KR960019582A - 도포 방법 - Google Patents
도포 방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR960019582A KR960019582A KR1019950044119A KR19950044119A KR960019582A KR 960019582 A KR960019582 A KR 960019582A KR 1019950044119 A KR1019950044119 A KR 1019950044119A KR 19950044119 A KR19950044119 A KR 19950044119A KR 960019582 A KR960019582 A KR 960019582A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- coating liquid
- substrate
- coating
- slit nozzle
- disc
- Prior art date
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/6715—Apparatus for applying a liquid, a resin, an ink or the like
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
Description
Claims (9)
- 직사각형상 기판의 위쪽에 슬릿노즐을 향하게 하고, 이 슬릿노즐로 부터 도포액을 분출하면서 직사각형상 기판과 평행으로 슬릿노즐을 상대적으로 이동시켜 직사각형상 기판표면의 대략 전역에 도포액을 도포한 후, 직사각형상 기판을 회전시켜 직사각형상 기판 표면에 도포된 도포액을 균일하게 확산시키도록 한 도포방법에 있어서, 상기 슬릿노즐로 부터 도포액을 직사각형상 기판표면을 행해 분출할 때, 도포액의 표면장력을 억제하면서 행하도록 한 것을 특징으로 하는 도포방법.
- 원판형상 기판에 슬릿노즐을 이용하여 도포액을 균일하게 확산시키도록 한 도포방법에 있어서, 이 도포방법은 원판형상 기판 위쪽에 슬릿노즐을 향하게 하고, 이 슬릿노즐로 부터 도포액을 분출하면서 원판형상 기판을 저속으로 회전시켜 도포액을 원판형상 기판표면의 대략 전역에 도포액을 도포한 후, 원판형상 기판을 회전시켜 원판형상 기판표면에 도포된 도포액을 균일하게 확산시키는 동시에 상기 슬릿노즐로 부터 도포액을 원판형상 기판표면을 향해 분출할 때, 도포액의 표면장력을 억제하면서 행하도록 한 것을 특징으로 하는 도포방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 슬릿노즐 하단과 기판표면의 잔격을 작게 하는 동시에, 도포액에 압력을 가함으로써 도포액의 표면장력을 억제하도록 한 것을 특징으로 하는 도포방법.
- 제3항에 있어서, 도포액의 점도는 10cP 이하, 도포액에 가하는 압력은 0.5㎏/㎠ 이상 10㎏/㎠ 이하, 슬릿노즐 하단과 기판표면의 간격은 10㎜ 이하로 한 것을 특징으로 하는 도포방법.
- 컵내에 직사각형상 기판 또는 원판형상 기판을 셋트하고, 이 직사각형상 기판 또는 원판형상 기판 표면의 대락 전역에 도포액을 굵게 도포한 후, 상기 컵을 회전시켜 원심력으로 상기 기판표면에 도포된 도포액을 균일하게 확산시키도록 한 것을 특징으로 하는 도포방법.
- 직사각형상 기판 또는 원판형상 기판 표면의 대락 전역에 도포액을 굵게 도포하고, 이후 곧 직사각형상 기판 또는 원판형상 기판을 컵내에 셋트하고, 이어서 컵을 회전시켜 원심력으로 상기 기판표면에 도포된 도포액을 균일하게 확산시키도록 한 것을 특징으로 하는 도포방법.
- 제5항 또는 제6항에 있어서, 상기 직사각형상 기판 또는 원판형상 기판 표면의 대략 전역에 도포액을 굵게 도포하는 수단은, 도포액의 표면장력을 억제하면서 행하는 것을 특징으로 하는 도포방법.
- 제5항 또는 제6항에 있어서, 상기 작사각형상 기판 또는 원판형상 기판 표면의 대략 전역에 도포액을 굵게 도포하는 수단은, 슬릿 또는 노즐로 부터의 분출법, 롤 코터법, 바 코터법 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 도포방법.
