MD4554C1 - Procedeu de majorare a eficienţei celulelor fotovoltaice pe baza p+InP-p-InP-n+CdS - Google Patents

Procedeu de majorare a eficienţei celulelor fotovoltaice pe baza p+InP-p-InP-n+CdS Download PDF

Info

Publication number
MD4554C1
MD4554C1 MDA20170092A MD20170092A MD4554C1 MD 4554 C1 MD4554 C1 MD 4554C1 MD A20170092 A MDA20170092 A MD A20170092A MD 20170092 A MD20170092 A MD 20170092A MD 4554 C1 MD4554 C1 MD 4554C1
Authority
MD
Moldova
Prior art keywords
inp
cds
layer
deposition
temperature
Prior art date
Application number
MDA20170092A
Other languages
English (en)
Russian (ru)
Other versions
MD4554B1 (ro
Inventor
Василе БОТНАРЮК
Леонид ГОРЧАК
Андрей КОВАЛ
Симион РАЕВСКИЙ
Original Assignee
Государственный Университет Молд0
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Государственный Университет Молд0 filed Critical Государственный Университет Молд0
Priority to MDA20170092A priority Critical patent/MD4554C1/ro
Publication of MD4554B1 publication Critical patent/MD4554B1/ro
Publication of MD4554C1 publication Critical patent/MD4554C1/ro

Links

Landscapes

  • Photovoltaic Devices (AREA)

Abstract

Invenţia se referă la tehnologia semiconductorilor şi poate fi utilizată, în special, în convertoarele fotovoltaice.Procedeul de majorare a eficienţei celulelor fotovoltaice pe baza p+InP-p-InP-n+CdS include creşterea stratului p-InP pe un substrat, executat în formă de plachetă din p+InP cu orientarea cristalografică (100), dezorientarea de 3…5° în direcţia (110) şi concentraţia purtătorilor de sarcină de 1018 cm-3, depunerea, pe partea frontală a plachetei, prin metoda volumului cuaziînchis a stratului n+CdS, depunerea pe partea posterioară a unui contact ohmic din Ag+Zn, tratarea termică a lui la temperatura de 450°C, depunerea unui contact ohmic din In pe stratul din n+CdS, tratarea termică a lui la temperatura de 250°C şi depunerea prin metoda pulverizării, la temperatuta de 300°C, a unui strat antireflector de ZnO.

