KR970030807A - 반도체 메모리장치의 커패시터 제조방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 반도체 메모리장치의 커패시터 제조방법에 관한 것으로, 실린더구조와 핀구조를 결합시켜 커패시턴스를 증대시킬 수 있도록 한 것이다.
이를 위해 본 발명은 반도체기판 전면에 층간절연막을 형성하는 단계와, 상기 층간절연막을 선택적으로 식각하여 반도체기판 소정부분을 노출시키는 콘택홀을 형성하는 단계, 기판 전면에 제1도전층과, 절연막 및 제2도전층을 차례로 형성하는 단계, 상기 제2도전층과 절연막 및 제1도전층을 선택적으로 식각하여 소정의 적층구조를 형성하는 단계, 상기 적층구조 측면에 도전물질로 이루어진 스페이서를 형성하는 단계, 상기 적층구조 상부에 소정의 포토레지스트패턴을 형성하는 단계, 상기 포토레지스트패턴을 마스크로 하여 상기 제3도전층을 선택적으로 식각하는 단계, 및 상기 절연막을 습식식각에 의해 제거하는 단계를 포함하는 반도체 메모리장치의 커패시터 제조방법을 제공한다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명에 의한 커패시터 제조방법을 도시한 공정순서도.
Claims (5)
- 반도체기판 전면에 층간절연막을 형성하는 단계와, 상기 층간절연막을 선택적으로 식각하여 반도체기판 소정부분을 노출시키는 콘택홀을 형성하는 단계, 기판 전면에 제1도전층과, 절연막 및 제2도전층을 차례로 형성하는 단계, 상기 제2도전층과 절연막 및 제1도전층을 선택적으로 식각하여 소정의 적층구조를 형성하는 단계, 상기 적층구조 측면에 도전물질로 이루어진 스페이서를 형성하는 단계, 상기 적층구조 상부에 소정의 포토레지스트패턴을 형성하는 단계, 상기 포토레지스트패턴을 마스크로 하여 상기 제3도전층을 선택적으로 식각하는 단계, 및 상기 절연막을 습식식각에 의해 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 메모리장치의 커패시터 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 제1도전층과 제2도전층 및 스페이서에 의해 커패시터 스토리지전극이 이루어지는 것을 특징으로 하는 반도체 메모리장치의 커패시터 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 제1도전층과 제2도전층 및 스페이서는 폴리실리콘으로 형성하는 것을 특징으로 하는 반도체 메모리장치의 커패시터 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 절연막은 psg로 형성하는 것을 특징으로 하는 반도체 메모리장치의 커패시터 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 절연막을 습식식각하는 단계를 상기 포토레지스패턴이 존재하는 상태에서 행하는 것을 특징으로 하는 반도체 메모리장치의 커패시터 제조방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019950043611A KR970030807A (ko) | 1995-11-24 | 1995-11-24 | 반도체 메모리장치의 커패시터 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
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KR1019950043611A KR970030807A (ko) | 1995-11-24 | 1995-11-24 | 반도체 메모리장치의 커패시터 제조방법 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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KR970030807A true KR970030807A (ko) | 1997-06-26 |
Family
ID=66588740
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019950043611A KR970030807A (ko) | 1995-11-24 | 1995-11-24 | 반도체 메모리장치의 커패시터 제조방법 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR970030807A (ko) |
-
1995
- 1995-11-24 KR KR1019950043611A patent/KR970030807A/ko not_active Application Discontinuation
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