KR960012183B1 - 용접캔용 표면처리강판 - Google Patents

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Abstract

내용없음

Description

용접캔용 표면처리강판
본 발명은 전해크로메이트 처리강판, 보다 상세하게는 용접성과 도장후의 표면외관이 뛰어난 고속저항심 용접캔(can, 罐)용의 표면처리강판에 관한 것이다.
강판의 표면에 하층으로서의 금속크롬층과, 상층으로서 크롬산화물을 주체로 하는 크롬수화산화물층으로 이루어진 피막이 형성된 전해크로메이트 처리강판은, 뛰어난 도장성 및 내식성을 소유하고, 더욱이 박판에 비해 값이 싸므로 청량음료등의 식음료캔, 페일캔, 18리터캔, 오일캔 등의 캔용 재료로서 널리 사용되고 있다. 이 전해크로메이트 처리강판은 일반적으로 하층의 0.005-0.02㎛ 정도의 두께의 금속크롬층과, 상층의 0.01∼0.02㎛ 정도의 두께의 수화크롬산화물층으로 이루어진 전해크로메이트 처리피막을 강판표면에 가지고 있다.
이와같은 전해크로메이트 처리피막을 형성시키는 방법으로는 무수크롬산을 주체로 하고, 조제로서 황산염이나 불소화합물의 1종 또는 2종을 첨가한 전해액중에 강판을 음극전해처리함으로써, 일거에 금속크롬층과 수화크롬산화물층을 형성시키는 1-스텝법과, 상기와 똑같은 전해액중에서 강판의 표면상에 금속크롬층과 수화크롬산화물층을 형성한 후 상기 수화크롬산화물층을 용해제거하고 이어서 또다시 재차 크롬산을 주체로하는 전해액중에서 음극전해처리하여 수화크롬산화물층을 형성시키는 2-스텝법이 있다.
그런데 전해크로메이트 처리강판은 종래의 드로잉가공에 의한 2 피스캔용, 및 유기수지나 특수시멘트등으로 이음매를 접합하는 접착캔(3 피스캔)용의 재료로 사용되고 있으나 이음매를 용접에 의해 접합하는 용접캔용의 재료로는 그다지 사용되고 있지 않다. 그이유는 전해크로메이트 처리강판의 용접성이 지극히 뒤떨어지기 때문이다.
그러나 근년에 이르러 강도 및 신뢰성이 높은 용접캔의 수요가 높아짐으로써 전해크로메이트 처리강판의 무연마용접성의 향상이 요구되고 있다.
전해크로메이트 처리강판의 용접성이 열등한 원인은 다음과 같다. 즉 도금층을 구성하는 상층의 크롬수화산화물층은 비도전성 및 비전열성을 가지고 있다. 따라서 전기저항심용접에 의해 이음매 부분인 캔 몸체의 길이방향 가장자리부분의 중첩부분을 용접하는 경우에 상층의 크롬수화산화물이 절연피막으로 되므로 접촉저항치(정적저항치)가 대단히 높게 된다.
접촉저항치는 용접시에 국부적인 과대전류가 흐르는가의 여부를 평가하기 위한 기준으로서 접촉저항치가 높을 경우에는 용접전류의 통로는 좁으므로, 국부적인 과대전류가 흐르기 쉽다. 그리고 상기와 같이 전해크로메이트 처리강판의 접촉저항치는 다른 용접캔용의 표면처리강판에 비해 극단적으로 높다.
따라서 용접개시직후의 용접전류는 낮으며, 일정시간 경과후에 비로서 소정의 용접전류치로 된다. 이결과 강판이 국부적으로 발열하고 그결과 스프래시가 발생하든가 용접부분에 블로우 홀등의 용접결함이 생긴다.
이때문에 종래에는 전해크로메이트 처리강판을 용접할 경우 용접부분의 전해크로메이트 처리피막을 연마등에 의해서 제거하지 않으면 안되고, 이때문에 많은 수고가 필요하게 되어 있었다.
상술한 문제를 해결하는 방법으로서 금속크롬층의 전면에 각 형상의 돌기부를 형성시켜, 용접가공시에 상층의 절연피막인 크롬수화산화물층을 이 단단한 각 형상의 돌기물로 눌러부숨으로써 피막의 용접저항치를 저하시켜, 용접을 가능하게 하는 방법이 알려져 있다.
이와같은 전면에 각 형상의 돌기물이 형성된 금속크롬(이하「입상금속크롬」이라 함)층을 갖는 전해크로메이트 처리강판은 무연마심용접성이 개선된 재료가고 말할 수 있다.
그러나 이 종류의 전해크로메이트 처리강판을 용접할 경우, 그 캔 몸체의 길이방향 가장자리부분의 중첩부에 있어서 캔 내외면의 발열·냉각 특성을 보면, 통상 내면측의 전극로울의 직경은 외면측 전극로울의 직경에 비해 작기 때문에 캔 내면측이 발열하기 쉽고 또는 내면측의 냉각효율도 외면측과 비교해서 양호하지 않으므로 내면의 소재끝부분으로부터 용융물질의 스프레시 또는 플래시가 발생하기 쉽고 또 용접 너켓도 내면쪽으로 편재되어 형성된다는 결점이 있다.
이와같은 문제에 대해서 본 출원인은 이전에 일본국 특개소 63-35797호에 있어서 음극전해크로메이트 처리도중에 있어서 강판의 편면에 적어도 1회의 양극전해처리를 시행함으로써 강판편면에 입상금속크롬이 형성되고 또한 다른 면측에는 입상금속크롬이 전혀 형성되지 않은 강판을 제조하는 것을 내용으로 하는 전해크로메이트 처리강판의 제조방법을 제안했다.
이 제조방법은, 강판의 다른 면측에서의 입상금속크롬의 형성을 억제함으로써 캔 내면측에서의 접촉저항치를 외면측에 대해서 상대적으로 작게하고 이것에 의해 캔을 만들때 캔의 내외면의 발열량을 균일화하고 내면측에서의 스프래시 발생을 방지한다는 사상에 기초한 것이다.
그러나 본 발명자등에 의한 그후의 검토에 의하면 상기 제조방법에 의해 얻어지는 전해크로메이트 처리강판은, 그 용접성이 반디시 충분하지는 않다는 것이 명확하게 되었다. 그 이유로서는,
(a) 상기 제조법에 의해 얻어지는 강판은 캔의 외면측에서의 입상금속크롬의 형성이 충분하게 억제되지 않으므로 캔 제조시의 캔의 내외면의 발열차의 해소가 충분하지 않다.
(b) 상기 제조법에 의해 얻어지는 강판은 피막간의 접촉저항이 전극과 피막간의 접촉저항에 비해 낮으므로 피막 사이에서의 발열이 작으며, 이 때문에 너켓이 연속되기 어렵다. 이 때문에 특히 너켓피치가 큰 용접에 있어서는 충분한 용접허용 전류범위가 확보되지 않는다.
등을 생각할 수 있다. 여하간에 뛰어난 용접성을 얻기 위해서는 강판양면의 피막구조에 대해서는 보다 치밀한 설계가 필요하다는 것이 명백해졌다.
또한 캔의 외면에는 방청이나 스크래치에 대한 보호, 또는 의장등을 위해 미려한 도장인쇄가 시행되는 것이 통례이다. 이 도장인쇄 마무리성도 근년에 특히 중요시되어온 특성이며, 인쇄후의 색조가 밝고 인쇄안료의 본래의 색을 살릴 수 있는 강판이 요구되고 있다.
또 강판의 금속광택을 살리기 위해서 투명 도료를 사용할 경우에는 강판면에 금속백색의 휘광을 요구하도록 되어 있다.
그러나 상기 제조방법에 의해 얻어지는 강판은 이와같은 도장후의 외관성에 있어서도 인쇄도장후의 표면외관이 어둡고, 색조의 변화를 일으키기 쉬운 것이 명백해졌다.
본 발명은 이와같은 종래의 문제를 해결하기 위해서 이루어진 것으로서, 그 목적은 무연마에서 고속심용접특성이 뛰어나며, 더욱이 외면의 도장인쇄의 마무리성도 뛰어난 용접캔용 전해크로메이트 처리강판을 제공함에 있다.
본 발명자등은 전해크로메이트 처리강판의 무연마에서의 고속저항심용접에 관해서, 특히 피막의 접촉저항과 소재의 발열이나 전도냉각 특성과의 관계 및 용접 너켓의 형성 특성에 대해서 상세한 검토를 했다. 그결과, 용접특성을 개선하기 위해서는 캔용 접부외면과 전극과의 접촉계면에서의 저항발열, 소재접합계면에서의 저항발열 및 캔용 접부내면과 전극과의 접촉계면에서의 저항발열에 대해서 3자의 비율을 최적화하고, 또한 전극에 의한 내외면으로부터의 냉각의 비율을 최적화하는 것이 중요하다는 것을 발견했다.
그리고 이와같은 지견에 의거해서 재차 검토를 진행한 결과 상기의 각 비율을 최적화하기 위해서는,
(a) 캔 외면이 되는 강판의 편면에 대해서는 그 입상금속크롬의 양을 단지 저감시키는 정도로는 충분하지 않다는 것,
(b) 강판 각 면의 피막의 부착량을 각각 엄밀하게 규정할 필요가 있는 것,
(c) 캔의 내면이되는 강판면에 형성되는 입상금속크롬에 대해서도 전극가압시에 접촉전기저항을 낮추는 효과가 있는 것은 소정의 입경 이상의 입자이고, 따라서 단순하게 입상금속크롬을 형성시키는 것만으로는 충분치 않으며, 상기와 같은 소정의 입경 이상의 입자의 형성밀도를 엄밀하게 규정할 필요가 있는 것,
(d) 똑같은 이유로 상기 캔의 외면이되는 강판의 편면측의 입상금속크롬의 양에 대해서도 소정의 입경이상의 입자의 형성밀도를 엄밀하게 규정할 필요가 있는 것을 발견했다.
그리고 이와같은 관점에서 강판 양면의 피막구조를 규정함으로써 강판의 편면에 존재하는 입상금속크롬에 의해서 크롬수화산화물을 눌러서 파괴하여, 통전경로의 확보와 국소발열의 저지를 도모할 수가 있을 뿐 아니라,
(i) 캔의 내외면의 발열차를 적절하게 해소할 수 있을 것,
(ii) 소재접합계면의 접촉저항이 전극·피막간의 접촉저항에 대해서 너무 낮게 되지 않으면서 최적의 비율로 얻어지며, 이결과, 접합에 충분한 발열이 일어나고 너켓도 연속화하기 쉽다는 것을 판명했다.
또 이 용접특성의 검토와 함께 전해크로메이트 처리강판의 금속크롬층의 입상화의 정도와 도장인쇄후의 표면외관이나 색조와의 관계에 대해서도 상세한 검토를 했다. 그결과, 입상금속크롬의 존재밀도가 높아짐에 따라서 소재표면에서의 투과반사가시광중 짧은 파장의 빛을 산란흡수하기 쉽고, 또 그 정도도 존재밀도에 비례해서 크게되며, 그결과, 도장인쇄후의 표면외관이 어둡고 또 색상도 적색계가 강조되므로 색조의 변화를 일으키기 쉬운 결점을 가지고 있음이 명백해졌다. 즉 도장인쇄되는 외면측에 사용되는 강판면에 대해서는 입상금속크롬이 존재하지 않는가, 또는 비교적 입경이 큰 입자의 밀도가 극단적으로 낮지 않으면 안되는 것이 판명되고, 따라서 상기와 같은 전해크로메이트 처리강판은 용접특성의 개선과 함께 도장인쇄후의 뛰어난 표면외관을 얻을 수 있는 것도 발견했다.
본 발명은 이상과 같은 지견에 기초해서 이루어진 것으로서 상기한 목적을 달성하기 위해서 본 발명은 전해크로메이트 처리강판의 양면중 편면의 전해크로메이트 처리피막을 대입경의 입상금속크롬의 형성밀도가 높은 금속크롬층을 가지고 있는 피막구조로 하고 또 다른쪽면의 전해크로메이트 처리피막을 판상의 금속크롬층(즉 입상금속크롬이 형성되어 있지 않은 금속크롬층)을 가지고 있는 피막의 구조로 하든가 또는 대입경의 입상금속크롬의 형성밀도가 극히 낮은 금속크롬층을 가지고 있는 피막구조로 하는 것이다.