- 제5항 또는 제6항에 있어서, 컵을 회전시키기 전에 미리 컵 상면의 개구를 덮개체로 폐색하여 행하도록 한 것을 특징으로 하는 도포방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29514394 | 1994-11-29 | ||
JP94-295143 | 1994-11-29 | ||
JP7038350A JPH08213308A (ja) | 1994-11-29 | 1995-02-27 | 塗布方法 |
JP95-38350 | 1995-02-27 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR960019582A true KR960019582A (ko) | 1996-06-17 |
KR100277823B1 KR100277823B1 (ko) | 2001-01-15 |
Family
ID=26377585
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019950044119A KR100277823B1 (ko) | 1994-11-29 | 1995-11-28 | 도포방법 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US6436472B1 (ko) |
JP (1) | JPH08213308A (ko) |
KR (1) | KR100277823B1 (ko) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114200777A (zh) * | 2021-12-21 | 2022-03-18 | 中国科学院光电技术研究所 | 一种方形基片夹持装置 |
Families Citing this family (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08213308A (ja) * | 1994-11-29 | 1996-08-20 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 塗布方法 |
KR100521701B1 (ko) * | 1996-11-27 | 2006-01-12 | 동경 엘렉트론 주식회사 | 도포막형성장치및도포막형성방법 |
WO1999034932A1 (en) * | 1998-01-09 | 1999-07-15 | Fastar, Ltd. | Moving head, coating apparatus and method |
US6416583B1 (en) * | 1998-06-19 | 2002-07-09 | Tokyo Electron Limited | Film forming apparatus and film forming method |
JP2000167476A (ja) * | 1998-12-10 | 2000-06-20 | Toppan Printing Co Ltd | 着色被膜の形成方法 |
KR100664423B1 (ko) * | 1999-09-27 | 2007-01-03 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정표시장치의 배향막 형성방법 |
JP2001312214A (ja) * | 2000-04-27 | 2001-11-09 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置の製造方法、シール材圧着硬化装置、電気光学装置及び電子機器 |
US7037374B2 (en) * | 2002-01-24 | 2006-05-02 | Nordson Corporation | Pneumatic pump switching apparatus |
US8210120B2 (en) * | 2003-01-10 | 2012-07-03 | Microsemi Corporation | Systems and methods for building tamper resistant coatings |
JP2004295090A (ja) * | 2003-03-11 | 2004-10-21 | Seiko Instruments Inc | カラー液晶表示装置とその製造方法、およびカラーフィルタ基板の製造方法 |
US7964042B2 (en) * | 2007-07-30 | 2011-06-21 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Substrate processing apparatus and substrate processing method |
JP5276420B2 (ja) * | 2008-01-31 | 2013-08-28 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置および基板処理方法 |
JP5384972B2 (ja) * | 2009-03-02 | 2014-01-08 | 株式会社ディスコ | ウエーハの処理方法およびウエーハの処理装置 |
KR102231206B1 (ko) * | 2014-07-18 | 2021-03-23 | 삼성디스플레이 주식회사 | 슬롯 다이 코터 및 이를 이용한 코팅 방법 |
CN110361935B (zh) * | 2018-04-10 | 2023-10-20 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 涂布机及涂布方法和掩膜板的形成方法 |
DE102020126216A1 (de) * | 2020-04-29 | 2021-11-04 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Verfahren und Vorrichtung zur Beschichtung eines Substrats mit Fotoresist |
US11545361B2 (en) * | 2020-04-29 | 2023-01-03 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Method and apparatus for coating photo resist over a substrate |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5349955A (en) * | 1976-10-18 | 1978-05-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | Spin coating method |
JPS63156320A (ja) | 1986-12-19 | 1988-06-29 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | レジストコ−タ− |
JPH0659663B2 (ja) * | 1988-01-09 | 1994-08-10 | 関東自動車工業株式会社 | 強化材含有反応射出成形方法 |
US5260174A (en) * | 1989-02-17 | 1993-11-09 | Dai Nippon Insatsu Kabushiki Kaisha | Method and apparatus for forming a coating of a viscous liquid on an object |
