JP2000173886A - 基板処理装置および基板処理方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 基板の全面に処理液を均一に供給することが
できる基板処置装置および基板処理方法を提供する。 【解決手段】 走査開始位置Ｐ１から走査速度Ｖ２で移
動を開始した現像液吐出ノズル１１は、吐出開始位置Ｐ
２から現像液の吐出を始める。スリット状吐出口１５か
ら現像液を基板１００上に吐出しながら減速開始位置Ｐ
２１まで移動した現像液吐出ノズル１１は減速開始位置
Ｐ２１から減速し始め、基板端縁位置Ｐ２３より手前の
位置Ｐ２２で低速の走査速度Ｖ１となる。その後、現像
液吐出ノズル１１は一定の走査速度Ｖ１で移動し基板端
縁位置Ｐ２３を通過し、吐出終了位置Ｐ３で現像液の吐
出を終了し、走査停止位置Ｐ４で走査を終了する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、処理液を吐出する
処理液吐出ノズルを備えた基板処理装置および基板処理
方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基
板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板等の
基板上に形成された感光性膜に現像処理を行うために現
像装置が用いられる。

【０００３】例えば、回転式の現像装置は、基板を水平
に保持して鉛直軸の周りで回転させる回転保持部と、基
板の表面に現像液を供給する現像液吐出ノズルとを備え
る。現像液吐出ノズルは、水平面内で回動自在に設けら
れたノズルアームの先端に取り付けられており、基板の
上方位置と基板外の待機位置との間を移動することがで
きる。

【０００４】現像処理時には、現像液吐出ノズルが待機
位置から基板の上方位置に移動した後、基板上のフォト
レジスト等の感光性膜に現像液を供給する。供給された
現像液は、基板の回転によって基板の全面に塗り広げら
れ、感光性膜と接触する。表面張力により基板上に現像
液を保持した状態（液盛り）で一定時間基板を静止させ
ることにより感光性膜の現像が行われる。現像液の供給
が終了すると、現像液吐出ノズルはノズルアームの回動
により基板の上方から外れた待機位置に移動する。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】上記の従来の回転式の
現像装置では、回転する基板に吐出開始時の現像液が当
たることにより基板上の感光性膜が大きな衝撃を受け
る。その衝撃で現像液中に気泡が生じ、感光性膜の表面
に残留する微小な気泡が現像欠陥となる場合がある。ま
た、吐出開始時の現像液による衝撃で感光性膜が損傷す
るおそれもある。

【０００６】そこで、本発明者は、スリット状吐出口を
有する現像液吐出ノズルから現像液を吐出しながら基板
上の一端から他端へ現像液吐出ノズルを直線状に移動さ
せることにより、現像液の供給の初期段階における基板
上の現像液の流動を抑えつつ基板上に均一な衝撃力で現
像液を供給する現像方法を提案している。

【０００７】この現像方法においては、図１０に示すよ
うに、スリット状吐出口２３から現像液を吐出しながら
現像液吐出ノズル２０を基板１００外の一方側の位置か
ら基板１００上を通過して基板１００外の他方側の位置
まで移動させることにより基板１００上に現像液を供給
し、液盛りする。

【０００８】図１１は、図１０の現像液が供給された基
板の平面図である。図中矢印は現像液吐出ノズル２０の
走査方向を示す。領域２１は現像液が供給されている領
域であり、領域２２は現像液が供給されていない領域で
ある。

【０００９】上記のように、スリット状吐出口２３から
基板１００上に現像液を吐出しながら現像液吐出口ノズ
ル２０を基板１００の一方端縁から他方端縁まで走査す
ると、基板１００の他方端縁上に現像液が供給されてい
ない領域２２が生じる場合があることが判明した。

【００１０】本発明の目的は、基板の全面に処理液を均
一に供給することができる基板処理装置および基板処理
方法を提供することである。

【００１１】

【課題を解決するための手段および発明の効果】本発明
者は、基板上に現像液が供給されない領域が発生する原
因を解明するために種々の実験および検討を行った結
果、基板上に処理液を吐出しながら基板上を走査する処
理液吐出ノズルが基板の端縁から離間する際に、表面張
力により処理液が基板の端縁から引っ張られ、その引っ
張られた処理液が破断し、基板上の処理液が破断による
反動および表面張力で基板の中央部に引き戻されること
により、基板の端縁に処理液のない領域が生じるという
知見を得た。上記のような知見に基づいて、本発明者は
以下の発明を案出したものである。

