MD3372C2 - Procedeu de obtinere a celuler fotovoltaice (variante) - Google Patents

Procedeu de obtinere a celuler fotovoltaice (variante) Download PDF

Info

Publication number
MD3372C2
MD3372C2 MDA20060106A MD20060106A MD3372C2 MD 3372 C2 MD3372 C2 MD 3372C2 MD A20060106 A MDA20060106 A MD A20060106A MD 20060106 A MD20060106 A MD 20060106A MD 3372 C2 MD3372 C2 MD 3372C2
Authority
MD
Moldova
Prior art keywords
deposition
diffusion
wafer
novelty
variant
Prior art date
Application number
MDA20060106A
Other languages
English (en)
Russian (ru)
Other versions
MD3372B1 (ro
Inventor
Сержиу ШИШЯНУ
Теодор ШИШЯНУ
Серджиу РАЙЛЯН
Original Assignee
ШИШЯНУ Серджиу
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by ШИШЯНУ Серджиу filed Critical ШИШЯНУ Серджиу
Priority to MDA20060106A priority Critical patent/MD3372C2/ro
Publication of MD3372B1 publication Critical patent/MD3372B1/ro
Publication of MD3372C2 publication Critical patent/MD3372C2/ro

Links

Landscapes

  • Electrodes Of Semiconductors (AREA)
  • Photovoltaic Devices (AREA)

Abstract

Invenţia se referă la tehnologia dispozitivelor cu semiconductori, în special la procedeele de obţinere a celulelor fotovoltaice.Procedeul, conform primei variante, include procesele de depunere chimică sau din vapori a peliculelor din impurităţi pe suprafaţa plachetei de semiconductor, de difuzie, de oxidare şi depunere a contactelor ohmice. Noutatea constă în aceea că procesele de difuzie a impurităţilor din diferite surse cu formarea joncţiunilor de tipul n+ - p, sau p+ - n, sau n+ - p - p+, oxidare, depunere contactelor ohmice, şi depunere a peliculelor antireflectoare se efectuează cu prelucrarea fototermică rapidă.Noutatea procedeului, conform variantei a doua, constă în aceea că pe una sau ambele suprafeţe opuse ale plachetei de semiconductor de tipul „p” sau „n” se depune o sursă de difuzie în formă de peliculă sticloasă dopată cu una din impurităţi, donor sau acceptor, de exemplu, siliciură de fosfor sau siliciură de bor, prin metoda oxidării anodice sau a depuneriichimice în prezenţa razelor ultraviolete sau în lipsa luminii, după care are loc prelucrarea fototermică rapidă a plachetei, difuzia impurităţilor cu formarea joncţiunilor de tipul n+- p, sau p+ - n, sau n+ - p - p+, sau p+ - n - n+ în vid, în aer sau în prezenţa unui gaz inert, de exemplu,argon, şi depunerea peliculelor antireflectoare.Noutatea procedeului, conform variantei a treia, constă în aceea că pe una din suprafeţele plachetei de semiconductor de tipul „p” sau „n” se depune o sursă de difuzie în formă de peliculă sticloasă dopată cu una din impurităţile donor, de exemplu, siliciură de fosfor, iar pe suprafaţa opusă a plăcii de semiconductor se depune o altă sursă de difuzie de tip acceptor în formă de peliculă metalică, de exemplu, din aluminiu, prin metoda evaporării în vid, sau oxidării anodice, sau prin depunerea chimică în prezenţa razelor ultraviolete sau în lipsa luminii; după care are loc prelucrarea fototermică rapidă a plachetei, difuzia impurităţilor cu formarea joncţiunilor de tipul n+ - p, sau p+ - n, sau n+ - p - p+, sau p+ - n - n în vid, în aer sau în prezenţa unui gaz inert, de exemplu, argon, şi depunerea peliculelor antireflectoare.Noutatea procedeului, conform variantei a patra, constă în aceea că elinclude procesele de difuzie a impurităţilor din diferite surse cu formarea joncţiunilor conform revendicărilor 1, 2 sau 3, apoi, după curăţirea suprafeţei plachetei, are loc depunerea contactelor ohmice de metal, de exemplu, Al sau Ni, sau Cu, sau pastă de Ag, sau contacte ohmice străvezii de InSnO, urmate de prelucrarea fototermică rapidă în vid, în aer sau în camera cu gaze inerte, de exemplu, cu argon, şi depunerea peliculelor antireflectoare.Noutatea procedeului, conform variantei a cincea, constă în aceea că elinclude procesele de difuzie a impurităţilor din diferite surse cu formarea joncţiunilor şi depunerea contactelor ohmice conform revendicărilor 1, 2, 3, sau 4, după care are loc depunerea peliculei străvezii cu proprietăţi de antireflector din oxid de metal, de exemplu, ZnO2 sau TiO2, urmată de prelucrarea fototermică rapidă în vid, în aer sau în camera cu gaze, de exemplu, cu oxigen.
MDA20060106A 2006-03-31 2006-03-31 Procedeu de obtinere a celuler fotovoltaice (variante) MD3372C2 (ro)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
MDA20060106A MD3372C2 (ro) 2006-03-31 2006-03-31 Procedeu de obtinere a celuler fotovoltaice (variante)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
MDA20060106A MD3372C2 (ro) 2006-03-31 2006-03-31 Procedeu de obtinere a celuler fotovoltaice (variante)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
MD3372B1 MD3372B1 (ro) 2007-07-31
MD3372C2 true MD3372C2 (ro) 2008-02-29