US5234499A (en) * | 1990-06-26 | 1993-08-10 | Dainippon Screen Mgf. Co., Ltd. | Spin coating apparatus |
KR100230753B1 (ko) * | 1991-01-23 | 1999-11-15 | 도꾜 일렉트론 큐슈리미티드 | 액도포 시스템 |
JPH04332116A (ja) | 1991-05-02 | 1992-11-19 | Mitsubishi Electric Corp | 回転塗布装置 |
JPH05185020A (ja) * | 1991-12-28 | 1993-07-27 | Stanley Electric Co Ltd | スピンナーによる膜形成方法 |
JP3277951B2 (ja) * | 1992-09-18 | 2002-04-22 | ソニー株式会社 | 光ディスク用保護膜の形成方法 |
JPH06151296A (ja) * | 1992-11-11 | 1994-05-31 | Yamaha Corp | 加圧塗布方法及び装置 |
JPH08213308A (ja) * | 1994-11-29 | 1996-08-20 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 塗布方法 |
-
1995
- 1995-02-27 JP JP7038350A patent/JPH08213308A/ja active Pending
- 1995-11-28 KR KR1019950044119A patent/KR100277823B1/ko not_active IP Right Cessation
-
1997
- 1997-03-27 US US08/825,256 patent/US6436472B1/en not_active Expired - Lifetime
-
2002
- 2002-07-19 US US10/199,602 patent/US6761930B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114200777A (zh) * | 2021-12-21 | 2022-03-18 | 中国科学院光电技术研究所 | 一种方形基片夹持装置 |
CN114200777B (zh) * | 2021-12-21 | 2023-06-13 | 中国科学院光电技术研究所 | 一种方形基片夹持装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US6436472B1 (en) | 2002-08-20 |
KR100277823B1 (ko) | 2001-01-15 |
US20030021906A1 (en) | 2003-01-30 |
US6761930B2 (en) | 2004-07-13 |
JPH08213308A (ja) | 1996-08-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR960019582A (ko) | 도포 방법 | |
WO2007084952A3 (en) | Systems and methods for drying a rotating substrate | |
BR9608540A (pt) | Bico aplicador processo para sua preparação e processo para aplicar um material polimerizável e/ou reticulável a um substrato e dispositivo para distribuir este material | |
JPH0568092B2 (ko) | ||
KR960040242A (ko) | 화장품 용기 겸 도포 용구 | |
EP1550554A4 (en) | DEVICE FOR PROPULSION OF LIQUID | |
TWI673116B (zh) | 塗佈方法 | |
JPS6475075A (en) | Coating method and device | |
KR960701706A (ko) | 플레이트 또는 디스크를 래커링 또는 코팅하기 위한 장치(device for lacquering or coating plates or panels) | |
JPS61150332A (ja) | 半導体レジスト塗布方法 | |
JP2888262B2 (ja) | 処理液塗布方法 | |
JPH10308338A (ja) | 塗布ノズルの洗浄装置及び洗浄方法 | |
JPS6415925A (en) | Applicator for semiconductor device | |
JP2001068402A (ja) | 基板処理装置 | |
JPH095983A (ja) | マスク保護装置のペリクル枠とその製造方法 | |
JP2629687B2 (ja) | 塗装方法および装置 | |
JPH05329418A (ja) | 粘着剤の塗布装置及び塗布方法 | |
KR970072019A (ko) | 도포장치 | |
JP2002177874A (ja) | 塗布方法 | |
JPH01253923A (ja) | 塗布膜除去装置 | |
JP2001205162A (ja) | 塗布ノズルの洗浄装置および洗浄方法 | |
JPH081065A (ja) | 表面処理装置 | |
KR19980056407U (ko) | 반도체 제조 공정라인의 포토레지스트 도포장치 | |
JPH10286508A (ja) | 塗布装置及び塗布方法 | |
KR950004004Y1 (ko) | 웨이퍼 에지 부위의 sog 제거장치 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
O035 | Opposition [patent]: request for opposition | ||
O132 | Decision on opposition [patent] | ||
J210 | Request for trial for objection to revocation decision | ||
J301 | Trial decision |
Free format text: TRIAL DECISION FOR APPEAL AGAINST DECISION OF CANCELLATION REQUESTED 20021202 Effective date: 20040831 Free format text: TRIAL NUMBER: 2002103001132; TRIAL DECISION FOR APPEAL AGAINST DECISION OF CANCELLATION REQUESTED 20021202 Effective date: 20040831 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20120924 Year of fee payment: 13 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20130924 Year of fee payment: 14 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20141001 Year of fee payment: 15 |
|
EXPY | Expiration of term |