material dieléctrico de la estructura de multicapas absorbente comprenden óxidos metálicos y/o nitruros de elementos metálicos, con un índice de refracción entre 1,4 y 2,4. El recubrimiento según la invención está caracterizado porque los óxidos metálicos son seleccionados del grupo formado por óxidos de estaño, óxidos de zinc, óxidos de aluminio, óxidos de titanio, óxidos de silicio, óxidos de
níquel, óxidos de cromo óxido de indio o mezclas de ellos. Paralelamente, el recubrimiento según la invención está caracterizado porque los nitruros de elementos metálicos se seleccionan el grupo formado por nitruros de silicio, nitruro de cromo y nitruros de aluminio, o mezclas de ellos.
Asimismo, el recubrimiento según la invención se caracteriza porque las capas metálicas que forman parte de la estructura multicapas absorbente comprenden un material metálico seleccionado del grupo formado por plata (Ag) , oro (Au) , aluminio (Al) , cromo (Cr) , Molibdeno (Mo) , cobre (Cu) , níquel (Ni) , titanio (Ti) , niobio (Nb) , Tántalo (Ta) , tungsteno (W) , paladio (Pd) o una aleación de los mismo o mezclas de ellos .
La invención contempla igualmente la presencia de una o varias capas dieléctricas que actúan como estructura antirreflejante están constituidas por óxidos metálicos y/o nitruros de elementos metálicos, con un índice de refracción entre 1,4 y 2,4. El recubrimiento según la invención está caracterizado porque los óxidos metálicos son seleccionados del grupo formado por óxidos de estaño, óxidos de zinc, óxidos de aluminio, óxidos de titanio, óxidos de silicio, óxidos de níquel, óxidos de cromo óxido de indio o mezclas de ellos. Paralelamente, el recubrimiento según la invención está caracterizado porque los nitruros de elementos metálicos se seleccionan el grupo formado por nitruros de
silicio, nitruro de cromo y nitruros de aluminio, o mezclas de ellos.
En el contexto de la presente invención debe entenderse por aleación metálica cualquiera de las posibles que estos metales pueden formar entre ellos o con otros metales.
Según otra característica de la invención, el espesor de cada una de las capas metálicas reflejantes en el infrarrojo medio-lejano, y de cada una de las capas de material dieléctrico de la estructura antirreflejante está comprendido entre 1 y 500 nm. Por otra parte, según otra característica de la invención el espesor de cada una de las capas metálicas y dieléctricas de la estructura multicapas absorbente ' es inferior a 10 nm, siendo el número de capas totales de la estructura multicapas superior a 20. La estructura multicapa se puede configurar como una zona homogénea, en la que todas las capas dieléctricas son del mismo material y tienen el mismo espesor y todas las capas metálicas son del mismo metal y del mismo espesor, en varias zonas diferenciadas, en la que cada una de las zonas está configurada como zona homogénea y difiere de la otras zonas en el material constituyente de las capas dieléctricas y/o el metal constituyente de las capas metálicas y/o el espesor de cada una de las capas metálicas o dieléctricas, o bien se puede configurar como una zona gradual donde el espesor de las capas metálicas y/o dieléctricas varía gradualmente.
Como forma preferente de modalidad, la estructura multicapas se configurará con al menos dos zonas diferenciadas, en las que la composición y/o espesor de las capas de una de las zonas sea diferentes a la composición y/o espesor de la otra.
Con todo ello, el número total de capas del recubrimiento es superior a 25 y el espesor total está comprendido entre 100 nm y 2000 nm.
Es objeto de la invención el hecho de que las diferentes capas del recubrimiento estén depositadas mediante técnicas de deposición física en fase vapor o en vacío (Deposición Física de Vapor, PVD por sus siglas en inglés) como son evaporación térmica, 'cañón de electrones, implantación iónica o pulverización catódica, por deposición química en fase vapor (Deposición Química de Vapor, CVD por sus siglas en inglés) o mediante baños electrolíticos, siendo la técnica de pulverización catódica la preferida para este cometido .
Otro objeto de la presente invención es el uso del recubrimiento en tubos absorbentes en colectores cilindro-parabólicos en centrales termoeléctricas solares.
