KR970707444A - 프로브 구조(probe structure) - Google Patents

프로브 구조(probe structure)

Info

Publication number
KR970707444A
KR970707444A KR1019970702793A KR19970702793A KR970707444A KR 970707444 A KR970707444 A KR 970707444A KR 1019970702793 A KR1019970702793 A KR 1019970702793A KR 19970702793 A KR19970702793 A KR 19970702793A KR 970707444 A KR970707444 A KR 970707444A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
layer
contact portion
hardness
insulating substrate
test
Prior art date
Application number
KR1019970702793A
Other languages
English (en)
Inventor
요시나리 다카야마
도시카즈 바바
아츠시 히노
이치로 아미노
Original Assignee
야마모토 히데키
닛토 덴코 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP26562194A external-priority patent/JP3246841B2/ja
Priority claimed from JP07260574A external-priority patent/JP3096233B2/ja
Application filed by 야마모토 히데키, 닛토 덴코 가부시키가이샤 filed Critical 야마모토 히데키
Publication of KR970707444A publication Critical patent/KR970707444A/ko

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R1/00Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
    • G01R1/02General constructional details
    • G01R1/06Measuring leads; Measuring probes
    • G01R1/067Measuring probes
    • G01R1/073Multiple probes
    • G01R1/07307Multiple probes with individual probe elements, e.g. needles, cantilever beams or bump contacts, fixed in relation to each other, e.g. bed of nails fixture or probe card
    • G01R1/07314Multiple probes with individual probe elements, e.g. needles, cantilever beams or bump contacts, fixed in relation to each other, e.g. bed of nails fixture or probe card the body of the probe being perpendicular to test object, e.g. bed of nails or probe with bump contacts on a rigid support
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R1/00Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
    • G01R1/02General constructional details
    • G01R1/06Measuring leads; Measuring probes
    • G01R1/067Measuring probes
    • G01R1/073Multiple probes
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R1/00Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
    • G01R1/02General constructional details
    • G01R1/06Measuring leads; Measuring probes
    • G01R1/067Measuring probes
    • G01R1/06711Probe needles; Cantilever beams; "Bump" contacts; Replaceable probe pins
    • G01R1/06755Material aspects
    • G01R1/06761Material aspects related to layers
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/40Forming printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
    • H05K3/4007Surface contacts, e.g. bumps

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Measuring Leads Or Probes (AREA)

Abstract

절연 기판(1), 이 절연 기판(1)의 한 측면에 형성된 접촉부(2), 이 절연 기판의 나머지 측면에 형성된 도전 회로(3)를 포함하는 프로브 구조에 있어서, 상기 접촉부(2) 및 도전 회로(3)는 상기 절연 기판(1)의 두께 방향으로 형성된 관통홀(4)에 형성된 전도 경로(5)를 통해 접속된다. 상기 접촉부(2)는 100∼700Hk의 경도를 갖는 심층(1c)과, 10∼300Hk의 경도를 갖는 중간층 및 700∼1200Hk의 경도를 갖는 표면층(1a)을 포함하며, 이 층들은 연속으로 적층된다. 상기 표면층(1a)은 50kg/㎟ 이하의 인장 응력을 갖는 것이 바람직하다. 본 발명은 IC와 같은 작은 테스트 대상의 전기 테스트, 특히 번 인 테스트에서 낮고 안정된 접촉 저항을 유지한다. 땝납 범프가 테스트 대상으로 형성되어 사용되는 테스트 방법에서, 테스트 대상의 땝납 성분은 테스트후에 상기 접촉부(2)에 부착되지 않는다. 본 발명은 초기 접촉 상태와 비교했을 때 상기 테스트 대상과의 반복 개방/ 폐쇄 접촉 후의 접촉 상태가 덜 악화되고, 매우 신뢰성있는 전기 테스트가 실행될 수 있다.

Description

프로브 구조(PROBE STRUCTURE)
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 프로브 구조에 대한 일실시예의 횡단면도.

