JP5455609B2 - 研削装置及び該研削装置を使用したウエーハの研削方法 - Google Patents

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Description

本発明は、研削装置及び該研削装置を使用したウエーハの研削方法に関する。
IC、LSI等の数多くのデバイスが表面に形成され、且つ個々のデバイスが分割予定ライン(ストリート)によって区画された半導体ウエーハは、研削装置によって裏面が研削されて所定の厚みに加工された後、切削装置(ダイシング装置)によって分割予定ラインを切削して個々のデバイスに分割され、分割されたデバイスは携帯電話、パソコン等の電気機器に広く利用されている。
電気製品は常に小型化、薄型化が要求されるため、電気製品に搭載されるICやLSIも年々薄く小さくなってきている。そのため、ウエーハの状態で行われる研削加工は、700μm程度の厚みであるアズスライスウエーハを数十μmとう極薄の状態にまで研削する。
ウエーハの研削工程では、まず粗研削砥石が装着された粗研削手段(粗研削ユニット)で粗研削工程を実施し、粗研削されたウエーハを仕上げ研削砥石が装着された仕上げ研削手段(仕上げ研削ユニット)で仕上げ研削する。また必要に応じて、研削歪を除去し抗折強度を増強するために研磨工程を実施する(例えば、特開2001−28355号公報参照)。
従来の研削装置では、粗研削工程は粗研削砥石が装着された粗研削ユニットで実施し、仕上げ研削工程は粗研削ユニットに隣接して配置され、仕上げ研削砥石が装着された仕上げ研削ユニットで実施する構成が広く採用されている。
また、一つの研削ユニットに同心状に装着された二つのスピンドルを備え、一方のスピンドルに粗研削砥石を装着し、他方のスピンドルに仕上げ研削砥石を装着した構成の研削装置も提案されている(例えば、特開昭63−62650号公報参照)。
特開2001−28355号公報 特開昭63−62650号公報
研削装置でウエーハの裏面の研削を遂行する際、粗研削工程及び仕上げ研削工程を同時に開始して並行して行われるが、粗研削工程及び仕上げ研削工程の両方の工程が終了した後、それぞれの構成で加工されたウエーハは同時に次工程へ搬送される。しかし実際は、工程ごとに研削加工時間が異なる場合が多く、通常は、粗研削工程は仕上げ研削工程に比べて研削量が多いため、時間がかかる工程となっている。
よって、粗研削工程が加工時間のボトルネックとなることが多く、仕上げ研削工程では研削加工が終了しても次のウエーハの仕上げ研削を開始するまで待ち時間が生じているのが一般的であり、生産性が悪いという問題がある。
本発明はこのような点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、生産性よくウエーハを研削可能な研削装置及び研削方法を提供することである。
請求項1記載の発明によると、ウエーハの裏面を研削する研削装置であって、回転駆動される第1スピンドルと、該第1スピンドルの先端に装着された下端に複数の第1研削砥石を有する第1研削ホイールと、該第1スピンドルを回転駆動する第1駆動手段と、該第1スピンドルを研削送りする第1研削送り手段とを含んだ第1研削手段と、該第1研削手段に隣接して配設され、該第1研削手段で研削されたウエーハを研削する第2研削手段と、水平面内で回転可能に配設されたターンテーブルと、該ターンテーブルにそれぞれ回転可能に配設され、該第1及び第2研削手段で研削するウエーハを吸引保持する第1及び第2チャックテーブルとを具備し、該第2研削手段は、円筒状第2スピンドルと、該円筒状第2スピンドルの先端に装着された下端に複数の第2研削砥石を有する第2研削ホイールと、該円筒状第2スピンドルを回転駆動する第2駆動手段と、該円筒状第2スピンドルを研削送りする第2研削送り手段と、該円筒状第2スピンドル内に回転可能に配設された第3スピンドルと、該第3スピンドルの先端に装着された下端に複数の第3研削砥石を有する第3研削ホイールと、該第3スピンドルを回転駆動する第3駆動手段と、該第3スピンドルを研削送りする第3研削送り手段とを含んでおり、前記第1研削砥石は粗研削用の研削砥石から構成され、前記第2研削砥石は仕上げ研削用の研削砥石から構成され、前記第3研削砥石は粗研削用の研削砥石から構成され、ウエーハの研削時には、該第2及び第3スピンドルの先端に装着された該第2研削ホイール及び該第3研削ホイールの位置を調整することにより、該第2研削ホイール又は第3研削ホイールの何れかを単独で使用できるように選択可能に構成したことを特徴とする研削装置が提供される。
