JP2014030884A - 研削装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】被加工物を均一な仕上げ厚みに研削可能な研削装置を提供する。
【解決手段】研削装置は、被加工物を保持する円錐状の保持面を有するチャックテーブル46と、該チャックテーブル46と同心状に配設される、固定支持部材80と少なくとも1個の可動支持部材90からなる併せて3個以上の支持部材とを有し、該保持面の円錐軸を回転軸とした保持手段と、回転駆動されるスピンドルと、該スピンドルの先端に装着された研削ホイールとを有し、該チャックテーブル46に保持された被加工物に該保持面の中心から外周に至る研削領域に研削加工を施す研削手段と、該研削手段で研削加工が施された被加工物の厚みを測定し、中凸又は中凹形状を検出する形状検出手段と、該形状検出手段で検出された被加工物の形状に基づいて、可動支持部材90を加熱又は冷却して該チャックテーブル46の該保持面の傾きを変更する傾き変更手段と、を具備したことを特徴とする。
【選択図】図2

Description

本発明は、ウエーハ等の被加工物を研削する研削装置に関する。
IC、LSI等の数多くのデバイスが表面に形成され、且つ個々のデバイスが分割予定ライン(ストリート)によって区画された半導体ウエーハは、研削装置によって裏面が研削されて所定の厚みに加工された後、ダイシング装置によって分割予定ラインを切削して個々のデバイスに分割され、分割されたデバイスは携帯電話、パソコン等の各種電気機器に利用されている。
ウエーハの裏面を研削する研削装置は、ウエーハを保持し回転可能なチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持されたウエーハを研削する研削砥石が配設された研削ホイールを回転可能に支持する研削手段と、チャックテーブルに研削すべきウエーハを搬入する搬入手段と、チャックテーブルから研削済みのウエーハを搬出する搬出手段とを備えており、ウエーハを所望の厚みに加工することができる。
チャックテーブルは中心を頂点として傾斜度の極めて小さな勾配の傾斜面を有する円錐状に形成され、円錐軸を回転軸として回転される。また、チャックテーブルは一点が固定で他の二点が可動の三点で支持されており、これによりチャックテーブルの円錐状の保持面の傾きが調整可能に構成されている。
更に、通常チャックテーブルは保持面の傾斜面が研削砥石の研削面と平行になるよう回転軸が鉛直方向から僅かに傾斜するように調整されており、研削砥石が被加工物の研削面に接触する研削領域が被加工物の回転中心から外周に至る領域に限定され、研削方向は被加工物の回転中心から外周に至る方向となっている。
特開平8−90376号公報
研削装置においては、研削ホイールの加工力不足や被加工物の自転に伴う中心と外周の周速差等の影響により、研削を実施すると外周部の厚さが厚くなったり或いは逆に薄くなったりする傾向が生じてしまい、厚さを均一に研削する平坦加工が難しいという問題がある。
本発明はこのような点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、被加工物を均一な厚さに研削可能な研削装置を提供することである。
本発明によると、被加工物を研削する研削装置であって、被加工物を保持する円錐状の保持面を有するチャックテーブルと、該チャックテーブルを支持する該チャックテーブルと同心状に配設された3個以上の支持部材とを有し、該保持面の円錐軸を回転軸とした保持手段と、回転駆動されるスピンドルと、該スピンドルの先端に装着された研削ホイールとを有し、該チャックテーブルに保持された被加工物に該保持面の中心から外周に至る研削領域に研削加工を施す研削手段と、該研削手段で研削加工が施された被加工物の厚みを測定し、中凸又は中凹形状を検出する形状検出手段と、該形状検出手段で検出された被加工物の形状に基づいて、少なくとも前記支持部材のうちの一つを加熱又は冷却して該チャックテーブルの該保持面の傾きを変更する傾き変更手段と、を具備したことを特徴とする研削装置が提供される。
本発明の研削装置によると、研削後の被加工物の厚みを測定して断面形状を検出した後、被加工物を平坦化するよう支持部材のうちの少なくとも一つを加熱又は冷却して保持面の傾きを変更できるため、被加工物を均一な厚みに研削仕上げすることができる。
本発明の原理を適用可能な研削装置の斜視図である。 本発明実施形態のチャックテーブル支持構造を示す一部破断斜視図である。 図1に示した研削装置の一部破断側面図である。 フランジの支持位置を示す模式図である。 中凹形状のウエーハの断面図である。 研削後のウエーハが中凹形状であった場合の制御方法を説明する一部断面側面図である。
以下、本発明の実施形態を図面を参照して詳細に説明する。図1は本発明のチャックテーブルの支持構造を採用した研削装置2の斜視図を示している。4は研削装置2のベース(ハウジング)であり、ベース4の後方には二つのコラム6a,6bが垂直に立設されている。コラム6aには、上下方向に伸びる一対のガイドレール(一本のみ図示)8が固定されている。
