KR960037184A - 고밀도 ito 소결체 및 그 제조방법과 스퍼터링 타깃 - Google Patents
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Abstract
ITO 소결체는 노듈의 형성이나 입자의 발생을 방지할 수 있도록 준비된다.
ITO 소결체는 인듐, 주석 및 산소로 이루어지며, 평균길이 0.7㎛이하인 보이드크기를 갖는다. 이 ITO 소결체는 산화인듐분말과 산화주석분말과의 혼합분말로부터 형성된 성형체를 실질적으로 산소분위기에서 소결함으로써 제조되며, 이때 혼합분말이 5~15%의 함량범위로 산화주석분말을 함유하며, 산화주석분말은 그 90%이상을 차지하는 입자의 입자크기가 1㎛이하이며, 산화인듐분말과 산화주석분말과의 혼합분말로부터 형성된 성형체를 실질적으로 산소분위기에서 소결함으로써 제조되며, 이때 혼합분말은 1.8g/㎤ 이상의 탭밀도를 가지며, 산화주석분말은 최대입자크기가 1㎛ 이하이며, 메디안직경이 0.4㎛ 이하이다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (18)
- 실질적으로 인듐, 주석 및 산소로 이루어진 ITO 소결체이며, 그 표면사의 단위면적 중에서 직경법으로 구할 때 평균길이 0.7㎛이하인 보이드 크기를 갖는 것을 특징으로 하는 ITO 소결체.
- 제1항에 있어서, ITO 소결체는 7.08g/㎤ 이상의 소결밀도를 갖는 것을 특징으로 하는 ITO 소결체.
- 제1항에 있어서, 보이드크기의 최대길이는 직경법으로 구할 때 5.0㎛ 이하인 것을 특징으로 하는 ITO 소결체.
- 제2항에 있어서, 보이드크기의 최대길이는 직경법으로 구할 때 5.0㎛ 이하인 것을 특징으로 하는 ITO 소결체.
- 제1항의 소결체로 이루어지는 것을 특징으로 하는 스퍼터링타깃.
- 제2항의 소결체로 이루어지는 것을 특징으로 하는 스퍼터링타깃.
- 제3항의 소결체로 이루어지는 것을 특징으로 하는 스퍼터링타깃.
- 제4항의 소결체로 이루어지는 것을 특징으로 하는 스퍼터링타깃.
- 산화인듐분말과 산화주석분말의 혼합분말로부터 형성된 성형체를 산소분위기에서 소결시키는 공정을 포함하여 이루어지며, 여기서 혼합분말이 5~15%의 함량범위로 산화주석분말을 함유하며, 산화주석분말은 그 90%이상을 차지하는 입자가 1㎛이하의 입자크기를 갖는 것을 특징으로 하는 산화인듐-산화주석(ITO) 소결체의 제조방법.
- 제9항에 있어서, 산화주석분말의 90%이상의 입자가 1㎛ 이하의 크기를 가지며, 산화주석분말의 80%이상의 입자가 0.5㎛ 이하의 크기를 갖는 것을 특징으로 하는 ITO 소결체의 제조방법.
- 제9항에 있어서, 산화인듐분말의 90%이상의 입자가 1㎛이하의 크기를 갖는 것을 특징으로 하는 ITO 소결체의 제조방법.
- 제10항에 있어서, 산화인듐분말의 90%이상의 입자가 1㎛이하의 크기를 갖는 것을 특징으로 하는 ITO 소결체의 제조방법.
- 제9항의 방법에 의해 제조된 소결체로 이루어지는 것을 특징으로 하는 ITO 스퍼터링타깃.
- 제10항의 방법에 의해 제조된 소결체로 이루어지는 것을 특징으로 하는 ITO 스퍼터링타깃.
- 제11항의 방법에 의해 제조된 소결체로 이루어지는 것을 특징으로 하는 ITO 스퍼터링타깃.
- 제12항의 방법에 의해 제조된 소결체로 이루어지는 것을 특징으로 하는 ITO 스퍼터링타깃.
- 산화인듐분말과 산화주석분말과의 혼합분말로부터 형성된 성형체를 산소분위기에서 소결시키는 공정을 포함하여 이루어지는 것이며, 여기서 혼합분말 1.8g/㎤ 이상의 탭밀도를 가지며, 산화주석분말은 최대입자크기가 1㎛ 이하이며, 메디안직경(누적입경분포의 50%에 상당하는 입경)이 0.4㎛ 이하인 입자로 이루어지는 것을 특징으로 하는 산화인듐-산화주석(ITO)소결체의 제조방법.
- ITO 소결체는 산화인듐분말과 산화주석분말과의 혼합분말로부터 형성된 성형체를 산소분위기에서 소결함으로써 제조되며, 여기서 혼합분말 1.8g/㎤ 이상의 탭밀도를 가지며, 산화주석분말은 최대입자크기가 1㎛ 이하이며, 메디안직경(누적입경분포의 50%에 상당하는 입경)이 0.4㎛ 이하인 입자로 이루어지는 것을 특징으로 하는 ITO 소결체로부터의 ITO 스퍼터링타긱의 제조방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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