Claims (6)

  1. 절연 기판의 일측상에 형성된 도전 접촉부 및 상기 절연 기판의 타측상에 형성된 도전 회로를 포함하며, 상기 접촉부 및 도전 회로는 상기 절연 기판의 두께방향으로 형성된 관통홀에 형성된 전도 경로를 통해 접속되며, 상기 접촉부는 연속적으로 적층된 100Hk 내지 700Hk의 경도를 갖는 심층, 10Hk 내지 300Hk의 경도를 갖는 중간층, 700Hk 내지 1200Hk의 경도를 갖는 표면층을 포함하는 것을 특징으로 하는 프로브 구조.
  2. 제1항에 있어서, 상기 심층은 100Hk 내지 300Hk의 경도를 갖는 것을 특징으로 하는 프로브 구조.
  3. 제1항에 있어서, 상기 표면층은 50kg/㎟ 이하의 접촉부에서의 인장 응력을 갖는 것을 특징으로 하는 프로브 구조.
  4. 제1항에 있어서, 상기 접촉부는 로듐 표면층, 금 중간층 및 심층을 포함하며, 상기 심층은 니켈층이나 구리층 또는 니켈층과 구리층의 적층체인 것을 특징으로 하는 프로브 구조.
  5. 제1항에 있어서, 상기 접촉부에서의 중간층은 0.01m 내지 3m의 두께를 갖고, 상기 접촉부에서의 표면층은 0.5m 내지 10m의 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 프로브 구조.
  6. 제1항에 있어서, 상기 표면층, 중간층 및 심층 중의 적어도 한 층은 도금으로 형성되는 것을 특징으로 하는 프로브 구조.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019970702793A 1994-10-28 1995-10-12 프로브 구조(probe structure) KR970707444A (ko)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP26562194A JP3246841B2 (ja) 1994-03-31 1994-10-28 プローブ構造
JP94-265621 1994-10-28
JP95-260574 1995-10-06
JP07260574A JP3096233B2 (ja) 1995-10-06 1995-10-06 プローブ構造
PCT/JP1995/002092 WO1996013728A1 (fr) 1994-10-28 1995-10-12 Structure de sonde

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR970707444A true KR970707444A (ko) 1997-12-01

Family

ID=26544664

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019970702793A KR970707444A (ko) 1994-10-28 1995-10-12 프로브 구조(probe structure)

Country Status (3)

Country Link
US (1) US5977783A (ko)
KR (1) KR970707444A (ko)
WO (1) WO1996013728A1 (ko)

