KR100713398B1 - 음파를 이용한 반도체 웨이퍼의 현상장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은 반도체 웨이퍼의 현상장치에 있어서, 반도체 웨이퍼의 하면에 위치되어 음파를 발생하는 제너레이터와; 상기 반도체 웨이퍼에 현상액이 분사되어졌을 때 상기 제너레이터가 진동을 일으키도록 하는 콘트롤러와; 상기 반도체 웨이퍼 하면에 위치되어 음파를 발생하는 진동판과; 상기 진동판과 상기 제너레이터를 연결하는 다수의 진동자를 포함하는 반도체 웨이퍼의 현상장치를 제공한다. 본 발명의 현상장치에 의하면, 현상액과 포토 리지스터 사이의 퍼들링 시간이 줄어들고, 균일성이 향상된다.

Description

음파를 이용한 반도체 웨이퍼의 현상장치{DEVELOP DEVICE USING A SONIC WAVE FOR A DEVELOPING PROCESS OF A SEMICONDUCTOR WAFER}

도 1 및 도 2 는 종래기술에 따른 현상장치의 사시도,

도 3 은 본 발명에 따른 현상장치의 사시도이다.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 >

10 : 반도체웨이퍼 20 : 현상액 공급 노즐 아암

30 : 현상액 40 : 척

50 : 제너레이터 60 : 진동자

70 : 진동판

본 발명은 반도체 제조 과정의 현상 공정에서 사용되는 현상장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 웨이퍼에 현상액을 분사한 후 현상액 과 포토리지스터사이의 반응이 일어나는 시간인 퍼들링 시간을 단축하고 보다 균일한 반응을 얻도록 하기 위하여 음파을 이용하는 현상장치에 관한 것이다.

반도체 웨이퍼에 포토 마스킹 작업을 수행할 때 가장 중요한 작업 중 하나가 현상(develop)공정이다. 통상, 현상 공정은 마스크를 감광액이 도포된 웨이퍼에 얼라인한 후 자외선에 노출시켜 마스크의 패턴 모양에 따라 웨이퍼에 노광된 부분과 노광되지 않은 부분으로 구분짓게 하는 노광공정에 뒤를 잇는 공정으로서, 상술한 노광된 부분과 노광되지 않은 부분을 현상액을 이용하여 노광된 부분만 혹은 노광되지 않은 부분만의 감광액을 제거, 즉, 필요한 패턴만이 남도록 제거하는 공정이다.

이러한 현상 공정에서 상술한 현상액의 감광액위로의 접촉은 통상적으로 노즐장치에 의한 분사에 의해 이루어진다.

도 1 및 도 2 에는 종래기술에 따른 현상장치의 예가 도시되어 있다.

도 1 에 도시된 바와 같이, 일정한 속도 예를 들면 500 - 1,000 rpm 으로 회전하는 웨이퍼(10)위에 노즐장치(20)에 의해 현상액(30) 분사가 이루어진다. 이 때 반도체 웨이퍼(10)는 웨이퍼 척(40)에 의해 고정되어 회전한다. 도 2 에 도시된 바와 같이, 현상액(30)이 분사된 반도체 웨이퍼(10)의 상면에는, 노광된 부분과 노광되지 않은 부분에 따라 현상액에 의한 서로 다른 반응이 일어나게 된다. 이와 같은 퍼들링 시간은 대략 40 - 60 초 정도 소요된다.

그러나, 이와 같이 구성된 종래 기술에 따른 현상장치는 다음과 같은 단점을 가진다. 즉, 현상액이 노즐장치(20)로부터 분사되어 처음으로 웨이퍼에 접촉하는 지점과 그렇지 않은 지점간에 시디(CD)차가 발생하여 웨이퍼내에 시디 균일성이 떨어진다. 또한, 퍼들링 시간이 포토공정의 다른 스텝들에 비해 비교적 장시간을 요함에 따라 트랙 앤 스텝퍼의 인라인 시스템(track & stepper inline system)에 있 어서는 병목현상을 유발하는 원인이 된다.

따라서, 본 발명은 이와 같은 종래의 문제점을 해소시키기 위하여 안출된 것으로, 현상액과 포토 리지스터간의 반응이 일어나는 퍼들링 시간동안 음파를 이용하여 두 재료간의 교란을 촉진하여 퍼들링 시간이 줄어들고, 균일한 반응을 얻을 수 있는 현상장치를 제공하는 것이다.