請求項記載の発明によると、請求項1記載の研削装置を使用したウエーハの研削方法であって、粗研削用の研削砥石での研削時間をx、仕上げ研削用の研削砥石での研削時間をxより短いyとしたとき、該第1研削手段で(x+y)/2で求められる時間、粗研削加工を実施する第1研削工程と、該第1研削手段で研削後のウエーハを該第2研削手段の該第3研削砥石を使用して、x−(x+y)/2で求められる時間、粗研削加工を実施する第2研削工程と、該第2研削手段の該第2研削砥石を使用して、yの時間仕上げ研削加工を実施する第3研削工程と、を具備したことを特徴とするウエーハの研削方法が提供される。
本発明の研削装置は複数の研削手段を備え、且つ少なくとも第2研削砥石及び第3研削砥石の何れか一方として仕上げ研削砥石を装着し他方として粗研削砥石を装着した第2研削手段では、第2研削砥石又は第3研削砥石の何れか一方を選択して使用できるため、本発明の研削方法では加工時間の異なる複数の研削工程を最も効率的に実行することができ、待ち時間を抑制して効率的な研削加工が可能となる。
研削加工前の半導体ウエーハの表面側斜視図である。 表面に保護テープが貼着された状態の半導体ウエーハの裏面側斜視図である。 本発明実施形態に係る研削装置の概略構成図である。 第2研削ユニットの一部断面正面図である。 第2研削ユニットの底面図である。 第2研削ユニットの円筒状スピンドルに研磨パッドを装着し、円筒状スピンドル内に同心状に設けられた中心スピンドルに研削砥石を装着した状態の底面図である。 本発明の研削方法を説明する一部断面正面図である。 本発明の研削方法を説明する一部断面正面図である。 本発明の研削方法を説明する一部断面正面図である。
以下、本発明実施形態を図面を参照して詳細に説明する。図1は所定の厚さに加工される前の半導体ウエーハの斜視図である。図1に示す半導体ウエーハ11は、例えば厚さが700μmのシリコンウエーハからなっており、表面11aに複数のストリート13が格子状に形成されているとともに、該複数のストリート13によって区画された各領域にそれぞれIC、LSI等のデバイス15が形成されている。
このように構成された半導体ウエーハ11は、デバイス15が形成されているデバイス領域17と、デバイス領域17を囲繞する外周余剰領域19を備えている。また、半導体ウエーハ11の外周には、シリコンウエーハの結晶方位を示すマークとしてのノッチ21が形成されている。
半導体ウエーハの研削工程に先立って、半導体ウエーハ11の表面11aには、保護テープ貼着工程によりデバイス15を保護する保護テープ23が貼着される。従って、半導体ウエーハ11の表面11aは保護テープ23によって保護され、図2に示すように裏面11bが露出する形態となる。
図3を参照すると、本発明実施形態に係る研削装置2の斜視図が示されている。4は研削装置2のベースであり、ベース4の後方には二つのコラム6a,6bが垂直に立設されている。コラム6aには、上下方向に伸びる一対のガイドレール(一本のみ図示)8が固定されている。
この一対のガイドレール8に沿って第1研削ユニット(第1研削手段)10が上下方向に移動可能に装着されている。第1研削ユニット10は、そのハウジング20が一対のガイドレール8に沿って上下方向に移動する移動基台12に取り付けられている。
第1研削ユニット10は、ハウジング20と、ハウジング20中に回転可能に収容されたスピンドル21と、スピンドル21を回転駆動するサーボモータ22と、スピンドル21の先端に固定された複数の粗研削用の研削砥石26をその下端に有する研削ホイール24を含んでいる。
第1研削ユニット10は、第1研削ユニット10を一対のガイドレール8に沿って上下方向に移動するボールねじ14と、パルスモータ16とから構成される第1研削送り機構18を備えている。パルスモータ16をパルス駆動すると、ボールねじ14が回転し、移動基台12が上下方向に移動される。
