KR970060359A - 기판표면상의 포토레지스트층의 전처리방법 - Google Patents

기판표면상의 포토레지스트층의 전처리방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은, 레지스트층을 화학선에 패턴노광하기 전에, 패턴형성영역의 가장자리지대와 기판의 주위 및 후면에서와 같이, 포토레지스트용액을 가득펴발라 레지스트층의 불필요부분이 형성되어 있는, 기판표면에 형성된 포토레지스트층을 세정액으로 용해제거함으로서 전처리하는 향상된 방법을 제공하는 것이다. 또, 본 발명의 방법에 사용된 세정액은, 포토레지스트조성물을 용해시킬 수 있는 유기용매로 주로 이루어진 종래의 세정액과 대조적으로, 물과, 1가알콜, 알킬렌글리콜 모노알킬에테르 및 비프로톤성용매 등의 수용성유기용매의 제한량으로 이루어진 수성매체에 수용성알카리화합물이 용해되어 있는 알카리수용액으로, 또한, 세정액은 임의적으로 방식제를 함유한다.

Description

기판표면상의 포토레지스트층의 전처리방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 각각 종래법과 본 발명에 있어서의 포토레지스트층의 팽윤을 나타내는 그래프.

Claims (25)

  1. 패턴형성을 위해 구획된 영역에서 포토레지스트층을 화학선에 패턴노광하기전에, 화학선에 패턴노광하기 위해 구획된 영역을 제외한 영역에서의 기판표면상의 포토레지스트층을, (a) 수성매체로서 물과 수용성유기용매의 혼합물 및 (b) 수성매체에 용해된 수용성알카리화합물로 이루어진 세정액과 접촉시켜 포토레지스트층의 분해를 행하는 공정으로 이루어진, 알카리가용성포토레지스트조성물로부터 기판표면에 형성된 포토레지스트층의 전처리방법.
  2. 제1항에 있어서, 세정액내 수용성유기용매의 양은 0.05∼20중량%인 것을 특징으로 하는 기판표면에 형성된 포토레지스트층의 전처리방법.
  3. 제1항에 있어서, 세정액내 수용성알카리화합물의 양은 0.05∼20중량%인 것을 특징으로 하는 기판표면에 형성된 포토레지스트층의 전처리방법.
  4. 제1항에 있어서, 세정액내 수용성유기용매는 1가알콜, 알킬렌글리콜의 알킬에테르 및 비프로톤성용매로 이루어지는 군에서 선택된 것을 특징으로 하는 기판표면에 형성된 포토레지스트층의 전처리방법.
  5. 제4항에 있어서, 세정액내 수용성유기용매는 메틸알콜 및 이소프로필알콜로 이루어진 군에서 선택된 1가알콜인 것을 특징으로 하는 기판표면에 형성된 포토레지스트층의 처리방법.
  6. 제4항에 있어서, 세정액내 수용성유기용매는, 알킬기의 탄소수가 1∼4인, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜 또는 디프로필렌글리콜의 모노알킬에테르로 이루어진 군에서 선택된 알킬렌글리콜의 알킬에테르인 것을 특징으로 하는 기판표면에 형성된 포토레지스트층의 전처리방법.
  7. 제6항에 있어서, 세정액내 수용성유기용매는, 에틸렌글리콜 또는 프로필렌그리콜의 메틸에테르로 이루어진 군에서 선택된 알킬렌글리콜의 메틸에테르인 것을 특징으로 하는 기판표면에 형성된 포토레지스트층의 전처리방법.
  8. 제6항에 있어서, 세정액내 수용성유기용매는, 디프로필렌글리콜 모노메틸에테르인 것을 특징으로 하는 기판표면에 형성된 포토레지스트층의 전처리방법.
  9. 제4항에 있어서, 세정액내 수용성유기용매는 비프로톤성 용매인 1,3-디메틸-2-이미다졸리디논인 것을 특징으로 하는 기판표면에 형성된 포토레지스트층의 전처리방법.
  10. 제1항에 있어서, 수용성알카리화합물은 무기알카리화합물, 알칸올아민화합물, 질소함유헤테로고리화합물 및 4차 암모늄히드록시드로 이루어진 군에서 선택된 것을 특징으로 하는 기판표면에 형성된 포토레지스트층의 전처리방법.
