KR960700103A - 액도포 방법 및 도포장치(method of and appartus for application of liquid) - Google Patents
액도포 방법 및 도포장치(method of and appartus for application of liquid)Info
- Publication number
- KR960700103A KR960700103A KR1019950700294A KR19950700294A KR960700103A KR 960700103 A KR960700103 A KR 960700103A KR 1019950700294 A KR1019950700294 A KR 1019950700294A KR 19950700294 A KR19950700294 A KR 19950700294A KR 960700103 A KR960700103 A KR 960700103A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- liquid
- coating
- substrate
- application
- coating liquid
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
- B05C5/02—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
- B05C5/0254—Coating heads with slot-shaped outlet
- B05C5/0266—Coating heads with slot-shaped outlet adjustable in length, e.g. for coating webs of different width
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C9/00—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important
- B05C9/02—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important for applying liquid or other fluent material to surfaces by single means not covered by groups B05C1/00 - B05C7/00, whether or not also using other means
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
- B05D1/26—Processes for applying liquids or other fluent materials performed by applying the liquid or other fluent material from an outlet device in contact with, or almost in contact with, the surface
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S118/00—Coating apparatus
- Y10S118/12—Pipe and tube immersion
Abstract
본 발명은 LCD 컬러 필터용 대형 유리 기판에 감광성 수지의 도포막을 형성하는 장치 및 방법에 관한 것이다. 기판(S)은 그 도포되는 주표면을 하향으로 하여 가동 홀더(8)에 흡착 유지된다. 가동 홀더(8)는 수평에 대해 경사각(θ)을 이루는 안내레일(7)에 따라 이동 가능하게 되어 있다. 기판(S)이 홀더(8)에 의해 유지되어 이동하는 영역이 아래 방향중에, 상방으로 향해 도포액을 이송시키는 직선상 슬릿(13)을 가지는 도포헤드(H)가 설치되어 있다.도포헤드(H)와 일정 틈새(I2)을 갖고 기판(S)이 기울어져 상방으로 이동될 때, 슬릿(13)과 기판(S)이 기울어져 상방으로 이동될 때, 슬릿(13)과 기판(S)의 하향 주표면과의 사이중에 표면 장력에 의해 도포액 비이드(B)가 형성된다. 도포액 비이(B)는 기판의 주표면을 따라 점차 기울어져 아래 방향으로 이동되어 도포(Ra)을 형성한다. 도포액 비이드(B)의 기판(S)의 높은 측에 면한 메니스커스(L1)보다 큰 높이 치수(h2)를 가지며, 기판(S)의 높은 측의 메니스커스(L1)보다 큰 높이 치수(h2)를 가지며, 기판(S)의 높은 측의 메니스커스의 높이 치수는 액 도포막의 두께보다 충분히 크게 된다. 이것에 의해, 기판면의 요철이 도포액 비이드(B)에 미치는 인장력의 차에 의한 전단력의 발생을 완화하여, 도포액이 높은 이용 효율로 기판 주표면의 요철에 영향을 받지 않는 균일한 도포막이 안정적으로 형성된다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명에 따른 액 도포 장치의 배치를 나타낸 평면도,
제2도는 제1도의 액도포 장치의 액 도포 유닛을 나타낸 정면도,
제3A도는 제2도의 일부를 나타낸 원리적 설명도,
제3B도는 제3A도의 일부를 확대해서 나타낸 설명도,
제4도는 액도포시의 현상 설명도,
제5도는 액도포 개시시의 상태를 나타낸 도면,
제6도는 액도포시의 상태를 나타낸 도면,
제7도는 액도포 완료시의 상태를 나타낸 도면
제8도는 도포 헤드 일례를 나타낸 사시도.
