KR960006655A - 광학장치 및 그 냉각방법 - Google Patents

광학장치 및 그 냉각방법 Download PDF

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Abstract

할로겐화 금속램프등의 광원은 액정 프로젝터등의 광학장치에서 효율적으로 냉각된다. 요면경 11, 요면경의 요부에 광축에 따라 배치된 발광부 12 및 발광부의 주변을 냉각하는 냉각구조를 포함하는 광학장치에 있어서, 냉각구조는 요면경 11의 광축에 대략 직교하는 기류 4를 발생하는 수단과 요면경 11의 요부내로 환류하는 기류 5를 발생하는 수단을 구비한다.

Description

광학장치 및 그 냉각방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 제1실시예의 액정 프로젝터(projector)를 도시한 도.
제2도는 본 발명의 제2실시예의 광원을 도시한 도.
제3도(a)도, 제(b)도, 제(c)도는 본 발명의 제3실시예의 광원장치의 사시도, 측면도, 정면도.

Claims (33)

  1. 요면경의 요면경내에 광축에 따라 배치된 발광부로 이루어진 광원, 상기 발광부의 주변을 냉각하는 구성되고, 상기 냉각구조가 발광부의 근접위치에 요면경의 요부에 향하는 지향성을 갖는 기류를 발생시키는 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 광축을 갖는 광학장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 기류를 발생시키는 수단을 포함하는 냉각구조가 상기 발광부의 근처에 설치된 통기공으로 구성되는 광학장치.
  3. 제2항에 있어서, 광원을 수용하는 고온저압영역, 광학부품을 수용하는 저온고압영역으로 더 구성되고,상기 2개의 영역이 벽을 통하여 서로 인접하고, 냉각구조의 통기공이 상기벽에 형성되는 광학장치.
  4. 제3항에 있어서, 상기 벽이 투명체를 포함하고, 상기 통기공의 다수가 상기 투명체 주변의 벽에 설치되는 광학장치.
  5. 제3항에 있어서, 상기 저온고압영역이 이 영역에 장치의 외부에서 공기를 도입하는 흡기수단을 포함하고, 상기 고온전압영역이 이 영역에서 장치외부로 공기를 배출하는 배기수단을 포함하는 광학장치.
  6. 제3항에 있어서, 상기 벽이 상하위치에 적어도 2개의 통기공을 포함하고, 상기 광학장치의 상하를 역으로 한 상태에서, 하부의 통기공은 항상 개방되고 상부의 통기공은 항상 폐쇄되어, 상기 요면경에 대하여 하측에서 상측으로 기류가 환류되는 광학장치.
  7. 제3항에 있어서, 통기공의 통하여 저온고압영역에서 고온저압영역으로 흐르는 기류가 고온저압영역측의 벽에 따라 흐르도록 안내하는 바람 안내수단으로 더 구성되는 광학장치.
  8. 제1항에 있어서, 상기 냉각구조가 요면경의 광축에 대략 직교하는 방향으로 흐르는 기류를 발생시키는 수단을 포함하는 광학장치.
  9. 요면경의 요부에 흐르는 지향성 기류를 공급하여, 기류가 요면경의 최내부에 도달하는 것을 특징으로 하는 광학장치의 냉각방법.
  10. 제9항에 있어서, 상기 요면경의 요부에 향하는 지향성 기류가 발광부와의 충돌을 피하도록 요면경의 요면에 충돌하여 산란 또는 반사할때에 형성되는 광학장치의 냉각방법.