이와같은 본 발명은 다음과 같은 각 양태를 포함하고 있다.
1. 용접캔용의 표면처리강판으로서, 강판의 편면에는 강판면에 부착된 입상금속크롬의 집합체로 이루어지고 그 입상금속크롬층 직경이 0.03㎛ 이상의 입자가 30개/㎛²이상 존재하고, 또한 부착량이 30~150㎎/㎡ 인 금속크롬층과, 그 상층에 형성되는 부착량(금속크롬환산)이 3~15㎎/㎡ 인 크롬수화산화물층으로 된 전해크로메이트 처리피막을 가지고 있으며, 강판의 다른쪽면에는 강판면에 판상으로 부착된 금속크롬층과 그 상부에 형성된 입상금속크롬으로 이루어지고 이 입상크롬층 직경이 0.03㎛ 이상인 입자자 15개/㎛²미만이고, 또한 부착량이 30∼150㎎/㎡ 인 금속크롬층과, 그 상층에 형성되는 부착량(금속크롬환산)이 3~30㎎/㎡ 의 수화산화물층으로 이루어진 전해크로메이트 처리피막을 가지고 있다.
2. 용접캔용의 표면처리강판으로서, 강판의 편면에는 강판면에 판상으로부터 부착된 금속크롬과 그 상부에 형성된 입상금속크롬으로 이루어지고 이 입상금속크롬층 직경이 0.03㎛ 이상인 입자가 50∼300개/㎛²이상 존재하고, 또한 부착량이 50∼150㎎/㎡ 인 금속크롬층과, 그 상층에 형성되는 부착량(금속크롬환산)이 3∼15㎎/㎡ 인 크롬수화산화물으로 된 전해크로메이트 처리피막을 가지고 있으며, 강판의 다른쪽면에는 강판면에 판상으로 부착한 금속크롬과 그 상부에 형성된 입상금속크롬으로 이루어지며 이 입상금속크롬층 직경이 0.03㎛ 이상인 입자가 15개/㎛²미만이며, 또한 부착량이 30∼150㎎/㎡ 인 금속크롬층과, 그 상층에 형성되는 부착량(금속크롬환산)이 3∼30㎎/㎡ 의 금속 크롬수화산화물으로 된 전해크로메이트 처리피막을 가지고 있다.
3. 용접캔용 표면처리강판으로서, 강판의 편면에는 강판면에 부착한 입상금속크롬의 집합체로 이루어지고 이 입상금속크롬층 직경이 0.03㎛ 이상인 입자가 30개/㎛²이상 존재하고 또한 부착량이 30∼150㎎/㎡ 인 금속크롬층과, 그 상층에 형성되는 부착량(금속크롬환산)이 3∼15㎎/㎡ 인 크롬수화산화물으로 된 전해크로메이트 처리피막을 가지고 있고, 강판의 다른쪽면에는, 강판면에 부착된 입상금속크롬의 집합체로 이루어지며, 이 입상금속크롬층 직경이 0.03㎛ 이상인 입자가 15개/㎛²미만이고, 또한 부착량이 30∼150㎎/㎡ 인 금속크롬층과, 그 상층에 형성되는 부착량(금속크롬환산)이 3~30㎎/㎡ 인 크롬수화산화물으로 이루어진 전해크로메이트 처리피막을 가지고 있다.
4. 용접캔용 표면처리강판으로서, 강판의 편면에는 강판면에 판상으로 부착한 금속크롬과, 그 상부에 형성된 입상금속크롬으로 이루어지고 이 입상금속크롬층 직경이 0.03㎛ 이상인 입자가 50∼300개/㎛²이상 존재하고 또한 부착량이 50~150㎎/㎡ 인 금속크롬층과 그 상층에 형성되는 부착량(금속크롬환산)이 3∼15㎎/㎡인 크롬수화산화물층으로 이루어지는 전해크로메이트 처리피막을 가지고 있고, 강판의 다른쪽면에는 강판면에 부착한 입상금속크롬의 집합체로 이루어지며 이 입상금속크롬층 직경이 0.03㎛ 이상인 입자가 15개/㎛²미만이고, 또한 부착량이 30∼150㎎/㎡ 인 금속크롬층과, 그 상층에 형성되는 부착량(금속크롬환산)이 3~30㎎/㎡ 인 크롬수화산화물층으로 이루어진 전해크로메이트 처리피막을 가지고 있다.
5. 용접캔용의 표면처리강판으로서, 강판의 편면에는 강판면에 부착한 입상금속크롬의 집합체로 이루어지고 이 입상금속크롬층 직경이 0.03㎛ 이상인 입자가 30개/㎛²이상 존재하고 또한 부착량이 30∼150㎎/㎡ 인 금속크롬층과, 그 상층에 형성되는 부착량(금속크롬환산)이 3∼15㎎/㎡ 인 크롬수화산화물으로 된 전해크로메이트 처리피막을 가지고 있고, 강판의 다른쪽면에는 강판면에 판상으로 부착한 금속크롬으로 이루어지고 또한 부착량이 30∼150㎎/㎡ 인 금속크롬층과, 그 상층에 형성되는 부착량(금속크롬환산)이 3∼30㎎/㎡ 인 크롬수화산화물층으로 이루어지는 전해크로메이트 처리피막을 가지고 있다.
6. 용접캔용의 표면처리강판으로서, 강판의 편면에는 강판면에 부착한 금속크롬과 그 상부에 형성된 입상금속크롬으로 이루어지고, 이 입상금속크롬층 직경이 0.03㎛ 이상인 입자가 50∼300개/㎛²이상 존재하고 또한 부착량이 50~150㎎/㎡ 인 금속크롬층과, 그 상층에 형성되는 부착량(금속크롬환산)이 3~15㎎/㎡ 인 크롬수화산화물층으로 이루어지는 전해크로메이트 처리피막을 가지고 있으며, 강판의 다른쪽면에는 강판면에 판상으로 부착된 금속크롬으로 이루어지고 또한 부착량이 30~150㎎/㎡ 인 금속크롬층과, 그 상층에 형성되는 부착량(금속크롬환산) 이 3∼30㎎/㎡ 인 크롬수화산화물층으로 이루어지는 전해크로메이트 처리피막을 가지고 있다.
이하 본 발명을 상세하게 설명한다.
본 발명은 전해크로메이트 처리강판의 양면중 편면의 전해크로메이트 처리피막을 대입경 입상금속크롬의 형성밀도가 높은 금속크롬층을 가지고 있는 피막구조로 하고, 또 다른쪽면의 전해크로메이트 처리피막을 판상의 금속크롬층(즉 입상금속크롬이 형성되어 있지 않은 금속크롬층)을 가지고 있는 피막구조로 하든가 또는 대입경 입상금속크롬의 형성밀도가 극히 낮은 금속크롬층을 가지고 있는 피막구조로 하는 것을 기본으로 하고 있다.
입상금속크롬을 형성시키는 방법으로서는,
(a) 크롬도금에 앞서 전처리로서 도금욕속에서 양극전해처리를 실시하는 방법,
(b) 크롬도금도중에 미소한 양극전해처리를 행하는 방법,
(c) 크롬도금도중에 무통전시간을 설정한 단속도금방법,
등, 다양한 방법이 있다. 본 발명 처리강판에 관해서는 이것들 어느 방법이라도 적용이 가능하므로, 이들 방법을 대상이 되는 강판면에 적용해서 소망의 입상금속크롬을 가지고 있는 금속크롬층을 얻는다.
상기 전처리에 의한 방법에서는 금속크롬도금이나 크롬수화산화물에 의한 피복 형성을 위한 음극전해처리에 있어서 통상 사용되고 있는 욕중에서 대상이 되는 강판면을 전해크로메이트 처리에 앞서 양극전해처리하여 2㎎/㎡ 이하의 극히 얇은 크롬수화산화물 피막을 전해처리면에 석출시킨다.
이 피막은 다수의 미소불연속부분을 가지고 있으므로 계속되는 전해크로메이트 처리의 크롬도금에 의해서 강판표면에 입상금속크롬의 집합체로 된 금속크롬 피막이 형성된다. 즉 이 처리방식에서는, 강판표면에 직접 입상금속크롬이 형성된 피막구조로 얻어진다.
또 상기 크롬도금도중에 양극전해처리를 행하는 방법이나, 전해처리를 중단하는 방법에서는 크롬도금이나 크롬수화산화물에 의한 피복의 형성을 위한 음극전해처리에 있어서 통상 사용되고 있는 욕중에서 처리의 대상이 강판면에 도금도중 양극전해처리를 하든가 또는 도금후 전해처리를 중단하고, 그런뒤 처리의 대상인 강판면에 또다시 도금을 함으로써 입상금속크롬을 생성시키기가 쉬운(즉 음이온 함유율이 낮은 극히 엷은) 크롬수화산화물 피막을, 강판면에 부착되어 있는 판상의 금속크롬위에 형성시킨다.
이 크롬수화산화물 피막을 국소적으로 음이온을 가지고 있는 미소불연속부분을 갖고 있고, 이 때문에 계속되는 전해크로메이트 처리에 의한 크롬도금에 의해서 판상의 금속크롬표면의 전면에 입상금속크롬이 형성된다.
즉 이 처리방식에서는 강판표면에 금속크롬이 판상으로 형성되며, 또한 그위에 입상금속크롬이 형성된 피막구조가 얻어진다.
강판의 편면(대입경 입상금속크롬의 형성밀도가 높은 금속크롬층을 갖고 있으면)에 형성되는 금속크롬층으로서는 강판면에 부착한 입상금속크롬의 집합체로 이루어진 구조의 것과 강판면에 판상으로 부착된 금속크롬의 상부에 입상 금속크롬이 형성된 구조의 것이 있으며, 상기한 바와같은 적절한 처리방식을 채용함으로써 이것들 중의 임의의 피막구조를 얻을 수가 있다.
상기의 2개의 피막구조중 금속크롬층의 입상금속크롬의 집합체로 된 경우에는 그 금속크롬층의 금속크롬부착량을 30∼150㎎/㎡ 로 한다.
부착량이 30㎎/㎡ 미만에서는 입상금속크롬의 성장이 불충분하므로 캔의 내면과 전극과의 사이에서의 접촉저항이 충분히 저하하지 않고, 또 소재계면에서의 접촉저항도 높게되므로 소망의 효과는 얻을 수 없다.
또한 금속크롬층은 입상금속크롬의 집합체로서 형성되므로 부착량이 30㎎/㎡ 미만에서는 입자의 성장이 불충분하며, 이때문에 강판표면의 피복이 불완전하게 되고 내식성도 떨어진다.
한편 150㎎/㎡ 을 초과하는 부착량으로도 목적으로 하는 효과는 충분히 안정하게 얻어지나, 비경제적이므로 150㎎/㎡ 를 상한으로 했다.
또 입상금속크롬은 그 입경과 입자의 밀도가 중요하며, 대입경이 입상금속크롬이 높은 밀도로 형성될 필요가 있다. 구체적으로 직경이 0.03㎛ 이상인 입자가 30개/㎛²이상 필요하다. 금속크롬층은 입상금속크롬의 집합체로 형성되기 때문에 표면에는 통상 수백개/㎛²이상의 입자가 존재한다.
그러나 그것들중 전극가압시에 전기저항을 낮추는 효과가 있는 입자는 비교적 큰 입자이므로, 직경이 0.03㎛ 미만인 입자에 대해서는 그와같은 효과는 별로 기대할 수 없다. 또 비교적 입경이 큰 입자라해도 이것들이 국소적으로 편재한 분포상태에서는 충분한 효과를 얻을 수 없으므로 그 갯수의 밀도는 30개/㎛²이상으로 할 필요가 있다.
한편 상기 피막의 구조중 금속크롬층이 강판면에 판상으로 부착한 금속크롬과 그 상부에 형성된 입상금속크롬으로 된 경우에는 그 금속크롬층의 금속크롬 부착량을 50∼150㎎/㎡ 로 한다.
부착량이 50㎎/㎡ 미만으로는 내식성은 유지된다고 해도, 입상금속크롬의 성장이 불충분하므로 캔의 내면과 전극과의 사이에서의 접촉저항이 충분히 저하하지 않고, 또 소재의 계면에서의 접촉저항도 높게되므로 소망의 효과는 얻을 수 없다. 한편 150㎎/㎡ 를 초과하는 부착량으로도 목적으로 하는 효과는 충분히 안정하게 얻어지나 비경제적이므로 150㎎/㎡ 를 상한으로 했다.
