KR970707444A - 프로브 구조(probe structure) - Google Patents
프로브 구조(probe structure)Info
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- 239000000523 sample Substances 0.000 title claims abstract description 8
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract 10
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 claims abstract 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract 6
- 239000012792 core layer Substances 0.000 claims abstract 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical group [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 claims 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 claims 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 abstract 1
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R1/00—Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
- G01R1/02—General constructional details
- G01R1/06—Measuring leads; Measuring probes
- G01R1/067—Measuring probes
- G01R1/073—Multiple probes
- G01R1/07307—Multiple probes with individual probe elements, e.g. needles, cantilever beams or bump contacts, fixed in relation to each other, e.g. bed of nails fixture or probe card
- G01R1/07314—Multiple probes with individual probe elements, e.g. needles, cantilever beams or bump contacts, fixed in relation to each other, e.g. bed of nails fixture or probe card the body of the probe being perpendicular to test object, e.g. bed of nails or probe with bump contacts on a rigid support
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- G01R1/02—General constructional details
- G01R1/06—Measuring leads; Measuring probes
- G01R1/067—Measuring probes
- G01R1/073—Multiple probes
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R1/00—Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
- G01R1/02—General constructional details
- G01R1/06—Measuring leads; Measuring probes
- G01R1/067—Measuring probes
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- G01R1/06755—Material aspects
- G01R1/06761—Material aspects related to layers
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- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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Abstract
절연 기판(1), 이 절연 기판(1)의 한 측면에 형성된 접촉부(2), 이 절연 기판의 나머지 측면에 형성된 도전 회로(3)를 포함하는 프로브 구조에 있어서, 상기 접촉부(2) 및 도전 회로(3)는 상기 절연 기판(1)의 두께 방향으로 형성된 관통홀(4)에 형성된 전도 경로(5)를 통해 접속된다. 상기 접촉부(2)는 100∼700Hk의 경도를 갖는 심층(1c)과, 10∼300Hk의 경도를 갖는 중간층 및 700∼1200Hk의 경도를 갖는 표면층(1a)을 포함하며, 이 층들은 연속으로 적층된다. 상기 표면층(1a)은 50kg/㎟ 이하의 인장 응력을 갖는 것이 바람직하다. 본 발명은 IC와 같은 작은 테스트 대상의 전기 테스트, 특히 번 인 테스트에서 낮고 안정된 접촉 저항을 유지한다. 땝납 범프가 테스트 대상으로 형성되어 사용되는 테스트 방법에서, 테스트 대상의 땝납 성분은 테스트후에 상기 접촉부(2)에 부착되지 않는다. 본 발명은 초기 접촉 상태와 비교했을 때 상기 테스트 대상과의 반복 개방/ 폐쇄 접촉 후의 접촉 상태가 덜 악화되고, 매우 신뢰성있는 전기 테스트가 실행될 수 있다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 프로브 구조에 대한 일실시예의 횡단면도.
Claims (6)
- 절연 기판의 일측상에 형성된 도전 접촉부 및 상기 절연 기판의 타측상에 형성된 도전 회로를 포함하며, 상기 접촉부 및 도전 회로는 상기 절연 기판의 두께방향으로 형성된 관통홀에 형성된 전도 경로를 통해 접속되며, 상기 접촉부는 연속적으로 적층된 100Hk 내지 700Hk의 경도를 갖는 심층, 10Hk 내지 300Hk의 경도를 갖는 중간층, 700Hk 내지 1200Hk의 경도를 갖는 표면층을 포함하는 것을 특징으로 하는 프로브 구조.
- 제1항에 있어서, 상기 심층은 100Hk 내지 300Hk의 경도를 갖는 것을 특징으로 하는 프로브 구조.
- 제1항에 있어서, 상기 표면층은 50kg/㎟ 이하의 접촉부에서의 인장 응력을 갖는 것을 특징으로 하는 프로브 구조.
- 제1항에 있어서, 상기 접촉부는 로듐 표면층, 금 중간층 및 심층을 포함하며, 상기 심층은 니켈층이나 구리층 또는 니켈층과 구리층의 적층체인 것을 특징으로 하는 프로브 구조.
- 제1항에 있어서, 상기 접촉부에서의 중간층은 0.01m 내지 3m의 두께를 갖고, 상기 접촉부에서의 표면층은 0.5m 내지 10m의 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 프로브 구조.
- 제1항에 있어서, 상기 표면층, 중간층 및 심층 중의 적어도 한 층은 도금으로 형성되는 것을 특징으로 하는 프로브 구조.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26562194A JP3246841B2 (ja) | 1994-03-31 | 1994-10-28 | プローブ構造 |
JP94-265621 | 1994-10-28 | ||
JP95-260574 | 1995-10-06 | ||
JP07260574A JP3096233B2 (ja) | 1995-10-06 | 1995-10-06 | プローブ構造 |
PCT/JP1995/002092 WO1996013728A1 (fr) | 1994-10-28 | 1995-10-12 | Structure de sonde |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR970707444A true KR970707444A (ko) | 1997-12-01 |
Family
ID=26544664
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019970702793A KR970707444A (ko) | 1994-10-28 | 1995-10-12 | 프로브 구조(probe structure) |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5977783A (ko) |
KR (1) | KR970707444A (ko) |
WO (1) | WO1996013728A1 (ko) |
Families Citing this family (50)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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-
1995
- 1995-10-12 WO PCT/JP1995/002092 patent/WO1996013728A1/ja not_active Application Discontinuation
- 1995-10-12 US US08/817,944 patent/US5977783A/en not_active Expired - Fee Related
- 1995-10-12 KR KR1019970702793A patent/KR970707444A/ko not_active Application Discontinuation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5977783A (en) | 1999-11-02 |
WO1996013728A1 (fr) | 1996-05-09 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
WITN | Application deemed withdrawn, e.g. because no request for examination was filed or no examination fee was paid |