Family

ID=38331514

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
MDA20060106A MD3372C2 (ro) 2006-03-31 2006-03-31 Procedeu de obtinere a celuler fotovoltaice (variante)

Country Status (1)

Country Link
MD (1) MD3372C2 (ro)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
MD20080058A (ro) * 2008-02-25 2009-08-31 Институт Электронной Инженерии И Промышленных Технологий Академии Наук Молдовы Dispozitiv de obţinere a peliculelor supraconductoare
MD175Z (ro) * 2008-02-25 2010-10-31 Институт Электронной Инженерии И Промышленных Технологий Академии Наук Молдовы Dispozitiv de obţinere a peliculelor supraconductoare
MD353Z (ro) * 2010-02-24 2011-10-31 Институт Электронной Инженерии И Промышленных Технологий Ventil supraconductor de spin
MD4182C1 (ro) * 2011-04-15 2013-04-30 Государственный Университет Молд0 Dispozitiv semiconductor cu joncţiune p-n în relief (variante)
MD4261B1 (ro) * 2011-05-12 2013-11-30 Государственный Университет Молд0 Procedeu de fabricare a dispozitivului semiconductor cu joncţiune p-n în relief (variante)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
MD4554C1 (ro) * 2017-10-18 2018-09-30 Государственный Университет Молд0 Procedeu de majorare a eficienţei celulelor fotovoltaice pe baza p+InP-p-InP-n+CdS

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6569249B1 (en) * 2000-04-18 2003-05-27 Clemson University Process for forming layers on substrates

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6569249B1 (en) * 2000-04-18 2003-05-27 Clemson University Process for forming layers on substrates

Non-Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
A. Simaşchevici, L. Gorceac, D. Şerban. Conversia fotovoltaică a energiei solare. Chişinău, 2002, CE USM *
G. Andra, J. Bergmann, F. Falk, E. Ose. Multicrystalline silicon thin film Solar Cells on Glass. 19th Europ. Photovoltaic Solar Energy Conf. Paris, 2004, p. 872-875 *
J. Carabe and J. J. Gandia. Opto-electronic review 12 (1), 1-6, 2004 *
P. Panek, M. Lipinski, E. Beltowka-Lehman, K. Drabezyk and R. Ciach. Industrial technology of multicrystalline silicon solar cells. Opto-electronics Review 11(4), 269-275, 2003 *
R. Lidermann, B. M. Damiani, A. Rohatgi. Novel processing of solar cells with porous silicon texturing, 2000 *
R. Singh, M. Fakhruddin, K. F. Poole. Rapid photothermal processing as semiconductor manufacturing technologz for the 21st century. Applied Surface Science 168, p. 198-203, 2000 *
S. T. Şişianu, T. S. Şişianu, S. K. Railean. Shallow p-n Junction Formed in Silicon Using Pulsed Photon Annealing. Semiconductors, vol. 36, No 5, 2002, p. 567-581, Translated from Fizika i Tekhnika Poluprovodnicov, Vol.36, No 5, 2002, p. 611-617 *