또 이 피막의 구조라해도 대입경 입상의 금속크롬이 높은 밀도로 형성될 필요가 있으며 이 경우에는 직경이 0.03㎛ 이상인 입자가 50~300개/㎛²필요하다. 상기한 바와같이 전극가압시에 전기저항을 낮추는 효과가 있는 입자는, 비교적 큰 입자이므로 직경이 0.03㎛ 미만인 입자로는 그와같은 효과는 기대할 수 없다.
또 상기와 같이 금속크롬층이 판상의 금속크롬과 그 상부의 입상금속크롬으로 이루어지는 피막구조에서는 입상금속크롬의 석출이 그 밑의 금속크롬의 결정방위의 영향을 약간 받는 경향이 있다. 즉 이 피막구조에서는 입상금속크롬만으로 된 금속크롬층의 경우와 비교해서 입상금속크롬의 편재가 생기기 쉽다. 따라서 이와같은 피막구조에서는 금속크롬층이 입상금속크롬만으로 된 피막구조에 비해 입상금속크롬에 의한 효과를 충분하게 얻기 위해서 필요로 하는 입자밀도의 하한이 높다. 즉 입상금속크롬에 의한 효과를 충분하게 얻기 위해서는 50개/㎛²이상의 밀도가 필요하다.
또 소망의 효과를 얻음에 있어서 상기의 갯수에는 상한은 없으나 300개를 초과하는 입자를 형성시키면 금속크롬의 부착량도 많아지므로 300개/㎛²을 상한으로 했다.
이상과 같은 입상금속크롬이 전면에 형성되는 강판면에서는 전해크로메이트 처리에 의해 금속크롬층의 상층에 불가피하게 크롬수화산화물층이 형성된다. 이 크롬수화산화물층은, 내식성, 도장성을 확보함에 있어서 필요한 것이다. 이 크롬수화산화물층의 부착량은 금속크롬환산으로 3∼15㎎/㎡ 로 한다. 부착량이 3㎎/㎡ 미만으로는 내식성이 떨어지며, 한편 부착량이 15㎎/㎡ 을 초과하면 캔의 내면과 전극의 사이의 전기저항의 저감화가 곤란하게 된다.
강판의 다른쪽면에 대해서는 입상금속크롬이 형성되지 않는 금속크롬층(즉 판상의 금속크롬층)이나 혹은 대입경 입상금속크롬의 형성밀도가 상기 편면에 비교해서 극히 낮은 금속크롬층이 형성된다.
이 강판면에 대입경 입상금속크롬이 어느 레벨이상의 밀도로 형성되면, 소재접합계면에서의 접촉저항이 피막과 전극과의 계면에서의 접촉저항과 비교해서 너무 저하되어 접합부분에서의 발열을 충분하게 얻을 수 없다.
상기 대입경 입상금속크롬이 극히 낮은 밀도로 형성되는 경우, 이 금속크롬층으로서도 강판면에 부착한 입상금속크롬의 집합체로 이루어진 구조의 것과 강판면에 판상으로 부착된 금속크롬의 상부에 입상금속크롬이 형성된 구조의 것이 있다. 그리고 상기한 바와같은 적절한 처리방식을 채용함으로써 이들중 임의의 피막구조를 얻을 수가 있다.
즉, 통상, 전자의 피막구조을 얻기에는 전처리로서 도금욕속에서 양극전해처리를 실시하는 방법이 채택된다.
또 후자의 피막구조를 얻으려면 크롬도금후에 미소한 양극전해처리를 행하는 방법, 또는 크롬도금도중에 무통전시간을 설정하는 단속도금방법등이 채택된다. 단, 이 강판의 다른쪽면에 대해서 크롬도금후에 미소한 양극전해처리를 행할 경우에는 양극전해처리후에 재차 음극전해처리를 시행하면 대입경 입상금속크롬의 형성량이 지나치게 많아져서 본 발명의 규정하는 밀도의 상한을 초과해버린다. 따라서 양극전해처리후의 음극전해처리는 이 강판면에는 실시하지 않는 것이 필요하다.
상기한 바와같이 이 강판면에서는 대입경의 입상의 금속크롬의 형성량을 극단으로 억제함이 중요하므로, 그 입자밀도는 상기한 피막구조가 다른 것에 구애되지 않고 입상금속크롬중 직경이 0.03㎛ 이상인 입자가 15개/㎛²미만인 것이 필요하다. 전극 가압시에 전기저항을 낮추는 효과가 있는 입자는 직경이 0.03㎛ 이상인 비교적 큰 입자이므로, 이와같은 입자가 15개/㎛²이상의 밀도로 되면, 부분적이긴하나 접촉저항을 낮추기 시작하므로 본 발명 강판의 목적으로 하는 효과가 기대될 수 없게 된다.
또 인쇄도장후의 표면외관이 어둡고, 표면의 색조도 좋지 않다.
상술한 특개소 63-35797호는 음극전해크로메이트 처리도중에 있어서 강판의 편면에 적어도 1회의 양극전해처리를 함으로써, 강판의 편면에 입상금속크롬이 형성되며, 또한 다른 면쪽에는 입상금속크롬이 전혀 형성되지 않는 전해크로메이트 처리강판을 제조하는 것을 그 내용으로 하고 있다.
그러나 이 방법에 의해 얻어지는 강판의 다른 면쪽의 금속크롬은, 입상금속크롬이 전혀 형성되지 않는다고 말하나, 그 형성밀도의 레벨은 상기 본 발명의 강판의 하한보다도 꽤 높은 것이다. 즉 이 강판의 다른 면쪽에 있어서 0.03㎛ 이상의 대입경 입상금속크롬의 형성밀도는 적어도 20개/㎛²전후이고, 이와같은 형성밀도로는 상기한 바와같은 본 발명의 효과는 전혀 기대할 수 없다.
본 발명자등의 검토에 의하면 이와같은 일본국 특개소 63-35797호의 제조방법에 있어서 강판의 다른 면쪽에도 어느정도의 양의 입상금속크롬이 불가피하게 형성되는 것은, 이 방법이 음극전해처리도중에서 편면에 양극전해처리를 시행한 후 당해 편면만 아니라 다른 편면에 대해서도 음극전해처리를 시행하기 때문인것이 판명되었다. 따라서 상술한 본 발명의 강판을 음극전해처리도중에 강판의 편면에 중간양극 전해를 시행하는 것에 대해 제조할 경우(상술한 크롬도금도중에 미소한 양극전해처리를 행할 경우)에는 중간양극전해처리후의 음극전해처리는 중간양극전해처리를 시행한 강판의 핀면에만 시행하는 것이 필수의 조건이 된다.
이 금속크롬층의 금속크롬 부착량은 상술한 피막구조가 상위한 것에 상관없이 30∼150㎎/㎡ 로 한다. 이 부착량이 30㎎/㎡ 미만에서는 강판표면의 피복이 불충분하므로 피복의 방식이 완전하게 이루어지지 않으며, 이때문에 내식성도 떨어진다. 한편 150㎎/㎡ 을 초과하는 부착량으로도 목적으로 하는 효과는 충분히 안정되어 얻을 수 있으나 비경제적이므로 150㎎/㎡ 을 상한으로 했다.
이 강판면에 대해서도 전해크로메이트 처리에 의해 크롬수화산화물층이 불가피하게 형성된다. 상기한 바와같이 이 크롬수화산화물층은 내식성·도장성을 확보함에 있어서 필요한 것이다.
이 크롬수화산화물층의 부착량은 금속크롬환산으로 3∼30㎎/㎡ 로 한다. 부착량이 3㎎/㎡ 미만으로는 내식성이 떨어지며, 또 접촉저항도 작게되기 쉽다. 한편 부착량이 30㎎/㎡ 를 초과하면 용접성면에서는 특히 별문제가 없으나, 약간 비경제적으로도 되며 또 표면이 이 수화산화물로 착색되기 쉽고 표면의 부착량의 불균형에 의해 외관에 얼룩이 생기기 쉽다. 이때문에 30㎎/㎡ 을 상한으로 했다.
(실시예)
이하 본 발명의 실시예를 설명한다.
(실시예 1)
판두께 0.22mm 및 판두께 0.32mm의 두종류의 냉연강판에 대해, 이하와 같은 공정의 처리를 행했다.
30g/수산화나트륨 용액중에서 전해탈지→수세→5g/의 황산수용액중에서 전해산세척→수세→이하에 표시하는 조건으로 편면에만 전처리를 실시→이하에 표시하는 조건으로 양면에 전해크로메이트 처리를 실시→수세→건조.
· 전처리조건
처리액 무수크롬산 100g/
황산 1g/
온도 25℃
전해처리방법 양극전해처리
양극전류밀도 10A/dm²
양극전해처리시간 0.3초
· 전해크로메이트 처리조건
처리액 무수크롬산 175g/
Na2SiF65g/
Na2SO40.9g/
온도 42℃
전해처리방법 음극단속전해처리
음극전류밀도 40A/dm²
양극처리시간 0.3초
단속반복 4회
단속시 무통전시간 0.3초
(실시예 2)
판두께 0.2mm 및 판두께 0.32mm의 두종류의 냉연강판에 대해 이하와 같은 공정의 처리를 행했다.
30g/수산화나트륨 용액중에서 전해탈지→수세→5g/의 황산수용액속에서 전해산세척→수세→하기 전해크로메이트 처리조건중의 (a)에 표시하는 조건으로 양면에 전해크로메이트 처리를 실시→같은 욕속에서 (b)에 표시하는 조건으로 편면에 중간양극처리를 실시→상기 중간양극처리를 실시한 면에만 (a)에 표시하는 조건으로 전해크로메이트 처리를 실시→수세→건조.
처리액 무수크롬산 175g/
Na2SiF65g/
Na2SO40.9g/
온도 40℃
(a) 전해처리방법 음극단속전해처리
음극전류밀도 40A/dm²
음극처리시간 0.3초
단속반복 2회
단속시 무통전시간 0.3초
(b) 전해처리방법 양극전해처리
양극전류밀도 4A/dm²
양극처리시간 0.3초
(실시예 3)
판두께 0.22mm 및 판두께 0.32mm의 두종류의 냉연강판에 대해 이하와 같은 공정의 처리를 행했다.
30g/수산화나트륨 용액중에저 전해탈지→수세→5g/의 황산수용액속에서 전해산세척→수세→하기(A)에 표시하는 조건으로 양면에 전해크로메이트 처리를 실시→10초간 침지한 후, 하기(B)에 표시하는 조건으로 편면에만 전해크로메이트 처리를 실시→수세→건조.
(A) 전해크로메이트 처리조건
처리액 무수크롬산 175g/
Na2SiF65g/
Na2SO40.9g/
온도 45℃
전해처리방법 음극단속전해처리
음극전류밀도 40A/dm²
음극처리시간 0.3초
단속반복 2회
단속시 무통전시간 0.3초
(B) 전해크로메이트처리조건
처리액 무수크롬산 175g/
Na2SiF65g/
Na2SO40.9g/
온도 45℃
전해처리방법 음극단속전해처리
음극전류밀도 40A/dm²
음극처리시간 0.3초
단속반복 2회
단속시 무통전시간 0.3초
(실시예 4)
판두께 0.22mm 및 판두께 0.32mm의 두종류의 냉연강판에 대해 이하와 같은 공정의 처리를 행했다.
30g/수산화나트륨 용액중에서 전해탈지→수세→5g/ℓ의 황산수용액속에서 전해산세척→수세→이하에 표시하는 조건으로 편면에만 전처리를 실시→이하에 표시하는 조건으로 양면에 전해크로메이트 처리를 실시→수세→건조.
(A) 전해크로메이트 처리조건
처리액 무수크롬산 100g/
황산 1g/
온도 25℃
전해처리방법 양극전해처리
양극전류밀도 10A/dm²
양극전해처리시간 0.3초
· 전해크로메이트 처리조건
처리액 무수크롬산 175g/
Na2SiF65g/
Na2SO40.9g/
온도 42℃
전해처리방법 음극단속전해처리
음극전류밀도 80A/dm²
음극처리시간 0.3초
단속반복 2회
단속시 무통전시간 0.3초
(실시예 5)
판두께 0.22mm 및 판두께 0.32mm의 두종류의 냉연강판에 대해 이하와 같은 공정의 처리를 행했다.