Families Citing this family (50)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7064566B2 (en) * 1993-11-16 2006-06-20 Formfactor, Inc. Probe card assembly and kit
JPH1183937A (ja) * 1997-09-01 1999-03-26 Fujitsu Ltd 半導体装置試験用基板及び半導体装置試験方法
US7898275B1 (en) * 1997-10-03 2011-03-01 Texas Instruments Incorporated Known good die using existing process infrastructure
US6271111B1 (en) * 1998-02-25 2001-08-07 International Business Machines Corporation High density pluggable connector array and process thereof
JP3415035B2 (ja) * 1998-08-07 2003-06-09 オー・エイチ・ティー株式会社 基板検査用センサプローブおよびその製造方法
DE19920593B4 (de) * 1999-05-05 2006-07-13 Assa Abloy Identification Technology Group Ab Chipträger für ein Chipmodul und Verfahren zur Herstellung des Chipmoduls
US6414500B1 (en) * 1999-05-14 2002-07-02 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Test socket for an electronic circuit device having improved contact pins and manufacturing method thereof
US6933740B2 (en) * 2000-05-17 2005-08-23 Oht, Inc. Electronic circuit inspection sensor and inspection system using same
JP3773396B2 (ja) * 2000-06-01 2006-05-10 住友電気工業株式会社 コンタクトプローブおよびその製造方法
US6527563B2 (en) 2000-10-04 2003-03-04 Gary A. Clayton Grid interposer
JP2002151648A (ja) * 2000-11-07 2002-05-24 Mitsubishi Electric Corp 半導体モジュール
DE10143173A1 (de) 2000-12-04 2002-06-06 Cascade Microtech Inc Wafersonde
EP1387174B1 (en) * 2001-04-13 2010-05-19 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Contact probe
US6815709B2 (en) * 2001-05-23 2004-11-09 International Business Machines Corporation Structure having flush circuitry features and method of making
US6625554B2 (en) * 2001-06-22 2003-09-23 Hitachi, Ltd. Method and apparatus for determining a magnetic field
KR20040111395A (ko) * 2002-03-12 2004-12-31 페어차일드 세미컨덕터 코포레이션 웨이퍼 레벨의 코팅된 구리 스터드 범프
KR100864916B1 (ko) * 2002-05-23 2008-10-22 캐스케이드 마이크로테크 인코포레이티드 피시험 디바이스를 테스트하기 위한 프로브
JP4310086B2 (ja) * 2002-08-01 2009-08-05 株式会社日立製作所 エンジン用電子機器
US6881072B2 (en) * 2002-10-01 2005-04-19 International Business Machines Corporation Membrane probe with anchored elements
US6839965B2 (en) * 2003-02-06 2005-01-11 R-Tec Corporation Method of manufacturing a resistor connector
US7057404B2 (en) 2003-05-23 2006-06-06 Sharp Laboratories Of America, Inc. Shielded probe for testing a device under test
DE10324450A1 (de) * 2003-05-28 2005-01-05 Infineon Technologies Ag Kontaktierungsvorrichtung für elektronische Schaltungseinheiten und Herstellungsverfahren
GB0312917D0 (en) * 2003-06-05 2003-07-09 Ici Plc Materials testing
US6900652B2 (en) * 2003-06-13 2005-05-31 Solid State Measurements, Inc. Flexible membrane probe and method of use thereof
JP2005140677A (ja) * 2003-11-07 2005-06-02 Japan Electronic Materials Corp プローブシート及びこれを用いたプローブシートユニット
JP4008408B2 (ja) * 2003-11-07 2007-11-14 日本電子材料株式会社 プローブカード
WO2005065258A2 (en) 2003-12-24 2005-07-21 Cascade Microtech, Inc. Active wafer probe
US20050167837A1 (en) * 2004-01-21 2005-08-04 International Business Machines Corporation Device with area array pads for test probing
US7282932B2 (en) * 2004-03-02 2007-10-16 Micron Technology, Inc. Compliant contact pin assembly, card system and methods thereof
US20050225345A1 (en) * 2004-04-08 2005-10-13 Solid State Measurements, Inc. Method of testing semiconductor wafers with non-penetrating probes
US7420381B2 (en) 2004-09-13 2008-09-02 Cascade Microtech, Inc. Double sided probing structures
US7504839B2 (en) * 2004-10-01 2009-03-17 Delphi Technologies, Inc. Flexible circuit with micro-sized probe tips and a method of making the same
DE112007001399T5 (de) * 2006-06-09 2009-05-07 Cascade Microtech, Inc., Beaverton Messfühler für differentielle Signale mit integrierter Symmetrieschaltung
US7723999B2 (en) 2006-06-12 2010-05-25 Cascade Microtech, Inc. Calibration structures for differential signal probing
US7403028B2 (en) 2006-06-12 2008-07-22 Cascade Microtech, Inc. Test structure and probe for differential signals
US7764072B2 (en) 2006-06-12 2010-07-27 Cascade Microtech, Inc. Differential signal probing system
US8441271B2 (en) * 2007-04-03 2013-05-14 Advantest Corporation Contactor and method of production of contactor
US7876114B2 (en) 2007-08-08 2011-01-25 Cascade Microtech, Inc. Differential waveguide probe
KR101022912B1 (ko) * 2008-11-28 2011-03-17 삼성전기주식회사 금속범프를 갖는 인쇄회로기판 및 그 제조방법
US8269519B1 (en) * 2009-02-10 2012-09-18 Xilinx, Inc. Methods and apparatus for testing of integrated circuits
JP2010223852A (ja) * 2009-03-25 2010-10-07 Toshiba Corp 電気検査用プローブ及びその製造方法並びに半導体装置の製造方法
KR101765656B1 (ko) * 2010-12-23 2017-08-08 삼성디스플레이 주식회사 구동 집적회로 및 이를 포함하는 표시장치
JP5530955B2 (ja) * 2011-02-21 2014-06-25 日本特殊陶業株式会社 多層配線基板
TWI458985B (zh) * 2011-02-23 2014-11-01 King Yuan Electronics Co Ltd 高硬度耐磨探針與其製作方法
KR101270036B1 (ko) * 2011-06-08 2013-06-10 수도 겐조 칩 검사용 프로브 장치
TWI490508B (zh) * 2012-12-17 2015-07-01 Princo Corp 軟性測試裝置及其測試方法
US9274431B2 (en) * 2014-03-31 2016-03-01 Eastman Kodak Company Alignment structure for registering patterns on a substrate
JP6233331B2 (ja) * 2015-02-27 2017-11-22 トヨタ自動車株式会社 半導体基板の温度検査方法、半導体装置の製造方法及び半導体基板の温度検査装置
TWI642940B (zh) * 2017-09-01 2018-12-01 中華精測科技股份有限公司 探針組件及其探針結構
WO2019183548A1 (en) 2018-03-22 2019-09-26 Formfactor, Inc. Probe tip with embedded skate

