KR970022557A - 포토레지스트 인화 및 현상 시스템 및 방법 - Google Patents

포토레지스트 인화 및 현상 시스템 및 방법 Download PDF

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셰인 알. 팔머
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윌리엄 이. 힐러
텍사스 인스트루먼츠 인코포레이티드
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  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

액성 현상제 소스 하부에 포토레지스트층(12) 및 웨이퍼(14)를 배치함으로써 포토레지스트의 현상이 이루어진다. 상기 포토레지스트층(12)의 상부 표면(13)에 액성 현상제가 도포된 후, 초음파 결합 장치(18)에 의해 초음파 신호가 포토레지스트층(12)에 인가된다. 상부 회전자(16)은 포토레지스트층(12)로부터 액성 현상제를제거하기 위해 포토레지스트층(12) 및 웨이퍼(14)를 회전시킨다.

Description

포토레지스트 인화 및 현상 시스템 및 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 기술에 따라 구성된 초음파적으로 결합된 포토레지스트 현상 시스템의 한 실시예를 나타낸 도면.

Claims (20)

  1. 포토레지스트 현상 시스템에 있어서, 웨이퍼, 현상되지 않은 다수의 형상을 가지며 상기 웨이퍼 상에 배치되어 있으며, 상부 표면을 갖는 포토레지스트층; 상기 포토레지스트층의 상부 표면에 소정량의 현상제를 제공하기 위해 상기 포토레지스트층 상에 배치된 액성 현상제 소스; 상기 웨이퍼에 결합된 회전자; 및 상기 포토레지스트층 상의 현상제에 초음파 교반 신호(ultrasonic agitation signal)를 제공하기 위해 상기 회전자에 결합된 초음파 결합 장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 포토레지스트 현상 시스템.
  2. 제1항에 있어서, 상기 액성 현상제 소스는 분사 노즐을 포함하는 것을 특징으로 하는 포토레지스트 현상 시스템.
  3. 제1항에 있어서, 상기 액성 현상제 소스는 다수의 분사 노즐을 포함하는 것을 특징으로 하는 포토레지스 현상 시스템.
  4. 제1항에 있어서, 상기 액성 현상제 소스는 호스를 포함는 것을 특징으로 하는 포토레지스트 현상 시스템.
  5. 제1항에 있어서, 상기 초음파 결합장치는 상기 현상제를 초음파적으로 여기시키기 위해 동작가능한 초음파 형태로 초음파 교반 신호를 제공하는 것을 특징으로 하는 포토레지스트 현상 시스템.
  6. 제1항에 있어서, 상기 초음파 결합 장치는 상기 웨이퍼 및 상기 포토레지스트층의 역학적 진동 형태로 초음파 교반 신호를 제공하는 것을 특징으로 하는 포토레지스트 현상 시스템.
  7. 제1항에 있어서, 상기 초음파 결합 장치는 상기 웨이퍼 및 상기 포토레지스트층의 역학적 진동 형태로 초음파 교반 신호를 제공하도록 분극된 한 쌍의 자석을 분리하는 스프링을 포함하는 것을 특징으로 하는 포토레지스트 현상 시스템.
  8. 제1항에 있어서, 상기 액성 현상제 소스는 분사 노즐을 포함하며, 상기 초음파 결합 장치는 상기 현상제를 초음파적으로 여기시키기 위해 동작가능한 초음파 형태로 초음파 교반 신호를 제공하는 것을 특징으로 하는 포토레지스트 현상 시스템.
  9. 제1항에 있어서, 상기 액성 현상제 소스는 분사 노즐을 포함하며, 상기 초음파 결합 장치는 상기 웨이퍼 및 상기 포토레지스트층의 역학적 진동 형태로 초음파 교반 신호를 제공하는 것을 특징으로 하는 포토레지스트 현상 시스템.
  10. 제1항에 있어서, 상기 액성 현상제 소스는 분사 노즐을 포함하며, 상기 초음파 결합 장치는 상기 웨이퍼 및 상기 포토레지스트층의 역학적 진동 형태로 초음파 교반 신호를 제공하도록 분극된 한 쌍의 자석을 분리하는 스프링을 포함하는 것을 특징으로 하는 포토레지스트 현상 시스템.
  11. 제1항에 있어서, 상기 액성 현상제 소스는 호스를 포함하며, 상기 초음파 결합 장치는 상기 현상제를 초음파적으로 여기시키기 위해 동작가능한 초음파 형태로 초음파 교반 신호를 제공하는 것을 특징으로 하는 포토레지스트 현상 시스템.
  12. 제1항에 있어서, 상기 액성 현상제 소스는 호스를 포함하며, 상기 초음파 결합 장치는 상기 웨이퍼 및 상기 포토레지스트층의 역학적 진동 형태로 초음파 교반 신호를 제공하는 것을 특징으로 하는 포토레지스트 현상 시스템.
  13. 제1항에 있어서, 상기 액성 현상제 소스는 호스를 포함하며, 상기 초음파 결합 장치는 상기 웨이퍼 및 상기 포토레지스트층의 역학적 진동 형태로 초음파 교반 신호를 제공하도록 분극된 한 쌍의 자석을 분리하는 스프링을 포함하는 것을 특징으로 하는 포토레지스트 현상 시스템.
  14. 제1항에 있어서, 상기 웨이퍼를 지지하는 척을 더 구비하되, 상기 상부 회전 자는 상기 척에 결합되어 있는 것을 특징으로 하는 포토레지스트 현상 시스템.
  15. 포토레지스트층에서 형상을 현상하는 방법에 있어서, 현상될 상기 포토레지스트층을 회전시키는 단계; 소정량의 현상제로 상기 포토레지스트층을 분사하는 단계; 상기 현상제에 초음파 교반 신호를 인가하는 단계; 및 상기 포토레지스트층의 상부 표면으로 상기 현상제를 회전 도포시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 포토레지스트층에서 형상의 현상 방법.
  16. 제15항에 있어서, 상기 현상제에 초음파 교반 신호를 인가하는 상기 단계가 상기 현상제를 초음파적으로 여기시키기 위해 동작가능한 상기 포토레지스트층에 초음파를 인가하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 포토레지스트층에서 형상의 현상 방법.
  17. 제15항에 있어서, 상기 현상제에 초음파 교반 신호를 인가하는 상기 단계가 상기 포토레지스트층의 역학적 진동 형태로 초음파 교반 신호를 인가하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 포토레지스트층에서 형상의 현상 방법.
  18. 포토레지스트층에서 형상을 현상하는 방법에 있어서, 상기 포토레지스트층 상에 소정량의 현상제를 위치시키는 단계; 상기 현상제에 초음파 교반 신호를 인가하는 단계; 및 상기 포토레지스트층의 상부 표면으로 상기 현상제를 회전 도포하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 포토레지스트층에서 형상의 현상 방법.
  19. 제18항에 있어서, 상기 현상제에 초음파 교반 신호를 인가하는 상기 단계가 상기 현상제를 초음파적으로 여기시키기 위해 동작가능한 상기 포토레지스트풍층에 초음파를 인가하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 포토레지스트층에서 형상의 현상 방법.
  20. 제18항에 있어서, 상기 현상제에 초음파 교반 신호를 인가하는 상기 단계가 상기 포토레지스트층의 역학적 진동 형태로 초음파 교반 신호를 인가하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 포토레지스트층에서 형상의 현상 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019960046976A 1995-10-20 1996-10-19 포토레지스트 인화 및 현상 시스템 및 방법 KR970022557A (ko)

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