30g/수산화나트륨 용액중에서 전해탈지→수세→5g/의 황산수용액중에서 전해산세척→수세→이하에 표시하는 조건으로 편면에만 전처리를 실시→이하에 표시하는 조건으로 양면에 전해크로메이트 처리를 실시→수세→건조.
· 전처리조건
처리액 무수크롬산 100g/
황산 1g/
온도 25℃
전해처리방법 양극전해처리
양극전류밀도 10A/dm²
양극전해처리시간 0.3초
· 전해크로메이트 처리조건
처리액 무수크롬산 175g/
Na2SiF65g/
Na2SO40.9g/
온도 45℃
전해처리방법 음극단속전해처리
음극전류밀도 80A/dm²
음극처리시간 0.3초
단속반복 2회
단속시 무통전시간 0.3초
(실시예 6)
판두께 0.22mm 및 판두께 0.32mm의 두종류의 냉연강판에 대해 이하와 같은 공정의 처리를 행했다.
30g/수산화나트륨 용액중에서 전해탈지→수세→5g/의 황산수용액중에서 전해산세척→수세→하기 전해크로메이트 처리조건중의 (a)에 표시하는 조건으로 양면에 전해크로메이트 처리를 실시→동일한 욕중에서 (b)에 표시하는 조건으로 편면에만 중간양극처리를 실시→상기 중간양극처리를 실시한 면에만 (a)에 표시하는 조건으로 전해크로메이트 처리를 실시→수세→건조.
처리액 무수크롬산 175g/
Na2SiF65g/
Na2SO40.9g/
온도 40℃
(a) 전해처리방법 음극단속전해처리
음극전류밀도 80A/dm²
음극처리시간 0.2초
단속반복 2회
단속시 무통전시간 0.5초
(b) 전해처리방법 양극전해처리
양극전류밀도 4A/dm²
양극처리시간 0.3초
(실시예 7)
판두께 0.22mm 및 판두께 0.32mm의 두종류의 냉연강판에 대해 이하와 같은 공정의 처리를 행했다.
30g/수산화나트륨 용액중에서 전해탈지→수세→5g/ℓ의 황산수용액속에서 전해산세척→수세→하기 전해크로메이트 처리조건중의 (a)에 표시하는 조건으로 양면에 전해크로메이트 처리를 실시→동일한 욕중에서 (b)에 표시하는 조건으로 편면에만 중간양극처리를 실시→상기 중간양극처리를 실시한 면에만 (a)에 표시하는 조건으로 전해크로메이트 처리를 실시→수세→건조.
처리액 무수크롬산 175g/
Na2SiF65g/
Na2SO40.9g/
온도 40℃
(a) 전해처리방법 음극단속전해처리
음극전류밀도 40A/dm²
음극처리시간 0.3초
단속반복 2회
단속시 무통전시간 0.3초
(b) 전해처리방법 양극전해처리
양극전류밀도 0.5A/dm²
양극처리시간 0.3초
(실시예 8)
판두께 0.22mm 및 판두께 0.32mm의 두종류의 냉연강판에 대해 이하와 같은 공정의 처리를 행했다.
30g/수산화나트륨 용액중에서 전해탈지→수세→5g/의 황산수용액속에서 전해산세척→수세→하기 전해크로메이트 처리조건중의 (a)에 표시하는 조건으로 양면에 전해크로메이트 처리를 실시→동일한 욕중에서 (b)에 표시하는 조건으로 편면에만 중간양극처리를 실시→상기 중간양극처리를 실시한 면에만 (a)에 표시하는 조건으로 전해크로메이트 처리를 실시→수세→건조.
처리액 무수크롬산 175g/
Na2SiF65g/
Na2SO40.9g/
온도 40℃
(a) 전해처리방법 음극단속전해처리
음극전류밀도 30A/dm²
음극처리시간 0.3초
단속반복 2회
단속시 무통전시간 0.3초
(b) 전해처리방법 양극전해처리
양극전류밀도 4A/dm²
양극처리시간 0.3초
(실시예 9)
판두께 0.22mm 및 판두께 0.32mm의 두종류의 냉연강판에 대해 이하와 같은 공정의 처리를 행했다.
30g/수산화나트륨 용액중에서 전해탈지→수세→5g/의 황산수용액속에서 전해산세척→수세→이하에 표시하는 조건으로 양면에 전처리를 실시→이하에 표시하는 조건으로 양면에 전해크로메이트 처리를 실시→수세→건조.
· 전처리조건
처리액 무수크롬산 100g/
황산 1g/
온도 25℃
전해처리방법 양극전해처리
양극전류밀도 편면 : 10A/dm²
다른면 : 1A/dm²
양극처리시간 편면 : 0.3초
다른면 : 0.3초
· 전해크로메이트 처리조건
처리액 무수크롬산 175g/
Na2SiF65g/
Na2SO40.9g/
온도 42℃
전해처리방법 음극단속전해처리
음극전류밀도 40A/dm²
음극처리시간 0.3초
단속반복 4회
단속시 무통전시간 0.3초
(실시예 10)
판두께 0.22mm 및 판두께 0.32mm의 두종류의 냉연강판에 대해 이하와 같은 공정의 처리를 행했다.
30g/수산화나트륨 용액속에서 전해탈지→수세→5g/의 황산수용액속에서 전해산세척→수세→이하에 표시하는 조건으로 양면에 전처리를 실시→이하에 표시하는 조건으로 양면에 전해크로메이트 처리를 실시→수세→건조.
· 전처리조건
처리액 무수크롬산 100g/
황산 1g/
온도 25℃
전해처리방법 양극전해처리
양극전류밀도 편면 : 10A/dm²
다른면 : 1A/dm²
양극처리시간 편면 : 0.3초
다른면 : 0.3초
· 전해크로메이트 처리조건
처리액 무수크롬산 175g/
Na2SiF65g/
Na2SO40.9g/
온도 45℃
전해처리방법 음극단속전해처리
음극전류밀도 40A/dm²
음극처리시간 0.3초
단속반복 4회
단속시 무통전시간 0.3초
(실시예 11)
판두께 0.22mm 및 판두께 0.32mm의 두종류의 냉연강판에 대해 이하와 같은 공정의 처리를 행하였다.
30g/수산화나트륨 용액속에서 전해탈지→수세→5g/의 황산수용액중에서 전해산세척→수세→이하에 표시하는 조건으로 편면에 전처리를 실시→이하에 표시하는 조건으로 양면에 전해크로메이트 처리를 실시→수세→건조.
· 전처리조건
처리액 무수크롬산 100g/
황산 1g/
온도 25℃
전해처리방법 양극전해처리
음극전류밀도 10A/dm²
양극전해처리시간 0.3초
· 전해크로메이트 처리조건
처리액 무수크롬산 175g/
Na2SiF65g/
Na2SO40.9g/
온도 42℃
전해처리방법 음극단속전해처리
음극전류밀도 30A/dm²
음극처리시간 0.3초
단속반복 2회
단속시 무통전시간 0.3초
(실시예 12)
판두께 0.22mm 및 판두께 0.32mm의 두종류의 냉연강판에 대해 이하와 같은 공정의 처리를 행했다.
30g/수산화나트륨 용액중에서 전해탈지→수세→5g/의 황산수용액중에서 전해산세척→수세→이하에 표시하는 조건으로 편면에 전처리를 실시→하기 전해크로메이트 처리조건중의 (a)에 표시하는 조건으로 양면에 전해크로메이트 처리를 실시→동일한 욕중에 있어서 상기 전처리를 한면과 반대측면에만 (b)에 표시하는 조건에서 중간양극처리를 실시→상기 중간양극처리를 실시한 면에만 (a)에 표시하는 조건으로 전해크로메이트 처리를 실시→수세→건조.
· 전처리조건
처리액 무수크롬산 100g/
황산 1g/
온도 25℃
전해처리방법 양극전해처리
음극전류밀도 10A/dm²
양극처리시간 0.3초
· 전해크로메이트 처리조건
처리액 무수크롬산 175g/
Na2SiF65g/
Na2SO40.9g/
온도 50℃
(a) 전해처리방법 음극단속전해처리
음극전류밀도 30A/dm²
음극처리시간 0.3초
단속반복 2회
단속시 무통전시간 0.3초
(b) 전해처리방법 양극전해처리
양극전류밀도 4A/dm²
양극처리시간 0.3초
(실시예 13)
판두께 0.22mm 및 판두께 0.32mm의 두종류의 냉연강판에 대해 이하와 같은 공정의 처리를 행했다.
30g/수산화나트륨 용액속에서 전해탈지→수세→5g/의 황산수용액중에서 전해산세척→수세→이하에 표시하는 조건으로 편면에만 전처리를 실시→이하에 표시하는 조건으로 전해크로메이트 처리를 실시→이하에 표시하는 조건으로 양면에 후처리를 실시→수세→건조.
· 전처리조건
처리액 무수크롬산 100g/
황산 1g/
온도 25℃
전해처리방법 양극전해처리
음극전류밀도 10A/dm²
양극전해처리시간 0.3초
· 전해크로메이트 처리조건
처리액 무수크롬산 175g/
Na2SiF65g/
Na2SO40.9g/
온도 42℃
전해처리방법 음극단속전해처리
음극전류밀도 4A/dm²
음극처리시간 0.3초
단속반복 4회
단속시 무통전시간 0.3초
· 후처리조건
처리액 무수크롬산 50g/
온도 45℃
전해처리방법 음극전해처리
음극전류밀도 10A/dm²
음극전해처리시간 0.3초
(실시예 14)
판두께 0.22mm 및 판두께 0.32mm의 두종류의 냉연강판에 대해 이하와 같은 공정의 처리를 행했다.
30g/수산화나트륨 용액중에서 전해탈지→수세→5g/의 황산수용액중에서 전해산세척→수세→이하 전해크로메이트 처리조건중의 (a)에 표시하는 조건으로 양면에 전해크로메이트 처리를 실시→동일한 욕중에서 (b)에 표시하는 조건으로 판면에만 중간양극처리를 실시→상기 중간양극처리를 실시한 면에만 (a)에 표시하는 조건으로 전해크로메이트 처리를 실시→이하에 표시하는 조건으로 양면에 후처리를 실시→수세→건조.
· 전해크로메이트 처리조건
처리액 무수크롬산 175g/
Na2SiF65g/
Na2SO40.9g/
온도 40℃
(a) 전해처리방법 음극단속전해처리
음극전류밀도 40A/dm²
음극처리시간 0.3초
단속반복 2회
단속시 무통전시간 0.3초
(b) 전해처리방법 양극전해처리
양극전류밀도 4A/dm²
양극처리시간 0.3초
·후처리조건
처리액 무수크롬산 50g/
온도 45℃
전해처리방법 음극전해처리
음극전류밀도 10A/dm²
음극전해처리시간 0.3초
(실시예 15)
판두께 0.22mm 및 판두께 0.32mm의 두종류의 냉연강판에 대해 이하와 같은 공정의 처리를 행했다.
30g/수산화나트륨 용액중에서 전해탈지→수세→5g/의 황산수용액중에서 전해산세척→수세→이하에 표시하는 조건으로 편면에만 전처리를 실시→이하에 표시하는 조건으로 양면에 전해크로메이트 처리를 실시→수세→건조.
· 전처리조건
처리액 무수크롬산 100g/
황산 1g/
온도 25℃
전해처리방법 양극전해처리
양극전류밀도 10A/dm²
양극전해처리시간 0.3초
· 전해크로메이트 처리조건
처리액 무수크롬산 175g/
Na2SiF65g/
Na2SO40.9g/
온도 40℃
전해처리방법 음극연속전해처리
음극전류밀도 160A/dm²
음극처리시간 0.3초
(실시예 16)
판두께 0.22mm 및 판두께 0.32mm의 두종류의 냉연강판에 대해 다음과 같은 공정의 처리를 행했다.
30g/수산화나트륨 용액중에서 전해탈지→수세→5g/의 황산수용액중에서 전해산세척→수세→이하에 표시하는 조건으로 편면에만 전처리를 실시→이하에 표시하는 조건으로 양면에 전해크로메이트 처리를 실시→수세→건조.
