CN213023935U - 一种均匀布料光刻胶涂布吸头 - Google Patents
一种均匀布料光刻胶涂布吸头 Download PDFInfo
- Publication number
- CN213023935U CN213023935U CN202022445170.4U CN202022445170U CN213023935U CN 213023935 U CN213023935 U CN 213023935U CN 202022445170 U CN202022445170 U CN 202022445170U CN 213023935 U CN213023935 U CN 213023935U
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- tray
- suction head
- wafer
- photoresist coating
- photoresist
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
本实用新型公开了一种均匀布料光刻胶涂布吸头，涉及光刻胶涂布技术领域，解决了目前涂布吸头与晶圆定位不精准，以使在甩胶过程中各个位置离心力不均匀而导致光刻胶在晶圆的端面涂布不均匀，产生边缘锯齿现象的问题，其技术方案要点是：包括吸头主体，所述吸头主体包括由下至上依次设置的底盘和托盘，所述底盘和托盘均为圆盘状，且底盘和托盘的圆心重合；所述托盘的内部设置有安装腔，且托盘的上端面设置有开口；所述安装腔内设置有定位机构；所述底盘和托盘贯穿设置有通孔；达到降低操作难度和提高工作效率的效果。
Description
技术领域
本实用新型涉及光刻胶涂布技术领域，更具体地说，它涉及一种均匀布料光刻胶涂布吸头。
背景技术
随着半导体晶圆工艺的发展，客户对于晶圆制造的外观要求越来越高；目前的芯片制造厂在生产时往往会用到黄光制程，最廉洁且最快捷的方式是用旋转的方式在晶圆表面涂一层光刻胶，再通过曝光显影的方式，将设计好的图案投影到光刻胶上，然后利用光刻胶的感光抗腐蚀等特性为后道工序的生产加工做准备。
目前光刻胶涂布吸头的设计，往往是先利用一块吸头通过真空将晶圆吸附，然后将光刻胶滴到晶圆中心，再通过旋转的方式将光刻胶均匀的涂覆到晶圆的表面；在将晶圆放置到涂布吸头上时，通常通过目视的方式将晶圆的中心与涂布吸头的中心重合，但现有的光刻胶涂布吸头的直径与晶圆的直径不同，以导致其定位困难、不精确，使得在光刻胶涂布时，因甩胶过程中各个位置离心力不均匀而导致光刻胶涂布不均匀，产生边缘锯齿等现象。由此，如何设计一种均匀布料光刻胶涂布吸头是我们目前迫切需要解决的问题。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种均匀布料光刻胶涂布吸头，以便晶圆与涂布吸头的定位，从而防止在甩胶过程中各个位置离心力不均匀而导致光刻胶在晶圆的端面涂布不均匀，而产生边缘锯齿等现象，达到降低操作难度和提高工作效率的效果。
本实用新型的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的：包括吸头主体，所述吸头主体包括由下至上依次设置的底盘和托盘，所述底盘和托盘均为圆盘状，且底盘和托盘的圆心重合；所述托盘的内部设置有安装腔，且托盘的上端面设置有开口；所述安装腔内设置有定位机构；所述底盘和托盘贯穿设置有通孔。
通过采用上述技术方案，此装置在使用时，将需要涂布的晶圆由开口放入至安装腔中，而安装腔中的定位机构则对晶圆进行定位，以使晶圆的圆心与托盘的圆心重合，此装置还连接有真空发生器或真空泵，其输出端与通孔连通，由此对晶圆吸附，外部还设置有带动底盘转动的电机，从而进行甩胶过程，使晶圆上的光刻胶均匀涂布，定位机构的存在，从而防止了在甩胶过程中各个位置离心力不均匀而导致光刻胶在晶圆的端面涂布不均匀，而产生边缘锯齿等现象，也降低了工作人员的操作难度，提高工作效率。
本实用新型进一步设置为：所述定位机构包括多个相同设置的转盘和调节环；多个所述转盘的边缘均与安装腔的内壁转动连接，多个转盘并沿托盘的圆周方向均匀分布；所述转盘的上端面设置有弧形槽；所述调节环位于托盘的上端面，所述调节环的下端面设置有与转盘数量相对应的支柱，托盘的上端面还贯穿设置有与支柱滑动配合的滑槽；所述支柱穿过滑槽后分别插入对应的弧形槽内。
通过采用上述技术方案，即转动调节环时，支柱在弧形槽中滑动，支柱即可带动转盘转动，多个转盘同时发生向内或向外的转动，多个转盘之间的面积即发生改变，而多个转盘之间的区域在放入晶圆后，多个转盘的边缘均与晶圆的边缘抵触，从而将晶圆的圆心位置与托盘的圆心位置重合，实现定位的效果。
