KR970003430A - 진공 처리 챔버용 무 나사식 실드 조립체 - Google Patents

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KR970003430A
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로젠스테인 미첼
그루네즈 하우어드
브루스 브로드스키 스티번
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조셉 제이. 스위니
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Abstract

제거가능한 패스너를 사용하지 않고 진공 기판 처리 챔버의 제위치에 오버스프레이 시일드를 탄성적으로 클램핑시키도록 챔버의 벽 샌드위치에 처리 챔버의 오버스프레이 시일드를 고정시키거나 또는 치수적으로 가용성 장치는 플로팅 스페이서 링을 이용하는 장치 및 방법에 관한 것이다. 상기 장치는 챔버내의 스페이서 위치에서 쉴드 클램핑 어셈블리 성분을 따라 오버스프레이 시일드를 클램핑시키도록 챔버의 내부 및 외부사이에서 여러가지 압력을 사용한다. 스페이서 위치는 챔버의 진공 밀봉 한계보다 안쪽에 있다. 상기 장치는 만약 오정렬이 발생할 경우 일부가 정렬을 보정하기 위하여 제거되지 않는다면 양호한 진공 타입 밀봉이 이루어질 수 없도록 한다. 정확하게 정렬이 이루어질 때, 오버스프레이 쉴드는 처리 챔버 벽 및 처리 챔버 벽사이의 전기적 연속성을 밀접하게 부착되며 상기 오버스프레이 시일드는 예상된 처리 상태를 통하여 보증된다.

Description

진공 처리 챔버용 무 나사식 실드 조립체
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 플랜지 샌드위치에 밀봉된 오버스프레이 차폐 플랜지를 도시하는 본 발명에 따른 챔버 측벽 구조의 단면도.

Claims (20)

