KR970018256A - 고내압용 모드(MOS)트랜지스터의 제조방법 (Fabricating Method of MOS Transistor for withstanding a High Voltage) - Google Patents

고내압용 모드(MOS)트랜지스터의 제조방법 (Fabricating Method of MOS Transistor for withstanding a High Voltage) Download PDF

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mos transistor
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신호봉
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김광호
삼성전자 주식회사
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Abstract

고내압 트랜지스터의 제조에 있어서, P형 웰의 이온 주입 농도에 대한 적절한 제어의 성패가 소자의 특성에 중대한 영향을 끼치는데, 충분한 웰 접합 깊이의 확보가 이루어지지 않으면 소자의 구현이 곤란하다. 본 발명은 이러한 문제점을 해결하기 위한 것으로, 불순물의 확산 시간을 연장하지 않고도 고농도의 불순물을 웰 영역에 주입하고 다시 그와 반대의 도전성을 갖는 불순물을 웰 영역의 표면에만 주입하여 줌으로써 충분한 접학 깊이를 얻게 한다.

Description

고내압용 모드(MOS)트랜지스터의 제조방법(Fabricationg Method of MOS Transistor for withstanding a High Voltage)
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제3도는 본 발명에 따른 고내압용 MOS 트랜지스터의 구조를 나타낸 단면도.

Claims (4)

  1. 고내압용 반도체 소자의 제조를 위한 웰 형성방법에 있어서;제1도 전형의 실리콘 기판(201)에 웰 영역(207)을 정의하고, 상기 웰 영역(207)에 제2도전형의 불순물 이온을 소정의 농도 및 에너지로 주입하고, 상기 주입된 불순물 이온을 확산시키는 공정과;상기 웰 영역(207)에, 상기 제2도전형의 불순물 이온 주입시의 농도 및 에너지 보다 상대적으로 낮은 농도 및 에너지로 제1도전형의 불순물 이온을 주입하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 고내압용 모스 트랜지스터의 제조 방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 제1도전형의 불순물 이온을 확산을 위한 불순물 확산 공정을 부가적으로 포함하는것을 특징으로 하는 고내압용 모스 트랜지스터의 제조 방법.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 제1도전형의 불순물 이온은 인이온이고, 상기 제2도전형의 불순물 이온은 붕소이온인 것을 특징으로 하는 고내압용 모스 트랜지스터의 제조 방법.
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 제2도전형의 불순물 이온은 약 4.5 ~ 9.0 × 1012㎠정도의 농도와 약 100KeV의 주입 에너지로 상기 웰 영역으로 주입되고, 상기 제1도전형의 불순물 이온은 약 9.0 × 1011㎠정도의 농도와 약 90KeV의 주입 에너지로 상기 웰 영역으로 주입되는 것을 특징으로 하는 고내압용 모스 트랜지스터의 제조 방법.
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