他方のコラム6bにも、上下方向に伸びる一対のガイドレール(一本のみ図示)19が固定されている。この一対のガイドレール19に沿って第2研削ユニット(第2研削手段)28が上下方向に移動可能に装着されている。
図4の一部断面正面図に最も良く示されるように、第2研削ユニット28は、そのハウジング36が一対のガイドレール19に沿って上下方向に移動する図示しない移動基台に取り付けられている。ハウジング36中には、一対の軸受39を介して円筒状スピンドル38が回転可能に取り付けられている。
円筒状スピンドル38の先端には、ホイール基台40と、ホイール基台40の下端(自由端部)に固定された仕上げ研削用の複数の研削砥石42から構成された仕上げ研削ホイール40が装着されている。
ハウジング36及びハウジング36中に回転可能に収容された円筒状スピンドル38は、ボールねじ30及びパルスモータ32とから構成される第2研削送り機構34により垂直方向に移動される。
ハウジング36の側面にはモータ44が装着されており、モータ44の出力軸46には駆動プーリ48が固定されている。一方、円筒状スピンドル38の外周には従動プーリ50が固定されており、駆動プーリ48及び従動プーリ50にわたり駆動ベルト52が巻回されている。モータ44を駆動すると、出力軸46、駆動プーリ48、駆動ベルト52及び従動プーリ50を介して円筒状スピンドル38が回転される。
円筒状スピンドル38内には、中心スピンドル54が円筒状スピンドル38と同心状に配設されている。中心スピンドル54は一対の軸受55により回転可能及び軸方向移動可能に支持されている。
中心スピンドル54の先端部にはホイール基台57と、ホイール基台57の下端(自由端部)に固定された複数の粗研削用の研削砥石58とから構成される粗研削ホイール56が装着されている。
中心スピンドル54の上端は移動基台62に固定されたモータ60に連結されている。移動基台62はボールねじ64及びパルスモータ66とから構成される第3研削送り機構68により一対のガイドレール70に沿って上下方向に移動される。
図5を参照すると、第2研削ユニット28の底面図が示されている。仕上げ研削ホイール40は、環状のホイール基台41の下端に複数のセグメント状の仕上げ研削砥石42が固定されて構成されており、粗研削ホイール56は、環状のホイール基台57の下端に複数のセグメント状の粗研削砥石58が固定されて構成されている。
第2研削ユニット28の変形例として、図6に示すように円筒状スピンドル38に研磨ホイール94を装着するようにしてもよい。即ち、環状のホイール基台41に変わって底面積の大きい環状のホイール基台43を円筒状スピンドル38の下端に装着し、環状のホイール基台43に研磨パッド96を固定して研磨ホイール94を構成する。
この場合には、中心スピンドル54の下端に環状のホイール基台57にセグメント状の複数の仕上げ研削砥石58Aを固定した仕上げ研削ホイール56Aを装着し、研削・研磨ユニット28Aとして利用する。
図3乃至図5を参照して説明した実施形態の第2研削ユニット28では、仕上げ研削砥石は細かい砥粒を含んでいるため磨耗が早いので、仕上げ研削ホイール40を円筒状スピンドル38に装着しているが、本発明の構成はこれに限定されるものではなく、円筒状スピンドル38に粗研削ホイールを装着し、中心スピンドル54に仕上げ研削ホイールを装着するようにしてもよい。
図3を再び参照すると、研削装置2は、コラム6a,6bの前側においてベース4の上面と略面一となるように配設されたターンテーブル72を具備している。ターンテーブル72は比較的大径の円盤状に形成されており、図示しない回転駆動機構によって矢印73で示す方向に回転される。
ターンテーブル72には、互いに円周方向に120度離間して3個のチャックテーブル74が水平面内で回転可能に配置されている。チャックテーブル74は、ポーラスセラミック材によって円盤状に形成された吸着チャックを有しており、吸着チャックの保持面上に載置されたウエーハを真空吸引手段を作動することにより吸引保持する。76は研削中のウエーハ厚みを測定する厚みゲージである。