· 전처리조건
처리액 무수크롬산 175g/
Na2SiF65g/
Na2SO40.9g/
온도 40℃
전해처리방법 양극전해처리
음극전류밀도 5A/dm²
음극처리시간 0.3초
· 전해크로메이트 처리조건
처리액 무수크롬산 175g/
Na2SiF65g/
Na2SO40.9g/
온도 45℃
전해처리방법 음극연속전해처리
음극전류밀도 160A/dm²
음극처리시간 0.3초
(실시예 17)
판두께 0.22mm 및 판두께 0.32mm의 두종류의 냉연강판에 대해 다음과 같은 공정의 처리를 행했다.
30g/수산화나트륨 용액중에서 전해탈지→수세→5g/의 황산수용액중에서 전해산세척→수세→하기 전해크로메이트 처리조건중의 (a)에 표시하는 조건으로 양면에 전해크로메이트 처리를 실시→같은 욕중에서 (b)에 표시하는 조건으로 편면에만 중간양극처리를 실시→상기 중간양극처리를 실시한 면에만 (a)에 표시하는 조건으로 전해크로메이트 처리를 실시→수세→건조.
처리액 무수크롬산 175g/
Na2SiF65g/
Na2SO40.9g/
온도 45℃
(a) 전해처리방법 음극연속전해처리
음극전류밀도 100A/dm²
음극처리시간 0.3초
(b) 전해처리방법 양극전해처리
양극전류밀도 2A/dm²
양극처리시간 0.3초
(실시예 18)
판두께 0.22mm 및 판두께 0.32mm의 두종류의 냉연강판에 대해 다음과 같은 공정의 처리를 행했다.
30g/의 수산화나트륨 용액중에서 전해탈지→수세→5g/의 황산수용액중에서 전해산세척→수세→하기 전해크로메이트 처리조건중의 (a)에 표시하는 조건으로 양면에 전해크로메이트 처리를 실시→같은 욕중에서 (b)에 표시하는 조건으로 편면에만 중간양극처리를 실시→상기 중간양극처리를 실시한 면에만 (a)에 표시하는 조건으로 전해크로메이트 처리를 실시→이하에 표시하는 조건으로 양면에 후처리를 실시→수세→건조.
· 전해크로메이트 처리조건
처리액 무수크롬산 175g/
Na2SiF65g/
Na2SO40.9g/
온도 45℃
(a) 전해처리방법 음극연속전해처리
음극전류밀도 100A/dm²
음극처리시간 0.3초
(b) 전해처리방법 양극전해처리
양극전류밀도 2A/dm²
양극처리시간 0.3초
·후처리조건
처리액 무수크롬산 50g/
NH4F 0.5g/
온도 45℃
전해처리방법 음극전해처리
음극전류밀도 20A/dm²
음극전해처리시간 0.5초
(실시예 19)
판두께 0.22mm 및 판두께 0.32mm의 두종류의 냉연강판에 대해 다음과 같은 공정의 처리를 행했다.
30g/수산화나트륨 용액중에서 전해탈지→수세→5g/의 황산수용액속에서 전해산세척→수세→하기 (A)에 표시하는 조건으로 양면에 전해크로메이트 처리를 실시→10초간 침지한 후 (B)에 표시하는 조건으로 편면에만 전해크로메이트 처리를 실시→수세→건조.
(A) 전해크로메이트 처리조건
처리액 무수크롬산 175g/
Na2SiF65g/
Na2SO40.9g/
온도 35℃
전해처리방법 음극연속전해처리
음극전류밀도 80A/dm²
음극처리시간 0.3초
(B) 전해크로메이트 처리조건
처리액 무수크롬산 175g/
Na2SiF65g/
Na2SO40.9g/
온도 45℃
전해처리방법 음극연속전해처리
음극전류밀도 80A/dm²
음극처리시간 0.3초
(실시예 20)
판두께 0.22mm 및 판두께 0.32mm의 두종류의 냉연강판에 대해 다음과 같은 공정의 처리를 행했다.
30g/수산화나트륨 용액중에서 전해탈지→수세→5g/의 황산수용액중에서 전해산세척→수세→이하에 표시하는 조건으로 편면에만 전처리를 실시→이하에 표시하는 조건으로 양면에 전해크로메이트 처리를 실시→수세→건조.
· 전처리조건
처리액 무수크롬산 100g/
황산 1g/
온도 25℃
전해처리방법 양극전해처리
양극전류밀도 10A/dm²
양극전해처리시간 0.3초
· 전해크로메이트 처리조건
처리액 무수크롬산 175g/
Na2SiF65g/
Na2SO40.9g/
온도 46℃
전해처리방법 음극연속전해처리
음극전류밀도 160A/dm²
음극처리시간 0.3초
(실시예 21)
판두께 0.22mm 및 판두께 0.32mm의 두종류의 냉연강판에 대해 다음과 같은 공정의 처리를 행했다.
30g/수산화나트륨 용액중에서 전해탈지→수세→5g/의 황산수용액중에서 전해산세척→수세→하기 전해크로메이트 처리조건중의 (a)에 표시하는 조건으로 양면에 전해크로메이트 처리를 실시→같은 욕중에서 (b)에 표시하는 조건으로 편면에만 중간양극처리를 실시→상기 중간양극처리를 실시한 면에만 (a)에 표시하는 조건으로 전해크로메이트 처리를 실시→수세→건조.
처리액 무수크롬산 175g/
Na2SiF65g/
Na2SO40.9g/
온도 45℃
(a) 전해처리방법 음극연속전해처리
음극전류밀도 100A/dm²
음극처리시간 0.3초
(b) 전해처리방법 양극전해처리
양극전류밀도 0.5A/dm²
양극처리시간 0.3초
(실시예 22)
판두께 0.22mm 및 판두께 0.32mm의 두종류의 냉연강판에 대해 다음과 같은 공정의 처리를 행했다.
30g/수산화나트륨 용액중에서 전해탈지→수세→5g/의 황산수용액중에서 전해산세척→수세→이하에 표시하는 조건으로 편면에만 전처리를 실시→이하에 표시하는 조건으로 양면에 전해크로메이트 처리를 실시→수세→건조.
· 전처리조건
처리액 무수크롬산 175g/
Na2SiF65g/
Na2SO40.9g/
온도 40℃
전해처리방법 양극전해처리
양극전류밀도 5A/dm²
양극처리시간 0.3초
· 전해크로메이트 처리조건
처리액 무수크롬산 175g/
Na2SiF65g/
Na2SO40.9g/
온도 45℃
전해처리방법 음극연속전해처리
음극전류밀도 160A/dm²
음극처리시간 0.1초
(실시예 23)
판두께 0.22mm 및 판두께 0.32mm의 두종류의 냉연강판에 대해 다음과 같은 공정의 처리를 행했다.
30g/수산화나트륨 용액중에서 전해탈지→수세→5g/의 황산수용액중에서 전해산세척→수세→하기 전해크로메이트 처리조건중의 (a)에 표시하는 조건으로 양면에 전해크로메이트 처리를 실시→같은 욕중에서 (b)에 표시하는 조건으로 편면에만 중간양극처리를 실시→상기 중간양극처리를 실시한 면에만 (a)에 표시하는 조건으로 전해크로메이트 처리를 실시→수세→건조.
처리액 무수크롬산 175g/
Na2SiF65g/
Na2SO40.9g/
온도 45℃
(a) 전해처리방법 음극연속전해처리
음극전류밀도 150A/dm²
음극처리시간 0.1초
(b) 전해처리방법 양극전해처리
양극전류밀도 2A/dm²
양극처리시간 0.3초
(실시예 24)
판두께 0.22mm 및 판두께 0.32mm의 두종류의 냉연강판에 대해 다음과 같은 공정의 처리를 행했다.
30g/수산화나트륨 용액중에서 전해탈지→수세→5g/의 황산수용액중에서 전해산세척→수세→이하에 표시하는 조건으로 편면에만 전처리를 실시→이하에 표시하는 조건으로 양면에 전해크로메이트 처리를 실시→이하에 표시하는 조건으로 양면에 전해크로메이트 처리를 실시→이하에 표시하는 조건으로 양면에 후기를 실시→수세→건조.
· 전처리조건
처리액 무수크롬산 175g/
Na2SiF65g/
Na2SO40.9g/
온도 40℃
전해처리방법 양극전해처리
양극전류밀도 5A/dm²
양극처리시간 0.3초
· 전해크로메이트 처리조건
처리액 무수크롬산 175g/
Na2SiF65g/
Na2SO40.9g/
온도 45℃
전해처리방법 음극연속전해처리
음극전류밀도 160A/dm²
음극처리시간 0.3초
·후처리조건
처리액 무수크롬산 50g/
온도 45℃
전해처리방법 음극전해처리
음극전류밀도 10A/dm²
음극처리시간 0.3초
(실시예 25)
판두께 0.22mm 및 판두께 0.32mm의 두종류의 냉연강판에 대해 다음과 같은 공정의 처리를 행했다.
30g/수산화나트륨 용액중에서 전해탈지→수세→5g/의 황산수용액중에서 전해산세척→수세→하기 전해크로메이트 처리조건중의 (a)에 표시하는 조건으로 양면에 전해크로메이트 처리를 실시→동일한 욕중에서 (b)에 표시하는 조건으로 편면에만 중간양극처리를 실시→상기 중간양극처리를 실시한 면에만 (a)에 표시하는 조건으로 전해크로메이트 처리를 실시→이하에 표시하는 조건으로 양면에 후처리를 실시→수세→건조.
· 전해크로메이트 처리조건
처리액 무수크롬산 175g/
Na2SiF65g/
Na2SO40.9g/
온도 45℃
(a) 전해처리방법 음극연속전해처리
음극전류밀도 100A/dm²
음극처리시간 0.3초
(b) 전해처리방법 양극전해처리
양극전류밀도 2A/dm²
양극처리시간 0.3초
·후처리조건
처리액 무수크롬산 50g/
온도 45℃
전해처리방법 음극전해처리
음극전류밀도 10A/dm²
음극처리시간 0.3초
(비교예 1)
판두께 0.22mm 및 판두께 0.32mm의 두종류의 냉연강판에 대해 다음과 같은 공정의 처리를 행했다.
30g/수산화나트륨 용액중에서 전해탈지→수세→5g/의 황산수용액속에서 전해산세척→수세→(A)에 표시하는 조건으로 양면에 전처리를 실시→(B)에 표시하는 조건으로 양쪽면에 전해크로메이트 처리를 실시→수세→건조.
(A) 전처리조건
처리액 무수크롬산 100g/
황산 1g/
온도 25℃
전해처리방법 양극전해처리
양극전류밀도 10A/dm²
양극전해처리시간 0.3초
(B) 전해크로메이트 처리조건
처리액 무수크롬산 175g/
Na2SiF65g/
Na2SO40.9g/
온도 40℃
전해처리방법 음극연속전해처리
음극전류밀도 160A/dm²
음극처리시간 0.3초
(비교예 2)
판두께 0.22mm 및 판두께 0.32mm의 두종류의 냉연강판에 대해 다음과 같은 공정의 처리를 행했다.
30g/수산화나트륨 용액중에서 전해탈지→수세→5g/의 황산수용액속에서 전해산세척→수세→하기에 표시하는 조건으로 양면에 침지처리에 의한 전처리를 실시→이하에 표시하는 조건으로 양쪽면에 전해크로메이트 처리를 실시→수세→건조.
· 전처리(침치처리)조건
처리액 무수크롬산 100g/
황산 1g/
온도 25℃
· 전해크로메이트 처리조건
처리액 무수크롬산 175g/
Na2SiF65g/
Na2SO40.9g/
온도 42℃
전해처리방법 음극연속전해처리
음극전류밀도 40A/dm²
음극처리시간 0.3초
단속반복 4회
단속시 무통전시간 0.3초
(비교예 3)
판두께 0.22mm 및 판두께 0.32mm의 두종류의 냉연강판에 대해 다음과 같은 공정의 처리를 행했다.
30g/수산화나트륨 용액중에서 전해탈지→수세→5g/의 황산수용액속에서 전해산세척→수세→이하에 표시하는 조건으로 양면에 전해크로메이트 처리를 실시→수세→건조.
처리액 무수크롬산 175g/
Na2SiF65g/
Na2SO40.9g/
온도 45℃
전해처리방법 음극연속전해처리
음극전류밀도 160A/dm²
음극처리시간 0.3초
(비교예 4)
판두께 0.22mm 및 판두께 0.32mm의 두종류의 냉연강판에 대해 다음과 같은 공정의 처리를 행했다.
