KR970074653A - 트리클로로실란의 제조 방법 - Google Patents
트리클로로실란의 제조 방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR970074653A KR970074653A KR1019960070944A KR19960070944A KR970074653A KR 970074653 A KR970074653 A KR 970074653A KR 1019960070944 A KR1019960070944 A KR 1019960070944A KR 19960070944 A KR19960070944 A KR 19960070944A KR 970074653 A KR970074653 A KR 970074653A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- copper
- silicon particles
- iron
- copper silicide
- weight
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/08—Compounds containing halogen
- C01B33/107—Halogenated silanes
- C01B33/1071—Tetrachloride, trichlorosilane or silicochloroform, dichlorosilane, monochlorosilane or mixtures thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/08—Compounds containing halogen
- C01B33/107—Halogenated silanes
- C01B33/1071—Tetrachloride, trichlorosilane or silicochloroform, dichlorosilane, monochlorosilane or mixtures thereof
- C01B33/10742—Tetrachloride, trichlorosilane or silicochloroform, dichlorosilane, monochlorosilane or mixtures thereof prepared by hydrochlorination of silicon or of a silicon-containing material
- C01B33/10757—Tetrachloride, trichlorosilane or silicochloroform, dichlorosilane, monochlorosilane or mixtures thereof prepared by hydrochlorination of silicon or of a silicon-containing material with the preferential formation of trichlorosilane
- C01B33/10763—Tetrachloride, trichlorosilane or silicochloroform, dichlorosilane, monochlorosilane or mixtures thereof prepared by hydrochlorination of silicon or of a silicon-containing material with the preferential formation of trichlorosilane from silicon
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
- B01J23/70—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper
- B01J23/72—Copper
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/02—Silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/06—Metal silicides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/80—Particles consisting of a mixture of two or more inorganic phases
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
본 발명은 규소 입자, 테트라클로로실란 및 수소의 반응을 통한 트리클로로실란의 제조 방법.에 관한 것이다. 보다 구체적으로는, 본 발명은 규소 입자, 테트라클로로실란 및 수소를, 규화구리를 포함하는 첨가 된 촉매의 존재하에 400내지700의 온도에서 유동상 중에서 반응시키는 것으로 이루어지는 트리클로로실란의 제조방법.에 관한 것이다. 본 발명은 반응계에 규화구리와 같은 구리 기재 촉매를 첨가하여구리 기재 촉매 또는 규소 입자의 응집을 신뢰성이 매우 높게 억제할 수 있고, 상기 규화구리 및 철 성분의 혼합물, 또는 규화구리, 철성분및 알루미늄 성분의 혼합물을 포함하는 촉매계에 의해 트리클로로실란으로의 전환반응의 속도를 개선시킬 수 있다. 따라서, 본 발명은 규화구리를 포함하는 신규 촉매계를 사용하여 규소 입자, 테트라클로로실란 및 수소를 고온에서 유동상 중에서 반응시켜 공지의 구리 기재 촉매를 사용하는 방법.보다 더빠른 반응속도로 보다 안정적으로 트리클로로실란을 제조할 수 있는 방법.을 제공한다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 방법.에 유리하게 사용되는 유동상 반응기의 개략적 단면도임
Claims (10)
- 규소입자, 테트라클로로실란 및 수소를, 규화구리를 함유하는 첨가된 촉매의 존재하에 400내지 700℃의 온도에서 유동상 중에서 반응시키는 것으로 이루어지는 트리클로로실란의 제조방법.
- 제1항에 있어서, 촉매가 규화구리와 철 성분의 혼합물 또는 규화구리, 철 성분및 알루미늄 성분의 혼합물인 것인방법.
- 제2항에 있어서, 반응계에 존재하는 규화구리와 철 성분의 혼합물 또는 규화구리, 철 성분 및 알루미늄 성분의 혼합물의 양이 규소 원자를 기준으로 하여 구리 원자의 비율이 0. 1내지 25중량%, 철 원자의 비율이 0. 3내지 40중량%, 알루미륨 원자의 비율이 0. 1내지 3중량%가 되도록 조정되는 방법.
- 제2항에 있어서, 규소원자를 기준으로 하여 철 원자를 0. 3중량% 이상포함하는 규소입자가 반응개시시에 공급되는 방법.
- 제2항에 있어서, 알루미늄이 알루미륨 함유규소 입자로서 반응계에 공급되는 것인방법.
- 제2항에 있어서, 철이 철 함유 규소 입자로서 반응계에 공급되는 것인방법.
- 제1항에 있어서, 규화구리가 적어도 규소입자의 표면에 규화구리가 존재하는 구리 함유 규소 입자로서 반응계에 공급되는 것인방법.
- 평균입경이 50㎛내지 2㎜인 규소 입자및 평균 입경이 1㎜이하 인염화제1구리 입자및 (또는) 염화제2구리 입자를 산화물 또는 염화물을 생성시키지 않는 비산화성 기체 분위기 중에서 250°이상의 온도에서 가열하는 것으로 이루어지는, 제7항의 구리 함유 규소 입자의 제조방법.