Claims (26)
- 수평방향으로 직선상의 도포액 공급수단을 갖는 도포헤드의 상기 도포액 공급 수단으로 부터 도포액을 공급하는 단계; 도포액 공급수단에 인접하여 배치된 기판과의 사이에 선상 또는 띠모양으로 도포액 비이드를 형성시키는 단계; 상기 도포액 비이드를 횡단하는 방향중에 상방을 향해서 기판을 도포액 비이드에 대해 상대적으로 이동시키는 단계; 그리고 상기 도포액 공급 수단으로 부터 도포액을 공급하여 형성된 도포액 비이드를 기판의 상기 상대적 이동에 따라 기판의 도포 주표면에 점차로 접촉시켜 도포 주표면에 도포막을 형성하는 단계들로 이루어진 액 도포 방법에 있어서,도포액 공급 수단을 상향으로 설치하고; 도포 개시전에 실질적으로 평판상의 매엽기판을 경사진 상태로 두고, 그 가장 높은 끝 가장자리 부근의 아래면에 인접하여 상기 도포액 공급 수단이 위치되도록 기판과 도포헤드의 상대 위치를 결정하며; 도포액 공급 수단과 기판 하면과의 사이에 있어서의, 기판의 높은 측에 면한 도포액 비이드의 메니스커스가 기판의 바닥측에 면한 메니스커스 보다 큰 높이 치수를 갖도록 하고; 다음으로, 도포액 비이드가 상기 치수 관계를 유지한 상태에서 판의 바닥 끝 가장자리 근처로 이동하도록 기판과 도포 헤드를 상대적으로 이동시키는 것을 특징으로 하는 액 도포 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 경사진 매엽 기판이 수평에 대해 이루는 경사각을 0°내지 90°의 값으로 함을 특징으로 하는 액 도포 방법.
- 제2항에 있어서, 상기 경사각을 5°내지 20°로 함을 특징으로 하는 액 도포 방법.
- 제2항에 있어서, 상기 경사각을 11°로 함을 특징으로 하는 액 도포 방법.
- 제1항에 있어서, 도포액이 도포막의 형성을 위해 소비된 시간 당 소비량에 동일하게 시간 당 공급량으로 도포헤드에 공급액을 공급함을 특징으로 하는 액 도포 방법.
- 제1항에 있어서, 도포액 비이드로 형성된 메니스커스 중에서 경사진 기판의 높은 측에 면한 메니스커스의 높이치수 즉, 기판과 도포헤드의 간극이, 형성된 액 도포막이 두께보다 충분히 크게 되도록 함을 특징으로 하는 액 도포 방법.
- 제6항에 있어서, 상기 간극이, 형성된 액 도포막 두께의 10배 이상인 것을 특징으로 하는 액 도포 방법.
- 제6항에 있어서, 상기 간극이, 형성된 액 도포막 두께의 20배 이상인 것을 특징으로 하는 액 도포 방법.
- 제6항에 있어서, 상기 간극이 형성된 액 도포막 두께의 10배 내에 100배인 것을 특징으로 하는 액 도포 방법.
- 제6항에 있어서, 상기 간극이, 형성된 액 도포막의 두께의 20배 내지 100배인 것을 특징으로 하는 액 도포 방법.
- 제1항에 있어서, 도포액 비이드가 기판의 바닥 끝 가장자리 근처의 도포 종료 위치에 도달된 후에, 도포액 비이드를 제거함을 특징으로 하는 도포 방법.
- 제11항에 있어서, 도포액 비이드의 제거는 흡인에 의해 수행됨을 특징으로 하는 액 도포 방법.
- 제11항에 있어서, 도포액 비이드의 제거는 추출에 의해 수행됨을 특징으로 하는 액 도포 방법.
- 수평방향으로 직선상의 도포액 공급수단을 갖는 도포헤드; 상기 도포액을 이송시키는 수단; 및 상기 도포헤드와 기판의 도포 주표면과의 사이에 선상 또는 띠모양의 도포액 비이드가 형성되도록 도포헤드와 기초재를 위치시켜, 둘다를 상대적으로 이송시키는 수단을 갖는 액 도포 장치로서, 상기 도포액 공급수단을 상방으로 도포액을 공급하는 수단; 실질적으로 평판상의 매엽기판을 경사 상태로 하면서 경사 각도 조절 가능하게 또한 기판 하측의 도포주표면이 아래 방향으로 노출되도록 지지하는 기판 지지수단; 및 상기 도포액 비이드의 기판이 높은 측에 면한 메니스커스가 기판의 바닥측에 면한 메니스커스 보다 큰 높이치수를 갖도록 상태를 유지하면서 상기 기판이 높은 끝 가장자리 근처 부분으로 부터 낮은 끝 가장자리 근처 부분으로 기판이 상기 도포헤드의 도포액 공급수단을 횡단하여 상대 이동되도록, 기판과 도포헤드를 상대적으로 이동시키는 이동수단을 갖추는 것을 특징으로 하는 액 도포 장치.