【００１２】第１の発明に係る基板処理装置は、基板を
保持する基板保持手段と、処理液を吐出する処理液吐出
ノズルと、基板保持手段に静止状態で保持された基板の
一方端縁の外方から基板上を通過して基板の他方端縁の
外方へ処理液吐出ノズルを移動させる移動手段と、処理
液吐出ノズルが基板の中心部から基板の他方端縁を通過
する間に処理液吐出ノズルを減速させる速度制御手段と
を備えたものである。

【００１３】本発明に係る基板処理装置においては、処
理液吐出ノズルは、処理液を吐出しつつ基板保持手段に
静止状態で保持された基板の一方端縁の外方から基板上
を通過して基板の他方端縁の外方まで移動する。これに
より、基板上に処理液が供給される。このとき、処理液
吐出ノズルは、基板の中心部から基板の他方端縁を通過
する間に減速し、基板の他方端縁の外方へ到達する。

【００１４】このように、処理液吐出ノズルが基板の中
心部から基板の他方端縁を通過する間に減速するので処
理液吐出ノズルが基板の他方端縁から離間する際に、処
理液吐出ノズルに引っ張られた処理液が緩やかに破断す
る。そのため、処理液の破断による反動が小さくなり、
基板の端縁近傍の処理液が基板の中心部に引き戻される
現象が生じない。その結果、基板の全面に均一に処理液
が供給される。

【００１５】また、処理液の破断による反動が小さいの
で、処理液吐出ノズルに引っ張られた処理液の破断の際
に基板上の処理液に振動が伝わることが防止される。そ
の結果、基板上の処理液にむらが生じない。

【００１６】第２の発明に係る基板処理装置は、第１の
発明に係る基板処理装置の構成において、速度制御手段
は、処理液吐出ノズルを基板の中心部から基板の他方端
縁に至るまでに所定の速度まで減速させた後、一定速度
で基板の他方端縁を通過させるものである。

【００１７】この場合、処理液吐出ノズルは基板の他方
端縁に至るまでに所定の速度まで減速し、一定速度で基
板の他方端縁を通過する。そのため、処理液吐出ノズル
を一定の低速度で基板の他方端縁を通過させることがで
きる。

【００１８】第３の発明に係る基板処理装置は、第１の
発明に係る基板処理装置の構成において、速度制御手段
は、処理液吐出ノズルを基板の中心部から基板の他方端
縁の外方に至るまで連続的または段階的に減速させるも
のである。

【００１９】この場合、処理液吐出ノズルは基板の他方
端縁の外方に至るまで連続的または段階的に減速する。
そのため、処理液吐出ノズルを減速しつつ基板の他方端
縁を通過させることができる。

【００２０】第４の発明に係る基板処理装置は、第１、
第２、または第３の発明に係る基板処理装置の構成にお
いて、処理液吐出ノズルは、基板保持手段に保持される
基板の直径以上の幅を有するものである。

【００２１】この場合、処理液吐出ノズルを基板の一方
端縁から他方端縁まで１回走査させることにより、基板
上の全域に処理液が均一に供給される。

【００２２】第５の発明に係る基板処理方法は、静止状
態で保持された基板の一方端縁の外方から基板上を通過
して基板の他方端縁の外方へ処理液吐出ノズルを移動さ
せつつ処理液吐出ノズルから基板上に処理液を供給する
基板処理方法であって、処理液吐出ノズルが基板の中心
部から基板の他方端縁を通過する間に処理液吐出ノズル
を減速させるものである。

【００２３】本発明に係る基板処理方法においては、処
理液吐出ノズルは、処理液を吐出しつつ基板保持手段に
静止状態で保持された基板の一方端縁の外方から基板上
を通過して基板の他方端縁の外方まで移動する。これに
より、基板上に処理液が供給される。このとき、処理液
吐出ノズルは、基板の中心部から基板の他方端縁を通過
する間に減速した後、基板の他方端縁の外方へ到達す
る。

【００２４】このように、処理液吐出ノズルが基板の中
心部から基板の他方端縁を通過する間に減速するので、
処理液吐出ノズルが基板の他方端縁から離間する際に、
処理液吐出ノズルに引っ張られた処理液が緩やかに破断
する。そのため、処理液の破断による反動が小さくな
り、基板の端縁近傍の処理液が基板の中央部に引き戻さ
れる現象が生じない。その結果、基板の全面に処理液が
均一に供給される。