- 제8항에 있어서, 염화제1구리 및 (또는)염화제2구리가 규소 입자100중량부에 대하여 구리 원자로 환산하여 30중량부의 양으로 사용되는 방법.
- 제8항에 있어서, 표면에서 깊이 10㎛까지의 부분에 규화구리의 80%가 존재하는 규소 입자가 제조되는 것인방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Applications Claiming Priority (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP95-336,781 | 1995-12-25 | ||
JP33678295 | 1995-12-25 | ||
JP95-336,782 | 1995-12-25 | ||
JP33678195 | 1995-12-25 | ||
JP12196696 | 1996-05-16 | ||
JP96-121,966 | 1996-05-16 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR970074653A true KR970074653A (ko) | 1997-12-10 |
Family
ID=27314356
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019960070944A KR970074653A (ko) | 1995-12-25 | 1996-12-24 | 트리클로로실란의 제조 방법 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR970074653A (ko) |
CN (1) | CN1157259A (ko) |
DE (1) | DE19654154A1 (ko) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20200100144A (ko) * | 2017-12-21 | 2020-08-25 | 로지 | 트리클로로실란 제조용 규소 과립 및 관련 제조 방법 |
Families Citing this family (36)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6425850B1 (en) * | 2000-04-20 | 2002-07-30 | General Electric Company | Method for determining eta phase copper |
DE10044794A1 (de) * | 2000-09-11 | 2002-04-04 | Bayer Ag | Verfahren zur Herstellung von Trichlorsilan |
DE10045367A1 (de) * | 2000-09-14 | 2002-03-28 | Bayer Ag | Verfahren zur Herstellung von Trichlorsilan |
DE102004019759A1 (de) * | 2004-04-23 | 2005-11-17 | Degussa Ag | Verfahren zur Herstellung von HSiCI3 durch katalytische Hydrodehalogenierung von SiCI4 |
DE102004019760A1 (de) * | 2004-04-23 | 2005-11-17 | Degussa Ag | Verfahren zur Herstellung von HSiCI3 durch katalytische Hydrodehalogenierung von SiCI4 |
JP4160930B2 (ja) * | 2004-05-19 | 2008-10-08 | シャープ株式会社 | ハロシランの製造方法、固形分の精製方法 |
DE102005005044A1 (de) * | 2005-02-03 | 2006-08-10 | Consortium für elektrochemische Industrie GmbH | Verfahren zur Herstellung von Trichlorsilan mittels thermischer Hydrierung von Siliciumtetrachlorid |
WO2006098722A1 (en) | 2005-03-09 | 2006-09-21 | Rec Advanced Silicon Materials Llc | Process for the production of hydrochlorosilanes |
DE102007041803A1 (de) * | 2007-08-30 | 2009-03-05 | Pv Silicon Forschungs Und Produktions Gmbh | Verfahren zur Herstellung von polykristallinen Siliziumstäben und polykristalliner Siliziumstab |
KR101573933B1 (ko) * | 2008-02-29 | 2015-12-02 | 미쓰비시 마테리알 가부시키가이샤 | 트리클로로실란의 제조 방법 및 제조 장치 |
DE102009037155B3 (de) * | 2009-08-04 | 2010-11-04 | Schmid Silicon Technology Gmbh | Verfahren und Anlage zur Herstellung von Trichlorsilan |
DE102010000978A1 (de) * | 2010-01-18 | 2011-07-21 | Evonik Degussa GmbH, 45128 | Strömungsrohrreaktor zur Umsetzung von Siliciumtetrachlorid zu Trichlorsilan |
WO2011094140A2 (en) | 2010-01-26 | 2011-08-04 | Dow Corning Corporation | Method of preparing an organohalosilane |
JP5535679B2 (ja) * | 2010-02-18 | 2014-07-02 | 株式会社トクヤマ | トリクロロシランの製造方法 |
KR20130079350A (ko) | 2010-05-28 | 2013-07-10 | 다우 코닝 코포레이션 | 오르가노할로실란의 제조 |
KR101839585B1 (ko) | 2010-05-28 | 2018-03-16 | 다우 코닝 코포레이션 | 디오가노디할로실란의 제조 방법 |
US8765090B2 (en) | 2010-09-08 | 2014-07-01 | Dow Corning Corporation | Method for preparing a trihalosilane |
CN101941703B (zh) * | 2010-09-08 | 2012-07-18 | 洛阳晶辉新能源科技有限公司 | 一种生产三氯氢硅的方法 |
KR20130132844A (ko) | 2010-12-17 | 2013-12-05 | 다우 코닝 코포레이션 | 다이오가노다이할로실란을 제조하는 방법 |
USRE46657E1 (en) | 2010-12-17 | 2018-01-02 | Dow Corning Corporation | Method of making a trihalosilane |
US8697900B2 (en) | 2011-01-25 | 2014-04-15 | Dow Corning Corporation | Method of preparing a diorganodihalosilane |