この一対のガイドレール8に沿って粗研削ユニット10が上下方向に移動可能に装着されている。粗研削ユニット10は、そのハウジング20が一対のガイドレール8に沿って上下方向に移動する移動基台12に取り付けられている。
粗研削ユニット10は、ハウジング20と、ハウジング20中に回転可能に収容されたスピンドル21(図3参照)と、スピンドル21を回転駆動するサーボモータ22と、スピンドル21の先端に固定された複数の粗研削用の研削砥石26を有する研削ホイール24を含んでいる。
粗研削ユニット10は、粗研削ユニット10を一対の案内レール8に沿って上下方向に移動するボールねじ14とパルスモータ16とから構成される粗研削ユニット送り機構18を備えている。パルスモータ16をパルス駆動すると、ボールねじ14が回転し、移動基台12が上下方向に移動される。
他方のコラム6bにも、上下方向に伸びる一対のガイドレール(一本のみ図示)19が固定されている。この一対のガイドレール19に沿って仕上げ研削ユニット28が上下方向に移動可能に装着されている。
仕上げ研削ユニット28は、そのハウジング36が一対のガイドレール19に沿って上下方向に移動する図示しない移動基台に取り付けられている。仕上げ研削ユニット28は、ハウジング36と、ハウジング36中に回転可能に収容された図示しないスピンドルと、スピンドルを回転駆動するサーボモータ38と、スピンドルの先端に固定された仕上げ研削用の研削砥石42を有する研削ホイール40を含んでいる。
仕上げ研削ユニット28は、仕上げ研削ユニット28を一対の案内レール19に沿って上下方向に移動するボールねじ30とパルスモータ32とから構成される仕上げ研削ユニット送り機構34を備えている。パルスモータ32を駆動すると、ボールねじ30が回転し、仕上げ研削ユニット28が上下方向に移動される。
研削装置2は、コラム6a,6bの前側に配設されたターンテーブル44を具備している。ターンテーブル44は比較的大径の円盤状に形成されており、図示しない回転駆動機構によって矢印45で示す方向に回転される。
ターンテーブル44には、互いに円周方向に120°離間して3個のチャックテーブル46が水平面内で回転可能に配置されている。チャックテーブル46は、ポーラスセラミック材によって円盤状に形成された吸引保持部を有しており、吸引保持部の保持面上に載置されたウエーハを真空吸引手段を作動することにより吸引保持する。48は研削後のウエーハの厚みを測定する回動可能な非接触の厚み測定ゲージからなる形状検出手段である。
ターンテーブル44に配設された3個のチャックテーブル46は、ターンテーブル44が適宜回転することにより、ウエーハ搬入・搬出領域A、粗研削加工領域B、仕上げ研削加工領域C、及びウエーハ搬入・搬出領域Aに順次移動される。
ベース4の前側部分には、第1のウエーハカセット50と、第2のウエーハカセット52と、ウエーハ搬送ロボット54と、複数の位置決めピン58を有する位置決めテーブル56と、ウエーハ搬入機構(ローディングアーム)60と、ウエーハ搬出機構(アンローディングアーム)62と、スピンナ洗浄ユニット64が配設されている。
図2を参照すると、実施形態に係るチャックテーブル46の支持構造の一部破断斜視図が示されている。図3は図1に示された研削装置の一部破断側面である。図2に示すように、チャックテーブル46はポーラスセラミック材によって円盤状に形成された吸引保持部68と、吸引保持部68を囲繞する金属製の枠体70とから構成される。枠体70には環状のフランジ72が一体的に形成されている。チャックテーブル46はモータ74に連結されており、モータ74により回転駆動される。
図3に示すように、ターンテーブル44はターンテーブル基台44aと、ターンテーブルカバー44bとから構成されており、チャックテーブル46はターンテーブルカバー44bに形成された開口47から上方に突出している。
環状フランジ72には、円周方向にそれぞれ120度離間して3個の貫通穴が形成されている。フランジ72に形成された一つの貫通穴にボルト76が挿通されて、ボルト76の先端がターンテーブル基台44aに固定された被係合部材78に係合している。ボルト76と被係合部材78とで固定支持部材80を構成する。
環状フランジ72に形成された他の貫通穴にボルト82が挿通され、ボルト82の先端部はターンテーブル基台44aに固定された被係合部材84に係合している。ボルト82と被係合部材84とで可動支持部材90を構成する。
可動支持部材90の被係合部材84が固定されたターンテーブル基台44aの背面には凹部85が形成されており、この凹部85にヒータ86が配設されている。他の可動支持部材90も同様な構成であり、可動支持部材90の被係合部材84の背面に形成された凹部85中にヒータ86が配設されている。
図3を参照すると、ターンテーブル44のターンテーブル基台44aがモータ92上に搭載されており、モータ92により回転される。チャックテーブル46の吸引保持部68はチューブ94を介して負圧源に接続されており、負圧源により吸引保持部68に吸引力が付与される。ヒータ86は制御手段100に接続されており、制御手段100により制御される。
図4を参照すると、チャックテーブル46の環状フランジ72の支持構造の模式図が示されている。環状フランジ72は互いに円周方向に120度離間したA,B,Cの3点で支持されており、Aが固定支持部材80に対応し、B,Cが可動支持部材90に対応する。