- 제14항에 있어서, 상기 도포헤드가 고정되어, 상기 기판 지지 수단이 상기 이동 수단에 의해 도포 헤드에 대해서 이동되는 것을 특징으로 하는 액 도포 장치.
- 제15항에 있어서, 상기 기판 지지 수단이 흡인식 기판 홀더인 것을 특징으로 하는 액 도포 장치.
- 제16항에 있어서, 상기 홀더가 경사 조절 가능한 직선상 안내 레일에 안내되어 이동 자유롭게 되어 있는 것을 특징으로 하는 액 도포 장치.
- 제17항에 있어서, 상기 홀더가 고정 추축 주위로 반회전 가능하게 되어 있는 것을 특징으로 하는 액 도포 장치.
- 제14항에 있어서, 상기 도포헤드가 경사 조절 가능한 직선상 안내레일에 안내되어 이동 자유롭게 되어, 상기 기판 지지 수단이 고정 추축 주위로 회전 운동 자유롭게 되어 있는 것을 특징으로 하는 액 도포 장치.
- 제14항에 있어서 상기 도포액 공급 수단의 길이가 조절 자유롭게 되어 있는 것을 특징으로 하는 액 도포 장치.
- 제14항에 있어서, 상기 도포액 공급 수단의 단면 형상이 상방으로 향하여 확대되어 있는 것을 특징으로 하는 액 도포 장치.
- 제14항에 있어서, 도포액 비이드가 기판의 바닥 끝 가장자리 근처 도포 종료 위치로 도달된 후에 도포액 비이드를 제거하는 수단을 갖추는 것을 특징으로 하는 액 도포 장치.
- 제22항에 있어서, 액 도포 비이드를 제거하는 수단이 도포헤드에 반대방향 흡인력을 작용하는 수단으로부터 되는 것을 특징으로 하는 액 도포 장치.
- 제22항에 있어서, 도포액 비이드를 제거하는 수단이 도포액 비이드를 추출하는 수단으로 부터 되는 것을 특징으로 하는 액 도포 장치.
- 제14항에 있어서, 상기 도포액 공급 수단이 직선상 슬릿인 것을 특징으로 하는 액 도포 장치.
- 제14항에 있어서, 도포헤드로 도포액을 이송하는 수단이 도포액을 저장하는 도포액 탱크, 도포액 탱크와 도포헤드를 접속하는 관, 및 도포액 탱크를 도포헤드에 대해 상승시키는 수단으로 부터 되는 것을 특징으로 하는 액 도포 장치.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1993-146757 | 1993-05-27 | ||
JP14675793 | 1993-05-27 | ||
PCT/JP1994/000845 WO1994027737A1 (fr) | 1993-05-27 | 1994-05-27 | Procede et appareil pour l'application d'un liquide |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR960700103A true KR960700103A (ko) | 1996-01-19 |
KR0128813B1 KR0128813B1 (ko) | 1998-04-04 |
Family
ID=15414890
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019950700294A KR0128813B1 (ko) | 1993-05-27 | 1994-05-27 | 액도포 방법 및 도포장치 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5965209A (ko) |
EP (1) | EP0654306B1 (ko) |
JP (1) | JP2798503B2 (ko) |
KR (1) | KR0128813B1 (ko) |
DE (1) | DE69427954T2 (ko) |
TW (1) | TW284711B (ko) |
WO (1) | WO1994027737A1 (ko) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100857635B1 (ko) * | 2005-12-28 | 2008-09-08 | 다이니폰 스크린 세이조우 가부시키가이샤 | 기판 처리 장치 |
Families Citing this family (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3492771B2 (ja) | 1994-07-15 | 2004-02-03 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板への塗布液塗布装置 |
ES2189333T3 (es) * | 1994-12-22 | 2003-07-01 | Steag Hamatech Ag | Dispositivo para el laqueado o recubrimiento de un substrato. |
DE4445985A1 (de) * | 1994-12-22 | 1996-06-27 | Steag Micro Tech Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Belackung oder Beschichtung eines Substrats |
WO1996020045A1 (fr) * | 1994-12-28 | 1996-07-04 | Toray Industries, Inc. | Procede de depot d'une revetement et appareil associe |
JP4203130B2 (ja) * | 1996-06-27 | 2008-12-24 | 大日本印刷株式会社 | 塗布方法 |
KR100664423B1 (ko) * | 1999-09-27 | 2007-01-03 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정표시장치의 배향막 형성방법 |