本实用新型进一步设置为：所述弧形槽沿转盘的圆周方向设置。
通过采用上述技术方案，即通过支柱在弧形槽中滑动而更加直接的带动转盘转动，提高定位效率。
本实用新型进一步设置为：所述转盘至少设置有4个。
通过采用上述技术方案，以提高定位的精准度。
本实用新型进一步设置为：所述调节环设置有与托盘的上端面固接的弹力绳。
通过采用上述技术方案，即在对晶圆定位后，调节环和转盘即自动恢复原状，同时也避免在甩胶过程中转盘的转动损坏晶圆。
综上所述，本实用新型具有以下有益效果：此装置在使用时，将需要涂布的晶圆由开口放入至安装腔中，而安装腔中的定位机构则对晶圆进行定位，以使晶圆的圆心与托盘的圆心重合，此装置还连接有真空发生器或真空泵，其输出端与通孔连通，由此对晶圆吸附，外部还设置有带动底盘转动的电机，从而进行甩胶过程，使晶圆上的光刻胶均匀涂布，定位机构的存在，从而防止了在甩胶过程中各个位置离心力不均匀而导致光刻胶在晶圆的端面涂布不均匀，而产生边缘锯齿等现象，也降低了工作人员的操作难度，提高工作效率；转动调节环时，支柱在弧形槽中滑动，支柱即可带动转盘转动，多个转盘同时发生向内或向外的转动，多个转盘之间的面积即发生改变，而多个转盘之间的区域在放入晶圆后，多个转盘的边缘均与晶圆的边缘抵触，从而将晶圆的圆心位置与托盘的圆心位置重合，实现定位的效果。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本实用新型实施例中整体的结构示意图；
图2是图1中A向的结构示意图；
图3是本实用新型实施例中转盘与托盘的连接结构示意图；
图4是本实用新型实施例中托盘的结构示意图；
图5是本实用新型实施例中托盘的截面图。
图中：11、吸头主体；12、底盘；13、托盘；14、安装腔；15、开口；16、通孔；17、转盘；18、调节环；19、弧形槽；21、支柱；22、滑槽；23、弹力绳。
具体实施方式
为了使本实用新型所要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。
需说明的是，当部件被称为“固定于”或“设置于”另一个部件，它可以直接在另一个部件上或者间接在该另一个部件上。当一个部件被称为是“连接于”另一个部件，它可以是直接或者间接连接至该另一个部件上。
需要理解的是，术语“长度”、“宽度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。
此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本实用新型的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
实施例：一种均匀布料光刻胶涂布吸头，如图1与图2所示，包括吸头主体11，吸头主体11包括由下至上依次设置的底盘12和托盘13，底盘12和托盘13均为圆盘状，且底盘12和托盘13的圆心重合；托盘13的内部设置有安装腔14，且托盘13的上端面设置有开口15；安装腔14内设置有定位机构；底盘12和托盘13贯穿设置有通孔16。此装置在使用时，将需要涂布的晶圆由开口15放入至安装腔14中，而安装腔14中的定位机构则对晶圆进行定位，以使晶圆的圆心与托盘13的圆心重合，此装置还连接有真空发生器或真空泵，其输出端与通孔16连通，由此对晶圆吸附，外部还设置有带动底盘12转动的电机，从而进行甩胶过程，使晶圆上的光刻胶均匀涂布，定位机构的存在，从而防止了在甩胶过程中各个位置离心力不均匀而导致光刻胶在晶圆的端面涂布不均匀，而产生边缘锯齿等现象，也降低了工作人员的操作难度，提高工作效率。
如图2、图3、图4与图5所示，定位机构包括多个相同设置的转盘17和调节环18；多个转盘17的边缘均与安装腔14的内壁转动连接，多个转盘17并沿托盘13的圆周方向均匀分布；转盘17的上端面设置有弧形槽19；调节环18位于托盘13的上端面，调节环18的下端面设置有与转盘17数量相对应的支柱21，托盘13的上端面还贯穿设置有与支柱21滑动配合的滑槽22；支柱21穿过滑槽22后分别插入对应的弧形槽19内。即转动调节环18时，支柱21在弧形槽19中滑动，支柱21即可带动转盘17转动，多个转盘17同时发生向内或向外的转动，多个转盘17之间的面积即发生改变，而多个转盘17之间的区域在放入晶圆后，多个转盘17的边缘均与晶圆的边缘抵触，从而将晶圆的圆心位置与托盘13的圆心位置重合，实现定位的效果。
如图3所示，弧形槽19沿转盘17的圆周方向设置。即通过支柱21在弧形槽19中滑动而更加直接的带动转盘17转动，提高定位效率。
如图2与图3所示，转盘17至少设置有4个。以提高定位的精准度。在本实施例中，转盘17设置有6个。