이와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 반도체 웨이퍼의 현상장치에 있어서, 반도체 웨이퍼의 하면에 위치되어 음파를 발생하는 제너레이터와; 상기 반도체 웨이퍼에 현상액이 분사되어졌을 때 상기 제너레이터가 진동을 일으키도록 하는 콘트롤러와; 상기 반도체 웨이퍼 하면에 위치되어 음파를 발생하는 진동판과; 상기 진동판과 상기 제너레이터를 연결하는 다수의 진동자를 포함하는 반도체 웨이퍼의 현상장치를 제공한다.

본 발명의 상기 목적과 여러 가지 장점은 이 기술분야에 숙련된 사람들에 의해 첨부된 도면을 참조하여 다음에 설명하는 발명의 바람직한 실시예로부터 더욱 명확하게 될 것이다.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 현상장치를 상세하게 설명한다. 설명에 있어, 종래기술에 관한 설명에서 언급한 부품과 동일한 부품에 대해서는 동일한 참조부호를 사용한다.

도 3 에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 현상장치는 진동을 일으키기 위 한 제너레이터(50)를 포함한다. 제너레이터는 특정의 진동을 발생시키기 위한 것으로 제너레이터(50)에서 생성된 진동은 다수의 진동자(60)를 거쳐 진동판(70)에 전달된다. 이에 따라, 척(40)에 고정되는 반도체 웨이퍼(10) 아래 위치하게 되는 진동판(70)은 일정한 음파(sonic wave)를 발생하여 그 주변을 교란시키게 된다.

이와 같은 본 발명의 현상장치의 작동을 설명하면 다음과 같다.

일정한 속도, 예를 들면 500 - 1,000 rpm 으로 회전하는 웨이퍼(10)위에 노즐장치(도시되지 않음)에 의해 현상액(30) 분사가 이루어진다. 이 때 반도체 웨이퍼(10)는 웨이퍼 척(40)에 의해 고정되어 회전한다. 현상액(30)이 분사된 반도체 웨이퍼(10)의 상면에는, 노광된 부분과 노광되지 않은 부분에 따라 현상액에 의해 서로 다른 반응이 일어나게 된다. 이 때, 콘트롤러(도시되지 않음)등에 의해 제너레이터(50)가 동작되어 진동을 일으킨다. 제너레이터(50)에 의한 진동은 다수의 진동자(60)를 거쳐 진동판(70)에 전달되고, 진동판(70)은 음파를 일으킨다.

제너레이터(50)에 의해 생성되는 음파는 이와 같은 퍼들링 시간동안 현상액과 포토 리지스터간의 반응을 더 촉진하여 퍼들링 시간을 줄이고, 보다 균일한 반응이 일어나도록 하는 기능을 한다. 이 때, 제너레이터(50)에서 발생되는 진동은 진동판(70)에서 발생되는 음파(sonic wave)가 특정의 주파수를 가지도록 조절되어진다. 대략 10-50 kHz 가 적당하다.

이상, 내용은 본 발명의 바람직한 일 실시예를 단지 예시한 것으로 본 발명이 속하는 분야의 당업자는 본 발명의 요지를 변경시킴이 없이 본 발명에 대한 수정 및 변경을 가할 수 있다.

이와 같이 구성된 본 발명에 따른 현상장치에 의하면, 현상액이 분사된 반도체 웨이퍼의 하면에서 음파를 이용하여 현상액과 포토 리지스터와의 반응을 촉진함으로써, 퍼들링 시간을 줄이고 보다 정확한 현상공정을 수행할 수 있다.

Claims (1)

1. 웨이퍼 척에 고정되어 일정 속도로 회전하는 웨이퍼에 노즐을 통해 현상액을 분사하는 반도체 웨이퍼의 현상장치에 있어서,

   반도체 웨이퍼의 하면에 위치되어 음파를 발생하는 제너레이터와;

   상기 반도체 웨이퍼 하면에 위치되어 음파를 발생하는 진동판과;

   상기 진동판과 상기 제너레이터를 연결하는 다수의 진동자와;

   상기 웨이퍼에 현상액이 분사되어졌을 때 상기 제너레이터에서 발생되는 진동에 의해 상기 진동판에서 발생되는 음파가 상기 분사된 현상액과 포토 레지스트간의 반응을 촉진하는 주파수를 가지도록 상기 제너레이터를 제어하는 콘트롤러를 포함하는 반도체 웨이퍼의 현상장치.

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