US6528117B2 (en) * | 2001-01-19 | 2003-03-04 | Paul Lewis | Method for coating a substance on one side of a substrate using a single miniscus |
JP4682428B2 (ja) * | 2001-01-30 | 2011-05-11 | Nokクリューバー株式会社 | 円柱状基材の表面に被膜を成膜する方法、および、被覆層成形機 |
US20020171904A1 (en) * | 2001-05-21 | 2002-11-21 | Haertling Gene H. | Method of forming an optical layer on a substrate |
JP2003053249A (ja) * | 2001-08-22 | 2003-02-25 | Dainippon Printing Co Ltd | 枚葉式塗工装置 |
US7514149B2 (en) * | 2003-04-04 | 2009-04-07 | Corning Incorporated | High-strength laminated sheet for optical applications |
US20050074552A1 (en) * | 2003-10-07 | 2005-04-07 | Howard Ge | Photoresist coating process for microlithography |
DE10361075A1 (de) * | 2003-12-22 | 2005-07-28 | Pac Tech - Packaging Technologies Gmbh | Verfahren und Vorichtung zur Trocknung von Schaltungssubstraten |
DE102004044576B4 (de) * | 2004-09-13 | 2007-09-27 | Schott Ag | Verfahren und Vorrichtung zur Flüssigbeschichtung und deren Verwendung |
JP5321770B2 (ja) * | 2005-03-25 | 2013-10-23 | 大日本印刷株式会社 | 塗工装置 |
JP5002949B2 (ja) * | 2005-11-22 | 2012-08-15 | 旭硝子株式会社 | 塗布膜付きガラス板及びその製造方法 |
JP5540539B2 (ja) * | 2009-03-25 | 2014-07-02 | Tdk株式会社 | 液塗布装置及び塗布方法 |
FR2977810A1 (fr) * | 2011-07-13 | 2013-01-18 | Commissariat Energie Atomique | Installation et procede pour le depot d'un film de particules ordonnees, de largeur reglable, sur un substrat en defilement |
US9306094B2 (en) * | 2013-08-23 | 2016-04-05 | Natcore Technology, Inc. | System and method for black silicon etching utilizing thin fluid layers |
JP6212372B2 (ja) * | 2013-12-04 | 2017-10-11 | 旭化成株式会社 | 機能性膜の製造方法及び機能性膜 |
DE102013114718A1 (de) * | 2013-12-20 | 2015-06-25 | Leibniz-Institut Für Neue Materialien Gemeinnützige Gmbh | Vorrichtung zum Beschichten von planaren Substraten |
WO2021019435A1 (en) * | 2019-07-29 | 2021-02-04 | Xtpl S.A. | Methods of dispensing a metallic nanoparticle composition from a nozzle onto a substrate |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2046596A (en) * | 1932-01-13 | 1936-07-07 | Patent Button Co | Apparatus for uniformly coating flat surfaces |
US2598908A (en) * | 1950-02-24 | 1952-06-03 | Color Res Corp | Coating head |
US4370356A (en) * | 1981-05-20 | 1983-01-25 | Integrated Technologies, Inc. | Method of meniscus coating |
JPS59171958A (ja) * | 1983-03-18 | 1984-09-28 | Kenji Shirataki | スクリ−ン印版への乳剤の塗布方法及びその塗布装置 |
US5044542A (en) * | 1989-11-22 | 1991-09-03 | Electrovert Ltd. | Shield gas wave soldering |
JP2609174B2 (ja) * | 1990-10-08 | 1997-05-14 | 富士写真フイルム株式会社 | 塗布方法 |
EP0505894A1 (en) * | 1991-03-26 | 1992-09-30 | Shipley Company Inc. | Coating processes and apparatus |
JPH067727A (ja) * | 1992-05-19 | 1994-01-18 | Asahi Chem Res Lab Ltd | フラックス塗布装置 |