  11. 제10항에 있어서, 상기 요부에 향하는 지향성 기류가 요면경의 광축을 포함하는 평면에 대하여 경사지는 광학장치의 냉각방법.
  12. 제10항에 있어서, 지향성 기류가 다수이고, 요면경의 광축에 직교하는 2개의 평면에 대하여 서로 대칭인 광학장치의 냉각방법.
  13. 제12항에 있어서, 지향성 기류가 4개 이상이고, 요면경의 광축에 직교하는 2개의 평면에 대하여 서로 대칭인 광학장치의 냉각방법.
  14. 제11항에 있어서, 지향성 기류가 다수이고, 요면경의 광축에 대하여 서로 대칭인 광학장치의 냉각방법.
  15. 제9항에 있어서, 기류로서, 요면경의 광축에 대략 직교하는 기류를 더 공급하고, 상기 공급된 기류와 상기 지향성 기류를 서로 충돌시키게 하여 상기 지향성 기류의 방향을 변화시키고 요면경의 요부내에 환류를 공급하는 광학장치의 냉각방법.
  16. 내측의 부재수용공간을 규정하는 내측의 둘러싼 벽, 내측의 둘러싼 벽의 외측에 위치하여 내측의 둘러싼 벽과의 사이에 형성된 외측의 부재수용공간을 규정하는 외측의 둘러싼 벽, 상기 내측 및 외측의 부재수용공간에 수용되는 부재군, 및 상기 부재군을 냉각하는 냉각기구로 구성되고, 상기 냉각기구가 내측의 둘러싼 벽에 설치된 제1 및 제2통기공, 외측의 둘러싼 벽에 설치된 제3통기공, 및 외측의 둘러싼 벽의 외부에서 취입된 공기를 제1통기공을 통하여 내측의 부재수납공간으로 운송하고, 제2통기공을 통하여 내측의 부재수납공간에서 외측의 부재수납공간으로 공기를 운송하며, 제3통기공을 통하여 외측의 부재수납공간에서 외측의 둘러싼 벽의 외부로 공기를 운송하는 강제 공랭수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 냉각구조를 갖는 부재수용장치.
  17. 제16항에 있어서, 공랭기구가, 제2통기공에서 외측의 부재수용공간으로 흐르는 공기의 일부가 대략 최단거리의 유로에서 제3통기공에서 외측의 둘러싼 벽의 외부로 배기되고, 제2통기공에서 외측의 부재수용공간으로 흐르는 공기의 다른 일부 또는 나머지 전부가 상기 유로보다도 긴 유로를 통과하도록 유회하여 제3통기공으로 둘러싼 벽의 외부로 배기할 수 있게 기능하는 부재수용장치.
  18. 제16항에 있어서, 공랭기구가 제1통기공, 내측의 부재수용공간, 제2통기공, 외측의 부재수용공간의 순으로 흐르는 공기의 일부가 외측의 부재수용공간을 환류하여, 다시 제1통기공을 통하여 내측의 부재수용공간으로 유입하도록 기능하는 부재수용장치.
  19. 제16항에 있어서, 공랭기구가 외측의 둘러싼 벽 또는 내측의 둘러싼 벽의 부분에 따라서 부재수용공간에 흐르는 기류의 일부가 외측의 둘러싼 벽의 외부에 통기공을 통하여 내측의 부재수용공간으로 흐르는 기류의 주요부분과 간섭하지 않도록 구성하는 부재수용장치.
  20. 제16항에 있어서, 외측의 둘러싼 벽에 상기 제3통기공 이외에 제4통기공이 설치되어 있고, 공랭기구가 제4통기공에서 외측의 부재수용공간으로 흘러 외측의 부재수용공간에 수용된 부재를 냉각한 기류의 일부 또는 전부를 제3통기공에서 외측의 둘러싼 벽의 외부로 배출하도록 기능하는 부재수용장치.