  1. 기판 처리 챔버에 시일드를 부착하기 위한 구조가, 기판 처리 위치에 둘러쌓인 벽과, 챔버 개구를 형성하는 상기 벽의 상부 엣지를 구비하는 기판 처리 챔버와, 상기 개구에 걸쳐서 상기 챔버 벽의 상부 엣지에 밀봉된 구조의 챔버 개구 커버 부재와, 상기 기판 처리 위치로부터 발산하는 처리 요소가 벽에 이르지 못하도록 적어도 부분적인 베리어로 동작하기 위해 구성된 시일드를 포함하는데, 상기 시일드는 상기 챔버 벽의 일부와 상기 챔버 개구 커버 구재의 일부간 사이에 안전하게 고정되고 클램프된 전체 플랜지부를 구비하며, 상기 플랜지부를 고정하여 클램프하기 위한 적어도 클램핑력의 일부는 커버 부재가 상기 챔버 벽의 상부 엣지를 향해 압박하게 되도록 하는 기판 처리 챔버를 비워서 창출되며, 상기 시일드는 상기 시일드의 제어 및 교체가 상기 처리 챔버내에 배치된 일련의 제어 가능한 패스트너의 제어 및 교체 없이 행해지도록 구성되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 챔버에 시일드를 부착하기 위한 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 플랜지부는 상기 밀봉한 상부 엣지의 상기 커버 부재 사이에 배치되고, 챔버가 비워있을때 가스를 챔버로 꽉 밀봉하는 플랜지 샌드위치에서 하나의 부재로서 작용하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 챔버에 시일드를 부착하기 위한 장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 플랜지부는 상기 처리 챔버의 벽과 상기 챔버 개구의 플랜지 샌드위치내의 상기 챔버 개구 커버 부재 사이의 스페이서 위치에 밀봉되는데, 상기 챔버는 상기 플랜지 샌드위치에 봉인하여 꽉 밀폐된 가스인 것을 특징으로 하는 기판 처리 챔버에 시일드를 부착하기 위한 장치.
  4. 제3항에 있어서, 상기 플랜지 부분은 상기 챔버의 상기 벽쪽으로 압박됨으로써 챔버의 벽과 전기적으로 연결되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 챔버에 시일드를 부착하는 장치.
  5. 제1항에 있어서, 상기 플랜지 부분은 상기 챔버의 상기 벽쪽으로 압박됨으로써 챔버의 벽과 전기적으로 연결되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 챔버에 시일드를 부착하는 장치.
  6. 진공 기판 처리 챔버에 시일드를 부착하는 장치에 있어서, 기판 처리 위치를 감싸는 하나 이상의 벽을 가진 기판 처리 챔버 어셈블리를 포함하는데, 상기 하나 이상의 벽의 상부 표면은 상기 챔버의 개구부를 형성하며; 상기 기판 처리 위치에 인접한 상기 하나 이상의 벽에 대하여 내부 라이너로서 작용하도록 배치된 제1처리 챔버 시일드를 추가로 포함하는데, 상기 제1시일드는 사용시 베리어로서 작용하여, 처리 위치로부터 방출되는 입자가 처리 챔버벽의 적어도 일부에 도달하는 것을 방지하며, 상기 제1처리 챔버 시일드는 플랜지 부분을 포함하며, 상기 시일드는 상기 챔버의 개국부를 형성하는 하나 이상의 벽의 상부 표면에 밀봉되도록 배치되고 구성되며; 및 상기 처리 챔버 시일드로부터 지지되며 상기 처리 챔버 시일드에 밀봉되는 상기 챔버의 타겟 개구부를 커버하도록 구성된 챔버 개구부 커버 부재를 포함하며, 상기 챔버가 적어도 부분적으로 진공화될 때 상기 커버 부재는 상기 하나 이상의 벽의 상부 표면에 상기 플랜지 부분을 클램핑하도록 힘을 가하며, 상기 시일드는 사용시 처리 챔버내부에 배치된 제거가능한 패스너 세트의 제거 및 교환없이 시일드의 제거 및 교환이 이루어질 수 있는 구조인 것을 특징으로 하는 진공 기판 처리 챔버에 시일드를 부착하는 장치.
  7. 제6항에 있어서, 챔버 개구 덮개부재로부터 처리챔버의 하나 이상의 벽을 가전기 절연하는 절연링은 상기 챔버벽의 상기 상부표면 및 상기 챔버 개구 덮개부재사이에 배치되며, 진공 밀폐실은 절연링 및 플랜지위치사이와 절연링 및 상기 챔버 개구 덮개부재사이에 형성되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 챔버에 시일드를 부착하는 장치.