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
MD20080058A (ro) * 2008-02-25 2009-08-31 Институт Электронной Инженерии И Промышленных Технологий Академии Наук Молдовы Dispozitiv de obţinere a peliculelor supraconductoare
MD175Z (ro) * 2008-02-25 2010-10-31 Институт Электронной Инженерии И Промышленных Технологий Академии Наук Молдовы Dispozitiv de obţinere a peliculelor supraconductoare
MD353Z (ro) * 2010-02-24 2011-10-31 Институт Электронной Инженерии И Промышленных Технологий Ventil supraconductor de spin
MD4182C1 (ro) * 2011-04-15 2013-04-30 Государственный Университет Молд0 Dispozitiv semiconductor cu joncţiune p-n în relief (variante)
MD4261B1 (ro) * 2011-05-12 2013-11-30 Государственный Университет Молд0 Procedeu de fabricare a dispozitivului semiconductor cu joncţiune p-n în relief (variante)

Also Published As

Publication number Publication date
MD3372B1 (ro) 2007-07-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Otto et al. Black silicon photovoltaics
US9153730B2 (en) Solar cell front contact doping
US20060252235A1 (en) Fabrication method for crystalline semiconductor films on foreign substrates
JPS61287176A (ja) 半導体素子の製造方法
CN101868862A (zh) 紫外线用光电探测器及其制造方法
PT1433207E (pt) Processo para a produção em grande escala de células solares em filme fino de cdte/cds
EP2107619A2 (fr) Procédé de traitement d'un substrat semi-conducteur par activation thermique d'éléments légers
AU2010286811A2 (en) Doped transparent conductive oxide
US8603253B2 (en) Photovoltaic back contact
Özkol et al. Effective passivation of black silicon surfaces via plasma‐enhanced chemical vapor deposition grown conformal hydrogenated amorphous silicon layer
CN101425553B (zh) MgZnO基光电导型紫外探测器的制作方法
MD3372C2 (ro) Procedeu de obtinere a celuler fotovoltaice (variante)
CN118352423A (zh) 梯度内建电场调控肖特基结日盲紫外探测器及其制备方法
US20230246118A1 (en) Method and system for the production of a starting material for a silicon solar cell with passivated contacts
JP6125114B2 (ja) 太陽電池の製造方法
Pham et al. Modification of Cl doping efficiency in transparent ZnO electrode films by tuning deposition temperature
Stannowski et al. Potential of high-mobility sputtered zinc oxide as front contact for high efficiency thin film silicon solar cells
Weng et al. Improving the microstructure and electrical properties of aluminum induced polysilicon thin films using silicon nitride capping layer
CN112951948B (zh) 基于氧化镓能带调控的同质结光电探测器及其制备方法
KR100957679B1 (ko) 박막형 태양전지
JP4219096B2 (ja) 光起電力装置の製造方法
JP5827224B2 (ja) 薄膜太陽電池およびその製造方法
US20090255582A1 (en) Methods of drying glass for photovoltaic applications
Baek et al. High-Performance UV Detector Using Al-Doped ZnO Phototransistor Prepared by Initiated-CVD Doping Technique
Chuchvaga et al. Optimization and Fabrication of Heterojunction Silicon Solar Cells Using an Experimental-Industrial Facility AK-1000 Inline

Legal Events

Date Code Title Description
FG4A Patent for invention issued
KA4A Patent for invention lapsed due to non-payment of fees (with right of restoration)
MM4A Patent for invention definitely lapsed due to non-payment of fees