  11. 제10항에 있어서, 수용성알카리화합물은, 탄산나트륨, 모노에탄올아민, 디에탄올아민, 2-(2-아미노에톡시)에탄올, 2-히드록시에틸피리딘, N-메틸-2-피롤리돈, 이미다졸 및 테트라메틸암모늄히드록시드로 이루어진 군에서 선택된 것을 특징으로 하는 기판표면에 형성된 포토레지스트층의 전처리방법.
  12. 패턴형성을 위해 구획된 영역에서 포토레지스트층을 화학선에 패턴노광하기전에, 화학선에 패턴노광하기 위해 구획된 영역을 제외한 영역에서의 기판표면상의 포토레지스트층을, (a) 수성매체로서 물과 수용성유기용매의 혼합물, (b) 수성매체에 용해된 수용성알카리화합 및 (c) 방식제로 이루어진 세정액과 접촉시켜 포토레지스트층의 분해를 행하는 공정으로 이루어진, 알카리가용성 포토레지스트조성물로부터 기판표면에 형성된 포토레지스트층의 전처리방법.
  13. 제12항에 있어서, 방식제는 방향족 히드록실화합물, 알키놀화합물 및 트리아졸화합물로 이루어진 군에서 선택된 것을 특징으로 하는 기판표면에 형성된 포토레지스트층의 전처리방법.
  14. 제13항에 있어서, 방식제는 2-부틴-1,4-디올 및 카테콜로 이루어진 군에서 선택된 것을 특징으로 하는 기판표면에 형성된 포토레지스트층의 전처리방법.
  15. 제12항에 있어서, 세정액의 방식제의 양은 0.01∼10중량%인 것을 특징으로 하는 기판표면에 형성된 포토레지스트층의 전처리방법.
  16. 제12항에 있어서, 세정액내 수용성유기용매의 양은 0.05∼20중량%인 것을 특징으로 하는 기판표면에 형성된 포토레지스트층의 전처리방법.
  17. 제12항에 있어서, 세정액내 수용성알카리화합물의 양은 0.05∼20중량%인 것을 특징으로 하는 기판표면에 형성된 포토레지스트층의 전처리방법.
  18. 제12항에 있어서, 세정액내 수용성유기용매는 1가알콜, 알킬렌글리콜의 알킬에테르 및 비프로톤성용매로 이루어지는 군에서 선택된 것을 특징으로 하는 기판표면에 형성된 포토레지스트층의 전처리방법.
  19. 제18항에 있어서, 세정액내 수용성유기용매는 메틸알콜 및 이소프로필알콜로 이루어진 군에서 선택된 1가알콜인 것을 특징으로 하는 기판표면에 형성된 포토레지스트층의 전처리방법.
  20. 제18항에 있어서, 세정액내 수용성유기용매는, 알킬기의 탄소수가 1∼4인, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜 또는 디프로필렌글리콜의 모노알킬에테르로 이루어진 군에서 선택된 알킬렌글리콜의 알킬에테르인 것을 특징으로 하는 기판표면에 형성된 포토레지스트층의 전처리방법.
  21. 제20항에 있어서, 세정액내 수용성유기용매는, 에틸렌글리콜 또는 프로필렌글리콜의 메틸에테르로 이루어진 군에서 선택된 알킬렌글리콜의 메틸에테르인 것을 특징으로 하는 기판표면에 형성된 포토레지스트층의 전처리방법.
  22. 제20항에 있어서, 세정액내 수용성유기용매는 디프로필렌글리콜 모노메틸에테르인 것을 특징으로 하는, 기판표면에 형성된 포토레지스트층의 전처리방법.
  23. 제18항에 있어서, 세정액내 수용성유기용매는 비프로톤성 용매인 1,3-디메틸-2-이미다졸리디논인 것을 특징으로 하는 기판표면에 형성된 포토레지스트층의 전처리방법.
  24. 제12항에 있어서, 수용성알카리화합물은 무기알카리화합물, 알칸올아민화합물, 질소함유헤테로고리화합물 및 4차 암모늄히드록시드로 이루어진 군에서 선택된 것을 특징으로 하는 기판표면에 형성된 포토레지스트층의 전처리방법.
  25. 제24항에 있어서, 수용성알카리화합물은, 탄산나트륨, 모노에탄올아민. 디에탄올아민, 2-(2-아미노에톡시)에탄올, 2-히드록시에틸피리딘, N-메틸-2-피롤리돈, 이미다졸 및 테트라메틸암모늄히드록시드로 이루어진 군에서 선택된 것을 특징으로 하는 기판표면에 형성된 포토레지스트층의 전처리방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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