Es también objeto de la presente invención el uso del recubrimiento en paneles solares para agua caliente, calefacción o refrigeración doméstica, tanto en forma de tubos absorbentes como en láminas absorbentes .
Es también objeto de la presente invención el uso del recubrimiento en sistemas de captación en centrales termoeléctricas solares tipo torre, en el que la energía solar reflejada por multitud de heliostatos se concentra en el sistema de captación que está situado en una torre.
Y, finalmente, también es objeto de la presente invención el uso del recubrimiento en el sistema de captación de los sistemas de disco Stirling.
Breve Descripción de las Figuras
Con la finalidad de ilustrar las ventajas y propiedades del recubrimiento objeto de la presente invención y con objeto de ayudar a una mejor comprensión de las características de la invención, se va a realizar una descripción detallada de una modalidad preferida, eh base a un juego de figuras que acompañan a esta memoria descriptiva y en donde con carácter meramente indicativo y no limitativo se ha representado lo siguiente:
La Fig. 1 representa un esquema de la sección transversal de un recubrimiento, de acuerdo con la invención, siendo las capas dieléctricas y metálicas de la estructura multicapas absorbente, del mismo material y espesor en toda la estructura.
La Fig. 2 representa un . esquema de la sección transversal de un recubrimiento, de acuerdo con la invención, en el que la estructura multicapas absorbente
está dividida en dos zonas siendo las capas dieléctricas y metálicas de composición y espesor diferente en cada zona.
La Fig. 3 representa un esquema de la sección transversal de un recubrimiento, de acuerdo con la invención, en el que la estructura multicapas absorbente está dividida en varias zonas siendo las capas dieléctricas y metálicas de composición y espesor diferente en cada zona.
La Fig. 4 representa un esquema de la sección transversal de un recubrimiento, de acuerdo con la invención, en el que la estructura multicapas absorbente comprende una sola zona en la que las capas dieléctricas y metálicas varían de espesor de forma progresiva dentro de la zona .
La Fig. 5 representa la reflectancia en el intervalo espectral visible- infrarroj o de la estructura del ejemplo 1, junto con el espectro de energía solar y el espectro de emisión térmica a 400 °C de temperatura.
La Fig. 6 representa la reflectancia en el intervalo espectral visible- infrarroj o de la estructura del ejemplo 2, junto con el espectro de energía solar y el espectro de emisión térmica a 400 °C de temperatura.
Descripción Detallada de la Invención
En las anteriores figuras las referencias numéricas corresponden a las siguientes partes y elementos.
1. - Sustrato
2. - Capa metálica reflectora
3. - Estructura multicapa absorbente
4. - Estructura dieléctrica antirreflejante
5. - Capa dieléctrica
6.- Capa metálica ^
7. - Zona 1 de la estructura multicapa
8. - Zona 2 de la estructura multicapa
9. - Zona n de la estructura multicapa
El recubrimiento absorbente selectivo de radiación solar objeto de la invención comprende, tal y como se deduce de las figs. 1 a 4 al menos un sustrato (1), al menos una capa metálica reflectante (2) que proporciona las propiedades de baja emisividad, una estructura multicapas (3) de capas dieléctricas (5) y metálicas (6) alternadas que actúa como estructura absorbente de la radiación solar y al menos una capa dieléctrica (4) que actúa como estructura antirreflej ante .
El sustrato (1) puede ser un material metálico o dieléctrico, o combinación de ambos, que garantice la estabilidad mecánica del recubrimiento.
La capa metálica reflectora (2) está constituida, a su vez, por al menos una capa de un metal altamente reflectante en el infrarrojo medio-lejano (2,5-20µp? de longitud de onda), estando la capa metálica depositada sobre el propio sustrato.