  8. 기판 처리위치를 둘러싸는 하나 이상의 벽과, 상기 챔버의 개구를 형성하는 하나 이상의 벽의 상부표면을 가진 기판 처리 어셈블리와, 상기 하나 이상의 벽의 상기 상부표면으로부터 지지되며 상기 하나 이상의 벽의 상기 상부표면으로 밀봉되는 상기 챔버의 개구를 덮기 위해 구성된 챔버 개구 덮개부재와, 상기 챔버 개구 덮개부재로부터 상기 처리챔버의 하나 이상의 벽을 전기 절연하고 일반적으로 상기 챔버벽의 상기 상부표면 및 상기 챔버 개구 덮개부재사이에 배치되기 위해 구성되는 절연링과, 상기 절연링 및 상기 챔버의 하나 이상의 벽의 상부표면사이와 상기 절연링 및 상기 챔버 개구 덮개부재사이에 형성된 진공 밀폐실과, 상기 타깃 재료에 인접한 하나 이상의 벽에 대한 내부 라이너로서 동작하기 위해 배치된 제1처리 챔버 시일드를 포함하는데, 상기 시일드의 일부분은 처리 위치로부터 방출된 입자가 처리챔버벽의 적어도 일부분으로 도달하는 것을 막는 장벽으로 동작하며, 상기 제1처리챔버 시일드는 플랜지 부분을 포함하며, 처리 챔버내에 위치하며, 상기 플랜지 부분을 접촉하고 플랜지 부분과 함께 상기 절연링 및 상기 처리 챔버 어셈블리의 상기 하나 이상의 벽의 클램핑 위치사이에 위치한 스페이서 위치에 상기 플랜지 위치를 고정하기 위해 구성된 시일드 클램핑 어셈블리의 적어도 일부분을 형성하기 위해 구성되고, 진공 밀폐실이 그곳에 존재하는 가스분자의 배출을 허용하기 위해 형성될 때 시일드 및 처리챔버 어셈블리의 하나 이상의 벽사이에 전기 연속성을 보장하도록 시일드 클램핑 어셈블리에서 인접 부재 사이에 접촉압력을 제공하는 스페이서 링을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리챔버에 시일드를 부착하기 위한 기판.
  9. 제8항에 있어서, 상기 스페이서는 이곳에 캐비티를 가진 견고한 링을 구비하고, 상기 캐비티는 비 압축된 상태에서 상기 캐비티의 입구를 걸쳐 연장되고, 적어도 부분적으로 연정되어 탄성 부재가 비 압축된 상태로부터 배치된 동안에 상기 시일드 클램핑 어셈블리에 인접한 부재에 힘을 미치는 압축가능한 탄성부재를 수납하는 것을 특징으로 하는 기판 처리챔버에 시일드를 부착하기 위한 장치.
  10. 제9항에 있어서, 상기 캐비티는 상기 링 둘레에서 연속적인 그루브이고, 상기 탄성 부재는 관형 구조의 측부가 상기 캐비티의 입구에 걸쳐 연장되는 상기 그루브에서 관형 구조인 것을 특징으로 하는 기판 처리챔버에 시일드를 부착하기 위한 장치.
  11. 제8항에 있어서, 상기 처리 챔버 어셈블리의 하나 또는 그 이상의 벽이 상기 챔버와 상기 절연링의 사이에 배치되도록 구성된 어뎁터 링을 구비하며, 진공 밀폐 실은 상기 챔버의 하나 또는 그 이상의 벽의 상부면과 상기 어뎁터링, 그리고 상기 절연링과 상기 어뎁터링사이에 형성되는 것을 특징으로 하는 기판 처리챔버에 시일드를 부착하기 위한 장치.
  12. 제8항에 있어서, 상기 시일드 클램핑 어셈블리는 상기 스페이서 링과 상기 절연링 사이에 배치된 클램핑을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리챔버에 시일드를 부착하는 장치.
  13. 제12항에 있어서, 상기 클램핑 링은 제1측 및 제2측 사이에 클램핑링의 표면을 가로질러 가스가 통과하도록 할 필요없이 상기 클램핑 링의 상기 제1측으로부터 제2측으로 흐르는 가스를 공급하기 위해 적어도 하나의 가스 페시지를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리챔버에 시일드를 부착하는 장치.
  14. 제8항에 있어서, 상기 타겟 재료에 인접한 하나 또는 그 이상의 벽에 대해 내부 라이너로 작용하기 위해 배치되고, 상기 처리 위치로부터 방출된 입자가 상기처리 챔버 벽의 적어도 일부에 이르는 것을 막기위해 베리어로서 작용하며, 플랜지 부를 구비하는 제2처리 챔버 시일드를 더 포함하는데, 상기 제1시일드의 플랜지부가 상기 챔버내의 스페이서 링이 1측에 배치되고, 상기 제2시일드의 플랜지부는 상기 클램핑 어셈블리의 일부로서 상기 스페이서 링의 제2측에 배치되는 것을 특징으로 하는 기판 처리챔버에 시일드를 부착하는 장치.