  21. 제16항에 있어서, 내측의 둘러싼 벽에 설치된 제1통기공에서 흡기부재에 결합되어 있고, 대략 제1통기공에 대향하는 외측의 둘러싼 벽의 부분에서 제5통기공이 설치되어 있고, 상기 제5통기공과 흡기부재는 서로 이간되며, 제5통기공을 통하여 외측의 둘러싼 벽의 외부에서 흐르는 기류의 일부 또는 전부를 제1통기공을 통하여 내측의 부재수납 공간에 흐르게 하는 부재수용장치.
  22. 제21항에 있어서, 상기 흡기부재가 외측의 부재수용공간의 측에 돌출한 상태로 내측의 둘러싼 벽의 제1통기공에 직접 또는 바람안내부를 통하여 결합되어 있는 부재수용장치.
  23. 제16항에 있어서, 외측의 부재수용공간에 수용되는 부재군의 총발열량이 내측의 부재수용공간에 수용되는 부재군의 총발열량보다 많고, 외측의 부재수용공간의 내부의 총발열량이 내측의 부재수용공간의 내부의 총발열량보다 많은 부재수용장치.
  24. 제16항에 있어서, 외측의 부재수용공간에 수용되는 부재군의 허용동작온도의 상한이 내측의 부재수용공간에 수용되는 부재군의 허용동작온도의 상한보다 높은 부재수용장치.
  25. 내측의 부재수용공간을 규정하는 내측의 둘러싼 벽, 내측의 둘러싼 벽의 외측에 위치하여 내측의 둘러싼 벽과의 사이에서 외측의 부재수용공간을 규정하는 외측의 둘러싼 벽, 내측의 부재수용공간에 수용되는, 적어도 광학전처리계, 광학전처리계에 의해 처리된 광을 공간변조하는 공간변조소자, 공간변조소자에 의해 변조된 공간변조광을 처리하는 후처리계를 포함하는 광학부재, 외측의 부재수용공간에 수용되는, 적어도 공간변조소자를 구동하는 구동용 전기회로를 탑재한 프린트 기판과 광원을 포함하는 발열부재, 이들 부재군을 냉각하는 냉각기구로 구성되며, 내측의 둘러싼 벽은 서로 대향하는 제1 및 제2벽변을 포함하되, 이들의 벽면에 각각 제1 및 제2통기공을 설치하고, 제1통기공을 통하여 외측의 둘러싼 벽의 외부에서 내측의 부재수용공간으로 공기를 도입하는 흡기부재가 설치되고, 외측의 둘러싼 벽은 제3통기공을 포함하되, 제3통기공에는 외측의 부재수용공간에서 외측의 둘러싼 벽의 외부로 공기를 배출하는 배기부재가 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 냉각구조를 갖는 광학장치.
  26. 제25항에 있어서, 적어도 공간변조소자가 제1 및 제2통기공 사이에 제1 및 제2벽면에 대략 직교하여 배치되어 있는 광학장치.
  27. 제25항에 있어서, 제2통기공을 설치한 제2벽면의 외측에 전기회로부재를 실장한 제1기판의 접촉 또는 이간하여 배치되고, 제1통기공과 중첩하지 않도록 제1벽의 외측에 전기회로부재를 실장한 제2기판이 접촉 또는 이간하여 배치되며, 제2통기공에서 흐르는 기류가 제1기판과 제2벽면의 사이를 통과하여, 외측의 부재수용공간의 주변을 우회하여 제1벽면의 측에 위치한 제2기판에 적용되고, 더우기 광원에도 적용되어서 제3통기공으로 향하는 광학장치.
  28. 제27항에 있어서, 광원을 점화하기 위하여 광원용 전기회로를 실장한 제3기판이 제3통기공에 근접하여 외측의 부재수용공간내에 배치되는 광학장치.
  29. 제28항에 있어서, 외측의 둘러싼 벽에는 광원에 대하여 제3통기공의 반대측에 제4통기공이 설치되고, 외측의 둘러싼 벽의 외부에 의해 제4통기공을 통하여 외측의 부재수용공간으로 흐르는 기류는 적어도 광원과 광원을 점화하기 위한 광원용 전기회로를 실장한 제3기판에 적용된 후, 제3통기공으로 향하는 광학장치.