La estructura multicapas absorbente (3) está constituida, a su vez, por una serie de capas dieléctricas (5) y metálicas (6) alternadas, depositadas sobre la capa metálica reflectora (2) , y que pueden tener igual o diferente espesor y/o composición:
a) Las capas dieléctricas (5) pueden ser idénticas entre sí, es decir, ser del mismo material y poseer el mismo espesor, y ocurre lo mismo con las capas metálicas (6) , lo que configura la estructura multicapas en una única zona diferenciada representada en la fig. 1.
b) De la misma forma, pueden existir dos tipos de capas dieléctricas (5) con material diferente y/o espesor diferente,» y lo mismo con las capas metálicas (6) configurando la estructura absorbente en dos zonas diferenciadas, estando la primera zona (7) constituida por capas metálicas y dieléctricas de un tipo y la segunda zona (8) del otro tipo, como puede verse en la figura 2.
c) Pueden existir varios tipos de capas dieléctricas (5) y varios tipos de capas metálicas (6) , configurando la estructura en n zonas, siendo n un número ilimitado de zonas donde la estructura multicapa absorbente está compuesta por una primera zona (7) , una segunda zona (8) y sucesivas hasta una última zona n (9) , estando cada una de ellas formada por un tipo de capa dieléctrica y un tipo de capa metálica como puede verse en la figura 3.
d) De la misma forma, la estructura absorbente puede estar constituida por capas dieléctricas (5) y capas metálicas (6) cuyo espesor varía gradualmente a lo largo de la estructura, configurando una única zona pero con espesor variable de las diferentes capas, metálicas y/o dieléctricas como se muestra en la fig. 4.
La estructura antirrefle ante (4) está constituida por al menos una capa dieléctrica que proporciona propiedades de antirreflexión de la energía solar.
Las Figs . 1 - 4 representan modalidades concretas de recubrimientos absorbentes selectivos según la invención, en las que sobre un sustrato (1) se ha dispuesto una capa metálica reflectora (2) , sobre ella, una- estructura absorbente multicapas (3) constituida en una única zona, en dos zonas, en n zonas y en una única zona con espesores de las capas dieléctricas y metálicas que varían en la zona, y una capa antirreflejante (4) dispuesta sobre la estructura multicapas .
Los sustratos (1) corresponden a materiales metálicos tal como acero, acero inoxidable, cobre o aluminio, o dieléctricos como vidrio, cuarzo, materiales cerámicos o materiales poliméricos, o combinación de diversoso tipos de materiales .
Para la capa metálica reflectora (2) se emplea plata (Ag) , oro (Au) , aluminio (Al) , cromo (Cr) , Molibdeno (Mo) ,
cobre (Cu) , níquel (Ni) , titanio (Ti) , niobio (Nb) , Tántalo (Ta) , tungsteno ( ) , paladio (Pd) o una mezcla de dos o más de ellos o bien una aleación de los metales. Esta capas metálicas (2) tiene un espesor comprendido entre 5 y 1000 nm Las capas de material dieléctrico (5) de las diferentes configuraciones de estructuras multicapa absorbentes tienen un índice de refracción comprendido entre 1,4 y 2,4. Para ello, se emplean óxidos metálicos y/o nitruros de elementos metálicos, tal como óxidos de estaño, óxidos de zinc, óxidos de aluminio, óxidos de titanio, óxidos de silicio, óxido de silicio-aluminio, óxidos de níquel, óxidos de cromo, óxidos de niobio, óxidos de tántalo o mezclas de ellos así como nitruros de silicio, nitruros de cromo; nitruros de aluminio, o mezclas de ellos. El espesor de las capas de material dieléctrico (5) es inferior a 10 nm, prioritariamente inferior a 1 nm, el número de capas dieléctricas es superior a 10, y el espesor total de las capas dieléctricas de la estructura multicapa absorbente (3) está comprendido entre 5 y 1000 nm.
Para la realización de las capas metálicas (6) de las diferentes configuraciones de estructuras multicapa absorbentes se utiliza plata (Ag) , oro (Au) , aluminio (Al) , cromo (Cr) , Molibdeno ( o) , cobre (Cu) , níquel (Ni) , titanio (Ti) , niobio (Nb) , Tántalo (Ta) , tungsteno (W) , paladio (Pd) , o una aleación de los mismo o mezclas de ellos. El
espesor de las capas metálicas (6) es' inferior a 10 nm, prioritariamente inferior a 1 nm, el número de capas metálicas es superior a 10, y el espesor total de las capas metálicas de la estructura multicapa absorbente (3) está comprendido entre 5 y 1000 nm.
