CN114200777A - 一种方形基片夹持装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种方形基片夹持装置，用于在方形基片表面旋转涂覆流动介质。该装置包括固定基片座和辅助定位盘。所述固定基片座底部为传动件，用于该装置与电机旋转轴之间的传动连接。传动件连接带有通孔的圆形托盘，圆形托盘上有定位台阶，其外轮廓为半圆，内部有矩形凹槽，与方形基片贴合，用于基片定位。辅助定位盘形状与定位台阶形状互为镜像，底部具有凸出结构，其形状与圆形托盘上通孔匹配。圆形托盘定位台阶深度与基片厚度相同，固定基片座、方形基片和辅助定位盘组合后形成光滑平坦的上表面，且外轮廓为圆柱形，可提高流动介质在基片表面旋转涂覆的均匀性。

Description

一种方形基片夹持装置

技术领域

本发明属于微纳制造技术领域，具体涉及一种方形基片夹持装置。

背景技术

在微纳制造领域中，微纳结构一般是通过在基片表面涂覆光刻胶，再曝光、显影和刻蚀形成。匀胶均匀性影响微纳结构的尺寸精度。

高均匀性的胶层，一般通过旋转涂覆得到。圆形基片由于其形状关于中心旋转对称，光刻胶旋涂过程中，基片快速旋转引入的气流扰动比较均匀，因此均匀性较好。方形基片形状为非旋转对称，快速旋转时，气流扰动不均，造成光刻胶涂覆的均匀性效果较差。

采用圆形基片涂胶，后期切割成方形基片的方法，增加了切割工序，容易造成污染，影响基片面形，并降低生产效率，增加成本。在匀胶过程，通过工装补偿方形基片旋转非对称性，能够提高匀胶均匀性。

发明内容

本发明要解决的技术问题为：本发明提供一种方形基片夹持装置，以提高流动介质在基片表面旋转涂覆的均匀性。

本发明提供一种方形基片夹持装置，用于在方形基片表面旋转涂覆流动介质，包括固定基片座和辅助定位盘，其中：

所述固定基片座包括传动件、带有通孔的圆形托盘和定位台阶，所述固定基片座底部为传动件，用于该装置与电机旋转轴之间的传动连接；传动件连接带有通孔的圆形托盘，带有通孔的圆形托盘上有定位台阶，定位台阶外轮廓为半圆，定位台阶内部有矩形凹槽，与方形基片贴合，用于方形基片定位；

辅助定位盘包括辅助定位盘盘体和底部凸出结构，底部凸出结构的形状与带有通孔的圆形托盘上通孔形状匹配，且高度长于通孔深度4mm-5mm，便于辅助定位盘与固定基片座脱离；通孔和底部凸出结构的形状可以是圆形，也可以是其他形状，辅助定位盘盘体高度与方形基片厚度相同，辅助定位盘盘体外部轮廓为半圆，辅助定位盘盘体直径与带有通孔的圆形托盘上定位台阶外轮廓半圆直径相同；辅助定位盘盘体内部直边有矩形凹槽，定位台阶深度与方形基片厚度相同，固定基片座、方形基片和辅助定位盘组合后形成光滑平坦的上表面，且外轮廓为圆柱形，可提高流动介质在基片表面旋转涂覆的均匀性。

进一步地，所述固定基片座和辅助定位盘，其表面粗糙度Rz小于1.6微米。

进一步地，所述固定基片座上带有通孔的圆形托盘，其直径大于方形基片外接圆直径，小于定位台阶外部半圆形轮廓直径。

进一步地，所述固定基片座上定位台阶，其外部轮廓为半圆，其圆心与传动件中心重合；内部直边有矩形凹槽，矩形凹槽宽度与方形基片边长相同，矩形凹槽深度为方形基片边长一半。

进一步地，所述固定基片座上定位台阶，其高度与方形基片厚度相同。

进一步地，所述辅助定位盘底部有底部凸出结构，形状与带有通孔的圆形托盘通孔相同，且高度长于通孔深度。

进一步地，所述辅助定位盘盘体外部轮廓为半圆，其直径与带有通孔的圆形托盘上定位台阶外轮廓半圆直径相同；内部直边有矩形凹槽，宽度与方形基片边长相同，深度为方形基片边长一半。

进一步地，所述辅助定位盘的辅助定位盘盘体高度与方形基片厚度相同。

进一步地，所述辅助定位盘能够与固定基片座配合，形成一个方形凹槽，方形凹槽尺寸与方形基片相同，方形凹槽中心与固定基片座的传动件中心重合。

本发明与现有技术相比的优点在于：

(1)本发明能够提高方形基片表面旋转涂覆流动介质时的膜层均匀性；

(2)本发明结构简单，装卡容易，方便上下片，有效提高方形基片旋涂效率。

附图说明

图1为本发明一种方形基片夹持装置结构示意图；

图2为本发明一种方形基片夹持装置固定基片座结构示意图；

图3为本发明一种方形基片夹持装置辅助定位盘结构示意图；

图中，1为固定基片座，2为辅助定位盘，3为方形基片，11为传动件，12为带有通孔的圆形托盘，13为定位台阶，21为辅助定位盘盘体，22为底部凸出结构。

具体实施方式

为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚明白，以下结合具体实施例，并参照附图，对本发明进一步详细说明。