Description

Invenţia se referă la tehnologia semiconductorilor şi poate fi utilizată, în special, în convertoarele fotovoltaice.
Este cunoscut procedeul de preparare a structurilor p+InP-p-InP-n+CdS în flux de hidrogen, unde în calitate de substraturi la structura p+InP-p-InP-n+CdS au fost folosite plachete de p+InP cu orientarea cristalografică (100), prin metoda epitaxiei în volum deschis la temperatura de 670°C se creşte structura p+InP-p-InP. Stratul nCdS a fost crescut prin metoda volumului cuaziînchis la temperatura de 710°C. În calitate de contacte ohmice a fost folosit indiul pentru n+CdS şi aliajul Ag+5%Zn pentru p+InP tratate termic la temperaturile de 250 şi 450°C corespunzător [1].
Dezavantajul acestui procedeu constă în aceea că eficienţa celulei fotovoltaice p+InP-p-InP-n+CdS este limitată de valoarea tensiunii de circuit deschis.
Cea mai apropiată soluţie este procedeul de creştere a stucturii p+InP-p-InP-n+CdS în flux de hidrogen, unde în calitate de substraturi la structura p+InP-p-InP-n+CdS au fost folosite plachete de p+InP cu orientarea cristalografică (100) şi dezorientarea de 3…5° în direcţia (110), care se degresează în toluen, se usucă în vapori de alcool izopropilic, se corodează în metanol+5%Br2, se usucă în vapori de alcool izopropilic, se plasează în reactor, se purjează cu hidrogen, se stabileşe temperatura de 670°C şi se creşte stratul p-InP, după ce acesta se corodează se depune repetat. Urmează răcirea reactorului, scoaterea izostructurii p+InP-p-InP, plasearea în alt reactor şi depunerea stratului n+CdS prin metoda volumului cuaziînchis la temperatura de 710°C. În calitate de contacte ohmice a fost folosit indiul pentru n+CdS şi Ag+5%Zn pentru p+InP tratate termic corespunzător la temperaturile de 250 şi 450°C [2].
Dezavantajul acestui procedeu constă în aceea că eficienţa celulei solare p+InP-p-InP-n+CdS este limitată de valoarea curentului de scurt circuit, cauzat de recombinarea purtătorilor de sarcină la suprafaţa structurii.
Problema pe care о rezolvă prezenta invenţie constă în executarea unei celule solare cu structura Ag-p+InP-p-InP-n+CdS-In-ZnO, care ar permite majorarea eficienţei celulei fotovoltaice prin majorarea curentului de scurt circuit.
Procedeul de majorare a eficienţei celulelor fotovoltaice p+InP-p-InP-n+CdS înlătură dezavantajele menţionate mai sus prin aceea că include creşterea stratului p-InP pe un substrat, executat în formă de plachetă din p+InP cu orientarea cristalografică (100), dezorientarea de 3…5° în direcţia (110) şi concentraţia purtătorilor de sarcină de 1018 cm-3, depunerea, pe partea frontală a plachetei, prin metoda volumului cuaziînchis a stratului n+CdS, depunerea pe partea posterioară a unui contact ohmic din Ag+Zn, tratarea termică a lui la temperatura de 450°C, depunerea unui contact ohmic din In pe stratul din n+CdS, tratarea termică a lui la temperatura de 250°C şi depunerea prin metoda pulverizării, la temperatuta de 300°C, a unui strat antireflector de ZnO.
Rezultatul tehnic al invenţiei constă în creşterea pe structura Ag-p+InP-p-InP-n+CdS-In a stratului antireflector de ZnO, ce permite sporirea parametrilor energetici ai dispozitivului fotovoltaic obţinut.
Rezultatul tehnic obţinut este asigurat de faptul că stratul antireflector de ZnO măreşte curentul de scurt circuit datorită micşorării recombinării purtătorilor de sarcină la suprafaţa structurii.
Exemplu de realizare a procedeului
Procedeul de creştere a structurilor Ag-p+InP-p-InP-n+CdS-In-ZnO constă în prelucrarea în toluen şi alcool izopropilic a unui substrat din p+InP cu orientarea cristalografică (100), dezorientarea de 3..5° în direcţia (110) şi concentraţia purtătorilor de sarcină 1018 cm-3 , apoi corodarea în soluţie de 5%Br2 în metanol şi spalarea în alcool izopropilic, uscarea în vaporii acestuia şi plasarea în reactor pe un suport din cuarţ. Apoi reactorul se purjează cu hidrogen timp de о oră, se stabileşte temperatura de creştere de 670°C, se corodează în gaz la aceeaşi temperatură, se creşte stratul p-lnP, se corodează acest strat, se creşte repetat, se stopează alimentarea cuptorului, se scoate din reactor izostructura p--p+InP, se introduce în alt reactor pentru depunerea prin metoda volumului cuaziînchis a stratului n+CdS la temperatura de 710°C. Se depune contactul ohmic din aliajul Ag+5%Zn pe substratul p+InP şi se tratează termic la temperatura de 450°C, se depune contactul ohmic din In pe stratul frontal n+CdS, se tratează termic la temperatura de 250°C şi prin metoda pulverizării la temperatura de 300°C se depune stratul antireflector de ZnO.
1. Chitoroagă A.D. Иследование фотоэлектрических свойств гетероструктур InP-CdS, 1992
2. MD 972 Y 2015.11.30

Claims (1)

  1. Procedeu de majorare a eficienţei celulelor fotovoltaice pe baza p+InP-p-InP-n+CdS, care include creşterea stratului p-InP pe un substrat, executat în formă de plachetă din p+InP cu orientarea cristalografică (100), dezorientarea de 3…5° în direcţia (110) şi concentraţia purtătorilor de sarcină de 1018 cm-3, depunerea, pe partea frontală a plachetei, prin metoda volumului cuaziînchis a stratului n+CdS, depunerea pe partea posterioară a unui contact ohmic din Ag+Zn, tratarea termică a lui la temperatura de 450°C, depunerea unui contact ohmic din In pe stratul din n+CdS, tratarea termică a lui la temperatura de 250°C şi depunerea prin metoda pulverizării, la temperatuta de 300°C, a unui strat antireflector de ZnO.
MDA20170092A 2017-10-18 2017-10-18 Procedeu de majorare a eficienţei celulelor fotovoltaice pe baza p+InP-p-InP-n+CdS MD4554C1 (ro)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
MDA20170092A MD4554C1 (ro) 2017-10-18 2017-10-18 Procedeu de majorare a eficienţei celulelor fotovoltaice pe baza p+InP-p-InP-n+CdS

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
MDA20170092A MD4554C1 (ro) 2017-10-18 2017-10-18 Procedeu de majorare a eficienţei celulelor fotovoltaice pe baza p+InP-p-InP-n+CdS

Publications (2)

Publication Number Publication Date
MD4554B1 MD4554B1 (ro) 2018-02-28
MD4554C1 true MD4554C1 (ro) 2018-09-30

Family

ID=61282887

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
MDA20170092A MD4554C1 (ro) 2017-10-18 2017-10-18 Procedeu de majorare a eficienţei celulelor fotovoltaice pe baza p+InP-p-InP-n+CdS