Las capas que forman la estructura antirreflej ante (4) tienen un índice de refracción comprendido entre 1,4 y 2,4. Para ello, se emplean óxidos metálicos y/o nitruros de elementos metálicos, tal como óxidos de estaño, óxidos de zinc, óxidos de aluminio, óxidos de titanio, óxidos de silicio, óxido de silicio-aluminio, óxidos de níquel, o mezclas de ellos; así como nitruros de silicio y nitruros de aluminio, o mezclas de ellos. El espesor de las capas "de material dieléctrico de la estructura antirreflej ante está comprendido entre 5 y 1000 nm..
Finalmente, con la finalidad de aumentar la adherencia entre el recubrimiento y el sustrato, el sustrato puede admitir diversos tratamientos, como la oxidación de la capa superficial o tratamientos térmicos y de limpieza de forma que esta mejora de la adhesión del recubrimiento implique mayor estabilidad mecánica y medioambiental
Así, para la obtención del recubrimiento de la invención se procede de modo que sobre de un sustrato (1) de material metálico o dieléctrico se adiciona una primera capa metálica (2) , sobre esta se deposita la primera de las capas que
forma la estructura multicapas absorbente, pudiendo ser esta primera capa tanto de material dieléctrico (5) o metálica (6) . Tras esta primera capa se van depositando alternativamente el resto de capas metálicas (6) y dieléctricas (5) , que pueden tener igual o diferente espesor y/o composición, formando la estructura multicapa absorbente. Tras la última de las capas de la estructura multicapa absorbente se adicionan las diferentes capas que forman la estructura antirreflej ante .
Para la adición sucesiva de las distintas capas (2, 4,
5, 6...) al sustrato (1) transparente, se emplea principalmente un procedimiento de deposición de metales y/o compuestos dieléctricos, tal como la deposición química de vapor (CVD) o la deposición física de vapor (PVD) . De un modo preferido, dentro de las técnicas de PVD se escoge la técnica de pulverización catódica por magnetron.
Para determinar absorbancia solar y la emisividad térmica, se realiza un estudio espectroscópico del recubrimiento, estudiándose la reflectancia en el intervalo espectral visible-infrarrojo, junto con el espectro de energía solar y el espectro de emisión térmica a 400°C de temperatura, dando unos valores de reflectancia bajos en la zona del espectro solar, lo que significa absorbancia alta (superior o igual al 95%) , y valores de reflectancia altos en la zona de emisión térmica, lo que significa emisividad
baja (inferior o igual a 0,2) .
Evidentemente, pueden existir variantes del procedimiento descrito, conocidas por el experto en la materia, que dependerán de cuáles sean los materiales empleados y los usos de los recubrimientos que se obtengan.
El recubrimiento absorbente selectivo solar de la invención puede ser utilizado como recubrimiento de materiales laminares o tubos seleccionados del grupo formado por acero, acero inoxidable, cobre, aluminio o materiales cerámicos, en el elemento absorbente de centrales termoeléctricas solares tipo torre así como para la el uso en el elemento absorbente en sistemas de disco Stirling o para su uso en el tubo absorbente de centrales termoeléctricas solares de colectores cilindrico-parabólicos.
A continuación, se presentan algunos ejemplos de recubrimientos de acuerdo con la invención, así como sus propiedades de reflectancia y absorbancia a las distintas longitudes de onda. Los ejemplos permiten visualizar las propiedades de los recubrimientos .
EJEMPLO 1. Recubrimiento absorbente selectivo con estructura absorbente de dos zonas de base molibdeno (Mo) y óxido de silicio aluminio (SiA10x) .
Sobre sustrato (1) de acero inoxidable 304 se deposita una capa de Mo de 300nm. Sobre esta capa de Mo se deposita
la estructura multicapas absorbente constituida por dos zonas diferenciadas. La primera zona tiene un espesor total de 52 nm y está compuesta por 285 capas de SiAlOx de espesor de 0,08 nm alternadas con otras 285 de Mo de 0,1 nm de espesor. La segunda zona tiene un espesor total de 57 nm, y está compuesta por 390 capas de de SiA10x de espesor de 0,08 nm alternadas con otras 390 de Mo de 0,06 nm de espesor. Por espesor de cada una de estas capas se entiende espesor medio obtenido a partir de los datos proporcionados por una microbalanza de cristal de cuarzo. Sobre la estructura multicapas absorbente se ha depositado una capa antirreflejante de SiAlOx de 87 nm de espesor.