如图1表示本发明一种方形基片夹持装置的结构示意图，该装置包括：固定基片座1和辅助定位盘2。固定基片座1上有传动件11、带有通孔的圆形托盘12和定位台阶13。传动件11、带有通孔的圆形托盘12和定位台阶13是固定的整体，也可以是其他稳定的可拆卸的独立部件，组合成为固定基片座1。

传动件11末端为键槽，通过键合与旋转电机主轴连接，也可以是其他连接方式。带有通孔的圆形托盘12，其直径大于方形基片3外接圆直径，小于定位台阶外13部半圆形轮廓直径。定位台阶13的高度与基片厚度相同，其外部轮廓为半圆，其圆心与传动件11中心重合；内部直边有矩形凹槽，宽度与方形基片3边长相同，深度为方形基片3边长一半。

辅助定位盘2分为辅助定位盘盘体21和底部凸出结构22。底部凸出结构22的形状与带有通孔的圆形托盘12上通孔形状匹配，且高度长于通孔深度4mm-5mm，便于辅助定位盘2与固定基片座1脱离。通孔和凸出结构的形状可以是圆形，也可以是其他形状。辅助定位盘盘体21高度与方形基片3厚度相同，外部轮廓为半圆，其直径与圆形底座上定位台阶外轮廓半圆直径相同；内部直边有矩形凹槽，宽度与方形基片3边长相同，深度为方形基片3边长一半。

辅助定位盘2能够与固定基片座1配合，形成一个方形凹槽，尺寸与方形基片3相同，中心与传动件11中心重合，即与电机旋转轴旋转中心重合。为了保证旋转过程中，流动介质均匀流动，固定基片座1和辅助定位盘2表面应尽量光滑，粗糙度Rz小于1.6微米。

以上所述，仅为本发明中的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉该技术的人在本发明所揭露的技术范围内，可理解想到的变换或替换，都应涵盖在本发明的包含范围之内，因此，本发明的保护范围应该以权利要求的保护范围为准。

Claims (9)

1.一种方形基片夹持装置，用于在方形基片表面旋转涂覆流动介质，其特征在于，包括固定基片座(1)和辅助定位盘(2)，其中：

所述固定基片座(1)包括传动件(11)、带有通孔的圆形托盘(12)和定位台阶(13)，所述固定基片座(1)底部为传动件(11)，用于该装置与电机旋转轴之间的传动连接；传动件(11)连接带有通孔的圆形托盘(12)，带有通孔的圆形托盘(12)上有定位台阶(13)，定位台阶(13)外轮廓为半圆，定位台阶(13)内部有矩形凹槽，与方形基片(3)贴合，用于方形基片(3)定位；

辅助定位盘(2)包括辅助定位盘盘体(21)和底部凸出结构(22)，底部凸出结构(22)的形状与带有通孔的圆形托盘(12)上通孔形状匹配，且高度长于通孔深度4mm-5mm，便于辅助定位盘(2)与固定基片座(1)脱离；通孔和底部凸出结构(22)的形状可以是圆形，也可以是其他形状，辅助定位盘盘体(21)高度与方形基片(3)厚度相同，辅助定位盘盘体(21)外部轮廓为半圆，辅助定位盘盘体(21)直径与带有通孔的圆形托盘(12)上定位台阶(13)外轮廓半圆直径相同；辅助定位盘盘体(21)内部直边有矩形凹槽，定位台阶深度与方形基片厚度相同，固定基片座、方形基片和辅助定位盘组合后形成光滑平坦的上表面，且外轮廓为圆柱形，可提高流动介质在基片表面旋转涂覆的均匀性。

2.根据权利要求1所述的一种方形基片夹持装置，其特征在于：所述固定基片座(1)和辅助定位盘(2)，其表面粗糙度Rz小于1.6微米。

3.根据权利要求1所述的一种方形基片夹持装置，其特征在于：所述固定基片座(1)上带有通孔的圆形托盘(12)，其直径大于方形基片(3)外接圆直径，小于定位台阶(13)外部半圆形轮廓直径。

4.根据权利要求3所述的一种方形基片夹持装置，其特征在于：所述固定基片座(1)上定位台阶(13)，其外部轮廓为半圆，其圆心与传动件(11)中心重合；内部直边有矩形凹槽，矩形凹槽宽度与方形基片(3)边长相同，矩形凹槽深度为方形基片(3)边长一半。

5.根据权利要求4所述的一种方形基片夹持装置，其特征在于：所述固定基片座(1)上定位台阶(13)，其高度与方形基片(3)厚度相同。

6.根据权利要求1所述的一种方形基片夹持装置，其特征在于：所述辅助定位盘(2)底部有底部凸出结构(22)，形状与带有通孔的圆形托盘(12)通孔相同，且高度长于通孔深度。

7.根据权利要求6所述的一种方形基片夹持装置，其特征在于：所述辅助定位盘盘体(21)外部轮廓为半圆，其直径与带有通孔的圆形托盘(12)上定位台阶(13)外轮廓半圆直径相同；内部直边有矩形凹槽，宽度与方形基片(3)边长相同，深度为方形基片(3)边长一半。

8.根据权利要求7所述的一种方形基片夹持装置，其特征在于：所述辅助定位盘(2)的辅助定位盘盘体(21)高度与方形基片(3)厚度相同。

9.根据权利要求8所述的一种方形基片夹持装置，其特征在于：所述辅助定位盘(2)能够与固定基片座(1)配合，形成一个方形凹槽，方形凹槽尺寸与方形基片(3)相同，方形凹槽中心与固定基片座(1)的传动件(11)中心重合。

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