Country Status (1)

Country Link
MD (1) MD4554C1 (ro)

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE620887A (ro) * 1959-06-18
CA2269912A1 (en) * 1997-08-27 1999-03-04 Makoto Kitabatake Silicon carbide substrate, process for producing the same, and semiconductor element containing silicon carbide substrate
JP3920103B2 (ja) * 2002-01-31 2007-05-30 大阪府 絶縁層埋め込み型半導体炭化シリコン基板の製造方法及びその製造装置
RU2008111514A (ru) * 2005-08-26 2009-10-10 Смольтек Аб (Se) Межсоединения и теплорассеиватели на основе наноструктур
MD3372C2 (ro) * 2006-03-31 2008-02-29 ШИШЯНУ Серджиу Procedeu de obtinere a celuler fotovoltaice (variante)
JP5448304B2 (ja) * 2007-04-19 2014-03-19 パナソニック株式会社 半導体装置
MD151Z (ro) * 2008-12-30 2010-09-30 Государственный Университет Молд0 Procedeu de creştere a straturilor epitaxiale GaAs într-un reactor orizontal
US11417788B2 (en) * 2010-11-19 2022-08-16 The Boeing Company Type-II high bandgap tunnel junctions of InP lattice constant for multijunction solar cells
MD4261B1 (ro) * 2011-05-12 2013-11-30 Государственный Университет Молд0 Procedeu de fabricare a dispozitivului semiconductor cu joncţiune p-n în relief (variante)
MD4280C1 (ro) * 2013-09-04 2014-10-31 Государственный Университет Молд0 Procedeu de creştere a structurii pInP-nCdS
MD972Z (ro) * 2015-02-19 2016-06-30 Государственный Университет Молд0 Procedeu de creştere a structurii p+InP-p-InP-n+CdS pentru celule fotovoltaice
MD4510C1 (ro) * 2016-06-23 2018-03-31 Государственный Университет Молд0 Procedeu de creştere a structurii n+-p-p+ InP pentru celule solare

Also Published As

Publication number Publication date
MD4554B1 (ro) 2018-02-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2007529907A (ja) 太陽電池製造のための半導体の薄層を堆積する方法および装置
CN103035496B (zh) 一种生长在Si衬底上的GaN薄膜及其制备方法和应用
KR20130044850A (ko) 태양전지 및 이의 제조방법
Yusof et al. InGaN based Schottky barrier solar cell: Study of the temperature dependence of electrical characteristics
Zhang et al. Hetero-emitter GaP/Si solar cells with high Si bulk lifetime
CN115377224A (zh) 一种高击穿双极场限环结构的氧化镓肖特基二极管及制备方法
MD972Z (ro) Procedeu de creştere a structurii p+InP-p-InP-n+CdS pentru celule fotovoltaice
MD4554C1 (ro) Procedeu de majorare a eficienţei celulelor fotovoltaice pe baza p+InP-p-InP-n+CdS
MD4686C1 (ro) Procedeu de creştere a structurii p+InP-p-InP-n+CdS pentru celule fotovoltaice
MD4280C1 (ro) Procedeu de creştere a structurii pInP-nCdS
CN101608339A (zh) 4H-SiC选择性同质外延生长方法
CN110534599A (zh) 一种柔性薄膜太阳能电池及其制备方法
Janz et al. Processing of c-Si thin-film solar cell on ceramic substrate with conductive SiC diffusion barrier layer
MD4510C1 (ro) Procedeu de creştere a structurii n+-p-p+ InP pentru celule solare
KR101459279B1 (ko) 유연한 기판을 갖는 태양전지의 제조방법
CN208240696U (zh) 一种柔性薄膜太阳能电池
Zhang et al. Developing high performance GaP/Si heterojunction solar cells
Choi et al. P/N InP homojunction solar cells by LPE and MOCVD techniques
Carabe et al. Influence of interface treatments on the performance of silicon heterojunction solar cells
Shahrjerdi et al. Low-temperature a-Si: H/GaAs heterojunction solar cells
CN106784108A (zh) 一种双结薄膜太阳能电池组件及其制作方法
RU2607734C1 (ru) СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ФОТОЭЛЕМЕНТА НА ОСНОВЕ GaAs
Yu et al. Defect-free GeSn alloy strips on Si by Sn self-catalyzed MBE method
Shahrjerdi et al. New paradigms for cost-effective III-V photovoltaic technology
Milenkovic et al. Epitaxial N-type silicon solar cells with 20% efficiency

Legal Events

Date Code Title Description
FG4A Patent for invention issued
KA4A Patent for invention lapsed due to non-payment of fees (with right of restoration)
MM4A Patent for invention definitely lapsed due to non-payment of fees