30g/수산화나트륨 용액중에서 전해탈지→수세→5g/의 황산수용액중에서 전해산세척→수세→하기 전해크로메이트 처리조건중의 (a)에 표시하는 조건으로 양면에 전해크로메이트 처리를 실시→동일한 욕중에서 (b)에 표시하는 조건으로 양면에 중간양극처리를 실시→(a)에 표시하는 조건으로 양면에 전해크로메이트 처리를 실시→건조.
· 전해크로메이트 처리조건
처리액 무수크롬산 175g/
Na2SiF65g/
Na2SO40.9g/
온도 40℃
(a) 전해처리방법 음극단속전해처리
음극전류밀도 40A/dm²
음극처리시간 0.3초
단속반복 2회
단속시무통전시간 0.3초
(b) 전해처리방법 양극전해처리
양극전류밀도 4A/dm²
양극처리시간 0.3초
(비교예 5)
판두께 0.22mm 및 판두께 0.32mm의 두종류의 냉연강판에 대해 다음과 같은 공정의 처리를 행했다.
30g/수산화나트륨 용액중에저 전해탈지→수세→5g/의 황산수용액속에서 전해산세척→수세→하기에 표시하는 조건으로 양면에 전해크로메이트 처리를 실시→이하에 표시하는 조건으로 양면에 후처리를 실시→수세→건조.
처리액 무수크롬산 175g/
Na2SiF65g/
Na2SO40.9g/
온도 45℃
전해처리방법 음극연속전해처리
음극전류밀도 100A/dm²
음극처리시간 0.3초
(비교예 6)
판두께 0.22mm 및 판두께 0.32mm의 두종류의 냉연강판에 대해 다음과 같은 공정의 처리를 행했다.
30g/수산화나트륨 용액중에서 전해탈지→수세→5g/의 황산수용액중에서 전해산세척→수세→이하에 표시하는 조건으로 양면에 전해크로메이트 처리를 실시→이하에 표시하는 조건으로 양면에 후처리를 실시→수세→건조.
· 전해크로메이트 처리조건
처리액 무수크롬산 175g/
Na2SiF65g/
Na2SO40.9g/
온도 45℃
전해처리방법 음극연속전해처리
음극전류밀도 100A/dm²
음극처리시간 0.3초
· 후처리조건
처리액 무수크롬산 50g/
Na4F 0.5g/
온도 45℃
전해처리방법 음극전해처리
음극전류밀도 20A/dm²
음극처리시간 0.5초
(비교예 7)
판두께 0.22mm 및 판두께 0.32mm의 두종류의 냉연강판에 대해 다음과 같은 공정의 처리를 행했다.
30g/수산화나트륨 용액중에서 전해탈지→수세→5g/의 황산수용액중에서 전해산세척→수세→하기 (A)에 표시하는 조건으로 양면에 전해크로메이트 처리를 실시→10초간 침지한 후 (B)에 표시하는 조건으로 양면에 전해크로메이트 처리를 실시→수세→건조.
(A) 전해크로메이트 처리조건
처리액 무수크롬산 175g/
Na2SiF65g/
Na2SO40.9g/
온도 45℃
전해처리방법 음극단속전해처리
음극전류밀도 40A/dm²
음극처리시간 0.3초
단속반복 2회
단속시무통전시간 0.3초
· 전해크로메이트 처리조건
처리액 무수크롬산 175g/
Na2SiF60.5g/
Na2SO40.9g/
온도 45℃
전해처리방법 음극단속전해처리
음극전류밀도 40A/dm²
음극처리시간 0.3초
단속반복 2회
단속시무통전시간 0.3초
(비교예 8)
판두께 0.22mm 및 판두께 0.32mm의 두종류의 냉연강판에 대해 다음과 같은 공정의 처리를 행했다.
30g/수산화나트륨 용액중에서 전해탈지→수세→5g/의 황산수용액속에서 전해산세척→수세→하기 (A)에 표시하는 조건으로 양면에 전해크로메이트 처리를 실시→(B)에 표시하는 조건으로 편면에만 전해크로메이트 처리를 실시→수세→건조.
(A) 전해크로메이트 처리조건
처리액 무수크롬산 175g/
Na2SiF65g/
Na2SO40.9g/
온도 35℃
전해처리방법 음극연속전해처리
음극전류밀도 80A/dm²
음극처리시간 0.3초
(B ) 전해크로메이트 처리조건
처리액 무수크롬산 175g/
Na2SiF65g/
Na2SO40.9g/
온도 45℃
전해처리방법 음극연속전해처리
음극전류밀도 80A/dm²
음극처리시간 0.3초
(비교예 9)
판두께 0.22mm 및 판두께 0.32mm의 두종류의 냉연강판에 대해 다음과 같은 공정의 처리를 행했다.
30g/수산화나트륨 용액중에서 전해탈지→수세→5g/의 황산수용액속에서 전해산세척→수세→하기에 표시하는 조건으로 편면에만 전처리를 실시→이하에 표시하는 조건으로 양면에 전해크로메이트 처리를 실시→수세→건조.
· 전 처리조건
처리액 무수크롬산 100g/
황산 1g/
온도 25℃
전해처리방법 양극전해처리
음극전류밀도 10A/dm²
음극처리시간 0.3초
· 전해크로메이트 처리조건
처리액 무수크롬산 175g/
Na2SiF65g/
Na2SO40.9g/
온도 42℃
전해처리방법 음극연속전해처리
음극전류밀도 120A/dm²
음극처리시간 0.2초
단속반복 2회
단속시무통전시간 0.3초
(비교예 10)
판두께 0.22mm 및 판두께 0.32mm의 두종류의 냉연강판에 대해 다음과 같은 공정의 처리를 행했다.
30g/수산화나트륨 용액중에서 전해탈지→수세→5g/의 황산수용액속에서 전해산세척→수세→하기 전해크로메이트 처리조건중의 (a)에 표시하는 조건으로 양면에 전해크로메이트 처리를 실시→같은 욕중에서 (b)에 표시하는 조건으로 편면에만 중간양극처리를 실시→상기 중간양극처리를 실시한 면에만 (a)에 표시하는 조건으로 전해크로크메이트 처리를 실시→수세→건조.
처리액 무수크롬산 175g/
Na2SiF65g/
Na2SO40.9g/
온도 40℃
(a) 전해처리방법 음극단속전해처리
음극전류밀도 40A/dm²
음극처리시간 0.3초
단속반복 2회
단속시무통전시간 0.3초
(b) 전해처리방법 양극전해처리
음극전류밀도 0.2A/dm²
음극처리시간 0.3초
(비교예 11)
판두께 0.22mm 및 판두께 0.32mm의 두종류의 냉연강판에 대해 다음과 같은 공정의 처리를 행했다.
30g/수산화나트륨 용액중에서 전해탈지→수세→5g/의 황산수용액속에서 전해산세척→수세→하기 전해크로메이트 처리조건중의 (a)에 표시하는 조건으로 양면에 전해크로메이트 처리를 실시→같은 욕중에서 (b)에 표시하는 조건으로 편면에만 중간양극처리를 실시→(a)에 표시하는 조건으로 양면에 전해크로메이트 처리룰 실시→수세→건조.
처리액 무수크롬산 175g/
Na2SiF65g/
Na2SO40.9g/
온도 40℃
(a) 전해처리방법 음극단속전해처리
음극전류밀도 40A/dm²
음극처리시간 0.3초
단속반복 2회
단속시무통전시간 0.3초
(b) 전해처리방법 양극전해처리
음극전류밀도 0.5A/dm²
음극처리시간 0.3초
(비교예 12)
판두께 0.22mm 및 판두께 0.32mm의 두종류의 냉연강판에 대해 다음과 같은 공정의 처리를 행했다.
30g/수산화나트륨 용액중에서 전해탈지→수세→5g/의 황산수용액중에서 전해산세척→수세→하기 전해크로메이트 처리조건중의 (a)에 표시하는 조건으로 양면에 전해크로메이트 처리를 실시→같은 욕중에서 (b)에 표시하는 조건으로 편면에만 중간양극처리를 실시→상기 중간양극처리를 실시한 면에만 (a)에 표시하는 조건으로 양면에 전해크로메이트 처리를 실시→수세→건조.
처리액 무수크롬산 175g/
Na2SiF65g/
Na2SO40.9g/
온도 40℃
(a) 전해처리방법 음극연속전해처리
음극전류밀도 20A/dm²
음극처리시간 0.3초
단속반복 3회
단속시무통전시간 0.3초
(b) 전해처리방법 양극전해처리
음극전류밀도 4A/dm²
음극처리시간 0.3초
(비교예 13)
판두께 0.22mm 및 판두께 0.32mm의 두종류의 냉연강판에 대해 다음과 같은 공정의 처리를 행했다.
30g/수산화나트륨 용액중에서 전해탈지→수세→5g/의 황산수용액속에서 전해산세척→수세→이하에 표시하는 조건으로 양면에 전처리를 실시→이하에 표시하는 조건으로 양면에 전해크로메이트를 실시→수세→건조.
· 전처리조건
처리액 무수크롬산 100g/
황산 1g/
온도 25℃
전해처리방법 양극전해처리
양극전류밀도 편면 : 10A/dm²
다른면 : 2A/dm2
양극처리시간 편면 : 0.3초
다른면 : 0.3초
· 전해크로메이트 처리조건
처리액 무수크롬산 175g/
Na2SiF65g/
Na2SO40.9g/
온도 42℃
(a) 전해처리방법 음극단속전해처리
음극전류밀도 40A/dm²
음극처리시간 0.3초
단속반복 4회
단속시무통전시간 0.3초
(비교예 14)
판두께 0.22mm 및 판두께 0.32mm의 두종류의 냉연강판에 대해 다음과 같은 공정의 처리를 행했다.
30g/수산화나트륨 용액중에서 전해탈지→수세→5g/의 황산수용액 속에서 전해산세척→수세→이하에 표시하는 조건으로 편면에만 전처리를 실시→이하에 표시하는 조건으로 양면에 전해크로메이트 처리를 실시→이하에 표시하는 조건으로 양면에 후처리를 실시→수세→건조
· 전처리조건
처리액 무수크롬산 100g/
황산 1g/
온도 25℃
전해처리방법 양극전해처리
양극전류밀도 10A/dm²
양극처리시간 0.3초
· 전해크로메이트 처리조건
처리액 무수크롬산 175g/
Na2SiF65g/
Na2SO40.9g/
온도 42℃
전해처리방법 음극단속전해처리
음극전류밀도 40A/dm²
음극처리시간 0.3초
단속반복 4회
단속시 무통전시간 0.3초
·후처리조건
처리액 무수크롬산 50g/
온도 45℃
전해처리방법 음극전해처리
음극전류밀도 30A/dm2
음극처리시간 0.3초
(비교예 15)
판두께 0.22mm 및 판두께 0.32mm의 두종류의 냉연강판에 대해 다음과 같은 공정의 처리를 행했다.
30g/수산화나트륨 용액중에서 전해탈지→수세→5g/의 황산수용액중에서 전해산세척→수세→하기 전해크로메이트 처리조건중의 (a)에 표시하는 조건으로 양면에 전해크로메이트 처리를 실시→같은 욕중에서 (b)에 표시하는 조건으로 편면에만 중간양극처리를 실시→상기 중간양극처리를 실시한 면에만 (a)에 표시하는 조건으로 양면에 전해크로메이트 처리를 실시→이하에 표시하는 조건으로 양면에 후처리를 실시→수세→건조
· 전해크로메이트 처리조건
처리액 무수크롬산 175g/
Na2SiF65g/
Na2SO40.9g/
온도 40℃
(a) 전해처리방법 음극단속전해처리
음극전류밀도 40A/dm²
음극처리시간 0.3초
단속반복 2회
단속시 무통전시간 0.3초
(b) 전해처리방법 양극전해처리
양극전류밀도 4A/dm2
양극처리시간 0.3초
· 후처리조건
처리액 무수크롬산 50g/
온도 45℃
전해처리방법 음극전해처리
음극전류밀도 30A/dm²
음극처리시간 0.5초
(비교예 16)
판두께 0.22mm 및 판두께 0.32mm의 두종류의 냉연강판에 대해 다음과 같은 공정의 처리를 행했다.