Con la finalidad de determinar absorbancia solar y la emisividad térmica, se realiza un estudio espectroscópico del recubrimiento del ejemplo 1 y en la Fig. 5 se representa la reflectancia en el intervalo espectral visible-infrarrojo, junto con el espectro de energía solar y el espectro de emisión térmica a 400°C de temperatura. El recubrimiento presenta valores de reflectancia bajos en la zona del espectro solar, lo que significa absorbancia alta, y valores de reflectancia altos en la zona de emisión térmica, lo que significa emisividad baja. Determinando los valores globales, se obtiene una absorbancia solar en torno al 97,5% y una emisividad a 400 °C del orden del 0,15, lo que demuestra la idoneidad del recubrimiento para su uso en
colectores solares térmicos y colectores solares CCPs para centrales termoeléctricas .
EJEMPLO 2. Recubrimiento absorbente selectivo con estructura absorbente de dos zonas de base níquel (Ni) y óxido de silicio aluminio (SiAlOx) .
Sobre sustrato (1) de acero inoxidable 304 se deposita una capa de Ni de 110 nm. Sobre esta capa de Ni se deposita la estructura multicapas absorbente constituida por dos zonas diferenciadas. La primera zona tiene un espesor total de 78 nm y está compuesta por 340 capas de SiAlOx de espesor de 0,085 nm alternadas con otras 340 de Ni de 0,145 nm de espesor. La segunda zona tiene un espesor total de 55 nm, y está compuesta por 490 capas de de SiAlOx de espesor de 0,08 nm alternadas con otras 490 de Ni de 0,03 nm de espesor. Por espesor de cada una de estas capas se entiende espesor medio obtenido a partir de los datos proporcionados por una microbalanza de cristal de cuarzo. Sobre la estructura multicapas absorbente se ha depositado una capa antirreflej ante de SiA10x de 67 nm de espesor.
Con la finalidad de determinar absorbancia solar y la emisividad térmica, se realiza un estudio espectroscópico del recubrimiento del ejemplo 2 y en la Fig. 6 se representa la reflectancia en el intervalo espectral visible-infrarrojo, junto con el espectro de energía solar y el espectro de emisión térmica a 400 °C de temperatura. El recubrimiento presenta
valores de reflectancia bajos en la zona del espectro solar, lo que significa absorbancia alta, y valores de reflectancia altos en la zona de emisión térmica, lo que significa emisividad baja. Determinando los valores globales, se obtiene una absorbancia solar en torno al 97,5% y una emisividad a 400°C del orden del 0,08, lo que demuestra la idoneidad del recubrimiento para su uso en colectores solares térmicos y colectores solares CCPs para centrales termoeléctricas.
Se hace constar que con relación a esta fecha, el mejor método conocido por la solicitante para llevar a la práctica la citada invención, es el que resulta claro de la presente descripción.
Claims (20)
1.- Recubrimiento absorbente selectivo solar con propiedades de absorbente solar y baja emisividad, de los que comprenden un sustrato de material metálico, dieléctrico o cerámico, al menos una capa metálica altamente reflectora en infrarrojo medio-lejano, depositada sobre el sustrato, una estructura multicapas absorbente depositada sobre la capa metálica reflectora, compuesta por capas dieléctricas y capas metálicas alternadas, y al menos una capa dieléctrica antirreflej ante , depositada sobre la estructura multicapas absorbente, caracterizado porque las capas dieléctricas de la estructura multicapas absorbente pueden tener igual o diferente espesor y/o composición entre sí y las capas metálicas de la estructura multicapas absorbente pueden tener igual o diferente espesor y/o composición entre sí, siendo el espesor de cada una de las capas metálicas y dieléctricas de la estructura multicapas absorbente inferior a 1 Onm y prioritariamente inferior a 1 nm, estando el espesor global de la estructura multicapas absorbente comprendido entre 5 y lOOOnm, y donde las capas de naturaleza dieléctrica del recubrimiento absorbente selectivo solar están depositadas mediante pulverización catódica reactiva incluyendo gas inerte y gas reactivo en la cámara o parte de la cámara donde se depositan las capas dieléctricas, mientras que las capas metálicas del recubrimiento absorbente selectivo solar están depositadas por pulverización catódica DC, introduciendo gas inerte exclusivamente en la cámara o parte de la cámara donde se depositan las capas metálicas.
