KR960026795A - 반도체소자의 캐패시터 제조방법 - Google Patents
반도체소자의 캐패시터 제조방법 Download PDFInfo
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Abstract
본 발명은 반도체소자의 캐패시터 제조방법에 관한 것으로, 반도체소자가 고집적화됨에 따라 좁은 면적에서 더욱 많은 정전용량을 필요로하여 저장전극의 표면적으로 증가시킴으로써 캐패시터의 정전용량을 극대화하는데 있어서, 반도체기판 상부에 도전층을 콘택하고 그 상부에 상기 다른 절연막으로 형성한 다음, 마스크를 이용한 식각공정으로 상기 도전층의 하부에 형성된 절연막이 노출되는 홀을 형성한 다음, 전체표면상부에 다른 도전층을 형성하고 저장전극마스크를 이용한 식각공정과 상기 절연막 제거공정으로 표면적이 증가된 저장전극을 형성하고 후공정에서 유전체막과 플레이트 전극을 형성함으로써 반도체소자의 고집적화에 충분한 정전용량을 확보할 수 있는 캐패시터를 형성하는 반도체소자의 고집적화를 가능하게 하는 기술이다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1A도 내지 제1D도는 본 발명의 실시예에 따른 반도체소자의 캐패시터 제조공정을 도시한 단면도.
Claims (5)
- 반도체기판 상부에 하부절연층을 형성하는 공정과, 상기 하부절연층 상부에 제1절연막을 형성하는 공정과, 콘택마스크를 이용한 식각공정으로 상기 절연막과 하부절연층을 식각하여 콘택홀을 형성하는 공정과, 상기 콘택홀을 통하여 상기 반도체기판에 접속되는 도전층을 형성하는 공정과, 상기 도전층 상부에 다른 절연막을 형성하는 공정과, 전체표면상부에 제1감광막패턴을 형성하는 공정과, 상기 제1감광막패턴을 마스크로하여 상기 다른 절연막부터 하부로 순차적으로 상기 절연막이 노출되도록 식각하여 홀을 형성하는 공정과, 전체 표면 상부에 제2감광패턴을 형성하는 공정과, 상기 다른 도전층 상부에 제2감광막패턴을 형성하는 공정과, 상기 제2감광막패턴을 마스크로하여 상기 절연막이 노출시키는 식각 공정과, 상기 절연막과 다른 절연막을 제거하는 공정을 포함하는 반도체소자의 캐패시터 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 도전층과 다른 도전층은 다결정실리콘막으로 형성된 것을 특징으로 하는 반도체소자의 캐패시터 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 제1감광막패턴은 상기 콘택마스크보다 크게 형성되는 것을 특징으로 하는 반도체소자의 캐패시터 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 제2감광막패턴은 저장전극마스크를 이용하여 형성된 것을 특징으로 하는 반도체소자의 캐패시터 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 절연막과 다른 절연막은 도전층 및 다른 도전층과의 식각선택비차이를 이용한 습식방법으로 제거된 것을 특징으로 하는 반도체소자의 캐패시터 제조방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019940032802A KR960026795A (ko) | 1994-12-05 | 1994-12-05 | 반도체소자의 캐패시터 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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KR1019940032802A KR960026795A (ko) | 1994-12-05 | 1994-12-05 | 반도체소자의 캐패시터 제조방법 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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KR960026795A true KR960026795A (ko) | 1996-07-22 |
Family
ID=66649106
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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KR1019940032802A KR960026795A (ko) | 1994-12-05 | 1994-12-05 | 반도체소자의 캐패시터 제조방법 |
Country Status (1)
Country | Link |
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KR (1) | KR960026795A (ko) |
-
1994
- 1994-12-05 KR KR1019940032802A patent/KR960026795A/ko not_active Application Discontinuation
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