ターンテーブル72に配設された3個のチャックテーブル74は、ターンテーブル72を適宜回転することにより、ウエーハ搬入・搬出領域A、粗研削加工領域B、粗研削・仕上げ研削加工領域C及びウエーハ搬入・搬出領域Aに順次移動される。
ベース4の前側部分には、第1のウエーハカセット78と、第2のウエーハカセット80と、ウエーハ搬送ロボット82と、複数の位置決めピン86を有する位置決めテーブル84と、ウエーハ搬入機構(ローディングアーム)88と、ウエーハ搬出機構(アンローディングアーム)90と、スピンナユニット92が配設されている。
このように構成された研削装置2を使用した本発明のウエーハの研削方法について以下に説明する。第1のウエーハカセット78中に収容された半導体ウエーハ11は、ウエーハ搬送ロボット82の上下動作及び進退動作によって搬送され、ウエーハ位置決めテーブル84に載置される。
ウエーハ位置決めテーブル84に載置されたウエーハは、複数の位置決めピン86によって中心合わせが行われた後、ローディングアーム88の旋回動作によってウエーハ搬入・搬出領域Aに位置せしめられているチャックテーブル74に載置され、チャックテーブル74によって吸引保持される。
次いで、ターンテーブル72が反時計回り方向に120度回転されて、ウエーハ11を保持したチャックテーブル74が粗研削加工領域Bに位置づけられる。本発明の研削方法では、ウエーハ11をまず粗研削した後、仕上げ研削をして研削が完了するが、粗研削ではウエーハ11の裏面を大量に研削するため、仕上げ研削に要する時間に比べて長時間必要である。
よって、本発明の研削方法では、最短時間で研削を完了させるため、第1研削ユニット10及び第2研削ユニット28を以下のように制御して研削を実行する。即ち、粗研削用の研削砥石での研削時間をx、仕上げ研削用の研削砥石での研削時間をxより短いyとしたとき、第1研削ユニット10では、(x+y)/2で求められる時間、粗研削加工を実施する。
具体的には、粗研削加工領域Bに位置づけられたチャックテーブル74に吸引保持されているウエーハに対して、チャックテーブル74を例えば300rpmで回転しつつ、粗研削ホイール24をチャックテーブル74と同一方向に例えば6000rpmで回転させるとともに、第1研削送り機構18を作動して粗研削用の研削砥石26をウエーハの裏面に接触させる。
そして、研削ホイール24を所定の研削送り速度で下方に所定量研削送りして、(x+y)/2で求められる時間ウエーハ11の粗研削を実施する。この状態が図7に示されており、粗研削・仕上げ研削加工領域Cに位置づけられているチャックテーブル74に対向する第2研削ユニット28はチャックテーブル74に対して上昇された状態で保持されている。
第1研削ユニット10でウエーハ11の粗研削が終了すると、ウエーハ11を保持したチャックテーブル74は、ターンテーブル72を反時計回り方向に更に120度回転することにより、粗研削・仕上げ研削加工領域Cに位置づけられる。そして、粗研削加工領域Bには、未研削のウエーハ11を保持したチャックテーブル74が位置づけられる。
この状態で、第2研削ユニット28の第3研削送り機構68を駆動して、図8に示すように、中心スピンドル54を下方に所定量研削送りしながらモータ60を駆動して、粗研削ホイール56によりx−(x+y)/2で求められる時間ウエーハ11の粗研削加工を更に実施する。
この粗研削ホイール56による粗研削加工では、チャックテーブル74を例えば300rpmで回転しつつ、粗研削ホイール56をチャックテーブル74と同一方向に例えば4000rpmで回転させて粗研削を遂行する。
第2研削ユニット28によるウエーハ11の粗研削と同時に、第1研削ユニット10では未研削のウエーハ11に対して(x+y)/2で求められる時間粗研削を遂行する。即ち、図8では、未研削のウエーハ11に対して第1研削ユニット10で粗研削を実施すると共に、第1研削ユニット10で粗研削されたウエーハ11に対して第2研削ユニット
28の粗研削ホイール56でx−(x+y)/2の間粗研削を更に実施する。
第2研削ユニット28での粗研削が完了すると、図9に示すように粗研削ホイール56を上昇させるとともに仕上げ研削ホイール40を下降させて、仕上げ研削砥石42を粗研削されたウエーハ11の裏面に当接させて、時間yの間仕上げ研削を実施する。尚、粗研削ホイール56と仕上げ研削ホイール40の交代作業時間を時間yに含むこともできる。
