JPS6292441A - レジスト現像装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （イ）産業上の利用分野 本発明はレジスト現像装置、特に微細加工に適した枚葉
式のレジスト現像装置の改良に関する。

（ロ）従来の技術 レジスト現像法は現像液中にウェハーをつける浸漬現像
からスプレー現像に変って来た。スプレー現像は第３図
に示す如く、載置台（社）上にレジストを塗布し露光し
たウェハーＣ！υを一枚配置し、ノズル（ハ）からレジ
スト表面に現像液を吹き付け、載置台（イ）を支持柱ｃ
２４）下端に設けたモーター（ハ）で低速あるいは間け
り的に回転させて現像を行う。

斯るスプレー現像方法は常に新しい現像液を用いるので
、ウェハー間の変動を低減でき、ウエノ・−面内の均一
化を図れる利点を有している。そのため従来の浸漬現像
方法に比べて線巾のばらつきを半分以下にできる。

斯るスプレー現像方法は例えば特開昭５９−２０２６３
０号公報（ＨＯＩＬ２１／３０）の第２図および第４図
に示されている。

（ハ）発明が解決しようとする問題点 斯上したスプレー現像方法では現像液の循環あるいは攪
拌が自然対流や載置台の低速回転、開けりスプレーによ
り現像液の置換を図り、線巾のばらつきを抑えている、 しかしながらこのような方法を用いてもパターンが１．
０μｍ以下になってくると個々のミクロ的バター／での
現像液の循環や置換が不十分となってくる。即ち第４図
に示す如く、半導体基板Ｏυのシリコン酸化膜０２上の
レジスト膜（慢を現像する場合、現像中の溝（ロ）側面
に発生する気泡（至）が付着し現像液（至）の交換によ
り除去できなくなる。特にこの現象は溝（３４）のアス
ペクト比が１以上になると著しい。このためサブミクロ
ン領域でのレジストの現像が気泡の存在のために均一に
行なえない欠点が生じてきた。

に）問題点を解決するための手段 本発明は斯上した欠点に鑑みてなされ、載置台（２）の
支持柱（３）に上下に微小振動する振動手段（４）を設
け、溝側面に付着した気泡を除去するレジスト現像装置
を実現するものである。

（ホ）作用 本発明に依れば、振動手段（４）により載置台（２）上
に固着した半導体ウェハー（１１に上下に微小振動を与
えることにより、振動エネルギーにより気泡を溝側面を
除去し、溝側面の現像液の交換を行い安定した現像を実
現している。

（へ）実施例 本発明の第１の実施例を第１図を参照して説明する。

本実施例のレジスト現像装置は、半導体ウェハー（１）
を載置する載置台（２）と、載置台（２）を支持する支
持柱（３）と、支持柱（３）の中間に設けられた本発明
の特徴とする振動手段（４）と、支持柱（３）の下端に
設けたモーター（５）と、振動手段（４）とモーター（
５）との接続を行う電磁クラッチ（６）と、現像液をス
プレーするノズル（７）とより構成されている。

載置台（２）は半導体ウェハー（１）を一枚真空チャッ
ク等で固着するもので、レジストを塗布し露光した半導
体ウェハー（１１をレジストを上面して固定されている
。

支持柱（３）は載置台（２）と一体に形成され、振動手
段（４）からのエネルギーやモーター（５）からの回転
を伝達している。

振動手段（４）は支持柱（３）に嵌着した永久磁石（８
）とその両側に設けたボイスコイル（９）で構成され、
ボイスコイル（９）にはＡＣ〜５０　Ｋ　Ｈｚの信号を
与え永久磁石（８）を上下に振動させている。

モーター（５）は載置台（２）を低速回転させ、現像液
の交換を促進している。

電磁クラッチ（６）は振動手段（４）の上下撮動がモー
ター（５）に印加されないために振動手段（４）を動作
中の期間モーター（５）と支持柱（３）とを切り離すも
のである。

ノズル（力は現像液を基板（１）表面のレジスト上にス
プレーするものであり、パドル式とする場合はスプレー
をノズル（力より間けっ的にスプレーし、古い現像液は
基板（１）上より自然にオーバーフローさせる。

斯上した本実施例のレジスト現像装置では、載置台（２
）にレジストを塗布露光した半導体ウェハー（１）を固
定した後、ノズル（７）より現像液をスプレーしウェハ
ー（１）全面に表面張力ｍｌ利用して拡げる。

レジストは現像液により直ちに現像を開始し、振動手段
（４）を用いて載置台（２）に上下の微小振動を与える
。この結実現像により生じる溝内の気泡は除去され、溝
内にゆ常に新しい現像液が供給される。

斯る振動は間けり的に与え、他の期間は電磁クラッチ（
６）を連結してモーター（５）により載置台（２）に低
速回転を与える。更にパドル式を採用するときはノズル
（７）より間けり的に現像液をスプレーして定期的に現
像液の置換を行う。

次に第２図を参照して本発明の他の実施例を詳述する。

本実施例の特徴は振動手段（４）を変更したことにある
。振動手段（４）は支持柱（３）に固定した円板（１１
と円板ａ１に取着した複数の超音波振動子０１）とで構
成さ朴ている。この振動手段（４）は間けり的に超音波
振動子αＤを動作させて載置台（２）上の半導体ウェハ
ー（１）に上下の微小振動を印加して、溝内に発生する
気泡を除去している。

なお他の構成部品は第１図のものと共通している。

（ト）発明の効果 本発明に依れば、振動手段（４）により載置台（２）上
の半導体ウェハー（１）に上下の微小振動を加えるので
、現像中に発生する溝内の気泡を除去できサブミクロン
領域での均一な現像を行なえる利点を有する。

また本発明では、振動手段（４）により間接的に半導体
ウェハー（１１に上下の微小振動を加えるためしシスト
のパターンへの損傷がなく極めて微細パターンの現像が
行なえる利点を有する。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明のレジスト現像装置の一実施例を説明す
る正面図、第２図は本発明の他の実施例を説明する正面
図、第３図は従来のレジスト現像装置を説明すを正面図
、第４図は従来のレジストの現像方法を説明する断面図
である。 主な図番の説明 （１）は半導体ウェハー、　（２）は載置台、　（３）
は支持柱、　（４）は振動手段、　（５）はモーター、
　（６）は電磁クラッチである。 出願人　三洋電機株式会社　外１名 代理人　弁理士　　佐　野　静　夫 第１図 第２図 第３図 第４図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）レジストを塗布し露光したウェハーを載置する載
   置台と該載置台を支持する支持柱と支持柱を回転させる
   モーターとを具備するレジスト現像装置に於いて、前記
   支持柱に前記載置台を上下に微小振動させる振動手段を
   設けたことを特徴とするレジスト現像装置。