如图1与图2所示，调节环18设置有与托盘13的上端面固接的弹力绳23。即在对晶圆定位后，调节环18和转盘17即自动恢复原状，同时也避免在甩胶过程中转盘17的转动损坏晶圆。
工作原理：此装置在使用时，将需要涂布的晶圆由开口15放入至安装腔14中，而安装腔14中的定位机构则对晶圆进行定位，以使晶圆的圆心与托盘13的圆心重合，此装置还连接有真空发生器或真空泵，其输出端与通孔16连通，由此对晶圆吸附，外部还设置有带动底盘12转动的电机，从而进行甩胶过程，使晶圆上的光刻胶均匀涂布，定位机构的存在，从而防止了在甩胶过程中各个位置离心力不均匀而导致光刻胶在晶圆的端面涂布不均匀，而产生边缘锯齿等现象，也降低了工作人员的操作难度，提高工作效率。
本具体实施例仅仅是对本实用新型的解释，其并不是对本实用新型的限制，本领域技术人员在阅读完本说明书后可以根据需要对本实施例做出没有创造性贡献的修改，但只要在本实用新型的权利要求范围内都受到专利法的保护。
Claims (5)
1.一种均匀布料光刻胶涂布吸头，包括吸头主体(11)，其特征是：所述吸头主体(11)包括由下至上依次设置的底盘(12)和托盘(13)，所述底盘(12)和托盘(13)均为圆盘状，且底盘(12)和托盘(13)的圆心重合；所述托盘(13)的内部设置有安装腔(14)，且托盘(13)的上端面设置有开口(15)；所述安装腔(14)内设置有定位机构；所述底盘(12)和托盘(13)贯穿设置有通孔(16)。
2.根据权利要求1所述的一种均匀布料光刻胶涂布吸头，其特征是：所述定位机构包括多个相同设置的转盘(17)和调节环(18)；多个所述转盘(17)的边缘均与安装腔(14)的内壁转动连接，多个转盘(17)并沿托盘(13)的圆周方向均匀分布；所述转盘(17)的上端面设置有弧形槽(19)；所述调节环(18)位于托盘(13)的上端面，所述调节环(18)的下端面设置有与转盘(17)数量相对应的支柱(21)，托盘(13)的上端面还贯穿设置有与支柱(21)滑动配合的滑槽(22)；所述支柱(21)穿过滑槽(22)后分别插入对应的弧形槽(19)内。
3.根据权利要求2所述的一种均匀布料光刻胶涂布吸头，其特征是：所述弧形槽(19)沿转盘(17)的圆周方向设置。
4.根据权利要求3所述的一种均匀布料光刻胶涂布吸头，其特征是：所述转盘(17)至少设置有4个。
5.根据权利要求4所述的一种均匀布料光刻胶涂布吸头，其特征是：所述调节环(18)设置有与托盘(13)的上端面固接的弹力绳(23)。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202022445170.4U CN213023935U (zh) | 2020-10-28 | 2020-10-28 | 一种均匀布料光刻胶涂布吸头 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202022445170.4U CN213023935U (zh) | 2020-10-28 | 2020-10-28 | 一种均匀布料光刻胶涂布吸头 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN213023935U true CN213023935U (zh) | 2021-04-20 |
Family
ID=75481787
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202022445170.4U Active CN213023935U (zh) | 2020-10-28 | 2020-10-28 | 一种均匀布料光刻胶涂布吸头 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN213023935U (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114200777A (zh) * | 2021-12-21 | 2022-03-18 | 中国科学院光电技术研究所 | 一种方形基片夹持装置 |
-
2020
- 2020-10-28 CN CN202022445170.4U patent/CN213023935U/zh active Active
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114200777A (zh) * | 2021-12-21 | 2022-03-18 | 中国科学院光电技术研究所 | 一种方形基片夹持装置 |