30g/수산화나트륨 용액중에서 전해탈지→수세→5g/의 황산수용액 속에서 전해산세척→수세→이하에 표시하는 조건으로 편면에만 전처리를 실시→이하에 표시하는 조건으로 전해크로메이트 처리를 실시 →이하에 표시하는 조건으로 양면에 후처리를 실시→수세→건조
· 전처리조건
처리액 무수크롬산 100g/
황산 1g/
온도 25℃
전해처리방법 양극전해처리
양극전류밀도 10A/dm²
양극처리시간 0.3초
· 전해크로메이트 처리조건
처리액 무수크롬산 175g/
Na2SiF65g/
Na2SO40.9g/
온도 42℃
(a) 전해처리방법 음극단속전해처리
음극전류밀도 40A/dm²
음극처리시간 0.3초
단속반복 2회
단속시 무통전시간 0.3초
·후처리조건
처리액 무수크롬산 50g/
온도 45℃
전해처리방법 음극전해처리
음극전류밀도 30A/dm²
음극처리시간 0.5초
(비교예 17)
판두께 0.22mm 및 판두께 0.32mm의 두종류의 냉연강판에 대해 다음과 같은 공정의 처리를 행했다.
30g/수산화나트륨 용액중에서 전해탈지→수세→5g/의 황산수용액중에서 전해산세척→수세→이하 전해크로메이트 처리조건중의 (a)에 표시하는 조건으로 양면에 전해크로메이트 처리를 실시→같은 욕중에서 (b)에 표시하는 조건으로 편면에만 중간양극처리를 실시→상기 중간양극처리를 실시한 면에만 (a)에 표시하는 조건으로 양면에 전해크로메이트 처리를 실시→이하에 표시하는 조건으로 양면에 후처리를 실시→수세→건조
· 전해크로메이트 처리조건
처리액 무수크롬산 175g/
Na2SiF65g/
Na2SO40.9g/
온도 40℃
(a) 전해처리방법 음극단속전해처리
음극전류밀도 40A/dm²
음극처리시간 0.3초
단속반복 2회
단속시 무통전시간 0.3초
(b) 전해처리방법 양극전해처리
양극전류밀도 4A/dm2
양극처리시간 0.3초
· 후처리조건
처리액 무수크롬산 50g/
온도 45℃
전해처리방법 음극전해처리
음극전류밀도 30A/dm²
음극처리시간 0.5초
(비교예 18)
판두께 0.22mm 및 판두께 0.32mm의 두종류의 냉연강판에 대해 다음과 같은 공정의 처리를 행했다.
30g/수산화나트륨 용액중에서 전해탈지→수세→5g/의 황산수용액 속에서 전해산세척→수세→이하에 표시하는 조건으로 편면에만 전처리를 실시→이하에 표시하는 조건으로 양면에 전해크로메이트 처리를 실시→수세→건조
· 전처리조건
처리액 무수크롬산 100g/
황산 1g/
온도 25℃
전해처리방법 양극전해처리
양극전류밀도 10A/dm²
양극전해처리시간 0.3초
· 전해크로메이트 처리조건
처리액 무수크롬산 175g/
Na2SiF65g/
Na2SO40.9g/
온도 50℃
전해처리방법 음극연속전해처리
음극전류밀도 160A/dm²
음극처리시간 0.3초
(비교예 19)
판두께 0.22mm 및 판두께 0.32mm의 두종류의 냉연강판에 대해 다음과 같은 공정의 처리를 행했다.
30g/수산화나트륨 용액중에서 전해탈지→수세→5g/의 황산수용액 속에서 전해산세척→수세→하기 전해크로메이트 처리조건중의 (a)에 표시하는 조건으로 양면에 전해크로메이트처리를 실시→같은 욕중에서 (b)에 표시하는 조건으로 편면에만 중간양극처리를 실시→상기 중간양극처리를 실시한 면에만 (a)에 표시하는 조건으로 전해크로메이트 처리를 실시→수세→건조
처리액 무수크롬산 175g/
Na2SiF65g/
Na2SO40.9g/
온도 45℃
(a) 전해처리방법 음극연속전해처리
음극전류밀도 100A/dm²
음극처리시간 0.3초
(b) 전해처리방법 양극전해처리
양극전류밀도 0.3A/dm2
양극처리시간 0.3초
(비교예 20)
판두께 0.22mm 및 판두께 0.32mm의 두종류의 냉연강판에 대해 다음과 같은 공정의 처리를 행했다.
30g/수산화나트륨 용액중에서 전해탈지→수세→5g/의 황산수용액 속에서 전해산세척→수세→이하에 표시하는 조건으로 편면에만 전처리를 실시→이하에 표시하는 조건으로 양면에 전해크로메이트 처리를 실시→수세→건조
처리액 무수크롬산 175g/
Na2SiF65g/
Na2SO40.9g/
온도 40℃
전해처리방법 양극전해처리
양극전류밀도 5/dm²
양극처리시간 0.3초
· 전해크로메이트 처리조건
처리액 무수크롬산 175g/
Na2SiF65g/
Na2SO40.9g/
온도 45℃
전해처리방법 음극연속전해처리
음극전류밀도 100A/dm²
음극처리시간 0.1초
(비교예 21)
판두께 0.22mm 및 판두께 0.32mm의 두종류의 냉연강판에 대해 다음과 같은 공정의 처리를 행했다.
30g/수산화나트륨 용액중에서 전해탈지→수세→5g/의 황산수용액 속에서 전해산세척→수세→이하에 표시하는 조건으로 편면에 전처리를 실시→이하에 표시하는 조건으로 양면에 전해크로메이트 처리를 실시→수세→건조
· 전처리조건
처리액 무수크롬산 175g/
Na2SiF65g/
Na2SO40.9g/
온도 40℃
전해처리방법 양극전해처리
음극전류밀도 5A/dm²
음극처리시간 0.3초
· 전해크로메이트 처리조건
처리액 무수크롬산 175g/
Na2SiF65g/
Na2SO40.9g/
온도 45℃
전해처리방법 음극연속전해처리
음극전류밀도 30A/dm²
음극처리시간 0.3초
(비교예 22)
판두께 0.22mm 및 판두께 0.32mm의 두종류의 냉연강판에 대해 다음과 같은 공정의 처리를 행했다.
30g/수산화나트륨 용액중에서 전해탈지→수세→5g/의 황산수용액 속에서 전해산세척→수세→하기 전해크로메이트 처리조건중의 (a)에 표시하는 조건으로 양면에 전해크로메이트처리를 실시→같은 욕중에서 (b)에 표시하는 조건으로 편면에만 중간양극처리를 실시→상기 중간양극처리를 실시한 면에만 (a)에 표시하는 조건으로 전해크로메이트 후처리를 실시→수세→건조
처리액 무수크롬산 175g/
Na2SiF65g/
Na2SO40.9g/
온도 45℃
(a) 전해처리방법 음극연속전해처리
음극전류밀도 100A/dm²
음극처리시간 0.1초
(b) 전해처리방법 음극전해처리
양극전류밀도 2A/dm²
양극처리시간 0.3초
(비교예 23)
판두께 0.22mm 및 판두께 0.32mm의 두종류의 냉연강판에 대해 다음과 같은 공정의 처리를 행했다.
30g/수산화나트륨 용액중에서 전해탈지→수세→5g/의 황산수용액 속에서 전해산세척→수세→이하에 표시하는 조건으로 편면에만 전처리를 실시→이하에 표시하는 조건으로 양면에 전해크로메이트 처리를 실시→이하에 표시하는 조건으로 양면에 후처리를 실시→수세→건조
· 전처리조건
처리액 무수크롬산 175g/
Na2SiF65g/
Na2SO40.9g/
온도 40℃
전해처리방법 양극연속전해처리
양극전류밀도 5A/dm²
양극처리시간 0.3초
· 전해크로메이트 처리조건
처리액 무수크롬산 175g/
Na2SiF65g/
Na2SO40.9g/
온도 45℃
전해처리방법 음극연속전해처리
음극전류밀도 160A/dm²
음극처리시간 0.3초
· 후처리조건
처리액 무수크롬산 50g/
온도 45℃
전해처리방법 음극전해처리
음극전류밀도 30A/dm²
음극처리시간 0.3초
(비교예 24)
판두께 0.22mm 및 판두께 0.32mm의 두종류의 냉연강판에 대해 다음과 같은 공정의 처리를 행했다.
30g/수산화나트륨 용액중에서 전해탈지→수세→5g/의 황산수용액 속에서 전해산세척→수세→하기 전해크로메이트 처리조건중의 (a)에 표시하는 조건으로 양면에 전해크로메이트 처리를 실시→같은 욕중에서 (b)에 표시하는 조건으로 편면에만 중간양극처리를 실시→상기 중간양극처리를 실시한 면에만 (a)에 표시하는 조건으로 전해크로메이트 처리를 실시→이하에 표시하는 조건으로 양면에 후처리를 실시→수세→건조
· 전해크로메이트 처리조건
처리액 무수크롬산 175g/
Na2SiF65g/
Na2SO40.9g/
온도 45℃
(a) 전해처리방법 음극연속전해처리
음극전류밀도 100A/dm²
음극처리시간 0.3초
(b) 전해처리방법 양극전해처리
양극전류밀도 2A/dm2
양극처리시간 0.3초
· 후처리조건
처리액 무수크롬산 50g/
온도 45℃
전해처리방법 음극전해처리
음극전류밀도 30A/dm²
음극처리시간 0.3초
(비교예 25)
판두께 0.22mm 및 판두께 0.32mm의 두종류의 냉연강판에 대해 다음과 같은 공정의 처리를 행했다.
30g/수산화나트륨 용액중에서 전해탈지→수세→5g/의 황산수용액 속에서 전해산세척→수세→이하에 표시하는 조건으로 편면에만 전처리를 실시→이하에 표시하는 조건으로 양면에 전해크로메이트 처리를 실시→이하에 표시하는 조건으로 양면에 후처리를 실시→수세→건조
· 전처리조건
처리액 무수크롬산 175g/
Na2SiF65g/
Na2SO40.9g/
온도 40℃
전해처리방법 양극전해처리
양극전류밀도 5A/dm²
양극처리시간 0.3초
· 전해크로메이트 처리조건
처리액 무수크롬산 175g/
Na2SiF65g/
Na2SO40.9g/
온도 45℃
전해처리방법 음극연속전해처리
음극전류밀도 150A/dm²
음극처리시간 0.3초
· 후처리조건
처리액 무수크롬산 50g/
온도 45℃
전해처리방법 음극전해처리
음극전류밀도 30A/dm²
음극처리시간 0.5초
(비교예 26)
판두께 0.22mm 및 판두께 0.32mm의 두종류의 냉연강판에 대해 다음과 같은 공정의 처리를 행했다.
30g/수산화나트륨 용액중에서 전해탈지→수세→5g/의 황산수용액중에서 전해산세척→수세→하기 전해크로메이트 조건중의 (a)에 표시하는 조건으로 양면에 전해크로메이트 처리를 실시→같은 욕중에서 (b)에 표시하는 조건으로 편면에만 중간양극처리를 실시→상기 중간양극처리를 실시한 면에만 (a)에 표시하는 조건으로 전해크로메이트 처리를 실시→이하에 표시하는 조건으로 양면에 후처리를 실시→수세→건조
· 전해크로메이트 처리조건
처리액 무수크롬산 175g/
Na2SiF65g/
Na2SO40.9g/
온도 45℃
(a) 전해처리방법 음극연속전해처리
음극전류밀도 100A/dm²
음극처리시간 0.3초
(b) 전해처리방법 양극전해처리
양극전류밀도 2A/dm2
양극처리시간 0.3초
· 후처리조건
처리액 무수크롬산 50g/
온도 45℃
전해처리방법 음극전해처리
음극전류밀도 30A/dm²
음극처리시간 0.5초
이상의 설시예 1∼25, 비교예 1-26에서 얻어진 전해크로메이트 처리강판에 대해서 그것들의 금속크롬량과 크롬수화산화물량을 측정했다.
또 피막의 추출 레프리카를 작성해서 전자현미경으로 관찰하여 형성된 입상 금속크롬중 직경이 0.03㎛ 이상의 것의 갯수밀도를 계수했다.
그 결과를 표 1∼표 5에 표시하였다. 또한 표 4의 비교예 11은 상기한 특개소 63-35797호에 관한 제조방법으로 제조한 비교예이다.
또 이것들의 전해크로메이트 처리강판에 대해서는 하기와 같은 용접성, 도장외관성 및 내식성(내사청성(耐 性), 도장내식성, 나내식성)에 관하는 평가시험을 행했다. 그 결과를 표 6∼표 10에 표시하였다.