【００２５】また、処理液の破断による反動が小さいの
で、処理液吐出ノズルに引っ張られた処理液の破断の際
に基板上の処理液に振動が伝わることが防止される。そ
の結果、基板上の処理液にむらが生じない。

【００２６】

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る基板処理装置
および基板処理方法の一例として現像装置および現像方
法について説明する。

【００２７】図１は本発明の一実施例における現像装置
の平面図、図２は図１の現像装置の主要部のＸ−Ｘ線断
面図、図３は図１の現像装置の主要部のＹ−Ｙ線断面図
である。

【００２８】図２および図３に示すように、現像装置
は、基板１００を水平姿勢で吸引保持する基板保持部１
を備える。基板保持部１は、モータ２の回転軸３の先端
部に固定され、鉛直方向の軸の周りで回転可能に構成さ
れている。基板保持部１の周囲には、基板１００を取り
囲むように円形の内側カップ４が上下動自在に設けられ
ている。また、内側カップ４の周囲には、正方形の外側
カップ５が設けられている。

【００２９】図１に示すように、外側カップ５の両側に
はそれぞれ待機ポット６，７が配置され、外側カップ５
の一方の側部側にはガイドレール８が配設されている。
また、ノズルアーム９がアーム駆動部１０によりガイド
レール８に沿って走査方向Ａおよびその逆方向に移動可
能に設けられている。外側カップ５の他方の側部側に
は、純水を吐出する純水吐出ノズル１２が矢印Ｒの方向
に回動可能に設けられている。

【００３０】ノズルアーム９には、下端部にスリット状
吐出口１５を有する現像液吐出ノズル１１がガイドレー
ル８と垂直に取り付けられている。これにより、現像液
吐出ノズル１１は、待機ポット６の位置から基板１００
上を通過して待機ポット７の位置まで走査方向Ａに沿っ
て直線状に平行移動可能となっている。

【００３１】図２に示すように、現像液吐出ノズル１１
には、現像液供給系１３により現像液が供給される。制
御部１４は、モータ２の回転動作、アーム駆動部１０に
よる現像液吐出ノズル１１の走査および現像液吐出ノズ
ル１１からの現像液の吐出を制御する。

【００３２】図４に示すように、スリット状吐出口１５
は現像液吐出ノズル１１の走査方向Ａと垂直に配置され
る。スリット状吐出口１５のスリット幅ｔは０．０５〜
１．０ｍｍであり、本実施例では０．２ｍｍである。ま
た、スリット状吐出口１５の吐出幅Ｌは、処理対象とな
る基板１００の直径と同じかまたはそれよりも大きく設
定され、直径８インチの基板１００を処理する本実施例
では２１０ｍｍに設定される。

【００３３】現像液吐出ノズル１１は、スリット状吐出
口１５が基板１００の表面に対して平行な状態を保つよ
うに走査方向Ａに走査される。スリット状吐出口１５と
基板１００の表面との間隔は、０．２〜５ｍｍ、より好
ましくは０．５〜２ｍｍであり、本実施例では１．５ｍ
ｍである。

【００３４】本実施例では、基板保持部１が基板保持手
段に相当し、現像液吐出ノズル１１が処理液吐出ノズル
に相当し、アーム駆動部１０が移動手段に相当し、制御
部１４が速度制御手段に相当する。

【００３５】次に、図５、図６および図７を参照しなが
ら図１の現像装置の動作を説明する。図５は図１の現像
装置の動作を説明する正面図、図６は図１の現像装置の
動作を説明する平面図、図７は図１の現像装置における
現像液吐出ノズルの走査速度の第１の例を示す図であ
る。図７において、横軸は時間、縦軸は走査速度を示
す。

【００３６】図５に示すように、基板１００は基板保持
部１により静止状態で保持されている。待機時には、現
像液吐出ノズル１１は、待機ポット６内の位置Ｐ０に待
機している。

【００３７】現像処理時には、現像液吐出ノズル１１が
上昇した後、走査方向Ａに移動し、外側カップ５内の走
査開始位置Ｐ１で下降する。

【００３８】その後、図６および図７に示すように、処
理液吐出ノズル１１は、走査開始位置Ｐ１から一定の走
査速度Ｖ２で走査を開始する。この時点では、現像液吐
出ノズル１１からまだ現像液の吐出を行わない。