  30. 내측의 부재수용공간, 외측의 부재수용공간, 각 부재수용공간에 수용되는 부재군을 포함하는 장치의 냉각방법으로서, 내측의 부재수용공간에 기류를 공급하고, 기류에 의해 내측의 부재수용공간의 부재군을 냉각하며, 부재군을 냉각한 기류에 의해 외측의 부재수용공간의 부재군을 냉각하는 것을 특징으로 하는 냉각방법.
  31. 광축을 갖고 요면경과 상기 요면경에 광축에 따라 배치된 발광부로 이루어진 광원, 적어도 액정판과 투사렌즈를 포함하는 광학유니트, 상기 발광부의 근처에 상기 요면경의 요부에 지향성을 갖는 기류를 발생시키는 수단을 포함하여 상기 발광부의 주변을 냉각하는 냉각구조로 구성하는 것을 특징으로 하는 광학프로젝터.
  32. 광원, 액정판을 포함하는 광학유니트, 광원 또는 광학유니트를 구동하는 작동부재, 및 냉각기구를 포함하는 광학프로젝터에 있어서, 내측의 부재수용공간을 규정하는 내측의 둘러싼 벽과 내측의 둘러싼 벽의 외부에 위치하여 내측의 둘러싼 벽과의 사이에 형성되 외측의 부재수용공간을 규정하는 외측의 둘러싼 벽으로 더 구성되고, 상기 액정판은 상기 내측의 부재수용공간에 수용되고 상기 광원과 상기 작동부재는 상기 외측의 부재수용공간에 수용되고, 상기 냉각기구는 상기 내측의 둘러싼 벽에 설치된 제1 및 제2통기공, 상기 외측에 둘러싼 벽에 설치된 제3통기공, 및 외측의 둘러싼 벽의 외부에서 제1통기공을 통하여 내측의 부재수용공간으로 취입된 공기를 운송하고, 내측의 부재수용공간에서 제2통기공을 통하여 외측의 부재수용공간으로 운송하며, 외측의 부재수용공간에서 제3통기공을 통하여 외측의 둘러싼 벽의 외부로 운송하는 강제공랭 수단으로 구성되는 것을 특징으로 하는 광학프로젝터.
  33. 내측의 부재수용공간을 규정하는 내측의 둘러싼 벽, 내측의 둘러싼 벽의 외측에 위치하여 내측의 둘러싼 벽과의 사이에 형성된 외측의 부재수용공간을 규정하는 외측의 둘러싼 벽, 내측의 부재수용공간에 수용되는, 적어도 광학전처리계, 광학전처리계에 의해 처리된 광을 공간변조하는 공간변조소자, 공간변조소자에 의해 변조된 공간변조광을 처리하는 후처리계를 포함하는 광학부재, 외측의 부재수용공간에 수용되는, 적어도 공간변조소자를 구동하는 구동용 전기회로를 탑재한 프린트 기판과 광원을 포함하는 발열부재, 이들 부재군을 냉각하는 냉각기구로 구성되며, 내측의 둘러싼 벽은 서로 대향하는 제1 및 제2벽면을 포함하되, 이들의 벽면에 각각 제1 및 제2통기공을 설치하고, 제1통기공을 통하여 외측의 둘러싼 벽의 외부에서 내측의 부재수용공간으로 공기를 도입하는 흡기부재가 설치되고, 외측의 둘러싼 벽의 제3통기공을 포함하되, 제3통기공에는 외측의 부재수용공간에서 외측의 둘러싼 벽의 외부로 공기를 배출하는 배기부재가 설치되고, 상기 광원은 광축을 갖고 요면경에 광축에 따라 배치된 발광부가 이루어지며, 상기 냉각기구는 상기 발광부의 주변을 냉각하는 수단과 상기 발광부에 근접한 위치에서 상기 요면경의 요부에 지향성을 갖는 기류를 발생하는 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 냉각구조를 갖는 광학프로젝터.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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