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5918864B2 (ja) * 1976-11-22 1984-05-01 日本電気株式会社 半導体ウエハ−検査装置
JPS60198838A (ja) * 1984-03-23 1985-10-08 Nec Corp プロ−ブカ−ド
EP0230348A2 (en) * 1986-01-07 1987-07-29 Hewlett-Packard Company Test probe
US5027062A (en) * 1988-06-20 1991-06-25 General Dynamics Corporation, Air Defense Systems Division Electroformed chemically milled probes for chip testing
US5177439A (en) * 1991-08-30 1993-01-05 U.S. Philips Corporation Probe card for testing unencapsulated semiconductor devices
JP2867209B2 (ja) * 1993-08-27 1999-03-08 日東電工株式会社 フレキシブル回路基板と接触対象物との接続方法およびその構造

Also Published As

Publication number Publication date
US5977783A (en) 1999-11-02
WO1996013728A1 (fr) 1996-05-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR970707444A (ko) 프로브 구조(probe structure)
KR950001975A (ko) 탐색기
EP2315510A3 (en) Wiring board provided with passive element
KR20040013010A (ko) 도전성 접촉자
KR940001341A (ko) 전자 장치로의 빠른 전기 접근을 위한 순간 접속법
KR890702161A (ko) 집적회로 장치 및 그 제조방법
EP2860533B1 (en) Socket for electrical part
CA2116746A1 (en) Ohmic contact structure of high integrated semiconductor device and method for making the same
KR101975836B1 (ko) 검사장치
EP2495732A3 (en) Conductive fine particles, method for plating fine particles, and substrate structure
KR950024376A (ko) 기판에 단자 핀을 장착하는 장치
KR970702580A (ko) 수직 방향 집적을 위한 반도체 소자 및 그 제조 방법(semiconductor component designed for vertical integration, and method of manufacturing the component)
WO2002100140A3 (de) Leiterplatte mit mindestens einem elektronischen bauteil
US7148713B1 (en) Algoristic spring as probe
US6281692B1 (en) Interposer for maintaining temporary contact between a substrate and a test bed
KR910004289A (ko) 땜납접속된 전자회로 장치와 땜납접속 방법 및 금도금 단자 접속용 땜납
EP1014096A3 (en) Substrate and method for inspection
KR970007386A (ko) 전자 디바이스 접촉용 테스팅 보드 및 전자 디바이스 테스트 방법
KR950024290A (ko) 반도체 칩에서 연소과정 실행방법
JPH0342377Y2 (ko)
JPH0385456A (ja) プローバ
KR101099502B1 (ko) 내마모성이 우수한 도체 접촉부 및 그 도체 접촉부의 제조방법
KR970705171A (ko) 집적회로의 구성 소자의 전기접속부의 접속방법(Method for electrical connection of ic's components)
TW200608849A (en) Component interconnect with substrate shielding
KR200151991Y1 (ko) 반도체 패키지 테스트를 위한 리드 콘택용 전도성시트

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Application deemed withdrawn, e.g. because no request for examination was filed or no examination fee was paid