  15. 제8항에 있어서, 상기 기판 처리 위치에 인접한 상기 하나 이상의 벽에 대하여 내부 라이너로서 작용하도록 배치된 제2처리 챔버 시일드를 추가로 포함하며, 상기 제2시일드의 일부는 사용시 배리어로서 작용하여, 기판 처리 위치로부터 방출되는 입자가 처리 챔버벽의 적어도 일부에 도달하는 것을 방지하며, 상기 제2처리 챔버 시일드는 플랜지 부분을 포함하며; 상기 제1시일드 및 제2시일드의 상기 플랜지 부분은 서로 인접하게 배치되며 그리고 상기 시일드 클램핑 어셈블리의 일부로서 상기 챔버내의 상기 스페이서 링의 제1면위에 배치되며; 상기 제2시일드는 상기 제1라이너 부분에 대한 내측 라이너로서 작용하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 챔버에 시일드를 부착시키는 장치.
  16. 제8항에 있어서, 상기 스페이서 링은 상기 처리 챔버의 상기 하나 이상의 벽과 전기적으로 접촉하는 상기 제1시일드의 플랜지 부분의 클램핑을 용이하게 하도록 탄성적으로 압축가능한 플로팅 스페이서 유니트로서 작용하는 것을 특징으로 하는 기판 처리챔버에 시일드를 부착시키는 장치.
  17. 제8항에 있어서, 상기 제1시일드는 처리될 기판을 지지하는 페데스탈의 에지 및 처리 챔버의 하나 이상의 벽사이의 갭의 양끝을 연결하는 것을 특징으로 하는 기판 처리챔버에 시일드를 부착시키는 장치.
  18. 기판 처리 챔버에 시일드 어셈블리를 부착시키는 방법에 있어서, 처리 위치중 기판 처리 위치를 감싸는 처리 챔버 벽 어셈블리를 제공하는 단계; 처리 챔버 벽의 플랜지 샌드위치에 오버스프레이 시일드의 플랜지를 배치하는 단계; 및 기판 처리 위치의 반대쪽에 챔버 개구부 커버 부재를 배치하여 벽 어셈블리 및 챔버 개구부 커버 부재사이에 가스 밀봉을 형성하는 단계를 포함하며, 가스 밀봉이 형성되고 처리 챔버가 적어도 부분적으로 진공화될 때 상기 벽 어셈블리 및 챔버 개구부 커버 부재사이의 플랜지 샌드위치가 압축되도록 상기 챔버 개구부 커버 부재는 챔버 개구부 커버 부재하부의 플랜지 샌드위치의 일부분과 접하는 표면을 포함하며, 상기 시일드는 사용시 처리 챔버내부에 배치된 제거가능한 패스너 세트의 제거 및 교환없이 시일드의 제거 및 교환이 이루어질 수 있는 구조인 것을 특징으로 하는 기판 처리 챔버에 시일드 어셈블리를 부착시키는 방법.
  19. 기판 처리 챔버에 시일드 부착시키는 방법에 있어서, 처리 위치중 기판 처리 위치를 감싸는 처리 챔버벽 어셈블리를 제공하는 단계; 처리 챔버 벽에 인접한 스페이서 위치에서 스페이서 링을 가진 스페이서 샌드위치에 오버스프레이 시일드의 플랜지를 배치하는 단계를 포함하는데, 상기 스페이서 링은 인접 부재에 의하여 압축될 때 상기 스페이서 링에 대하여 상기 인접 부재를 압박하는 탄성 부재를 가지며; 및 기판 처리 위치의 반대쪽에 챔버 개구부 커버 부재를 배치하여 벽 어셈블리 및 챔버 개구부 커버 부재사이에 가스 밀봉을 형성하는 단계를 포함하며, 가스 밀봉이 형성되고 처리 챔버가 적어도 부분적으로 진공화될 때 상기 벽 어셈블리 및 챔버 개구부 커버 부재사이에서 스페이서 샌드위치가 압축되도록 상기 챔버 개구부 커버 부재는 스페이서 위치와 접하는 표면을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 챔버에 시일드를 부착시키는 방법.
  20. 기판 처리 챔버에 시일드를 부착시키는 방법에 있어서, 기판 처리 위치주위에 벽을 가진 기판 처리 챔버를 포함하는데, 상기 벽의 상부 에지는 챔버 개구부를 형성하며; 상기 개구부의 양끝을 연결하며 상기 챔버 벽의 상기 상부 에지에 밀봉되도록 구성된 챔버 개구부 커버 부재; 및 기판 처리 위치로부터 방출되는 처리 요소가 벽에 도달하는 것을 방지하는 적어도 부분적인 배리어로서 작용하도록 구성된 시일드를 포함하며, 상기 시일드는 상기 챔버 벽의 일부분 및 챔버 개구부 커버 부재의 일부분 사이에 안전하게 유지되고 클램핑되고 챔버 밀봉 경로의 일부를 형성하는 내부 플랜지 부분을 포함하며, 플랜지 부분을 유지하고 클램핑하기 위한 클램핑힘의 적어도 일부는 커버 부재를 상기 챔버벽의 상부 에지쪽으로 압박되도록 하는 기판 처리 챔버의 진공화에 의하여 형성되며; 상기 시일드는 사용시 처리 챔버내부에 제거가능한 패스너 세트의 제거 및 교환없이 시일드의 제거 및 교환이 이루어질 수 있는 구조인 것을 특징으로 하는 기판 처리 챔버에 시일드를 부착시키는 장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019960020703A 1995-06-05 1996-06-05 진공 처리 챔버용 무 나사식 실드 조립체 KR970003430A (ko)

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