【００３９】現像液吐出ノズル１１の走査開始後、現像
液吐出ノズル１１のスリット状吐出口１５が基板１００
上に到達する前に、吐出開始位置Ｐ２にて所定の流量で
現像液吐出ノズル１１による現像液の吐出を開始する。

【００４０】さらに、現像液吐出ノズル１１は走査方向
へ移動し、スリット状吐出口１５から現像液を基板１０
０上に吐出しながら基板１００の中心部の減速開始位置
Ｐ２１まで走査速度Ｖ２で移動する。

【００４１】現像液吐出ノズル１１は減速開始位置Ｐ２
１から減速し始め、基板端縁位置Ｐ２３より手前の位置
Ｐ２２で走査速度Ｖ１となる。その後、現像液吐出ノズ
ル１１は一定の走査速度Ｖ１で移動し、基板端縁位置Ｐ
２３を通過する。これにより、基板１００上の全面に現
像液が供給される。

【００４２】さらに、現像液吐出ノズル１１は走査速度
Ｖ１で移動し、基板１００上から外れた吐出終了位置Ｐ
３でスリット状吐出口１５からの現像液の吐出を終了す
る。

【００４３】そして、現像液吐出ノズル１１が外側カッ
プ５内の走査停止位置Ｐ４に到達した時点で、現像液吐
出ノズル１１の走査を停止させる。

【００４４】その後、図５に示すように、現像液吐出ノ
ズル１１は、走査停止位置Ｐ４で上昇した後、待機ポッ
ト７の位置Ｐ５まで移動し、待機ポット７内まで下降す
る。

【００４５】基板１００上に現像液が供給された状態を
一定時間（例えば６０秒間）維持し、現像を進行させ
る。このとき、モータ２により基板保持部１を回転駆動
し、基板１００を回転させてもよい。

【００４６】その後、例えば回転数１０００ｒｐｍ程度
で基板１００を回転させ、洗浄用の純水吐出ノズル１２
から純水を基板１００に供給し、現像の進行を停止させ
るとともに純水でリンス処理を行う。

【００４７】最後に、純水吐出ノズル１２による純水の
供給を停止し、基板１００を例えば４０００ｒｐｍで回
転させ、基板１００から純水を振り切り、基板１００を
乾燥させる。その後、基板１００の回転を停止し、現像
処理を終了する。

【００４８】このように、本実施例の現像装置では、現
像液吐出ノズル１１が減速開始位置Ｐ２１から減速し始
め、走査速度Ｖ１で基板端縁位置Ｐ２３を通過するの
で、現像液吐出ノズル１１が基板端縁位置Ｐ２３から離
間する際に、現像液吐出ノズル１１に引っ張られた現像
液が緩やかに破断する。それにより、基板１００上の現
像液が破断による反動および表面張力で基板１００の中
央部に引き戻されることがない。したがって、基板１０
０上の全面に現像液が均一に供給される。

【００４９】また、現像液吐出ノズル１１に引っ張られ
た現像液が緩やかに破断するため、基板１００上の現像
液に振動が伝わることが抑制される。その結果、基板１
００上の現像液にむらが生じない。

【００５０】さらに、本実施例の現像装置では、現像液
吐出ノズル１１が静止した基板１００上に到達する前に
現像液の吐出が開始されるので、吐出開始時の現像液が
基板１００に衝撃を与えることが回避される。それによ
り、現像液中の気泡の発生が抑制され、現像欠陥の発生
が防止される。

【００５１】また、現像液吐出ノズル１１の移動中に空
気に接触するスリット状吐出口１５付近の現像液が基板
１００外に廃棄され、現像液吐出ノズル１１が基板１０
０上に到達した時点で現像液吐出ノズル１１から新しい
現像液が静止した基板１００上に供給される。それによ
り、変質した現像液により現像欠陥が発生することが防
止されるとともに、現像液が乾燥することで発生するパ
ーティクルが基板１００上の感光性膜の表面に付着する
ことが防止される。

【００５２】さらに、現像液吐出ノズル１１が静止した
基板１００上をスリット状吐出口１５と基板１００の上
面とが近接した状態で水平方向に直線状に平行移動し、
スリット状吐出口１５に形成された帯状の現像液が基板
１００の表面に連続的に接触するので、基板１００の表
面に衝撃が加わることなく基板１００の全面に現像液が
均一に供給される。

【００５３】また、現像液吐出ノズル１１が基板１００
上を通過するまで現像液の供給が続けられるので、吐出
停止時の衝撃による液盛り中の現像液への悪影響が防止
される。その結果、現像欠陥の発生が抑制されるととも
に、現像後の感光性膜パターンの線幅均一性が向上す
る。

【００５４】また、現像液吐出ノズル１１が基板１００
上を通り過ぎた後に現像液の吐出が停止されるので、吐
出停止時の現像液の液だれにより基板１００上の感光性
膜に衝撃が加わることが防止される。したがって、現像
欠陥の発生や感光性膜パターンの線幅均一性の劣化が防
止される。

【００５５】図８は図１の現像装置における現像液吐出
ノズルの走査速度の第２の例を示す図である。

【００５６】本例と図７の第１の例とは、減速開始位置
Ｐ２１から走査停止位置Ｐ４までの現像液吐出ノズル１
１の走査速度の変化が異なる。そのため、減速開始位置
Ｐ２１から走査停止位置Ｐ４までを説明する。

【００５７】図８に示すように、現像液吐出ノズル１１
は減速開始位置Ｐ２１から所定の減速度で減速し始め、
基板端縁位置Ｐ２３より手前の位置Ｐ２２で走査速度Ｖ
３となる。さらに、現像液吐出ノズル１１は、位置Ｐ２
２から減速度を低下させ、走査速度Ｖ１で基板端縁位置
Ｐ２３を通過する。これにより、基板１００上の全面に
現像液が供給される。

【００５８】現像液吐出ノズル１１は、さらに走査速度
を低下させながら基板１００上から外れた吐出終了位置
Ｐ３まで移動し、スリット状吐出口１５からの現像液の
吐出を停止する。

【００５９】そして、現像液吐出ノズル１１が外側カッ
プ５内の走査停止位置Ｐ４に到達した時点で現像液吐出
ノズル１１の走査を停止する。

【００６０】このように、本例では、現像液吐出ノズル
１１は位置Ｐ２２から減速度を低下させ、走査速度Ｖ１
で基板端縁位置Ｐ２３を通過するので、現像液吐出ノズ
ル１１が基板端縁位置Ｐ２３から離間する際に、現像液
吐出ノズル１１に引っ張られた現像液が緩やかに破断す
る。それにより、基板１００上の現像液が破断による反
動および表面張力で基板１００の中央部に引き戻される
ことがない。したがって、基板１００上の全面に現像液
が均一に供給される。

【００６１】また、現像液吐出ノズル１１に引っ張られ
た現像液が緩やかに破断するため、基板１００上の現像
液に振動が伝わることが抑制される。その結果、基板１
００上の現像液にむらが生じない。

【００６２】さらに、現像液吐出ノズル１１は、位置Ｐ
２２から減速度を低下させ、基板端縁位置Ｐ２３で走査
速度Ｖ１になるように制御されるので、急激な速度変化
が回避される。したがって、現像液吐出ノズル１１の走
査速度の制御が容易になる。

【００６３】図９は図１の現像装置における現像液吐出
ノズルの走査速度の第３の例を示す図である。

【００６４】本例と図７の第１の例および図８の第２の
例とは、減速開始位置２１から走査停止位置Ｐ４までの
現像液吐出ノズル１１の走査速度の変化が異なる。その
ため、減速開始位置Ｐ２１から走査停止位置Ｐ４までを
説明する。

【００６５】図９に示すように、現像液吐出ノズル１１
は減速開始位置Ｐ２１から減速し始め、減速度を低下さ
せつつ位置Ｐ２２、基板端縁位置Ｐ２３および吐出終了
位置Ｐ３を通過し、走査停止位置Ｐ４で停止する。

【００６６】現像液吐出ノズル１１は基板端縁位置Ｐ２
３を走査速度Ｖ１で通過し、吐出終了位置Ｐ３でスリッ
ト状吐出口１５からの現像液の吐出を停止する。

【００６７】このように、本例では、連続的に減速する
現像液吐出ノズル１１が走査速度Ｖ１で基板端縁位置Ｐ
２３を通過するので、現像液吐出ノズル１１が基板端縁
位置Ｐ２３から離間する際に、現像液吐出ノズル１１に
引っ張られた現像液が緩やかに破断する。それにより、
基板１００上の現像液が破断および表面張力で基板１０
０上の中央部に引き戻されることがない。したがって、
基板１００上の全面に現像液が均一に供給される。