US5455062A (en) * | 1992-05-28 | 1995-10-03 | Steag Microtech Gmbh Sternenfels | Capillary device for lacquering or coating plates or disks |
US5270079A (en) * | 1992-12-18 | 1993-12-14 | Specialty Coatings Systems, Inc. | Methods of meniscus coating |
-
1994
- 1994-05-27 EP EP94916404A patent/EP0654306B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-05-27 WO PCT/JP1994/000845 patent/WO1994027737A1/ja active IP Right Grant
- 1994-05-27 DE DE69427954T patent/DE69427954T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1994-05-27 JP JP6524109A patent/JP2798503B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1994-05-27 KR KR1019950700294A patent/KR0128813B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1994-05-31 TW TW083104973A patent/TW284711B/zh not_active IP Right Cessation
-
1997
- 1997-07-15 US US08/893,095 patent/US5965209A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100857635B1 (ko) * | 2005-12-28 | 2008-09-08 | 다이니폰 스크린 세이조우 가부시키가이샤 | 기판 처리 장치 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE69427954D1 (de) | 2001-09-20 |
KR0128813B1 (ko) | 1998-04-04 |
WO1994027737A1 (fr) | 1994-12-08 |
DE69427954T2 (de) | 2002-04-04 |
EP0654306A1 (en) | 1995-05-24 |
TW284711B (ko) | 1996-09-01 |
JP2798503B2 (ja) | 1998-09-17 |
US5965209A (en) | 1999-10-12 |
EP0654306A4 (en) | 1996-11-13 |
EP0654306B1 (en) | 2001-08-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR960700103A (ko) | 액도포 방법 및 도포장치(method of and appartus for application of liquid) | |
CN100437904C (zh) | 带有抗蚀膜的基板的制造方法 | |
JP2005062819A5 (ko) | ||
DE69820905D1 (de) | Vorrichtung zum aufbringen eines materials auf einem substrat | |
JP3890002B2 (ja) | スプリングの張力調整により液晶滴下量の制御が可能な液晶滴下装置 | |
KR0153355B1 (ko) | 플레이트 또는 디스크를 래커링 또는 코팅하기 위한 장치 | |
JP2007298680A (ja) | ラビング装置およびラビング方法 | |
JP2001062370A (ja) | 塗工方法及び塗工装置 | |
CN101850539A (zh) | 用于玻璃抛光系统的下部件和使用该下部件的玻璃抛光方法 | |
JPH08173875A (ja) | 塗布装置および塗布方法 | |
JP5086708B2 (ja) | マスクブランクの製造方法及び塗布装置 | |
TWI276474B (en) | Manufacturing method for substrates with resist films | |
CN100423852C (zh) | 涂布装置以及光掩模件的制造方法 | |
TW202133948A (zh) | 塗布裝置 | |
JP3720906B2 (ja) | 基板保持部材および塗布装置 | |
WO2015192392A1 (zh) | 湿刻蚀设备及方法 | |
JPH08141467A (ja) | 基板への液塗布方法および装置 | |
JP2004130318A (ja) | フラックス塗布装置およびその方法 | |
JPH0753257B2 (ja) | 平板コーター | |
JP2003124106A (ja) | レジストノズルの乾燥防止方法、乾燥防止ポット及びその位置決め方法並びに位置決め用治具 | |
JP3383093B2 (ja) | 基板への塗布液塗布装置 | |
JP5377881B2 (ja) | フォトマスクブランクの製造方法及びフォトマスクの製造方法 | |
KR200400139Y1 (ko) | 배향막 형성을 위한 전사판 | |
KR101600606B1 (ko) | 유리판용 백패드 부착 장치 | |
JPH03123656A (ja) | 塗布装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20111013 Year of fee payment: 15 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20121026 Year of fee payment: 16 |
|
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |