KR960012333A - 기판처리장치 - Google Patents

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KR960012333A
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Abstract

전달축이 감소되며, 웨이퍼를 교환하기 위한 시간이 단축되며, 노광장치(노광시스템)에 제공된 프리얼라이먼트장치가 단순화되며, 또는 이와 같은 프리얼라이먼트장치의 필요성이 제거되어, 반도체 또는 다른 마이크로 장치의 대량생산에서 스루풋이 향상되도록 소형기판처리장치가 설계된다. 웨이퍼는 전달 아암에 의해 카세트로부터 운반된다. 전달 아암은 포토레지스트 코팅장치에서 웨이퍼를 전달하기 위해 스라이더 본체를 따라 이동된다. 포토레지스트의 코팅후, 웨이퍼는 위치결정장치에 의해 중심 및 회전각이 결정된다. 프리얼라이먼트된 상태를 유지하면서, 웨이퍼는 전달 아암을 통해 투사노광장치의 웨이퍼 홀더 위에 로드된다. 노광후, 웨이퍼 로더는 +X방향으로 이동되며, 웨이퍼는 현상장치에 속하는 전달 아암에 의해 언로드된다.

Description

기판처리장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 챔버 및 투사노광장치(aligner)의 제1칼럼이 단면으로 도시되는, 본 발명에 따르는 기판처리장치의 제1실시예가 적용된 반도체 소자 제조용 기판처리장치에 대한 평면도.

Claims (11)

  1. 기판위에 포토레지스트를 코팅하며, 소정기준을 가지고 상기 포토레지스트로 코팅된 기판을 정렬시키기 위한 프리얼라인먼트 장치를 가지는 시스템; 마스크 패턴의 상에 따라 광으로 상기 기판위의 상기 레지스트를 노광시키며, 그 상부에 유지된 상기 기판과 함께 움직일 수 있는 스테이지를 가진 시스템; 상기 기판위의 상기 노광된 포토레지스트를 현상하기 위한 시스템; 상기 정렬된 기판을 상기 스테이지에 전달하기 위해 상기 코팅시스템 위에 제공된 제1절단 시스템; 및 상기 스테이지로부터 노광된 포토레지스트를 가진 상기 기판을 받아들이고 상기 노광시스템으로부터 기판을 이동시키기 위해 상기 현상시스템 위에 제공된 제2전달시스템을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 제1전달시스템이 상기 정렬된 기판된 기판을 상기 스테이지로 전달하는 제1위치는 상기 제2전달시스템이 상기 스테이지로부터 상기 기판을 받아들이는 제2위치와 다르며, 상기 노광시스템은 상기 스테이지를 이동시킴으로써 상기 제1위치 및 상기 제2위치 사이에 상기 기판을 이동시키는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 제1전달시스템은 상기 정렬된 기판을 유지하기 위한 제1부재 및 상기 기판이 정렬된 상태로 유지되는 동안 상기 노광시스템에서 상기 프리얼라인먼트장치로부터 제1위치까지 전달되서 상기 제1위치에서 상기 스테이지로 상기 기판을 전달하도록 상기 제1부재를 구동하기 위한 장치를 가지며, 상기 제2전달시스템은 상기 제1위치와 다른 상기 노광시스템의 제2위치에 위치된 상기 스테이지로부터 상기 기판을 받아들이기 위한 제2부재 및 상기 기판이 상기 제2위치로부터 상기 현상시스템까지 전달되도록 상기 제2부재를 구동하기 위한 장치를 가지는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 코팅시스템, 상기 노광시스템 및 상기 현상시스템이 일렬로 배치되며, 상기 제1전달시스템에 의해 상기 노광시스템으로, 상기 기판의 로드 및 상기 제2전달시스템에 의해 상기 노광시스템으로부터 상기 기판의 언로드가 상기 노광시스템의 다른 측면에서 실행되는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  5. 제1항에 있어서, 상기 코팅시스템, 상기 노광시스템 및 상기 현상시스템이 제1기판처리시스템을 구성하기 위해 일렬로 배치되는 기판처리장치에 있어서, 상기 제1기판처리시스템에 평행하게 배치되며, 상기 코팅시스템, 상기 노광시스템 및 상기 현상시스템을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  6. 제1항에 있어서, 상기 코팅시스템 및 상기 현상시스템이 평행하게 배치되며, 상기 제1전달 시스템에 의해 상기 노광시스템으로 상기 기판의 로드 및 상기 제2전달시스템에 의해 상기 노광시스템으로부터 상기기판의 언로드가 상기 노광시스템의 동일 측면에서 실행되는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  7. 제1항에 있어서, 상기 코팅시스템을 수용하며, 상기 정렬된 기판을 통과시키기 위한 개구부를 가지는 제1챔버; 상기 노광시스템을 수용하며, 상기 정렬된 기판을 통과시키기 위한 개구부 및 노광된 포토레지스트를 가진 상기 기판을 통과시키기 위한 다른 개구부를 가지는 제2챔버; 및 상기 현상시스템을 수용하며, 노광된 포토레지스트를 가지는 상기 기판을 통과시키기 위한 개구부를 가지는 제3챔버를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  8. 기판위에 포토레지스트를 코팅하며, 소정기준을 가지고 상기 포토레지스트로 코팅된 기판을 정렬시키기 위한 프리얼라인먼트 장치를 가지는 시스템; 마스크 패턴의 상에 따라 광으로 상기 기판위의 상기 포토레지스트를 노광시키기 위해 상기 코팅시스템에 인접하여 배치되며, 그 상부에 유지된 상기 기판과 함께 움직일 수 있는 스테이지를 가진 노광시스템; 및 상기 스테이지로 상기 정렬된 기판을 전달하며, 상기 정렬된 기판을 받아들여 유지하기 위한 관절 암 및 상기 코팅시스템 상에서 아암을 움직이기 위한 이동부재를 가지는 전달시스템을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  9. 제8항에 있어서, 상기 코팅시스템을 수용하기 위한 제1챔버; 및 상기 노광시스템을 수용하기 위한 제2챔버를 더 포함하며, 상기 제1 및 제2챔버는 상기 정렬된 기판을 통과시키기 위한 각각의 개구부를 가지는 각각의 제1 및 제2챔버를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  10. 마스크 패턴의 상에 따라 광으로 기판위의 포토레지스트를 노광시키며, 그 상부에 유지된 상기 기판과 함께 움직일 수 있는 스테이지를 가지는 장치; 상기 기판위의 노광된 상기 포토레지스트를 현상하기 위해 상기 노광 시스템에 인접하여 배치되는 시스템; 및 상기 스테이지로부터 상기 현상시스템까지 노광된 포토레지스트를 가지는 상기 기판을 전달하며, 노광된 포토레지스트를 가지는 상기 기판을 받아들여 유지하는 관절 암 및 상기 현상시스템상에서 상기 암을 움직이기 위한 이동부재를 가지는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  11. 기판위의 포토레지스트를 코팅하며, 소정기준을 가지고 상기 포토레지스트로 코팅된 기판을 정렬시키기 위한 프리얼라인먼트 장치를 가지는 시스템; 마스크 패턴의 상을 따라 광으로 상기 기판위의 상기 포토레지스트를 현상하며, 그 상부에 유지된 상기 기판과 함께 움직일 수 있는 스테이지를 가지는 언로더 현상시스템; 및 상기 스테이지에서 상기 기판을 전달하기 위해 상기 코팅시스템에 설치되는 전달시스템을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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