【００６８】また、現像液吐出ノズル１１に引っ張られ
た現像液が緩やかに破断するため、基板１００上の現像
液に振動が伝わることが抑制される。その結果、基板１
００上の現像液にむらが生じない。

【００６９】さらに、現像液吐出ノズル１１が連続的な
速度変化で減速するように制御されるので、急激な速度
変化が回避される。したがって、現像液吐出ノズル１１
の走査速度の制御が容易になる。

【００７０】なお、上記実施例では、本発明をスリット
状吐出口を有する現像液吐出ノズルを用いた現像装置お
よび現像方法に適用した場合を説明したが、本発明は、
他の現像液吐出ノズルを用いた現像装置および現像方法
にも適用することができる。

【００７１】また、上記実施例では、本発明を現像装置
および現像方法に適用した場合を説明したが、本発明
は、レジスト液等の塗布液を吐出する塗布液吐出ノズル
を備えた塗布装置および塗布方法など、他の基板処理装
置および基板処理方法にも適用することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例における現像装置の平面図で
ある。

【図２】図１の現像装置の主要部のＸ−Ｘ線断面図であ
る。

【図３】図１の現像装置の主要部のＹ−Ｙ線断面図であ
る。

【図４】現像液吐出ノズルのスリット状吐出口を示す図
である。

【図５】図１の現像装置の動作を説明する正面図であ
る。

【図６】図１の現像装置の動作を説明する平面図であ
る。

【図７】図１の現像装置における現像液吐出ノズルの走
査速度の第１の例を示す図である。

【図８】図１の現像装置における現像液吐出ノズルの走
査速度の第２の例を示す図である。

【図９】図１の現像装置における現像液吐出ノズルの走
査速度の第３の例を示す図である。

【図１０】現像装置の動作の説明図である。

【図１１】現像装置による基板上の現像液の状態を示す
模式図である。

【符号の説明】

１ 基板保持部 １０ アーム駆動部 １１ 現像液吐出ノズル １４ 制御部 １５ スリット状吐出口

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 後藤 茂宏 京都市上京区堀川通寺之内上る４丁目天神 北町１番地の１ 大日本スクリーン製造株 式会社内 Ｆターム(参考） 4F041 AA05 BA12 BA34 4F042 AA06 BA04 EB09 EB17 EB18 5F046 JA02 JA04 LA04 LA06

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板を保持する基板保持手段と、 処理液を吐出する処理液吐出ノズルと、 前記基板保持手段に静止状態で保持された基板の一方端
   縁の外方から基板上を通過して基板の他方端縁の外方へ
   前記処理液吐出ノズルを移動させる移動手段と、 前記処理液吐出ノズルが基板の中心部から基板の他方端
   縁を通過する間に前記処理液吐出ノズルを減速させる速
   度制御手段とを備えたことを特徴とする基板処理装置。
2. 【請求項２】 前記速度制御手段は、前記処理液吐出ノ
   ズルを基板の中心部から基板の他方端縁に至るまでに所
   定の速度まで減速させた後、一定速度で基板の他方端縁
   を通過させることを特徴とする請求項１記載の基板処理
   装置。
3. 【請求項３】 前記速度制御手段は、前記処理液吐出ノ
   ズルを基板の中心部から基板の他方端縁の外方に至るま
   で連続的または段階的に減速させることを特徴とする請
   求項１記載の基板処理装置。
4. 【請求項４】 前記処理液吐出ノズルは、前記基板保持
   手段に保持される基板の直径以上の幅を有することを特
   徴とする請求項１、２または３記載の基板処理装置。
5. 【請求項５】 静止状態で保持された基板の一方端縁の
   外方から基板上を通過して基板の他方端縁の外方へ処理
   液吐出ノズルを移動させつつ前記処理液吐出ノズルから
   基板上に処理液を供給する基板処理方法であって、 前記処理液吐出ノズルが基板の中心部から基板の他方端
   縁を通過する間に前記処理液吐出ノズルを減速させるこ
   とを特徴とする基板処理方法。