以下、本発明の研削装置2の作用について説明する。粗研削ユニット10と仕上げ研削ユニット28との作用は概略同一であるため、以下の説明では粗研削ユニット10について代表して説明する。
半導体ウエーハ(以下単にウエーハと略称することがある)11の表面にはIC、LSI等の複数のデバイスが形成されているため、ウエーハ11の研削を実施するにあたり、ウエーハ11の表面に保護テープ13を貼着する。
このように表面に保護テープ13が貼着されたウエーハ11は、ウエーハカセット50中に複数枚収容されて、ウエーハカセット50がベース4上に載置される。ウエーハカセット50中に収容されたウエーハ11は、ウエーハ搬送ロボット54の上下動作及び進退動作によって搬送され、ウエーハ位置決めテーブル56に載置される。
ウエーハ位置決めテーブル56に載置されたウエーハ11は、複数の位置決めピン58によって中心合わせが行われた後、ローディングアーム60の旋回動作によって、ウエーハ搬入・搬出領域Aに位置付けられているチャックテーブル46上に載置され、チャックテーブル46によって吸引保持される。
次いで、ターンテーブル44が矢印45方向に120度回転されて、ウエーハ11を保持したチャックテーブル46が粗研削加工領域Bに位置付けられ、粗研削が実施される。
この粗研削について図6を参照して説明する。チャックテーブル46の吸引保持部68の保持面68aは中央部が外周部に比べて僅かに高い円錐状に形成されており、この保持面68aの円錐軸はチャックテーブル46の回転軸46aに一致している。
更に、チャックテーブル46の傾斜面(保持面)68aが研削砥石26と平行になるように調整しているため、研削砥石26がウエーハ11の研削面(裏面)に接触する研削領域が、ウエーハ11の回転中心11aから外周11bに至る領域に限定され、更に研削方向はウエーハ11の回転中心11aから外周11bに至る方向となる。
ウエーハ11の粗研削工程では、図6に示すように、チャックテーブル46を矢印a方向に例えば300rpmで回転しつつ、粗研削ホイール24を矢印bで示す方向に例えば6000rpmで回転させ、チャックテーブル46に保持されたウエーハ11の回転中心11aを研削砥石26が通過するように研削ホイール24を位置づける。
そして、粗研削ユニット送り機構18を駆動して、粗研削ホイール24を所定の研削送り速度で下方に所定量研削送りしながらウエーハ11の粗研削を実施する。非接触式の厚み測定ゲージ48を研削中のウエーハ11の上方に移動してウエーハ11の厚みを測定しながら所定の厚みまでウエーハ11を研削する。
粗研削終了後、非接触式の厚み測定ゲージ48をウエーハ11を横切るように移動して、中心部11a及び周辺部11bを含む複数個所でウエーハ11の厚みを測定する。この複数個所の厚み測定により研削後のウエーハ11の形状が検出される。
図5に示したウエーハ11の形状は、中央部11aの厚みが外周部11bの厚みより薄い中凹形状となっている。非接触式の厚み測定ゲージ48は複数個所で研削後のウエーハ11の厚みを測定することにより、ウエーハ11の形状を検出するため形状検出手段として作用する。
形状検出手段(非接触式厚み測定ゲージ)48で検出されたウエーハ11の形状に基づいて、少なくとも一つの可動支持部材90の下に配設されたヒータ86で可動支持部材90を所定温度まで加熱して、研削後のウエーハ11の形状が中凹形状の場合には、図6の矢印Aで示すように研削領域におけるチャックテーブル46の外周側が上昇するように保持面68aの傾きを調整する。好ましくは、二つの可動支持部材90を所定温度まで加熱して、チャックテーブル46の外周側が上昇するように保持面68aの傾きを調整する。
ヒータ86で可動支持部材90を加熱して保持面68aの傾きを調整する実施形態に変えて、クーラーで可動支持部材90を冷却して、保持面68aの傾きを調整するようにしても良い。或いは、温度調整設備に接続されたウォータージャケットを可動支持部材90の下方に設けて、保持面68aの傾きを調整するようにしても良い。
このようにチャックテーブル46の保持面68aの傾きを調整した後は、ヒータ86で可動支持部材90を所定温度に加熱しながら、2枚目以降のウエーハ11の粗研削を実施する。ウエーハ11が一様に研削されるように保持面68aの傾きが調整されているため、ウエーハ11を均一な厚みに研削することができる。
上述した説明は本発明の原理を粗研削に適用した例について説明したが、仕上げ研削ユニット28による仕上げ研削にも同様に適用することができる。また、本発明の原理は、研磨装置にも同様に適用することができる。
上述した実施形態では、被加工物として半導体ウエーハ11を研削した例について説明したが、被加工物は半導体ウエーハ11に限定されるものではなく、光デバイスウエーハ、ガラス基板、セラミックス基板等の他の被加工物にも本発明を同様に適用することができる。
10 粗研削ユニット
11 ウエーハ
24 粗研削ホイール
26 粗研削砥石
28 仕上げ研削ユニット
44 ターンテーブル
68 吸引保持部
68a 保持面
80 固定支持部材
86 ヒータ
90 可動支持部材