2. Recubrimiento absorbente selectivo solar con propiedades de absorbente solar y baja emisividad, de conformidad con la reivindicación 1 caracterizado porque la estructura multicapa absorbente comprende una zona homogénea con las capas dieléctricas con igual composición y espesor y las capas metálicas con igual composición y espesor .
3. Recubrimiento absorbente selectivo solar de conformidad con la reivindicación 1, caracterizado porque la estructura multicapas absorbente está constituida por dos o mas zonas homogéneas, de manera que las capas dieléctricas difieren en material y/o espesor de una zona a otra, y las capas metálicas difieren en material y/o espesor de una zona a otra.
4. Recubrimiento absorbente selectivo solar con propiedades de absorbente solar y baja emisividad, de conformidad con las reivindicaciones 2 y 3 caracterizado porque dentro de una zona homogénea las capas metálicas entre si y/o las capas dieléctricas entre si, tienen distinto espesor.
5. - Recubrimiento absorbente selectivo solar con propiedades de absorbente solar y baja emisividad, de conformidad con la reivindicación 4 caracterizado porque el espesor de las capas metálicas y/o dieléctricas varía gradualmente a lo largo de la zona.
6. - Recubrimiento absorbente selectivo solar con propiedades de absorbente solar y baja emisividad de conformidad con las reivindicaciones 2 y 3, caracterizado porque dentro de una zona homogénea las capas metálicas entre sí y las capas dieléctricas entre sí, tienen igual espesor .
7.- Recubrimiento absorbente selectivo solar de conformidad con la reivindicación 1, caracterizado porque el sustrato es un material metálico del grupo formado por acero, acero inoxidable, cobre o aluminio, o su combinación.
8. - Recubrimiento absorbente selectivo solar de conformidad con la reivindicación 7, caracterizado porque el sustrato de material metálico se ha sometido a tratamientos para la oxidación de la capa superficial o a tratamientos térmicos .
9.- Recubrimiento absorbente selectivo solar de conformidad con la reivindicación 1, caracterizado porque el sustrato es un material dieléctrico del grupo formado por vidrio, cuarzo, materiales poliméricos o materiales cerámicos, o su combinación.
10.- Recubrimiento absorbente selectivo solar de conformidad con la reivindicación 1, caracterizado porque las capas metálicas altamente reflectoras comprenden un material metálico seleccionado del grupo formado por plata (Ag) , oro (Au) , aluminio (Al) , cromo (Cr) , molibdeno (Mo) , cobre (Cu) , níquel (Ni) , titanio (Ti) , niobio (Nb) , tántalo (Ta) , tungsteno ( ) , paladio (Pd) o una mezcla de dos o más de ellos o bien una aleación de los metales.
11. - "Recubrimiento absorbente selectivo solar de conformidad con reivindicación 1, caracterizado porque las capas de material dieléctrico de la estructura absorbente comprenden óxidos metálicos y/o nitruros de elementos metálicos, con un índice de refracción entre 1,4 y 2,4.
12. - Recubrimiento absorbente selectivo solar de conformidad con la reivindicación 11, caracterizado porque los materiales dieléctricos son óxidos metálicos seleccionados del grupo formado por óxidos de estaño, óxidos de zinc, óxidos de aluminio, óxidos de titanio, óxidos de silicio, óxidos de níquel, óxidos de cromo, óxidos de niobio, óxidos de tántalo o mezclas de ellos, y/o nitruros de elementos metálicos seleccionados del grupo formado por nitruros de silicio, nitruros de cromo y nitruros de, aluminio, o mezclas de ellos.