동 표에서도 명백한 바와같이 용접특성 및 외면도장후의 외관성에 관해서, 실시예와 비교예 사이에 지극히 명확한 차이가 인정되어 본 발명의 효과가 크게 특징지워져 있다. 또 실시예에서는 어느것이나 좋은 내식성이 얻어지고 있다.
[평가시험]
·고속용접
0.22mm의 판두께의 강판시료를 사용하고, 이것들 강판시료를 도장인쇄슬릿 가공후 스드로닉타입의 와이어머쉬룸 용접기에 의해서,
인버터 전원주파수 : 500Hz
용접 속도 : 50m/분
전극 가압 : 60kgf
오버랩 : 0.4mm
너겟피치 : 0.75mm
의 조건하에, 다양한 전류를 설정해서 용접하고, 202 사이즈의 캔을 제조했다. 그리고 용접강도가 티어링 시험을 만족하며, 또한 스프랭싱이 발생하지 않는 전류의 범위를 전류 설정 손잡이의 설정눈금의 수에 의해서 평가했다.
그 평가기준은 다음과 같다.
평가 소견
◎ 용접가능한 눈금이 5 눈금이상이며, 지극히 양호한 용접특성을 표시한다.
○ 용접가능한 눈금이 3∼4 눈금이며, 양호한 용접특성을 표시한다.
△ 용접가능한 눈금이 1∼2 눈금이며, 용접은 가능하나 실용상은 용접이 곤란.
× 용접가능한 범위가 없으며, 용접불가능.
· 5G 용접
0.32mm외 판두께의 강판시료를 사용하여 이것들 장판시료를 도장인쇄슬릿 가공후 스드로닉타입의 와이어머쉬룸 용접기에 의해서,
인버터 전원주파수 : 180Hz
용접 속도 : 22m/분
전극 가압 : 66kgf
오버랩 : 0.8mm
너겟피치 : 12mm
의 조건하에 다양한 전류를 설정해서 용접하고 5 갤런사이즈의 캔을 제조했다. 그리고 용접강도가 티어링시험을 만족하며, 또한 스프래싱이 발생하지 않는 전류의 범위를 전류 설정 손잡이의 설정눈금의 수에 의해서 평가했다.
평가기준은 상기 고속용접의 평가시험과 똑같다.
· 표면 색조
캔의 외면에 투명도장을 건조중량으로 60mg/m2도장하고, 도장의 전후의 색조 변화를 육안으로 평가했다. 그 평가기준은 다음과 같다.
평가 소견
○ 양호 : 색조변화가 확인되지 않는다.
× 불량 : 색조변화가 확인된다.
·인쇄 색조
캔의 외면에 와인색의 메탈릭계의 인쇄도장을 시행하여 도료본래의 색조와 비교한 변화를 육안으로 평가했다. 그 평가기준은 다음과 같다.
평가 소결
○ 양호 : 색조변화가 확인되지 않는다.
× 불량 : 색조변화가 확인된다.
· 내사청성
5G 용접을 갖는 캔을 창고에 12개월 보관하여, 외면도장의 홈부분에 생긴 실형상의 녹을 육안으로 판정했다.
평가 소견
○ 사청의 발생을 확인할 수 없다.
× 사청의 발생이 확인된다.
·도장내식성
캔의 내면측이 되는 강판면을 50mg/m2의 에폭시페놀계 도료로 도장하고, 베이킹한 후 예리한 커터나이프로 도장면으로부터 강판의 표면에 이르는 열십자형상의 홈을 내고, 이어서 에리크센 시험기로, 열성자형상의 홈의 길이방향 중심으로부터 5mm의 폭으로 이면(캔의 바깥쪽면)으로부터 밀어냈다.
이와같은 상태의 제공된 시료를 1.5% NaCl, 1.5%의 구연산으로 된 38℃의 수용액중에 96시간 침지하고 십자형상의 홈부분의 부식의 폭을 측정하여 하기 기준에 의해 평가했다.
평가 소견
○ 부식의 폭 : 1mm 미만
× 부식의 폭 : 1mm 이상
·나내식성
제공된 시료를 100매 겹쳐 쌓고, 판으로 상하를 끼워싸고 철사로 열십자로 꽉 묶은 상태로, 25℃, 습도 85%로 일개월 저장하여 녹의 발생을 하기 기준으로 평가했다.
평가 소견
○ 녹의 발생 없다.
× 녹의 발생 있다.
[표 1]
* 1 금속크롬환산
* 2 강판편쪽 : 캔의 내면대응
* 3 금속크롬층구조 : a는 입상금속크롬의 접합체
b는 판상 금속크롬위에 입상금속그롬이 형성되어 있다.
* 4 직경이 0.03㎛ 이상인 입상금속그롬의 갯수
[표 2]
* 1 금속크롬환산
* 2 강판편쪽 : 캔의 내면대응
* 3 금속크롬층구조 : a는 입상금속크롬의 집합체
b는 판상 금속크롬위에 입상금속크롬이 형성되어 있다.
c는 판상 금속크롬
* 4 직경이 0.03㎛ 이상인 입상금속크롬의 갯수
[표 3]
* 1금속크롬환산
* 2 강판편쪽 : 캔의 내면대응
* 3 금속크롬층구조 : a는 입상금속크롬의 집합체
b는 판상 금속크롬위에 입상금속크롬이 형성되어 있다.
c는 판상 금속크롬
* 4 직경이 0.03㎛ 이상인 입상금속크롬의 갯수
[표 4]
* 1 금속크롬환산
* 2 강판편쪽 : 캔의 내면대응
* 3 금속크롬층구조 : a는 입상금속크롬의 집합체
b는 판상 금속크롬위에 입상금속크롬이 형성되어 있다.
* 4 직경이 0.03㎛ 이상인 입상금속크롬의 갯수
* 5 특개소 63-35797호의 방법으로 제조된 비교예
[표 5]
* 1금속크롬환산
* 2 강판편쪽 : 캔의 내면대응
* 3 금속크롬층구조 : a는 입상금속크롬의 집합체
b는 판상 금속크롬위에 입상금속크롬이 형성되어 있다.
c는 판상 금속크롬
* 4 직경이 0.03㎛ 이상인 입상금속크롬의 갯수
[표 6]
[표 7]
[표 8]
[표 9]
[표 10]

Claims (6)

  1. 강판의 한쪽면에, 강판면에 부착된 입상금속크롬의 집합체로 이루어지고, 이 입상금속크롬중 직경이 0.03㎛ 이상인 입자가 30개/㎛2이상 존재하고 또한 부착량이 30-150mg/m2인 금속크롬층과, 그 상층에 형성되는 부착량(금속크롬환산)이 3∼15mg/m2인 크롬수화산화물층으로 이루어진 전해크로메이트 처리피막을 가지고 있으며, 강판의 다른쪽면에 강판면에 판상으로 부착한 금속크롬과 그 상부에 형성된 입상금속크롬으로 이루어지고, 그 입상금속크롬중 직경이 0.03㎛ 이상인 입자가 15개/㎛2미만이고 또한 부착량이 30∼150mg/m2인 금속크롬층과, 그 상층에 형성되는 부착량(금속크롬환산) 이 3-30mg/m2인 크롬수화산화물층으로 이루어진 전해크로메이트 처리피막을 가지고 있는 것을 특징으로 하는 용접캔용 표면처리강판.
  2. 강판의 한쪽면에, 강판면에 판상으로 부착한 금속크롬과 그 상부에 형성된 입상금속크롬으로 이루어지고, 이 입상금속크롬중 직경이 0.03㎛ 이상인 입자가 50∼300개/㎛2이상 존재하고, 또한 부착량이 50-150mg/m2인 금속크롬층과, 그 상층에 형성되는 부착량(금속크롬환산)이 3-15mg/m2인 크롬수화산화물층으로 이루어지는 전해크로메이트 처리피막을 가지고 있으며, 강판의 다른쪽면에 강판면에 판상으로 부착한 금속크롬과 그 상부에 형성된 입상금속크롬으로 이루어지고, 그 입상금속크롬중 직경이 0.03㎛ 이상인 입자가 15개/㎛2미만이고 또한 부착량이 30∼150mg/m2인 금속크롬층과, 그 상층에 형성되는 부착량(금속크롬환산)이 3-30mg/m2인 크롬수화산화물층으로 이루어진 전해크로메이트 처리피막을 가지고 있는 것을 특징으로 하는 용접캔용 표면처리강판.
  3. 강판의 한쪽면에, 강판면에 부착된 입상금속크롬의 집합체로 이루어지고, 이 입상금속크롬중 직경이 0.03㎛ 이상인 입자가 30개/㎛2이상 존재하고 또한 부착량이 30∼150mg/m2인 금속크롬층과, 그 상층에 형성되는 부착량(금속크롬환산)이 3∼15mg/m2인크롬수화산화물층으로 이루어지는 전해크로메이트 처리피막을 가지고 있으며, 강판의 다른쪽면에, 강판면에 부착된 입사금속크롬의 집합체로 이루어지고, 이 입상금속크롬중 직경이 0.03㎛ 이상인 입자가 15개/㎛2미만이고, 또한 부착량이 30∼150mg/m2인 금속크롬층과 그 상층에 형성되는 부착량(금속크롬환산)이 3∼30mg/m2인 크롬수화산화물층으로 이루어지는 전해크로메이트 처리피막을 가지고 있는 것을 특징으로 하는 용접캔용 표면처리강판.
  4. 강판의 한쪽면에, 강판면에 판상으로 부착된 금속크롬과 그 상부에 형성된 입상금속크롬으로 이루어지고, 이 입상금속크롬중 직경이 0.03㎛ 이상인 입자가 50-300개/㎛2이상 존재하고 또한 부착량이 50∼150mg/m2인 금속크롬층과, 그 상층에 형성되는 부착량(금속크롬환산)이 3∼15mg/m2인 크롬수화산화물층으로 이루어진 전해크로메이트 처리피막을 가지고 있으며, 강판의 다른쪽면에, 강판면에 부착된 입상금속크롬의 집합체로 이루어지고, 이 입상금속크롬중 직경이 0.03㎛ 이상인 입자가 15개/㎛2 미만이고, 또한 부착량이 30-l50mg/m2인 금속크롬층과 그 상층에 형성되는 부착량(금속크롬환산)이 3∼30mg/m2인 크롬수화산화물층으로 이루어지는 전해크로메이트 처리피막을 가지고 있는 것을 특징으로 하는 용접캔용 표면처리강판.
  5. 강판의 한쪽면에, 강판면에 부착한 입상금속크롬의 집합체로 이루어지고, 이 입상금속크롬중 직경이 0.03㎛ 이상인 입자가 30개/㎛2이상 존재하고 또한 부착량이 30∼150mg/m2인 금속크롬층과, 그 상층에 형성되는 부착량(금속크롬환산)이 3∼15mg/m2인 크롬수화산화물층으로 이루어지는 전해크로메이트 처리피막을 가지고 있으며, 강판의 다른쪽면에, 강판면에 판상으로 부착한 금속크롬으로 이루어지고 또한 부착량이 30∼150mg/m2인 금속크롬층과 그 상층에 형성되는 부착량(금속크롬환산)이 3∼30mg/m2인 크롬수화산화물층으로 이루어지는 전해크로메이트 처리피막을 가지고 있는 것을 특징으로 하는 용접캔용 표면처리강판.
  6. 강판의 한쪽면에, 강판면에 판상으로 부착한 금속크롬과 그 상부에 형성된 입상금속크롬으로 이루어지고, 이 입상의 금속크롬중 직경이 0.03㎛ 이상인 입자가 50-300개/㎛2이상 존재하고 또한 부착량이 50∼150mg/m2인 금속크롬층과, 그 상층에 형성되는 부착량(금속크롬환산)이 3∼15mg/m2인 크롬수화산화물층으로 이루어지는 전해크로메이트 처리피막을 가지고 있으며, 강판의 다른쪽면에, 강판면에 판상으로 부착된 금속크롬으로 이루어지고 또한 부착량이 30∼150mg/m2인 금속크롬층과, 그 상층에 형성되는 부착량(금속크롬환산)이 3-30mg/m2인 크롬수화산화물층으로 이루어지는 전해크로메이트 처리피막을 가지고 있는 것을 특징으로 하는 용접캔용 표면처리강판.
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