JP2010086632A - 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】円板状のガラス基板1の表面に液体状の樹脂10を塗布し、複数のガラス基板1を積層することで積層体20を作製する。その後、樹脂10を硬化させることで、ガラス基板1同士を固定する。その後、積層体20の中心に、ガラス基板1の厚さ方向に貫通する貫通孔を形成する。貫通孔を形成した積層体20を対象にして、複数のガラス基板1の内周端面と外周端面とを研磨ブラシによって研磨する。
【選択図】図3
Description
また、この発明の第2の形態は、第1の形態に係る磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、前記第1工程では、粒子状の形状を有する複数のスペーサを前記液体状の樹脂に含ませて、前記ガラス基板の表面に塗布することを特徴とする。
また、この発明の第3の形態は、第2の形態に係る磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、前記複数のスペーサの粒子径の粒度分布が、D90の表記において0.05[mm]〜0.15[mm]であることを特徴とする。
また、この発明の第4の形態は、第2の形態又は第3の形態のいずれかに係る磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、前記スペーサの最大粒子径が、0.2[mm]以下であることを特徴とする。
また、この発明の第5の形態は、第1の形態から第4の形態のいずれかに係る磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、前記第5工程では、研磨ブラシを回転させながら前記端面に押し当てて前記端面を研磨することを特徴とする。
次に、上記実施形態の具体的な実施例について説明する。
実施例1に用いたガラス基板1の寸法を以下に示す。
ガラス基板1の直径=66[mm]
ガラス基板1の厚さ=0.9[mm]
ガラス基板1として、アモルファスガラス系のホウ珪酸ガラス基板を用いた。
ガラス基板1の表面に、粒子状のスペーサを分散させた液体状の樹脂10を塗布した。実施例1では、樹脂10として紫外線硬化樹脂を用いた。具体的には、(株)テスク社製紫外線硬化エポキシ樹脂 A−1609Bを用いた。液体状の樹脂10に分散させるスペーサの条件を以下に示す。
スペーサの材料:積水化成工業製 テクポリマーMBX−S
スペーサの平均粒子径:0.03[mm]
D90表記での粒度分布:0.05[mm]
その後、樹脂10を硬化させた。この実施例1では、紫外線硬化型エポキシ樹脂を用いているため、積層体20に対して紫外線を照射することで、樹脂10を硬化させた。具体的には、100枚のガラス基板1を積層した積層体20の最上端から80[mm]離れた位置に、ウシオ電機製の紫外線照射装置(SP9−250DB)の光源を設置し、4000[mW/cm2]の強度の紫外線を25秒間隔で4回繰り返して照射した。さらに、積層体20を反転して、同じ条件で紫外線を照射した。
ガラス基板の間に樹脂を設けないでガラス基板を積層したときの積層体の厚さと、樹脂を硬化させた後の積層体20の厚さとの差から、樹脂を硬化した後の積層体20の各ガラス基板1の間には、平均約0.1[mm]のスペースが形成されていた。
樹脂10を硬化した後、積層体20に対してコアリング工程を施すことにより、各ガラス基板1の中央部に円形状の貫通孔を形成した。本工程においては、ガラス基板1の外周も同時に研削加工した。このコアリング工程における研削の条件を以下に示す。
研削機:ショーダテクトロン(株)製 USB−1型
ガラス基板1の回転数:30[rpm]
穿孔ツールの回転数:3000[rpm]
積層枚数:100枚
コアリング工程後のガラス基板1の外径を65.05[mm]とし、内径を18.45[mm]とした。
内周端面の精密研削工程において、その加工条件を以下に示す。
研削機:豊田工機万能研削盤 GUP10
研削ツールの回転数:700[rpm]
積層枚数:100枚
以上の条件で、内周端面研削工程の終了後におけるガラス基板1の内径は、19.98
[mm]となった。
すなわち、積層体20の外径は65.05[mm]、内径は19.98[mm]に研削加工された。
コアリング工程が施された積層体20を対象にして、ガラス基板1の内周端面3と外周端面4とを研磨した。各研磨工程における研磨の条件を以下に示す。
研磨ブラシ:線径0.2[mm]のナイロンブラシ、ブラシ長さは15[mm]
研磨材:三井金属製セリウム研磨材ミレークE−21
研磨した量:0.01mm
研磨ブラシ:線径0.2mm]のナイロンブラシ、ブラシ長さは40[mm]
研磨材:三井金属製セリウム研磨材ミレークE−21
研磨した量:0.02mm
以上のように、ガラス基板1の表面に液体状の樹脂10を塗布して複数のガラス基板1を積層することで、ガラス基板1同士を強固に固定することができ、その結果、各ガラス基板1に貫通孔2を精度良く形成することができた。また、ガラス基板1とガラス基板1との間に樹脂10によってスペースが確保されたため、内周端面3と外周端面4とを良好に研磨することができた。これにより、内周端面3と外周端面4とに、0.05mm程度の面取り部分が形成され、面取り部分と平面部分との間に連続的な丸みを形成することができた。
実施例2では、スペーサの粒子径を変えて、平均粒子径が0.08[mm]で、D90表記での粒度分布が0.12[mm]となるスペーサを用いた。樹脂10の材料、樹脂10をガラス基板1に塗布する方法、樹脂10を硬化する条件、コアリング工程の条件、及び、端面研磨工程の条件は、実施例1と同じである。
実施例3では、スペーサの粒子径を変えて、平均粒子径が0.12[mm]で、D90表記での粒度分布が0.15[mm]となるスペーサを用いた。樹脂10の材料、樹脂10をガラス基板1に塗布する方法、樹脂10を硬化する条件、コアリング工程の条件、及び、端面研磨工程の条件は、実施例1と同じである。
2 貫通孔
3 内周端面
4 外周端面
10 樹脂
20 積層体
Claims (5)
- 表面及び前記表面の周囲に端面を有する円板状のガラス基板に対して、前記表面に液体状の樹脂を塗布する第1工程と、
前記表面に前記液体状の樹脂が塗布された複数のガラス基板を積層する第2工程と、
前記複数のガラス基板を積層した後、前記樹脂を硬化させる第3工程と、
前記複数のガラス基板を積層した状態で、前記複数のガラス基板の中心に、前記ガラス基板の厚さ方向に貫通する貫通孔を形成する第4工程と、
前記複数のガラス基板を積層した状態で、前記複数のガラス基板の前記端面を同時に加工する第5工程と、
を含むことを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。 - 前記第1工程では、粒子状の形状を有する複数のスペーサを前記液体状の樹脂に含ませて、前記ガラス基板の表面に塗布することを特徴とする請求項1に記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
- 前記複数のスペーサの粒子径の粒度分布が、D90の表記において0.05[mm]〜0.15[mm]であることを特徴とする請求項2に記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
- 前記スペーサの最大粒子径が、0.2[mm]以下であることを特徴とする請求項2又は請求項3のいずれかに記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
- 前記第5工程では、研磨ブラシを回転させながら前記端面に押し当てて前記端面を研磨することを特徴とする請求項1から請求項4のいずれかに記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
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