Claims (1)

  1. 被加工物を研削する研削装置であって、
    被加工物を保持する円錐状の保持面を有するチャックテーブルと、該チャックテーブルを支持する該チャックテーブルと同心状に配設された3個以上の支持部材とを有し、該保持面の円錐軸を回転軸とした保持手段と、
    回転駆動されるスピンドルと、該スピンドルの先端に装着された研削ホイールとを有し、該チャックテーブルに保持された被加工物に該保持面の中心から外周に至る研削領域に研削加工を施す研削手段と、
    該研削手段で研削加工が施された被加工物の厚みを測定し、中凸又は中凹形状を検出する形状検出手段と、
    該形状検出手段で検出された被加工物の形状に基づいて、少なくとも前記支持部材のうちの一つを加熱又は冷却して該チャックテーブルの該保持面の傾きを変更する傾き変更手段と、
    を具備したことを特徴とする研削装置。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017104952A (ja) * 2015-12-10 2017-06-15 株式会社東京精密 研削装置
CN106903563A (zh) * 2017-04-10 2017-06-30 遵义顺峰汽车零部件制造有限公司 用于汽车套筒内壁的打磨装置
CN108177038A (zh) * 2016-12-08 2018-06-19 株式会社迪思科 磨削装置
CN114227457A (zh) * 2021-12-27 2022-03-25 北平机床(浙江)股份有限公司 一种磨床
KR20230162540A (ko) 2022-05-20 2023-11-28 가부시기가이샤 디스코 웨이퍼의 연삭 방법 및 연삭 장치

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5816895A (en) * 1997-01-17 1998-10-06 Tokyo Seimitsu Co., Ltd. Surface grinding method and apparatus
JPH11207615A (ja) * 1998-01-23 1999-08-03 Toshiba Corp 研削装置
JP2007054922A (ja) * 2005-08-25 2007-03-08 Toyo Advanced Technologies Co Ltd 板状被研削物の研削装置及び研削方法
JP2008264913A (ja) * 2007-04-18 2008-11-06 Disco Abrasive Syst Ltd 研削加工装置
JP2011136398A (ja) * 2009-12-28 2011-07-14 Disco Abrasive Syst Ltd 加工装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5816895A (en) * 1997-01-17 1998-10-06 Tokyo Seimitsu Co., Ltd. Surface grinding method and apparatus
JPH11207615A (ja) * 1998-01-23 1999-08-03 Toshiba Corp 研削装置
JP2007054922A (ja) * 2005-08-25 2007-03-08 Toyo Advanced Technologies Co Ltd 板状被研削物の研削装置及び研削方法
JP2008264913A (ja) * 2007-04-18 2008-11-06 Disco Abrasive Syst Ltd 研削加工装置
JP2011136398A (ja) * 2009-12-28 2011-07-14 Disco Abrasive Syst Ltd 加工装置

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017104952A (ja) * 2015-12-10 2017-06-15 株式会社東京精密 研削装置
CN108177038A (zh) * 2016-12-08 2018-06-19 株式会社迪思科 磨削装置
CN106903563A (zh) * 2017-04-10 2017-06-30 遵义顺峰汽车零部件制造有限公司 用于汽车套筒内壁的打磨装置
CN114227457A (zh) * 2021-12-27 2022-03-25 北平机床(浙江)股份有限公司 一种磨床
KR20230162540A (ko) 2022-05-20 2023-11-28 가부시기가이샤 디스코 웨이퍼의 연삭 방법 및 연삭 장치

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