13. - Recubrimiento absorbente selectivo solar de conformidad con la reivindicación 1, caracterizado porque las capas metálicas de la estructura absorbente comprenden un material metálico seleccionado del grupo formado plata (Ag) , oro (Au) , aluminio (Al) , cromo (Cr) , molibdeno (Mo) , cobre (Cu) , níquel (Ni) , titanio (Ti) , niobio (Nb) , tántalo (Ta) , tungsteno (W) , paladio (Pd) o una mezcla de dos o más de ellos o bien una aleación de los metales.
14. - Recubrimiento absorbente selectivo solar de conformidad con la reivindicación 1, caracterizado porque las cap'as de material dieléctrico antirreflej antes comprenden óxidos metálicos y/o nitruros de elementos metálicos, con un índice de refracción entre 1,4 y 2,4.
15. - Recubrimiento absorbente , selectivo solar de conformidad con la reivindicación 14, caracterizado porque los materiales dieléctricos antirreflejantes son óxidos metálicos seleccionados del grupo formado por óxidos de estaño, óxidos de zinc, óxidos de aluminio, óxidos de titanio, óxidos de silicio, óxidos de níquel, óxidos de cromo, óxidos de niobio, óxidos de tántalo o mezclas de ellos, o nitruros de elementos metálicos seleccionados del grupo formado por nitruros de silicio, nitruros de cromo y nitruros de aluminio, o mezclas de ellos.
16. - Recubrimiento absorbente selectivo solar de conformidad con la reivindicación 1, caracterizado porque el espesor de cada una de las capas metálicas altamente reflectoras está comprendido entre 5 y lOOOnm.
17.- Recubrimiento absorbente selectivo solar de conformidad con la reivindicación 1, caracterizado porque el espesor de cada una de las capas de material dieléctrico antirreflej antes está comprendido entre 5 y 1000 nm.
18. - Recubrimiento absorbente selectivo solar de conformidad con la reivindicación 1, caracterizado porque tiene una absorbancia solar superior al 95% y una emisividad a 400°C inferior a 0,2.
•19.- Recubrimiento absorbente selectivo solar con propiedades de absorbente solar y baja emisividad, de conformidad con la reivindicación 3, caracterizado porque comprende un sustrato de acero inoxidable, capa metálica altamente reflectora de molibdeno de 300 nm, una estructura multicapas constituida por dos zonas diferenciadas donde la primera zona tiene un espesor total de 52 nm y está compuesta por 285 capas de óxido de silicio y aluminio (SiAlOx) con espesor de 0,08 nm alternadas, con otras 285 capas de Mo de 0,1 nm de espesor y donde la segunda zona tiene un espesor total de 57 nm y está compuesta por 390 capas de (SiAlOx) de espesor de 0,08 nm alternadas de SiALOx de 87nm de espesor.
20.- Recubrimiento absorbente selectivo solar con propiedades de absorbente solar y baja emisividad, de conformidad con la reivindicación 3, caracterizado porque comprende un sustrato de acero inoxidable, "capa metálica altamente reflectora de níquel de 110 nm de espesor, una estructura multicapas constituida por dos zonas diferenciadas donde la primera zona tiene un espesor total de 78 nm y está compuesta por 390 capas de óxido de silicio y aluminio (SiALOx) de 0,085 nm de espesor alternadas con otras 340 capas de Ni de 0,145 nm de espesor y donde la segunda zona tiene un espesor total de 55' nm y está compuesta por 490 capas de (SiALOx) de 0,08 nm de espesor, alternadas ' con otras 490 capas de Ni de 0,03 nm de espesor y una capa antirreflejante de SiALOx de 67 nm de espesor.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
ES200802953A ES2316321B2 (es) | 2008-10-20 | 2008-10-20 | Recubrimiento absorbente selectivo solar y metodo de fabricacion. |
PCT/ES2009/000489 WO2010046509A1 (es) | 2008-10-20 | 2009-10-08 | Recubrimiento absorbente selectivo solar y método de fabricación |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