CN104039699A (zh) * | 2011-11-14 | 2014-09-10 | 森特瑟姆光伏美国有限公司 | 用于非平衡三氯氢硅制备的方法和系统 |
US9296765B2 (en) | 2012-08-13 | 2016-03-29 | Dow Corning Corporation | Method of preparing an organohalosilane |
US9422316B2 (en) | 2012-10-16 | 2016-08-23 | Dow Corning Corporation | Method of preparing halogenated silahydrocarbylenes |
WO2014116341A1 (en) * | 2013-01-25 | 2014-07-31 | Dow Corning Corporation | Mehtod for preparing a trihalosilane |
KR102299593B1 (ko) | 2013-11-12 | 2021-09-09 | 다우 실리콘즈 코포레이션 | 할로실란의 제조 방법 |
KR101580171B1 (ko) * | 2014-01-23 | 2015-12-24 | 한국화학연구원 | 금속 실리사이드 표면개질 방법, 표면개질된 금속 실리사이드를 이용한 삼염화실란의 제조방법 및 제조장치 |
CN105170022B (zh) * | 2014-06-16 | 2017-11-10 | 新特能源股份有限公司 | 造粒装置、制备四氯化硅催化氢化反应用催化剂的制备方法及四氯化硅催化氢化反应方法 |
KR101616043B1 (ko) * | 2014-07-22 | 2016-04-27 | 한화케미칼 주식회사 | 삼염화실란의 제조방법 |
WO2016099690A1 (en) | 2014-12-18 | 2016-06-23 | Dow Corning Corporation | Method for producing aryl-functional silanes |
US20180021747A1 (en) * | 2015-03-24 | 2018-01-25 | Dow Corning Corporation | Method for fluidizing copper silicide and process for preparing a halosilane using the method |
DE102015205727A1 (de) | 2015-03-30 | 2016-10-06 | Wacker Chemie Ag | Wirbelschichtreaktor zur Herstellung von Chlorsilanen |
CN105399101A (zh) * | 2015-12-14 | 2016-03-16 | 辽宁石油化工大学 | 一种冷氢化制备三氯氢硅的方法 |
CN107377009A (zh) * | 2017-07-18 | 2017-11-24 | 亚洲硅业(青海)有限公司 | 一种铜盐催化剂的再生方法及其应用 |
CN108187702A (zh) * | 2017-12-25 | 2018-06-22 | 河南师范大学 | 一种铜催化剂、制备方法及其应用 |
KR20210092797A (ko) * | 2018-12-19 | 2021-07-26 | 와커 헤미 아게 | 클로로실란을 제조하는 방법 |
-
1996
- 1996-12-23 DE DE19654154A patent/DE19654154A1/de not_active Withdrawn
- 1996-12-24 CN CN96117960A patent/CN1157259A/zh active Pending
- 1996-12-24 KR KR1019960070944A patent/KR970074653A/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20200100144A (ko) * | 2017-12-21 | 2020-08-25 | 로지 | 트리클로로실란 제조용 규소 과립 및 관련 제조 방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN1157259A (zh) | 1997-08-20 |
DE19654154A1 (de) | 1997-06-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR970074653A (ko) | 트리클로로실란의 제조 방법 | |
JP2889140B2 (ja) | 第4主族元素のハロゲン原子含有化合物の触媒的脱ハロゲン法 | |
US4602101A (en) | Method of manufacturing alkylhalosilanes | |
US4276424A (en) | Methods for the production of organic polysilanes | |
US4762940A (en) | Method for preparation of alkylhalosilanes | |
JP4030616B2 (ja) | 銅ベース触媒、その製造及び使用方法並びにアルキルハロシランの製造方法 | |
US4450282A (en) | Catalyst for a process for producing silicones | |
JP2744106B2 (ja) | アルキルハロゲノシランの製造法 | |
CN1250452C (zh) | 制备接触物质的方法 | |
JP4722323B2 (ja) | 直接法によるアルキルハロシランの製造中にジアルキルジハロシランの生成を促進する方法 | |
KR930016428A (ko) | 비스실릴알칸 및 그들의 제조방법 | |
US2499009A (en) | Chlorosilanes | |
KR100750003B1 (ko) | 알킬할로실란의 제조 방법 | |
KR20110107349A (ko) | 오가노할로하이드로실란의 제조 공정 | |
JP3818357B2 (ja) | オルガノハロシランの製造方法 | |
KR880011018A (ko) | 클로로폴리실란의 제조방법 | |
US7202192B2 (en) | Composite catalysts for the direct synthesis of alkylhalosilanes | |
GB2119808A (en) | Method for making methylchlorosilanes | |
JPH0259590A (ja) | 有機クロルシランの製造法 | |
EP0028057A1 (en) | Process for preparing dimethylaminosilanes | |
JP2005526612A5 (ko) | ||
JP2851588B2 (ja) | ジメチルジクロルシランの製造法 | |
US5051248A (en) | Silane products from reaction of silicon monoxide with hydrogen halides | |
JP2653700B2 (ja) | トリメトキシシランの製造方法 | |
US5120520A (en) | Silane products from reaction of solid silicon monoxide with aromatic halides |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
WITN | Application deemed withdrawn, e.g. because no request for examination was filed or no examination fee was paid |