この仕上げ研削時にも、上述した粗研削と同様に、チャックテーブル74を例えば300rpmで回転しつつ、仕上げホイール40をチャックテーブル74と同一方向に例えば6000rpmで回転させて仕上げ研削を実施する。第2研削ユニット28の仕上げ研削ホイール40による仕上げ研削と並行して、第1研削ユニット10による粗研削を継続して実施する。
仕上げ研削を終了したウエーハ11を保持したチャックテーブル74は、ターンテーブル72を反時計回り方向に更に120度回転することにより、ウエーハ搬入・搬出領域Aに位置づけられる。チャックテーブル74がウエーハ搬入・搬出領域Aに位置づけられたならば、洗浄水噴射ノズル93から洗浄水を噴射して、チャックテーブル74を洗浄する。
チャックテーブル74に保持されているウエーハの吸引保持が解除されてから、ウエーハ搬出機構(アンローディングアーム)90でウエーハが吸着されて、アンローディングアーム90が旋回することによりスピンナユニット92に搬送される。
スピンナユニット92に搬送されたウエーハは、ここで洗浄されるとともにスピン乾燥される。次いで、ウエーハ搬送ロボット82により第2のウエーハカセット80の所定位置にウエーハ11が収容される。
2 研削装置
10 第1研削ユニット
11 半導体ウエーハ
28 第2研削ユニット
38 円筒状スピンドル
40 仕上げ研削ホイール
54 中心スピンドル
56 粗研削ホイール
72 ターンテーブル
74 チャックテーブル

Claims (2)

  1. ウエーハの裏面を研削する研削装置であって、
    回転駆動される第1スピンドルと、該第1スピンドルの先端に装着された下端に複数の第1研削砥石を有する第1研削ホイールと、該第1スピンドルを回転駆動する第1駆動手段と、該第1スピンドルを研削送りする第1研削送り手段とを含んだ第1研削手段と、
    該第1研削手段に隣接して配設され、該第1研削手段で研削されたウエーハを研削する第2研削手段と、
    水平面内で回転可能に配設されたターンテーブルと、
    該ターンテーブルにそれぞれ回転可能に配設され、該第1及び第2研削手段で研削するウエーハを吸引保持する第1及び第2チャックテーブルとを具備し、
    該第2研削手段は、
    円筒状第2スピンドルと、
    円筒状第2スピンドルの先端に装着された下端に複数の第2研削砥石を有する第2研削ホイールと、
    円筒状第2スピンドルを回転駆動する第2駆動手段と、
    円筒状第2スピンドルを研削送りする第2研削送り手段と、
    該円筒状第2スピンドル内に回転可能に配設された第3スピンドルと、
    該第3スピンドルの先端に装着された下端に複数の第3研削砥石を有する第3研削ホイールと、
    該第3スピンドルを回転駆動する第3駆動手段と、
    該第3スピンドルを研削送りする第3研削送り手段とを含んでおり、
    前記第1研削砥石は粗研削用の研削砥石から構成され、前記第2研削砥石は仕上げ研削用の研削砥石から構成され、前記第3研削砥石は粗研削用の研削砥石から構成され、
    ウエーハの研削時には、該第2及び第3スピンドルの先端に装着された該第2研削ホイール及び該第3研削ホイールの位置を調整することにより、該第2研削ホイール又は第3研削ホイールの何れかを単独で使用できるように選択可能に構成したことを特徴とする研削装置。
  2. 請求項1記載の研削装置を使用したウエーハの研削方法であって、
    粗研削用の研削砥石での研削時間をx、仕上げ研削用の研削砥石での研削時間をxより短いyとしたとき、
    該第1研削手段で(x+y)/2で求められる時間、粗研削加工を実施する第1研削工程と、
    該第1研削手段で研削後のウエーハを該第2研削手段の該第3研削砥石を使用して、x−(x+y)/2で求められる時間、粗研削加工を実施する第2研削工程と、
    該第2研削手段の該第2研削砥石を使用して、yの時間仕上げ研削加工を実施する第3研削工程と、
    を具備したことを特徴とするウエーハの研削方法。
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