| CN114200777B (zh) * | 2021-12-21 | 2023-06-13 | 中国科学院光电技术研究所 | 一种方形基片夹持装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7011567B2 (en) | Semiconductor wafer grinder | |
| US6685542B2 (en) | Grinding machine | |
| JP3580936B2 (ja) | ポリッシング装置のプッシャー及びポリッシング装置 | |
| CN213023935U (zh) | 一种均匀布料光刻胶涂布吸头 | |
| US7163441B2 (en) | Semiconductor wafer grinder | |
| CN201728179U (zh) | 点胶机 | |
| CN114758979A (zh) | 一种晶圆夹紧装置 | |
| CN213459689U (zh) | 晶圆清洗设备及定位治具 | |
| JP7425411B2 (ja) | キャリア測定装置、キャリア測定方法、及びキャリア管理方法 | |
| CN218602399U (zh) | 一种芯片供料结构 | |
| CN107985931A (zh) | 一种用于旋转的凸台装置 | |
| JP2014030883A (ja) | 研削装置 | |
| CN109622307A (zh) | 喇叭点胶封装装置及方法 | |
| KR20090020787A (ko) | 웨이퍼 마운트 장비의 웨이퍼 얼라인먼트 장치 | |
| US20150128436A1 (en) | Nozzle alignment tool for a fluid dispensing apparatus | |
| CN213905333U (zh) | 一种晶圆片定位装置 | |
| JP2002151577A (ja) | 基板のエッジ保持アライナー | |
| JP2013094910A (ja) | 板状物の研削方法 | |
| CN209104127U (zh) | 一种晶舟转盘 | |
| CN215588816U (zh) | 晶圆研磨装置 | |
| CN220821530U (zh) | 一种晶圆承载托架 | |
| CN211445890U (zh) | 一种适用于多规格工件架的大盘 | |
| JPH10193254A (ja) | ウェーハ研磨装置 | |
| CN214815766U (zh) | 旋转打标装置 | |
| CN111015502A (zh) | 一种定位装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| EE01 | Entry into force of recordation of patent licensing contract |
Assignee: Suzhou Heyu Finance Leasing Co.,Ltd. Assignor: Suzhou lishuo Technology Co.,Ltd. Contract record no.: X2022320010030 Denomination of utility model: A uniform cloth photoresist coating sucker Granted publication date: 20210420 License type: Exclusive License Record date: 20221209 |
|
| EE01 | Entry into force of recordation of patent licensing contract | ||
| PE01 | Entry into force of the registration of the contract for pledge of patent right |
Denomination of utility model: A uniform cloth photoresist coating sucker Effective date of registration: 20221210 Granted publication date: 20210420 Pledgee: Suzhou Heyu Finance Leasing Co.,Ltd. Pledgor: Suzhou lishuo Technology Co.,Ltd. Registration number: Y2022320010787 |
|
| PE01 | Entry into force of the registration of the contract for pledge of patent right |