MX2011003864A true MX2011003864A (es) | 2011-08-12 |
Family
ID=40434740
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
MX2011003864A MX2011003864A (es) | 2008-10-20 | 2009-10-08 | Recubrimiento absorbente selectivo solar y medoto de fabricacion. |
Country Status (16)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US9423157B2 (es) |
EP (1) | EP2341038B1 (es) |
JP (1) | JP2012506021A (es) |
CN (1) | CN102203024A (es) |
AU (1) | AU2009306317B2 (es) |
BR (1) | BRPI0920337A2 (es) |
CL (1) | CL2011000770A1 (es) |
EG (1) | EG26329A (es) |
ES (2) | ES2316321B2 (es) |
IL (1) | IL212256A (es) |
MA (1) | MA32706B1 (es) |
MX (1) | MX2011003864A (es) |
PE (1) | PE20120085A1 (es) |
TN (1) | TN2011000177A1 (es) |
WO (1) | WO2010046509A1 (es) |
ZA (1) | ZA201102742B (es) |
Families Citing this family (77)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
ES2316321B2 (es) | 2008-10-20 | 2010-12-14 | Abengoa Solar New Technologies, S.A. | Recubrimiento absorbente selectivo solar y metodo de fabricacion. |
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US9932267B2 (en) | 2010-03-29 | 2018-04-03 | Vitro, S.A.B. De C.V. | Solar control coatings with discontinuous metal layer |
US10654747B2 (en) | 2010-03-29 | 2020-05-19 | Vitro Flat Glass Llc | Solar control coatings with subcritical copper |
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-
2008
- 2008-10-20 ES ES200802953A patent/ES2316321B2/es not_active Expired - Fee Related
-
2009
- 2009-10-08 BR BRPI0920337A patent/BRPI0920337A2/pt not_active Application Discontinuation
- 2009-10-08 ES ES09821624.5T patent/ES2608031T3/es active Active
- 2009-10-08 MX MX2011003864A patent/MX2011003864A/es unknown
- 2009-10-08 CN CN200980140635.9A patent/CN102203024A/zh active Pending
- 2009-10-08 WO PCT/ES2009/000489 patent/WO2010046509A1/es active Application Filing
- 2009-10-08 EP EP09821624.5A patent/EP2341038B1/en not_active Not-in-force
- 2009-10-08 JP JP2011531521A patent/JP2012506021A/ja active Pending
- 2009-10-08 US US13/123,695 patent/US9423157B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2009-10-08 PE PE2011000855A patent/PE20120085A1/es not_active Application Discontinuation
- 2009-10-08 AU AU2009306317A patent/AU2009306317B2/en not_active Ceased
-
2011
- 2011-04-07 CL CL2011000770A patent/CL2011000770A1/es unknown
- 2011-04-11 IL IL212256A patent/IL212256A/en not_active IP Right Cessation
- 2011-04-12 EG EG2011040564A patent/EG26329A/en active
- 2011-04-12 MA MA33764A patent/MA32706B1/fr unknown
- 2011-04-12 ZA ZA2011/02742A patent/ZA201102742B/en unknown
- 2011-04-15 TN TN2011000177A patent/TN2011000177A1/fr unknown
-
2015
- 2015-03-30 US US14/673,548 patent/US10126020B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
MA32706B1 (fr) | 2011-10-02 |
EP2341038B1 (en) | 2016-09-21 |
CL2011000770A1 (es) | 2011-09-30 |
EG26329A (en) | 2013-08-13 |
TN2011000177A1 (fr) | 2012-12-17 |
PE20120085A1 (es) | 2012-02-08 |
US20110249326A1 (en) | 2011-10-13 |
JP2012506021A (ja) | 2012-03-08 |
ES2316321A1 (es) | 2009-04-01 |
AU2009306317B2 (en) | 2015-07-30 |
BRPI0920337A2 (pt) | 2016-03-01 |
CN102203024A (zh) | 2011-09-28 |
EP2341038A4 (en) | 2014-07-09 |
US10126020B2 (en) | 2018-11-13 |
US20150267303A1 (en) | 2015-09-24 |
IL212256A (en) | 2017-09-28 |
WO2010046509A1 (es) | 2010-04-29 |
ZA201102742B (en) | 2011-12-28 |
ES2316321B2 (es) | 2010-12-14 |
IL212256A0 (en) | 2011-06-30 |
US9423157B2 (en) | 2016-08-23 |
ES2608031T3 (es) | 2017-04-05 |
EP2341038A1 (en) | 2011-07-06 |
AU2009306317A1 (en) | 2010-04-29 |
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